JP2006078631A - 投影光学系及びそれを有する露光装置 - Google Patents

Abstract

【課題】 スリット幅を拡大することによりスループットを大幅に向上させることが可能な投影光学系及びこれを有する露光装置を提供する。
【解決手段】 物体側からの光路順に、正の第１反射面、負の第２反射面、正の第３反射面を有する投影光学系において、前記第１反射面から前記第２反射面までの光束中及び前記第２反射面から前記第３反射面までの光束中に少なくとも２枚以上のレンズ群Ｌｍを有し、前記第ｎ反射面の屈折力をφｎ、前記レンズ群Ｌｍの屈折力をφＬｍとしたとき、｜Σφｎ｜＜０．０１、及び、｜ΣφＬｍ｜＜０．０１を満足することを特徴とする投影光学系を提供する。
【選択図】 図１

Description

本発明は、一般には投影光学系及びそれを有する露光装置に係り、特に、液晶ディスプレイ（以下、「ＬＣＤ」と呼ぶ）用のガラス基板などの比較的大画面の被露光体を投影露光する反射型及び反射屈折型投影光学系に関する。

近年、ＴＶやパーソナルコンピュータなどの表示素子としてＬＣＤが多く使われるようになり、更なる大画面化が要求されてきている。ＬＣＤはフォトリソグラフィーの手法を用いてガラス基板上に透明薄膜電極をパターン形成して製造される。フォトリソグラフィーに用いられる投影光学系としては、特許文献１及び２に開示されているように、ミラーを用いた等倍光学系が知られており、収差補正されたスリット状の領域に対し物体面（マスク）と像面（ガラス基板）が走査することにより像が形成される。

特許文献１では、基本的にマスクパターンを凸と凹の２枚のミラーにより等倍結像させている。投影に寄与する領域は光軸外で同一像高の円弧状の領域である。投影光学系を色分解光学系に結像させるためのリレーレンズとして使用する場合に、特許文献３は色収差及び球面収差を補正している。特許文献２は、等倍の小型の光学系を複数個並べたマルチレンズ光学系を構成することにより露光領域を確保している。
特開昭５２−５５４４号公報 特開平７−５７９８６号公報 特開平１０−３１１５８号公報

しかし、特許文献１の光学系は、像面湾曲と非点収差を良好に補正できる像面幅がわずかであり、マスクを照明するときの円弧状のスリット幅（走査方向の長さ）を長くできない。従って、装置としての露光照度を上げられず、スループットを向上させることが困難であった。また、特許文献２の光学系は、隣接した光学系が形成する像のつなぎ目を二重に露光するように重ね合わせる必要があるが、つなぎ目が目立たないよう露光量や結像性能が同程度になるよう、使用される個々の光学系の光学性能、機構性能を同程度に作り込む必要があり、その調整の難易度が高いという問題点があった。更に、特許文献３の光学系は、色分解光学系で発生する色収差及び球面収差を補正するためにリレー光学系内にゼロパワーダブレットを使用しており、リレー光学系単体では色収差及び球面収差を発生させるためにダブレットの各レンズは分散の大きく異なる媒質を用いている。

そこで、本発明は、スリット幅を拡大することによりスループットを大幅に向上させることが可能な投影光学系及びこれを有する露光装置を提供することを例示的な目的とする。

本発明の一側面としての投影光学系は、物体側からの光路順に、少なくとも正の第１反射面、負の第２反射面、正の第３反射面で構成される投影光学系において、前記第１反射面から前記第２反射面までの光束中及び前記第２反射面から前記第３反射面までの光束中に少なくとも２枚以上のレンズ群Ｌｍを有し、前記第ｎ反射面の屈折力をφｎ、前記レンズ群Ｌｍの屈折力をφＬｍとしたとき、｜Σφｎ｜ ＜ ０．０１、及び、｜ΣφＬｍ｜ ＜ ０．０１を満足することを特徴とする。かかる投影光学系を有することを特徴とする露光装置も本発明の一側面を構成する。

本発明の別の側面としてのデバイス製造方法は、上述の露光装置を用いて被露光体を露光するステップと、露光された前記被露光体を現像するステップとを有することを特徴とする。上述の露光装置の作用と同様の作用を奏するデバイス製造方法の請求項は、中間及び最終結果物であるデバイス自体にもその効力が及ぶ。

