JP5201979B2 - 露光装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
露光装置およびデバイス製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5201979B2 JP5201979B2 JP2007335057A JP2007335057A JP5201979B2 JP 5201979 B2 JP5201979 B2 JP 5201979B2 JP 2007335057 A JP2007335057 A JP 2007335057A JP 2007335057 A JP2007335057 A JP 2007335057A JP 5201979 B2 JP5201979 B2 JP 5201979B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- concave mirror
- exposure apparatus
- supported
- mirror
- optical system
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70258—Projection system adjustments, e.g. adjustments during exposure or alignment during assembly of projection system
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
- G03F7/70833—Mounting of optical systems, e.g. mounting of illumination system, projection system or stage systems on base-plate or ground
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Lenses (AREA)
- Mounting And Adjusting Of Optical Elements (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
2 原版ステージ
3 屈折光学系
4 ミラー
6 第1凹面ミラー
7 凸面ミラー
8 第2凹面ミラー
9 屈折光学系
10 基板ステージ
11 基板
12 メニスカスレンズ
EXP 露光装置
PO 投影光学系
101 鏡筒チャンバ
102 支持部材
104 支持部材
105 上部部材
107 中段部材
108 下部部材
109 支持部材
110 支持部材
111 側部部材
115 下部支持体
120 枠体
205 支持部材
Claims (12)
- 原版のパターンを基板に投影する投影光学系を有する露光装置であって、
前記投影光学系は、
前記原版と前記基板との間の光路中に前記原版の側から順に配置された第1凹面ミラー、凸面ミラー、第2凹面ミラーと、
前記第1凹面ミラーおよび前記第2凹面ミラーを支持する支持機構とを備え、
前記第1凹面ミラーの反射面と前記凸面ミラーの反射面との距離が前記第2凹面ミラーの反射面と前記凸面ミラーの反射面との距離と異なり、
前記支持機構は、上部部材、中段部材、下部部材、第1側部部材および第2側部部材を含む棚形状の枠体を有し、前記第1側部部材は、前記上部部材、前記中段部材および前記下部部材のそれぞれの一端を連結し、前記第2側部部材は、前記上部部材、前記中段部材および前記下部部材のそれぞれの他端を連結し、
前記第1凹面ミラーの上部は前記上部部材によって支持され、前記第1凹面ミラーの下部は前記中段部材によって支持され、
前記第2凹面ミラーの下部は前記下部部材によって支持されている、
ことを特徴とする露光装置。 - 前記第2凹面ミラーの上部は、前記中段部材によって支持されている、ことを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記第2凹面ミラーは、前記下部部材によってその下部が支持されるとともに、前記下部部材から延びた部分を含む支持部材によってその上部が支持される、ことを特徴とする請求項1に記載に露光装置。
- 前記第1凹面ミラーは、前記上部部材に固定された支持部材および前記中段部材に固定された支持部材を介して前記上部部材および前記中段部材によって支持され、
前記第2凹面ミラーは、前記下部部材に固定された下部支持体を介して前記下部部材によって支持されている、ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の露光装置。 - 前記第1凹面ミラーの曲率中心、前記凸面ミラーの曲率中心および前記第2凹面ミラーの曲率中心を結ぶ軸が水平である、ことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の露光装置。
- 前記投影光学系は拡大光学系であることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の露光装置。
- 前記第1凹面ミラーの反射面の光軸方向における位置と前記第2凹面ミラーの反射面の前記光軸方向における位置とは互いにずれていることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の露光装置。
- 前記第1凹面ミラーの反射面は、前記第2凹面ミラーの反射面より前記凸面ミラー側にあることを特徴とする請求項6に記載の露光装置。
- 前記第1凹面ミラーは、前記中段部材の上側に固定された支持部材を介して支持され、
前記第2凹面ミラーは、前記中段部材の下側に固定された支持部材を介して支持されていることを特徴とする請求項4に記載の露光装置。 - 光軸方向において、前記中段部材の上側に固定された支持部材と前記中段部材の下側に固定された支持部材とが互いにずれていることを特徴とする請求項9に記載の露光装置。
- 前記投影光学系は、屈折光学系を更に含む、ことを特徴とする請求項1乃至10のいずれか1項に記載の露光装置。
- デバイス製造方法であって、
請求項1乃至11のいずれか1項に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、該基板を現像する工程と、
を含むことを特徴とするデバイス製造方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007335057A JP5201979B2 (ja) | 2007-12-26 | 2007-12-26 | 露光装置およびデバイス製造方法 |
KR1020080125054A KR101080144B1 (ko) | 2007-12-26 | 2008-12-10 | 노광장치 및 디바이스 제조방법 |
TW097150438A TWI408510B (zh) | 2007-12-26 | 2008-12-24 | Exposure apparatus and apparatus manufacturing method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007335057A JP5201979B2 (ja) | 2007-12-26 | 2007-12-26 | 露光装置およびデバイス製造方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009158719A JP2009158719A (ja) | 2009-07-16 |
JP2009158719A5 JP2009158719A5 (ja) | 2011-02-03 |
JP5201979B2 true JP5201979B2 (ja) | 2013-06-05 |
Family
ID=40962421
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007335057A Expired - Fee Related JP5201979B2 (ja) | 2007-12-26 | 2007-12-26 | 露光装置およびデバイス製造方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5201979B2 (ja) |
KR (1) | KR101080144B1 (ja) |
TW (1) | TWI408510B (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5782336B2 (ja) * | 2011-08-24 | 2015-09-24 | キヤノン株式会社 | 投影光学系、露光装置及びデバイス製造方法 |
DE102014216631A1 (de) * | 2014-08-21 | 2016-02-25 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage, Spiegelmodul hierfür, sowie Verfahren zum Betrieb des Spiegelmoduls |
