JP5387524B2 - オルガノハイドロジェンポリシロキサン及びその製造方法 - Google Patents
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から構成されるものが最もよく使用されており、両末端基以外が式(7)のみで構成されるホモポリマー構造のオルガノハイドロジェンポリシロキサンと、式(7)と式(8)の基本単位がランダムに存在するコポリマー構造のオルガノハイドロジェンポリシロキサンに大別できる。
請求項1:
下記式(1)で表される構造単位を一分子中に2個以上持ち、該構造単位相互がSiH基を含有しない構造単位により連結されたオルガノハイドロジェンポリシロキサンであって、下記式(2)で示される構造単位の繰り返しよりなることを特徴とするオルガノハイドロジェンポリシロキサン。
(式中、R1は非置換又は置換の炭素数1〜10の1価炭化水素基、aは2以上の整数である。)
(式中、R 2 は非置換又は置換の炭素数1〜10の1価炭化水素基、R 3 は炭素数2〜10の直鎖状又は分岐状のアルキレン基であり、bは1、2又は3である。R 1 ,aは前記の通りである。)
請求項2:
請求項1記載の式(1)が直鎖状又は分岐状であり、分子封止鎖末端が(R2)3SiO−基及び/又はH(R2)2SiO−基(式中、R2は非置換又は置換の炭素数1〜10の1価炭化水素基である。)で封鎖されることを特徴とする請求項1記載のオルガノハイドロジェンポリシロキサン。
請求項3:
下記式(3)〜(6)
(式中、R2は非置換又は置換の炭素数1〜10の1価炭化水素基を示す。)
で示されるいずれかのシロキサンモノマーと両末端アルケニル基含有化合物を付加反応させて、上記両末端アルケニル基含有化合物の両末端アルケニル基に上記式(3)〜(6)のいずれかのシロキサンモノマーのSiH基を付加させた後、この付加物とSiH基含有環状シロキサンを酸平衡化反応させることを特徴とするオルガノハイドロジェンポリシロキサンの製造方法。
本発明のオルガノハイドロジェンポリシロキサンは、下記式(1)で表される構造単位を一分子中に少なくとも2個以上持ち、該構造単位相互がSiH基を含有しない構造単位により連結されたものである。
で示されるいずれかのシロキサンモノマーと両末端アルケニル基含有化合物を付加反応させて、上記両末端アルケニル基含有化合物の両末端アルケニル基に、上記式(3)〜(6)のいずれかのシロキサンモノマーのSiH基を付加させた後、この付加物とSiH基含有環状シロキサンを酸平衡化反応させる方法が好適に採用される。例えば、下記式(9)
で示されるシロキサンモノマーと両末端アルケニル基含有化合物との反応により一分子中にシロキサン単位とシルアルキレン結合を持つ付加物1を合成し、更に1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン等のSiH基含有環状シロキサンと付加物1の酸平衡化反応により付加物1中のシロキサン部分に前出の式(1)を導入し、
がブロック単位で存在するオルガノハイドロジェンポリシロキサンを得ることができる。
で示されるものが挙げられ、1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン、1,3,5,7,9−ペンタメチルシクロペンタシロキサン、1,3,5,7,9,11−ヘキサメチルシクロヘキサシロキサン等が例示される。
撹拌装置,温度計,還流冷却器,滴下ロートを取り付けた4つ口フラスコに、下記式(11)で示されるシロキサンモノマー1(186質量部)
と溶媒としてのトルエン(100質量部)、白金触媒としてPtの含有率が0.5質量%トルエン溶液(0.5質量部)を混合し、65℃まで昇温し、次いで下記式(12)で示されるシロキサンモノマー2(326質量部)
撹拌装置,温度計,還流冷却器,滴下ロートを取り付けた4つ口フラスコに、1,5−ヘキサジエン(82質量部)と溶媒としてのトルエン(100質量部)、白金触媒としてPtの含有率が0.5質量%トルエン溶液(0.5質量部)を混合し、65℃まで昇温し、次いで、下記式(12)で示されるシロキサンモノマー2(326質量部)
撹拌装置,温度計,還流冷却器,滴下ロートを取り付けた4つ口フラスコに、下記式(15)で示されるシロキサンモノマー3(186質量部)
Claims (3)
- 請求項1記載の式(1)が直鎖状又は分岐状であり、分子封止鎖末端が(R2)3SiO−基及び/又はH(R2)2SiO−基(式中、R2は非置換又は置換の炭素数1〜10の1価炭化水素基である。)で封鎖されることを特徴とする請求項1記載のオルガノハイドロジェンポリシロキサン。
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