JP5170706B2 - スピン注入磁化反転mtjを用いた不揮発性sram/ラッチ回路 - Google Patents
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Description
VQ=∫(Im3−Im4−IMTJ1)dt/CQ 式1
VQB=∫(Im1−Im2−IMTJ2)dt/CQB 式2
また、各電流の大きさの関係は以下である。
Im1=Im3>>Im2=Im4 式3
IMTJ1<IMTJ2 式4
また、容量CQおよびCQBの容量値CQおよびCQBは以下である。
CQ=CQB 式5
以上より、ノードQから容量CQを充電する電流はIm3−IMTJ1であり、ノードQBから容量CQBを充電する電流はIm1−IMTJ2である。
よって、
VQ>VQB
となる。
これにより、図8の時間t1と時間t2との間では、電圧VQおよびVQBはともに増加するが、VQはVQBより大きい。
VQ=∫(Im3−Im4−IMTJ1)dt/CQ 式6
VQB=∫(Im1−Im2−IMTJ2)dt/CQB 式7
また、各電流の大きさの関係は以下である。
Im1=Im3>>Im2=Im4 式8
IMTJ1<IMTJ2 式9
また、容量CQおよびCQBの容量値CQおよびCQBは以下である。
CQ=CQB 式10
以上より、ノードQから容量CQを充電する電流はIm3−IMTJ1であり、ノードQBから容量CQBを充電する電流はIm1−IMTJ2である。
よって、
VQ>VQB
となる。
これにより、図37の時間t1と時間t2との間では、電圧VQおよびVQBはともに増加するが、VQはVQBより大きい。
Claims (29)
- データを記憶する双安定回路と、
前記双安定回路に記憶されたデータを強磁性電極フリー層の磁化方向に応じ不揮発的にストアする強磁性トンネル接合素子と、を具備し、
前記強磁性トンネル接合素子に不揮発的に記憶されたデータを前記双安定回路にリストア可能であり、
前記双安定回路は、第1インバータ回路と第2インバータ回路とがリング状に接続されており、
前記強磁性トンネル接合素子は前記第1インバータ回路と前記第2インバータ回路とが接続されるノードに接続され、
前記強磁性トンネル接合素子は、前記ノードと制御線との間に接続され、前記ノードと前記制御線との間に電流が流れることにより高抵抗となり、前記電流と反対方向に電流が流れることにより低抵抗となることを特徴とする記憶回路。 - 前記強磁性トンネル接合素子は、スピン注入磁化反転法により、前記強磁性電極フリー層の磁化方向を変更することを特徴とする請求項1記載の記憶回路。
- 前記データを前記双安定回路から前記強磁性トンネル接合素子にデータをストアする際に、前記制御線は前記強磁性トンネル接合素子にハイレベルの電圧を印加しさらにローレベルの電圧を印加することを特徴とする請求項1または2記載の記憶回路。
- 前記データを前記強磁性トンネル接合素子から前記双安定回路にリストアする際に、前記制御線は前記強磁性トンネル接合素子にローレベルまたはハイレベルの電圧を印加することを特徴とする請求項1から3のいずれか一項記載の記憶回路。
- 前記ノードと前記強磁性トンネル接合素子との間に接続され、前記データを前記双安定回路から前記強磁性トンネル接合素子にストアする際および前記データを前記強磁性トンネル接合素子から前記双安定回路にリストアする際に導通するスイッチを具備することを特徴とする請求項1から4のいずれか一項記載の記憶回路。
- 前記スイッチは、MOSFETを含むことを特徴とする請求項5記載の記憶回路。
- 前記ノードは互いに相補ノードである第1ノードと第2ノードを含み、
前記強磁性トンネル接合素子は、前記第1ノードと前記制御線との間に接続された第1強磁性トンネル接合素子と、前記第2ノードと前記制御線との間に接続された第2強磁性トンネル接合素子とを含むことを特徴とする請求項1から4のいずれか一項記載の記憶回路。 - 前記第1ノードと前記第1強磁性トンネル接合素子との間に、前記データを前記双安定回路から前記第1強磁性トンネル接合素子にストアする際および前記データを前記第1トンネル接合素子から前記双安定回路にリストアする際に導通する第1スイッチと、
前記第2ノードと前記第2強磁性トンネル接合素子との間に、前記データを前記第2強磁性トンネル接合素子から前記双安定回路にストアする際および前記データを前記第2強磁性トンネル接合素子から前記双安定回路にリストアする際に導通する第2スイッチと、を具備することを特徴とする請求項7記載の記憶回路。 - 前記第1スイッチおよび前記第2スイッチは、それぞれMOSFETを含むことを特徴とする請求項8記載の記憶回路。