JP6386896B2 (ja) | 2014-12-02 | 2018-09-05 | キヤノン株式会社 | 投影光学系、露光装置、および、デバイス製造方法 |
JP6674250B2 (ja) * | 2015-12-16 | 2020-04-01 | キヤノン株式会社 | 露光装置、露光方法、および物品の製造方法 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6038819A (ja) * | 1983-08-12 | 1985-02-28 | Hitachi Ltd | 投影露光装置 |
JPS60201316A (ja) * | 1984-03-26 | 1985-10-11 | Canon Inc | 反射光学系 |
US6229595B1 (en) * | 1995-05-12 | 2001-05-08 | The B. F. Goodrich Company | Lithography system and method with mask image enlargement |
JPH09246139A (ja) * | 1996-03-04 | 1997-09-19 | Nikon Corp | 走査型投影露光装置 |
TW594438B (en) * | 1997-11-07 | 2004-06-21 | Koninkl Philips Electronics Nv | Three-mirror system for lithographic projection, and projection apparatus comprising such a mirror system |
US7158215B2 (en) * | 2003-06-30 | 2007-01-02 | Asml Holding N.V. | Large field of view protection optical system with aberration correctability for flat panel displays |
JP2006078592A (ja) * | 2004-09-07 | 2006-03-23 | Canon Inc | 投影光学系及びそれを有する露光装置 |
JP2006078631A (ja) * | 2004-09-08 | 2006-03-23 | Canon Inc | 投影光学系及びそれを有する露光装置 |
JP2006113414A (ja) | 2004-10-18 | 2006-04-27 | Canon Inc | 光学素子保持装置、鏡筒、露光装置及びマイクロデバイスの製造方法 |
US7184124B2 (en) * | 2004-10-28 | 2007-02-27 | Asml Holding N.V. | Lithographic apparatus having an adjustable projection system and device manufacturing method |
JP2006140366A (ja) * | 2004-11-15 | 2006-06-01 | Nikon Corp | 投影光学系及び露光装置 |
JP2008089832A (ja) * | 2006-09-29 | 2008-04-17 | Canon Inc | 露光装置 |
-
2007
- 2007-12-26 JP JP2007335057A patent/JP5201979B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2008
- 2008-12-10 KR KR1020080125054A patent/KR101080144B1/ko active IP Right Grant
- 2008-12-24 TW TW097150438A patent/TWI408510B/zh not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR101080144B1 (ko) | 2011-11-07 |
KR20090071384A (ko) | 2009-07-01 |
JP2009158719A (ja) | 2009-07-16 |
TWI408510B (zh) | 2013-09-11 |
TW200935188A (en) | 2009-08-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7746575B2 (en) | Support mechanism, exposure apparatus having the same, and aberration reducing method | |
JP3938040B2 (ja) | 反射型投影光学系、露光装置及びデバイス製造方法 | |
JP5047544B2 (ja) | リソグラフィ投影対物系の補正方法およびリソグラフィ投影対物系 | |
KR102290738B1 (ko) | 결상 광학계, 노광 장치 및 디바이스 제조 방법 | |
JP2007013179A5 (ja) | ||
JP2004252363A (ja) | 反射型投影光学系 | |
JP5201979B2 (ja) | 露光装置およびデバイス製造方法 | |
JP2008112756A (ja) | 光学素子駆動装置及びその制御方法、露光装置、並びにデバイス製造方法 | |
WO2007111104A1 (ja) | 投影光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 | |
US6666560B2 (en) | Reflection type demagnification optical system, exposure apparatus, and device fabricating method | |
JP2005340605A (ja) | 露光装置およびその調整方法 | |
JP6808381B2 (ja) | 保持装置、投影光学系、露光装置、および物品製造方法 | |
JP2010107596A (ja) | 反射型投影光学系、露光装置及びデバイス製造方法 | |
JP2009217150A (ja) | 光学素子保持装置 | |
JP5118407B2 (ja) | 光学系、露光装置及びデバイス製造方法 | |
JP2007173323A (ja) | 光学特性測定装置、露光装置、光学特性測定方法及びデバイスの製造方法 | |
WO2007023665A1 (ja) | 投影光学系、露光装置、およびデバイスの製造方法 | |
JP7332415B2 (ja) | 投影光学系、走査露光装置および物品製造方法 | |
JP2005236258A (ja) | 光学装置およびデバイス製造方法 | |
JP2004252362A (ja) | 反射型投影光学系、露光装置及びデバイス製造方法 | |
JP2006047670A (ja) | 露光装置および露光方法 | |
JP2004252359A (ja) | 反射型投影光学系及び当該反射型投影光学系を有する露光装置 | |
JP2004252360A (ja) | 反射型投影光学系及び当該反射型投影光学系を有する露光装置 | |
JP2005189248A (ja) | 投影光学系および該投影光学系を備えた露光装置 | |
WO2010052961A1 (ja) | 結像光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101215 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20101215 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120530 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120608 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120801 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130115 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130212 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 5201979 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160222 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |