JP5375793B2 - 液処理装置 - Google Patents
液処理装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5375793B2 JP5375793B2 JP2010231675A JP2010231675A JP5375793B2 JP 5375793 B2 JP5375793 B2 JP 5375793B2 JP 2010231675 A JP2010231675 A JP 2010231675A JP 2010231675 A JP2010231675 A JP 2010231675A JP 5375793 B2 JP5375793 B2 JP 5375793B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- liquid
- liquid receiving
- cup
- receiving part
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Description
前記基板を水平に保持する基板保持部と、
前記基板保持部によって保持された基板を、鉛直軸回りに回転させる回転駆動機構と、
前記基板に処理液を供給する処理液供給機構と、
回転する基板の周縁部から外側上方へ飛散した処理液をその下面で受け止めて基板の外側方向へガイドするために、基板の辺に沿って形成されると共に外縁部が円形に形成され、前記基板保持部と共に回転する液受け部と、
前記液受け部を囲むように設けられ、その上縁部が当該液受け部との間に排気空間を形成するように液受け部の上方側に屈曲すると共にその内周縁が円形に形成され、前記基板保持部と共に回転する円筒状の回転カップと、
前記排気空間を介して前記液受け部の上方側の雰囲気を排気するための排気機構と、を備えたことを特徴とする。
(1)前記回転カップを囲むように設けられ、その上縁部が当該回転カップとの間に排気空間を形成するように回転カップの上縁部の上方側に屈曲する外側カップを備え、前記排気機構は、前記回転カップと外側カップとの間の排気空間を排気する。
(2)前記外側カップは円筒状に形成されている。
(3)前記液受け部は周方向に分割された分割片により構成され、各分割片を基板の液受け部の径方向に移動させる駆動機構を備える。
(4)基板を基板保持部に受け渡すときに前記分割片の内縁は基板の外縁より外側に位置し、基板の回転時に前記分割片の内縁は、基板の外縁より内側に位置する。
B 基板
1 洗浄装置
21 回転筒
31 支持プレート
37 外側領域
38 排気口
39 排気手段
41 複合カップ体
43 液受け部
44 角型開口部
51 回転カップ
52 円筒部
53 傾斜部
54 円形開口部
55 排気空間
61 外側カップ
Claims (5)
- 角型の基板を処理液により処理する液処理装置において、
前記基板を水平に保持する基板保持部と、
前記基板保持部によって保持された基板を、鉛直軸回りに回転させる回転駆動機構と、
前記基板に処理液を供給する処理液供給機構と、
回転する基板の周縁部から外側上方へ飛散した処理液をその下面で受け止めて基板の外側方向へ排出するために、基板の辺に沿って形成されると共に外縁部が円形に形成され、前記基板保持部と共に回転する液受け部と、
前記液受け部を囲むように設けられ、その上縁部が当該液受け部との間に排気空間を形成するように液受け部の上方側に屈曲すると共にその内周縁が円形に形成され、前記基板保持部と共に回転する円筒状の回転カップと、
前記排気空間を介して前記液受け部の上方側の雰囲気を排気するための排気機構と、を備えたことを特徴とする液処理装置。 - 前記回転カップを囲むように設けられ、その上縁部が当該回転カップとの間に排気空間を形成するように回転カップの上縁部の上方側に屈曲する外側カップを備え、
前記排気機構は、前記回転カップと外側カップとの間の排気空間を排気することを特徴とする請求項1記載の液処理装置。 - 前記外側カップは円筒状に形成されていることを特徴とする請求項2記載の液処理装置。
- 前記液受け部は周方向に分割された分割片により構成され、各分割片を基板の液受け部の径方向に移動させる駆動機構を備えたことを特徴とする請求項1ないし3のいずれか一つに記載の液処理装置。
- 基板を基板保持部に受け渡すときに前記分割片の内縁は基板の外縁より外側に位置し、基板の回転時に前記分割片の内縁は、基板の外縁より内側に位置することを特徴とする請求項4記載の液処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010231675A JP5375793B2 (ja) | 2010-10-14 | 2010-10-14 | 液処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010231675A JP5375793B2 (ja) | 2010-10-14 | 2010-10-14 | 液処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012084801A JP2012084801A (ja) | 2012-04-26 |
JP5375793B2 true JP5375793B2 (ja) | 2013-12-25 |
Family
ID=46243344
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010231675A Active JP5375793B2 (ja) | 2010-10-14 | 2010-10-14 | 液処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5375793B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5982176B2 (ja) * | 2012-05-22 | 2016-08-31 | 東京応化工業株式会社 | 基板処理システムおよび基板処理方法 |
JP5936535B2 (ja) * | 2012-12-28 | 2016-06-22 | 東京エレクトロン株式会社 | 液処理装置及び液処理方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3033008B2 (ja) * | 1994-06-02 | 2000-04-17 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理方法及び処理装置 |
JP3102831B2 (ja) * | 1994-06-20 | 2000-10-23 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 回転処理装置 |
JPH1170354A (ja) * | 1997-07-04 | 1999-03-16 | Tokyo Electron Ltd | 塗布装置 |
JP2002301418A (ja) * | 2001-04-09 | 2002-10-15 | Canon Inc | スピン塗布装置及び塗布方法 |
JP4825177B2 (ja) * | 2007-07-31 | 2011-11-30 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置 |
-
2010
- 2010-10-14 JP JP2010231675A patent/JP5375793B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2012084801A (ja) | 2012-04-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI362068B (ja) | ||
JP4803592B2 (ja) | 液処理装置および液処理方法 | |
JP5156114B2 (ja) | 液処理装置 | |
TWI647754B (zh) | 基板處理裝置、基板處理方法及記錄媒體 | |
TWI381435B (zh) | Liquid treatment device, liquid treatment method and memory media | |
TW438628B (en) | Coating film forming method and coating apparatus | |
JP6523643B2 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
JP5031671B2 (ja) | 液処理装置、液処理方法および記憶媒体 | |
JP2010206019A (ja) | 液処理装置及び液処理方法 | |
JP4805003B2 (ja) | 液処理装置 | |
JP2006019734A (ja) | 基板表面処理装置 | |
JP4933945B2 (ja) | 液処理装置 | |
JP2013058607A (ja) | 液処理装置、及び液処理装置の制御方法 | |
TWI799290B (zh) | 基板處理裝置及基板處理方法 | |
KR101550084B1 (ko) | 액처리 장치 및 액처리 방법 | |
JP2011249848A (ja) | 液処理装置及び液処理方法 | |
JP2005079219A (ja) | 基板処理装置 | |
JP4832176B2 (ja) | 液処理装置および液処理方法 | |
JP2007158161A (ja) | ウエハ洗浄装置及びウエハ洗浄方法 | |
JP3824057B2 (ja) | 液処理装置 | |
JP5375793B2 (ja) | 液処理装置 | |
JP4804407B2 (ja) | 液処理装置 | |
JP4912020B2 (ja) | 液処理装置 | |
JP5036415B2 (ja) | 液処理装置および液処理方法 | |
JP2014130901A (ja) | 液処理装置及び液処理方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120927 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130819 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130827 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130909 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5375793 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |