JP5153305B2 - レジスト膜の剥離装置及び剥離方法 - Google Patents
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Description
第1の剥離液が収容される第1の貯液タンクと、
この第1の貯液タンクに収容される第1の剥離液にナノバブルを混合させる第1のナノバブル発生器と、
ナノバブルが混合された第1の剥離液を上記第1の貯液タンクから上記基板の板面に供給する第1の給液手段と
第2の剥離液が収容される第2の貯液タンクと、
この第2の貯液タンクに収容された第2の剥離液を上記基板の板面の上記第1の供給手段によって第1の剥離液が供給された部位にこの第1の剥離液に混合されたナノバブルを圧壊させる圧力で供給する第2の給液手段と
を具備したことを特徴とするレジスト膜の剥離装置にある。
を具備したことが好ましい。
基板の板面にナノバブルが混合された第1の剥離液を供給して上記レジスト膜を膨潤させる工程と、
ナノバブルが混合された第1の剥離液によって膨潤させられたレジスト膜に第2の剥離液を第1の剥離液に混合されたナノバブルを圧壊させる圧力で供給して上記レジスト膜を剥離する工程と
を具備したことを特徴とするレジスト膜の剥離方法にある。
図1は基板Wの板面に付着残留するレジスト膜を剥離除去する剥離装置を示し、この剥離装置は処理槽1を備えている。上記基板Wは処理槽1の内部と外部にわたって設けられた搬送手段としてのローラコンベア2によって矢印で示す方向に水平搬送される。上記処理槽1の一端面にはローラコンベア2によって搬送される基板Wを搬入する搬入口3が形成され、他端面には搬出口4は形成されている。
したがって、基板Wは剥離部8で急激に加熱されて温度上昇するということがないから、急激な熱変形を起こしてひずみが発生するということもない。
Claims (6)
- 基板の板面に付着するレジスト膜を除去するレジスト膜の剥離装置であって、
第1の剥離液が収容される第1の貯液タンクと、
この第1の貯液タンクに収容される第1の剥離液にナノバブルを混合させる第1のナノバブル発生器と、
ナノバブルが混合された第1の剥離液を上記第1の貯液タンクから上記基板の板面に供給する第1の給液手段と
第2の剥離液が収容される第2の貯液タンクと、
この第2の貯液タンクに収容された第2の剥離液を上記基板の板面の上記第1の供給手段によって第1の剥離液が供給された部位にこの第1の剥離液に混合されたナノバブルを圧壊させる圧力で供給する第2の給液手段と
を具備したことを特徴とするレジスト膜の剥離装置。 - 上記第1の貯液タンクに収容された第1の剥離液を加熱する第1の加熱手段と、上記第2の貯液タンクに収容された第2の剥離液を上記第1の貯液タンクに収容された第1の剥離液よりも高い温度に加熱する第2の加熱手段と
を具備したことを特徴とする請求項1記載のレジスト膜の剥離装置。 - 上記第2の給液手段によって第2の剥離液が供給された基板を純水によって洗浄する前に、基板の板面から剥離されたレジスト膜を除去する剥離液成分を含むリンス液を供給する第3の給液手段を備えていることを特徴とする請求項1記載のレジスト膜の剥離装置。
- 上記第3の給液手段によって基板に供給される上記リンス液に、第2のナノバブル発生器によってナノバブルを混合させることを特徴とする請求項3記載のレジスト膜の剥離装置。
- 基板の板面に付着するレジスト膜を除去するレジスト膜の剥離方法であって、
基板の板面にナノバブルが混合された第1の剥離液を供給して上記レジスト膜を膨潤させる工程と、
ナノバブルが混合された第1の剥離液によって膨潤させられたレジスト膜に第2の剥離液を第1の剥離液に混合されたナノバブルを圧壊させる圧力で供給して上記レジスト膜を剥離する工程と
を具備したことを特徴とするレジスト膜の剥離方法。 - 基板からレジスト膜を剥離した後に、上記基板に剥離液成分を含むとともにナノバブルが混合されたリンス液を供給する工程を備えていることを特徴とする請求項5記載のレジスト膜の剥離方法。
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