- 前記制御線とローレベルまたはハイレベルの電力線との間に接続された第3スイッチを具備し、
前記第3スイッチは、前記データを前記双安定回路から前記第1強磁性トンネル接合素子および第2強磁性トンネル接合素子にストアする際に遮断し、前記データを前記第1強磁性トンネル接合素子および第2強磁性トンネル接合素子から前記双安定回路にリストアする際に導通することを特徴とする請求項7から9のいずれか一項記載の記憶回路。 - 前記ノードにデータを入出力するための入出力スイッチを具備することを特徴とする請求項1から10のいずれか一項記載の記憶回路。
- 前記入出力スイッチはワード線のレベルに応じ、前記ノードにデータを入出力することを特徴とする請求項11記載の記憶回路。
- 前記入出力スイッチは、前記第1ノードにデータを入出力するための第1入出力スイッチと、前記第2ノードにデータを入出力するための第2入出力スイッチとを有することを特徴とする請求項7から10のいずれか一項記載の記憶回路。
- 前記強磁性トンネル接合素子は、強磁性電極フリー層と、強磁性電極ピン層と、前記強磁性電極フリー層と前記強磁性電極ピン層との間に設けられたトンネル絶縁膜とを有することを特徴とする請求項1から13のいずれか一項記載の記憶回路。
- 1以上の入力と1以上の出力を有する第1論理回路と、1以上の入力と1以上の出力を有する第2論理回路と、を有し、データを記憶する双安定回路と、
前記第1論理回路の出力のうち1つと前記第2論理回路の入力のうち1つとが接続された第1ノードと、
前記第2論理回路の出力のうち1つと前記第1論理回路の入力のうち1つとが接続された第2ノードと、
前記第1ノードおよび前記第2ノードの少なくとも一方に接続され、前記双安定回路に記憶されたデータを強磁性電極フリー層の磁化方向に応じ不揮発的にストアする強磁性トンネル接合素子と、を具備し、
前記データを前記双安定回路から前記強磁性トンネル接合素子にストアする際には記憶すべき相補的なデータがそれぞれ前記第1論理回路と前記第2論理回路から前記第1ノードおよび前記第2ノードに出力され、前記データを前記強磁性トンネル接合素子から前記双安定回路にリストアする際は、前記第1論理回路の前記第2ノードに接続された入力以外の入力には前記第1論理回路が前記第1ノードに前記第2ノードの論理反転を出力するような信号が入力され、前記第2論理回路の前記第1ノードに接続された入力以外の入力には前記第2論理回路が前記第2ノードに前記第1ノードの論理反転を出力するような信号が入力されており、
前記強磁性トンネル接合素子は、前記第1ノードおよび前記第2ノードの少なくとも一方のノードに接続されており、
前記強磁性トンネル接合素子は、前記少なくとも一方のノードと制御線との間に接続され、前記少なくとも一方のノードと前記制御線との間に電流が流れることにより高抵抗となり、前記電流と反対方向に電流が流れることにより低抵抗となることを特徴とするラッチ回路。 - 第1インバータ回路と第2インバータ回路とがリング状に接続され、データを記憶する双安定回路と、
前記第1インバータ回路と前記第2インバータ回路とが接続され互いに相補ノードである第1ノードおよび第2ノードと、
前記双安定回路に入力線から前記データを書き込むための第1入力スイッチと、
前記第1入力スイッチと相補的に動作し、前記双安定回路のデータを保持するための第2入力スイッチと、
前記双安定回路に記憶されたデータを強磁性電極フリー層の磁化方向に応じ不揮発的にストアする強磁性トンネル接合素子と、を具備し、
前記強磁性トンネル接合素子に不揮発的に記憶されたデータを前記双安定回路にリストア可能であり、
前記強磁性トンネル接合素子は、前記第1ノードおよび前記第2ノードの少なくとも一方のノードに接続されており、
前記強磁性トンネル接合素子は、前記少なくとも一方のノードと制御線との間に接続され、前記少なくとも一方のノードと前記制御線との間に電流が流れることにより高抵抗となり、前記電流と反対方向に電流が流れることにより低抵抗となることを特徴とするラッチ回路。 - 前記強磁性トンネル接合素子は、スピン注入磁化反転法により、前記強磁性電極フリー層の磁化方向を変更することを特徴とする請求項15または16記載のラッチ回路。
- 前記データを前記双安定回路から前記強磁性トンネル接合素子にデータをストアする際に、前記制御線は前記強磁性トンネル接合素子にハイレベルの電圧を印加しさらにローレベルの電圧を印加することを特徴とする請求項15から17のいずれか一項記載のラッチ回路。
- 前記データを前記強磁性トンネル接合素子から前記双安定回路にリストアする際に、前記制御線は前記強磁性トンネル接合素子にローレベルまたはハイレベルの電圧を印加することを特徴とする請求項15から18のいずれか一項記載のラッチ回路。