本発明の更なる目的又はその他の特徴は、以下、添付図面を参照して説明される好ましい実施例によって明らかにされるであろう。

本発明によれば、スリット幅を拡大することによりスループットを大幅に向上させることが可能な投影光学系及びこれを有する露光装置を提供することができる。

本発明の一実施形態としての投影光学系は、物体側からの光路順に、少なくとも正の第１反射面、負の第２反射面、正の第３反射面で構成される投影光学系において、前記第１反射面から前記第２反射面までの光束中及び前記第２反射面から前記第３反射面までの光束中に少なくとも２枚以上のレンズ群Ｌｍを有し、前記第ｎミラーの屈折力をφｎ、前記レンズ群Ｌｍの屈折力をφＬｍとしたとき、以下の式を満足する。

ここで、［数１］の｜Σφｎ｜は、１．０×１０e-5より大きいことが望ましく、及び／又は１．０×１０e-3より小さいことが望ましい。さらに、［数２］の｜ΣφＬｍ｜は、１．０×１０e-5より大きいことが望ましく、及び／又は１．０×１０e-3より小さいことが望ましい。
これらの式は、投影光学系の結像性能を良好にするための条件である。ペッツバール条件及び両テレセン条件を満たすことのできる最小限の系は、正の屈折力の第１群、負の屈折力の第２群、正の屈折力の第３群で構成された、いわゆるトリプレットである。全系のペッツバール和Ｐは以下の式で表される。

Ｐ＝Σ（φｎ／Ｎｎ）
ここで反射系の場合、Ｎｎ＝−１である。
また、タンジェンシャル像面湾曲△Ｍ、サジタル像面湾曲△Ｓは、非点収差係数をIII、画角をωとして、各々以下の式で表される。

△Ｍ＝−１／２・（３III＋Ｐ）・tan²ω
△Ｓ＝−１／２・（III＋Ｐ）・tan²ω
したがって、｜Σφｎ｜が０に近づけば近づくほど像面がフラットになり、像面湾曲及び非点収差が減少する。数式１を満足することによりミラーのみでペッツバール条件を満たして像面湾曲及び非点収差を抑制することができる。また、第２ミラー近傍に補正レンズＬｍを配置することによりさらに広い像高範囲で像面湾曲及び非点収差を抑制することができる。数式２はレンズＬｍ全体の屈折力を抑制して色収差の発生を抑制するための条件である。

前記レンズ群Ｌｍの最も第１反射面側の軸上光線入射高をｈ１、軸外主光線入射高をｈｂ１、前記レンズ群Ｌｍの最も第２反射面側の軸上光線入射高をｈｍ、軸外主光線入射高をｈｂｍとしたとき次式を満足することが好ましい。

ここで、［数３］のｈ１／ｈｍは、０．５より大きいことが望ましく、及び／又は１．３より小さいことが望ましい。さらに、［数４］のｈｂ１／ｈｂｍは、１．６より大きいことが望ましく、及び／又は１０より小さいことが望ましい。

これらの式は、補正レンズＬｍの軸上光線入射高比と軸外主光線入射高比を規定することによって、広い像高範囲で像面湾曲及び非点収差を抑制するための条件である。像面湾曲及び非点収差といった軸外収差を補正するためには、軸外主光線入射高ｈｂの高い部位に補正手段を配置することが効果的である。更に補正手段により発生した軸上収差を相対的にｈｂの低い部位で補正することにより、軸外収差のみを一層効果的に補正することが可能である。数式３は、補正レンズＬｍ内の軸上光線入射高の比の上限を規定している。数式３の上限を越えると、軸上色収差及び球面収差といった軸上収差の補正が困難となってくる。数式４は、補正レンズＬｍ内の軸外主光線入射高の比の下限を規定している。数式４の下限を越えると、像面湾曲及び非点収差の補正が困難となったり、各レンズの屈折力や非球面量が増大して製造難易度が高くなりすぎてしまう。

前記投影光学系の物体側の開口数をＮＡｏ、像側の開口数をＮＡｉとしたとき、次式を満足することが好ましい。

ここで、［数５］のＭＡＸ（ＮＡｏ，ＮＡｉ）はより好ましくは、０．１５より小さいことが望ましい。

数式５は、投影光学系のＮＡの上限を規定して、補正レンズＬｍ内における軸上光線入射高の変化を低減し、像面湾曲及び非点収差補正に伴う軸上収差への影響を最小限とするための条件である。数式５の上限を越えると、第２反射面近傍での軸上光線換算傾角が増大する。数式５が数式３及び４を満足する環境で使用される場合、軸上光線換算傾角が増大すると数式３を満たすための間隔が十分にとれないために数式４式の値が小さくなり、像面湾曲及び非点収差の補正が困難となる。

