JP2013058607A - 液処理装置、及び液処理装置の制御方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】回転可能な回転板と、前記回転板の周縁に沿って設けられ基板を支持する基板支持部と、前記基板支持部の上端に設けられ、前記基板の周縁を支持することにより前記基板を案内可能な案内部と、前記基板支持部により前記周縁が支持される前記基板に対して上方から液体を供給する供給部とを備え、前記案内部が、前記回転板の周方向に沿って少なくとも3つ以上設けられ、前記基板支持部により前記周縁が支持される前記基板の表面よりも高い高さを有する液処理装置により上述の課題が達成される。
【選択図】図6
Description
筐体21には、搬送機構14の保持アーム部14a(図1)によりウエハWを筐体21に搬入出する搬送口21aが形成されている。搬送口21aには、図示しないシャッタが設けられ、搬入出時にはシャッタが開き、処理時にはシャッタは閉じ搬送口21aは閉じられている。
なお、ガイドピン52は、ガイドピン52の上面が、複数のウエハ支持部51により支持されるウエハWの上面よりも高い位置に位置するような高さを有している。
まず、カップ部22が降下して図5に実線で示す下方位置に位置し、また、昇降機構41によりアーム42及びロッド部材43が上方へ移動して、把持機構23のレバー部材23Lを押し上げる。これにより、把持部23Aが外方に開き、ウエハWが載置されるスペースが確保される。
この後、ブラシ24は、アーム24Aが回動することにより、ウエハWのエッジに向かって移動していく。ウエハWの回転とブラシ24の移動とにより、ウエハWの全面にブラシ24が接するとともに、ブラシ24により除去されたパーティクルや不純物がDIWにより洗い流される。
ブラシ24が、ウエハWのエッジから外に移動した後、DIWの供給を停止するとともに、ウエハWの上面を乾燥させる。この後、ウエハWを搬入したときの手順と逆の手順により、ウエハWが筐体21の外へ搬出される。
Claims (13)
- 回転可能な回転板と、
前記回転板の周縁に沿って設けられ基板を支持する基板支持部と、
前記基板支持部の上端に設けられ、前記基板の周縁を支持することにより前記基板を案内可能な案内部と、
前記基板支持部により前記周縁が支持される前記基板に対して上方から液体を供給する供給部と
を備え、
前記案内部が、前記回転板の周方向に沿って少なくとも3つ以上設けられ、前記基板支持部により前記周縁が支持される前記基板の表面よりも高い高さを有することを特徴とする液処理装置。 - 前記基板支持部が、前記回転板の中心の方向に傾斜する傾斜面を有することを特徴とする、請求項1に記載の液処理装置。
- 前記案内部が、前記回転板の中心の方向に傾斜する案内面を有することを特徴とする、請求項1又は2に記載の液処理装置。
- 前記回転板及び前記基板支持部に、前記基板支持部との間で前記基板を授受する搬送アームに備わる、当該ウエハを保持するウエハ保持爪に対応して設けられ、該ウエハ保持爪が前記回転板及び前記基板支持部を上下に通り抜けられる第1の切欠部が設けられていることを特徴とする、請求項1から3のいずれか一項に記載の液処理装置。
- 前記基板支持部が、前記基板支持部により支持される前記基板の周縁を側方から押さえる押圧部を含む基板把持機構が設けられる第2の切欠部を備えることを特徴とする、請求項1から4のいずれか一項に記載の液処理装置。
- 前記第1の切欠部が設けられることにより分離する前記基板支持部における前記回転板の回転方向上流側の端部が鋭角形状を有することを特徴とする、請求項4に記載の液処理装置。
- 前記回転板の回転中心に沿って延びて回転駆動部に接続され、当該回転駆動部の回転力を前記回転板に伝達する回転軸部を更に備え、
前記回転軸部には、前記回転板と、前記基板支持部により前記周縁が支持される前記基板との間に気体を供給する供給管が設けられる、請求項1から6のいずれか一項に記載の液処理装置。 - 前記供給部が、前記基板の上面に接して当該上面を洗浄する洗浄部材を含む、請求項1から7のいずれか一項に記載の液処理装置。
- 回転可能な回転板と、
前記回転板の周縁に沿って設けられ基板を支持する基板支持部と、
前記基板支持部の上端に設けられ、前記基板の周縁を支持することにより前記基板を案内可能な案内部と、
前記基板支持部により前記周縁が支持される前記基板に対して上方から液体を供給する供給部と
を備え、
前記案内部が、前記回転板の周方向に沿って少なくとも3つ以上設けられ、前記基板支持部により前記周縁が支持される前記基板の表面よりも高い高さを有する液処理装置を制御する液処理装置の制御方法であって、
前記案内部により前記基板を案内しつつ、当該基板の周縁を前記基板支持部の前記傾斜面に支持することにより、前記基板を前記基板支持部に支持させるステップと、
前記基板を回転するステップと、
前記基板に対して液体を供給するステップと
を含む液処理装置の制御方法。 - 前記基板を前記基板支持部に支持させるステップが、前記基板支持部との間で前記基板を授受する搬送アームに備わる、当該ウエハを保持するウエハ保持爪に対応して前記回転板及び前記基板支持部に設けられる切欠部に、前記ウエハ保持爪を通り抜けさせるステップを含む、請求項9に記載の液処理装置の制御方法。
- 前記基板を前記基板支持部に支持させるステップが、前記基板支持部に支持される前記基板の周縁を側方より押圧することにより前記基板を把持するステップを含む、請求項9又は10に記載の液処理装置の制御方法。
- 前記液体を供給するステップが、前記基板の上面に接触して当該上面を洗浄する洗浄部材を、前記基板支持部により支持される前記基板の前記上面に接触させるステップを含む、請求項9から11のいずれか一項に記載の液処理装置の制御方法。
- 前記基板支持部により支持される前記基板と前記回転板との間の空間に不活性ガスを供給するステップを更に含む、請求項9から12のいずれか一項に記載の液処理装置の制御方法。
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