- 前記少なくとも一方のノードと前記強磁性トンネル接合素子との間に接続され、前記データを前記双安定回路から前記強磁性トンネル接合素子にストアする際および前記データを前記強磁性トンネル接合素子から前記双安定回路にリストアする際に導通するスイッチを具備することを特徴とする請求項15から19のいずれか一項記載のラッチ回路。
- 前記スイッチは、MOSFETを含むことを特徴とする請求項20記載のラッチ回路。
- 前記強磁性トンネル接合素子は、前記第1ノードと前記制御線との間に接続された第1強磁性トンネル接合素子と、前記第2ノードと前記制御線との間に接続された第2強磁性トンネル接合素子とを含むことを特徴とする請求項15から19のいずれか一項記載のラッチ回路。
- 前記第1ノードと前記第1強磁性トンネル接合素子との間に設けられ、前記データを前記双安定回路から前記第1強磁性トンネル接合素子にストアする際および前記データを前記第1強磁性トンネル接合素子から前記双安定回路にリストアする際に導通する第1スイッチと、
前記第2ノードと前記第2強磁性トンネル接合素子との間に設けられ、前記データを前記第2強磁性トンネル接合素子にストアさせる際および前記データを前記双安定回路にリストアする際に導通する第2スイッチと、を具備することを特徴とする請求項22記載のラッチ回路。 - 前記第1スイッチおよび前記第2スイッチは、それぞれMOSFETを含むことを特徴とする請求項23記載のラッチ回路。
- 前記制御線とローレベルまたはハイレベルの電力線との間に接続された第3スイッチを具備し、
前記第3スイッチは、前記データを前記双安定回路から前記第1強磁性トンネル接合素子および第2強磁性トンネル接合素子にストアする際に遮断し、前記データを前記第1強磁性トンネル接合素子および第2強磁性トンネル接合素子から前記双安定回路にリストアする際に導通することを特徴とする請求項22から24のいずれか一項記載のラッチ回路。 - 前記強磁性トンネル接合素子は、強磁性電極フリー層と、強磁性電極ピン層と、前記強磁性電極フリー層と前記強磁性電極ピン層との間に設けられたトンネル絶縁膜とを有することを特徴とする請求項15から25のいずれか一項記載のラッチ回路。
- 請求項15から26のいずれか一項記載のラッチ回路を有するフリップフロップ回路。
- データを記憶する双安定回路と、
前記双安定回路に記憶されたデータを不揮発的にストアするスピントランジスタと、を具備し、
前記スピントランジスタに不揮発的に記憶されたデータを前記双安定回路にリストア可能であり、
前記双安定回路は、第1インバータ回路と第2インバータ回路とがリング状に接続されており、
前記スピントランジスタのソースおよびドレインの一方は、前記第1インバータ回路と前記第2インバータ回路とが接続されるノードに接続され、
前記スピントランジスタのソースおよびドレインの他方は、制御線に接続されることを特徴とする記憶回路。 - 1以上の入力と1以上の出力を有する第1論理回路と、1以上の入力と1以上の出力を有する第2論理回路と、を有し、データを記憶する双安定回路と、
前記第1論理回路の出力のうち1つと前記第2論理回路の入力のうち1つとが接続された第1ノードと、
前記第2論理回路の出力のうち1つと前記第1論理回路の入力のうち1つとが接続された第2ノードと、
前記第1ノードおよび前記第2ノードの少なくとも一方に接続され、前記双安定回路に記憶されたデータを強磁性電極フリー層の磁化方向に応じ不揮発的にストアするスピントランジスタと、を具備し、
前記データを前記双安定回路から前記スピントランジスタにストアする際には記憶すべき相補的なデータがそれぞれ前記第1論理回路と前記第2論理回路から前記第1ノードおよび前記第2ノードに出力され、前記データを前記スピントランジスタから前記双安定回路にリストアする際は、前記第1論理回路の前記第2ノードに接続された入力以外の入力には前記第1論理回路が前記第1ノードに前記第2ノードの論理反転を出力するような信号が入力され、前記第2論理回路の前記第1ノードに接続された入力以外の入力には前記第2論理回路が前記第2ノードに前記第1ノードの論理反転を出力するような信号が入力されており、
前記スピントランジスタのソースおよびドレインの一方は、前記第1ノードおよび前記第2ノードの少なくとも一方のノードに接続され、
前記スピントランジスタのソースおよびドレインの他方は、制御線に接続されることを特徴とするラッチ回路。
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