前記レンズＬｍは少なくとも１面の非球面を有することが好ましい。これにより、更に広い像高範囲で像面湾曲及び非点収差を抑制することができる。また、前記レンズＬｍはすべて同一の材料であることが好ましい。補正レンズＬｍを全て同一素材とすることにより補正レンズの屈折力Ｌｍを概略ゼロとしたときの二次スペクトルを微小とし、広い波長帯域で色収差補正を可能とすることができる。

前記投影光学系の結像倍率をβとしたとき、投影光学系はβ＝１（等倍系）であり、第１反射面と第３反射面が兼用部材であることが好ましい。代替的に、投影光学系はβ＞１．１（拡大系）で、少なくとも第１反射面と第３反射面が非球面であることが好ましい。また、第１反射面と第３反射面を非球面とすることにより、拡大系としてもコマ収差を良好に補正することができる。等倍系では第１反射面と第３反射面の曲率は同一に設定されてコマ収差をキャンセルしているが、拡大系では両者の曲率が異なるためにコマ収差をキャンセルするために非球面にしなければならない。

投影光学系の有効像面の半径をＲ、幅をＷ、長さをＬとしたとき、次式を満足することが好ましい。

ここで、［数７］のＷ／Ｒは０．１２より大きいことが望ましく、及び／又は０．１９より小さいことが望ましい。

図１は本発明の数値実施例１の断面図を示している。図１において、Ｍ１は正の第１・第３反射面としての凹面ミラー、Ｍ２は負の第２反射面としての凸面ミラー、Ｌ１及びＬ２はレンズである。Ｏは物体面、Ｉは像面を表しており、光束はＯから順にＭ１、Ｌ１、Ｌ２、Ｍ２、Ｌ２、Ｌ１、Ｍ１を通り、Ｉで結像する。従って、レンズＬ１及びＬ２は第１反射面から第２反射面への光束と、第２反射面から第３反射面への光束の両方が通ることとなる。有効像面の半径Ｒが３００ｍｍから数式６より、スリット長さＬは６００ｍｍ以下である。

図２に本数値実施例の縦収差図を、図３に本数値実施例の物高２５０ｍｍ、２７５ｍｍ、３００ｍｍにおける横収差図を示す。また、表２に、数値実施例１（表１）の各条件式に対応する数値を示す。表２から、数値実施例１は各条件式を満たしており、スリット幅が広くて光利用効率の高い、色収差の小さい反射屈折型投影光学系を達成している。なお、Ｏ〜Ｍ１間又はＭ１〜Ｉ間にメニスカスレンズ、非球面レンズ等を導入することにより、像面補正を更に良好とすることも可能である。

非球面式は次式に従う。

図４は本発明の数値実施例２の断面図を示している。図４において、Ｍ１は正の第１及び第３反射面としての凹面ミラー、Ｍ２は負の第２反射面としての凸面ミラー、Ｌ１乃至Ｌ５はレンズである。Ｏは物体面、Ｉは像面を表しており、光束はＯから順にＭ１、Ｌ１、…、Ｌ５、Ｍ２、Ｌ５、…、Ｌ１、Ｍ１を通り、Ｉで結像する。従って、前記レンズＬ１乃至Ｌ５は第１反射面から第２反射面への光束と、第２反射面から第３反射面への光束の両方が通ることとなる。有効像面の半径Ｒが３００ｍｍから数式６より、スリット長さＬは６００ｍｍ以下である。

図５に本数値実施例の縦収差図を、図６に本数値実施例の物高２６０ｍｍ、２８０ｍｍ、３００ｍｍにおける横収差図を示す。また、表４に、数値実施例２（表３）の各条件式に対応する数値を示す。表４から、数値実施例２は各条件式を満たしており、スリット幅が広くて光利用効率の高い、色収差の小さい反射屈折型投影光学系を達成している。なお、Ｏ〜Ｍ１間又はＭ１〜Ｉ間にメニスカスレンズ、非球面レンズ等を導入することにより、像面補正を更に良好とすることも可能である。

図７は本発明の数値実施例３の断面図を示している。図７において、Ｍ１は正の第１反射面としての凹面ミラー、Ｍ２は負の第２反射面としての凸面ミラー、Ｍ３は正の第３反射面としての凹面ミラー、Ｌ１及びＬ２はレンズである。Ｏは物体面、Ｉは像面を表しており、光束はＯから順にＭ１、Ｌ１、Ｌ２、Ｍ２、Ｌ２、Ｌ１、Ｍ３を通り、Ｉで結像する。従って、前記レンズＬ１及びＬ２は第１反射面から第２反射面への光束と、第２反射面から第３反射面への光束の両方が通ることとなる。有効像面の半径Ｒが３００ｍｍから数式６より、スリット長さＬは６００ｍｍ以下である。

図８に本数値実施例の縦収差図を、図９に本数値実施例の物高２５０ｍｍ、２７５ｍｍ、３００ｍｍにおける横収差図を示す。また、表６に、数値実施例３（表５）の各条件式に対応する数値を示す。表６から、数値実施例３は各条件式を満たしており、スリット幅が広くて光利用効率の高い、色収差の小さい反射屈折型投影光学系を達成している。なお、Ｏ〜Ｍ１間又はＭ１〜Ｉ間にメニスカスレンズ、非球面レンズ等を導入することにより、像面補正を更に良好とすることも可能である。

非球面式は数式８と同様である。

図１０は本発明の数値実施例４の断面図を示している。図１０において、Ｍ１は正の第１反射面としての凹面ミラー、Ｍ２は負の第２反射面としての凸面ミラー、Ｍ３は正の第３反射面としての凹面ミラー、Ｌ１及びＬ２はレンズである。Ｏは物体面、Ｉは像面を表しており、光束はＯから順にＭ１、Ｌ１、Ｌ２、Ｍ２、Ｌ２、Ｌ１、Ｍ３を通り、Ｉで結像する。従って、前記レンズＬ１及びＬ２は第１反射面から第２反射面への光束と、第２反射面から第３反射面への光束の両方が通ることとなる。有効像面の半径Ｒが３００ｍｍから数式６より、スリット長さＬは６００ｍｍ以下である。

図１１に本数値実施例の縦収差図を、図１２に本数値実施例の物高２５０ｍｍ、２７５ｍｍ、３００ｍｍにおける横収差図を示す。また、表８に、数値実施例４（表７）の各条件式に対応する数値を示す。表８から、数値実施例４は各条件式を満たしており、スリット幅が広くて光利用効率の高い、色収差の小さい反射屈折型投影光学系を達成している。なお、Ｏ〜Ｍ１間又はＭ１〜Ｉ間にメニスカスレンズ、非球面レンズ等を導入することにより、像面補正を更に良好とすることも可能である。

非球面式は数式８に従う。

図１、４、７及び１０に示す構成を露光装置に適用した。物体面Ｏにマスクを配置し、像面Ｉに被露光体を配置した。被露光体はＬＣＤ用のガラスプレートからなる基板であり、基板面上には紫外光に反応するレジストが塗布されている。図１及び４では、投影光学系は光学部材Ｍ１乃至Ｍ３を含み、図４及び７では、これらに加えて光学部材Ｌ１及びＬ２を含む。マスクはマスクステージ（図示せず）に搭載され、マスクステージはステージ定盤（図示せず）に搭載されている。被露光体は基板ステージ（図示せず）に搭載され、基板ステージはステージ定盤（図示せず）に搭載されている。表２、４、６及び８に示すように、本実施例の投影光学系は倍率βとして２．０、１．１、１．５などを有するので、結像倍率を従来よりも増大してマスク製作コストを低減することができる。

露光装置は、更に図示しない照明系を有し、照明系からの円弧状の照明光束によってマスクを照明する。円弧状の照明光束はマスクの直前に円弧スリット状のアパーチャー（スリット開口）を設けるか、又は照明系中にマスクと光学的に共役な位置に同様のアパーチャー（スリット開口）を設けることにより得ることができる。露光装置は、マスクと被露光体とのアライメント機構（図示せず）や被露光体のフォーカス機構も（図示せず）備えている。

投影光学系は、円弧状の照明光束が照射されたマスクパターンを被露光体に投影する。マスクステージを所定の速度で走査すると同時に、この速度に投影光学系の結像倍率を乗じた速度で基板ステージを矢印の方向に走査することによって、マスク上の回路パターン全体を基板に転写している。制御系はマスクステージと基板ステージを同期させて走査を制御する。回路パターン全体の転写が終了すると、基板ステージを所定の量だけ移動、即ち、ステップして基板上の異なる多数の位置で上記と同様の方法でパターンの転写を繰り返す。

次に、上述の投影光学系を利用した半導体デバイスの製造方法の実施例を説明する。図１３は液晶パネルの製造のフローチャートである。本実施形態においてステップ１（アレイ設計工程）では液晶アレイの回路設計を行なう。ステップ２（マスク製造工程）では設計した回路パターンを形成したマスクを製作する。ステップ３（基板製造工程）ではガラス基板を製造する。ステップ４（アレイ製造工程）は前工程とも呼ばれ、用意したマスクとガラス基板とを用いてリソグラフィ技術によってガラス基板上に実際のアレイ回路を形成する。ステップ５（パネル製造工程）は後工程とも呼ばれ、別途工程で製造されているカラーフィルタと張合わされた後周辺部が封止され、液晶が注入される。ステップ６（検査工程）ではステップ５の後でタブやバックライト組み立てがされ、エージングが加えられた液晶パネルモジュールの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行なう。こうした工程を経て液晶パネルが完成し、これがステップ７（出荷）される。

図１４はステップ４のアレイ製造工程の詳細なフローチャートである。まずステップ１１（薄膜形成前洗浄）ではガラス基板表面に薄膜を形成する前処理としての洗浄工程を実行する。ステップ１２（ＰＣＶＤ）ではガラス基板表面に薄膜を形成する。ステップ１３（レジスト塗布工程）ではガラス基板表面に所望のレジストを塗布し、ベーキングする。ステップ１４（露光工程）では前記説明した露光装置によってマスクのアレイ回路パターンを側ス基板上に焼付露光する。ステップ１５（現像工程）では露光したガラス基板を現像する。ステップ１６（エッチング工程）では現像したレジスト以外の部分を削り取る。ステップ１７（レジスト剥離工程）ではエッチングがすんで不要となったレジストを取り除く。これらのステップを繰り返し行なうことによってウエハ上に多重に回路パターンが形成される。

以上示したように、物体側からの光路順に、少なくとも正の第１反射面、負の第２反射面、正の第３反射面で構成される投影光学系において、前記第１反射面から前記第２反射面までの光束中および前記第２反射面から前記第３反射面までの光束中に少なくとも２枚以上のレンズ群Ｌｍを有し、所定の条件を満たすことにより、スリット幅を拡大してかつ、色収差の小さい反射屈折型投影光学系を達成することができる。

上述の実施例１〜４について簡単にまとめると、以下の表９ようになる。

尚、ここで、｜Σφｎ｜、｜φＬ｜の単位は1/ｍｍであり、実施例１〜４における有効像面の半径は３００ｍｍである。

また、ここで上記の結果より、前述の条件式を以下のように記載することができる。

より好ましくは、｜Σφｎ｜×（有効像面の半径）の上限値が０．２であると好ましく、また｜Σφｎ｜×（有効像面の半径）の下限値が０．０１であると尚好ましい。

さらに、｜φＬｍ｜×（有効像面の半径）に関しても、以下のような条件式を記載することができる。

より好ましくは、｜φＬｍ｜×有効像面の半径の上限値が０．５であると好ましく、また｜φＬｍ｜×有効像面の半径の下限値が０．０５であると好ましい。

さらに、｜Σφｎ／φＬｍ｜に関しても以下のような条件式を設定することができる。

より好ましくは、｜Σφｎ／φＬｍ｜の下限値を０．０１、上限値を５とすると尚好ましい。

以上、本発明の好ましい実施例について説明したが、本発明はこれらの実施例に限定されないことはいうまでもなく、その要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。

本発明の数値実施例１の断面図である。 本発明の数値実施例１の縦収差図である。 本発明の数値実施例１の物高２５０ｍｍ、２７５ｍｍ、３００ｍｍにおける横収差図である。 本発明の数値実施例２の断面図である。 本発明の数値実施例２の縦収差図である。 本発明の数値実施例２の物高２６０ｍｍ、２８０ｍｍ、３００ｍｍにおける横収差図である。 本発明の数値実施例３の断面図である。 本発明の数値実施例３の縦収差図である。 本発明の数値実施例３の物高２５０ｍｍ、２７５ｍｍ、３００ｍｍにおける横収差図である。 本発明の数値実施例４の断面図である。 本発明の数値実施例４の縦収差図である。 本発明の数値実施例４の物高２５０ｍｍ、２７５ｍｍ、３００ｍｍにおける横収差図である。 本発明の投影光学系を使用したデバイスの製造方法のフローチャートである。 図１３に示すステップ４の詳細なフローチャートである。

符号の説明

Ｍ１ 第１反射面
Ｍ２ 第２反射面
Ｍ３ 第３反射面
Ｌ１ 第１レンズ
Ｌ２ 第２レンズ
Ｌ３ 第３レンズ
Ｌ４ 第２レンズ
Ｌ５ 第３レンズ
Ｏ 物体面
Ｉ 像面

Claims (13)

1. 物体側からの光路順に、正の第１反射面、負の第２反射面、正の第３反射面を有する投影光学系において、
   前記第１反射面から前記第２反射面までの光束中及び前記第２反射面から前記第３反射面までの光束中に少なくとも２枚以上のレンズ群Ｌｍを有し、
   前記第ｎ反射面の屈折力をφｎ、前記レンズ群Ｌｍの屈折力をφＬｍとしたとき、
   ｜Σφｎ｜ ＜ ０．０１、及び、｜ΣφＬｍ｜ ＜ ０．０１
   を満足することを特徴とする投影光学系。
2. 前記レンズ群Ｌｍの最も第１反射面側の軸上光線入射高をｈ１、軸外主光線入射高をｈｂ１、前記レンズ群Ｌｍの最も第２反射面側の軸上光線入射高をｈｍ、軸外主光線入射高をｈｂｍとしたとき、
   ｈ１／ｈｍ ＜ １．５、及び、ｈｂ１／ｈｂｍ ＞ １．５
   を満足することを特徴とする請求項１の投影光学系。
3. 前記投影光学系の物体側の開口数をＮＡｏ、像側の開口数をＮＡｉとしたとき、
   ＭＡＸ（ＮＡｏ，ＮＡｉ） ＜ ０．３
   であることを特徴とする請求項１又は２記載の投影光学系。
4. 前記レンズＬｍは少なくとも１面の非球面を有することを特徴とする請求項１乃至３のうちいずれか一項記載の投影光学系。
5. 前記レンズＬｍはすべて同一の材料であることを特徴とする請求項１乃至４のうちいずれか一項記載の投影光学系。
6. 前記投影光学系の結像倍率をβとしたとき、β＝１で、かつ、第１反射面と第３反射面が兼用部材であることを特徴とする請求項１乃至５のうちいずれか一項記載の投影光学系。
7. 前記投影光学系の結像倍率をβとしたとき、β＞１．１で、かつ、少なくとも第１反射面と第３反射面が非球面であることを特徴とする請求項１乃至５のうちいずれか一項記載の投影光学系。
8. 前記投影光学系の有効像面の半径をＲ、幅をＷ、長さをＬとしたとき、
   Ｌ／２Ｒ ＜ １、及び、０．１ ＜ Ｗ／Ｒ ＜ ０．３
   を満足することを特徴とする請求項１乃至５のうちいずれか一項記載の投影光学系。
9. 物体側からの光路順に、正の第１反射面、負の第２反射面、正の第３反射面を有する投影光学系において、
   前記第１反射面から前記第２反射面までの光束中及び前記第２反射面から前記第３反射面までの光束中に少なくとも２枚以上のレンズ群Ｌｍを有し、
   前記第ｎ反射面の屈折力をφｎ、前記レンズ群Ｌｍの屈折力をφＬｍとしたとき、
   ０．００５ ＜ ｜Σφｎ／φＬｍ｜ ＜２０
   を満足することを特徴とする投影光学系。
10. 物体側からの光路順に、正の第１反射面、負の第２反射面、正の第３反射面を有する投影光学系において、
    前記第１反射面から前記第２反射面までの光束中及び前記第２反射面から前記第３反射面までの光束中に少なくとも２枚以上のレンズ群Ｌｍを有し、
    前記第ｎ反射面の屈折力をφｎ、有効像面の半径をＲとしたとき、
    ｜Σφｎ｜×Ｒ＜３
    を満足することを特徴とする投影光学系。
11. 物体側からの光路順に、正の第１反射面、負の第２反射面、正の第３反射面を有する投影光学系において、
    前記第１反射面から前記第２反射面までの光束中及び前記第２反射面から前記第３反射面までの光束中に少なくとも２枚以上のレンズ群Ｌｍを有し、
    前記レンズ群Ｌｍの屈折力をφＬｍ、有効像面の半径をＲとしたとき、
    ｜φＬｍ｜×Ｒ＜３
    を満足することを特徴とする投影光学系。
12. 請求項１乃至１１のうちいずれか一項記載の投影光学系を有することを特徴とする露光装置。
13. 請求項１２記載の露光装置を用いて被処理体を投影露光するステップと、
    前記投影露光された前記被処理体を現像するステップとを有するデバイス製造方法。