JP5115349B2 - 積層セラミック電子部品およびその製造方法 - Google Patents
積層セラミック電子部品およびその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5115349B2 JP5115349B2 JP2008155289A JP2008155289A JP5115349B2 JP 5115349 B2 JP5115349 B2 JP 5115349B2 JP 2008155289 A JP2008155289 A JP 2008155289A JP 2008155289 A JP2008155289 A JP 2008155289A JP 5115349 B2 JP5115349 B2 JP 5115349B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- containing layer
- layer
- electronic component
- multilayer ceramic
- external terminal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES OR LIGHT-SENSITIVE DEVICES, OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G4/00—Fixed capacitors; Processes of their manufacture
- H01G4/002—Details
- H01G4/005—Electrodes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES OR LIGHT-SENSITIVE DEVICES, OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G4/00—Fixed capacitors; Processes of their manufacture
- H01G4/002—Details
- H01G4/228—Terminals
- H01G4/232—Terminals electrically connecting two or more layers of a stacked or rolled capacitor
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES OR LIGHT-SENSITIVE DEVICES, OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G4/00—Fixed capacitors; Processes of their manufacture
- H01G4/30—Stacked capacitors
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/43—Electric condenser making
- Y10T29/435—Solid dielectric type
Description
2,49 セラミック層
3,4,43,44 主面
5〜8,45〜48 側面
9,42,42a セラミック素体
10,11,52,53 外部端子電極
12,13,50,51,60,61 内部導体
17,19,63,65 引出し部
20 第1の導電層
21 第2の導電層
22,23 めっき膜
24 第3の導電層
25 Sn含有層
26 Cu含有層
41 コンデンサアレイ
Claims (8)
- 複数のセラミック層が積層されてなるもので、互いに対向する第1の主面および第2の主面と、前記第1の主面および前記第2の主面間を接続する複数の側面とを有する、セラミック素体と、
前記セラミック素体の内部に形成され、少なくとも1つの前記側面に露出部を有する、Niを含有する内部導体と、
前記セラミック素体の少なくとも1つの前記側面上に形成され、前記内部導体と電気的に接続された外部端子電極と
を備え、
前記外部端子電極は、前記セラミック素体の少なくとも1つの前記側面上において、前記内部導体の前記露出部を被覆するようにして形成された、Sn−Cu−Ni金属間化合物を含有する第1の導電層を含む、積層セラミック電子部品。 - 前記第1の導電層上に形成された、Cuを含有する第2の導電層をさらに含む、請求項1に記載の積層セラミック電子部品。
- 前記第2の導電層は、ガラス成分を含まず、実質的にCuを主成分として構成される、請求項2に記載の積層セラミック電子部品。
- 前記外部端子電極は、最外層にめっき膜からなる第3の導電層を有する、請求項1ないし3のいずれかに記載の積層セラミック電子部品。
- 複数のセラミック層が積層されてなるもので、互いに対向する第1の主面および第2の主面と、前記第1の主面および前記第2の主面間を接続する複数の側面とを有し、少なくとも1つの前記側面に露出部を有する、Niを含有する内部導体が内部に形成された、セラミック素体を準備する工程と、
前記セラミック素体の少なくとも1つの前記側面上において、前記内部導体の前記露出部を被覆するようにしてSn含有層を形成する工程と、
前記Sn含有層上にCu含有層を形成する工程と、
前記Sn含有層および前記Cu含有層が形成された前記セラミック素体に熱処理を施し、それによって、前記内部導体と前記Cu含有層との間にSn−Cu−Ni金属間化合物層を形成する工程と
を備える、積層セラミック電子部品の製造方法。 - 前記Sn含有層を形成する工程は、前記Sn含有層をめっきにより形成する工程を含む、請求項5に記載の積層セラミック電子部品の製造方法。
- 前記Cu含有層を形成する工程は、前記Cu含有層をめっきにより形成する工程を含む、請求項5または6に記載の積層セラミック電子部品の製造方法。
- 前記Cu含有層の厚みは、前記Sn含有層の厚みの2倍以上である、請求項5ないし7のいずれかに記載の積層セラミック電子部品の製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008155289A JP5115349B2 (ja) | 2008-06-13 | 2008-06-13 | 積層セラミック電子部品およびその製造方法 |
US12/469,799 US8014123B2 (en) | 2008-06-13 | 2009-05-21 | Multilayer ceramic electronic component and method for making the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008155289A JP5115349B2 (ja) | 2008-06-13 | 2008-06-13 | 積層セラミック電子部品およびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009302300A JP2009302300A (ja) | 2009-12-24 |
JP5115349B2 true JP5115349B2 (ja) | 2013-01-09 |
Family
ID=41414545
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008155289A Active JP5115349B2 (ja) | 2008-06-13 | 2008-06-13 | 積層セラミック電子部品およびその製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8014123B2 (ja) |
JP (1) | JP5115349B2 (ja) |
Families Citing this family (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5282678B2 (ja) * | 2009-06-26 | 2013-09-04 | 株式会社村田製作所 | 積層型電子部品およびその製造方法 |
JP5589891B2 (ja) * | 2010-05-27 | 2014-09-17 | 株式会社村田製作所 | セラミック電子部品及びその製造方法 |
KR101228688B1 (ko) * | 2010-11-25 | 2013-02-01 | 삼성전기주식회사 | 적층형 세라믹 캐패시터 |
KR101751058B1 (ko) * | 2010-12-10 | 2017-06-27 | 삼성전기주식회사 | 적층 세라믹 캐패시터 및 그 제조 방법 |
JP2012156315A (ja) | 2011-01-26 | 2012-08-16 | Murata Mfg Co Ltd | 積層セラミック電子部品 |
JP5882015B2 (ja) * | 2011-10-05 | 2016-03-09 | ローム株式会社 | 電子部品の電極構造 |
KR101983129B1 (ko) * | 2012-01-18 | 2019-05-28 | 삼성전기주식회사 | 적층 세라믹 전자부품 및 이의 제조방법 |
KR101775913B1 (ko) * | 2012-12-18 | 2017-09-07 | 가부시키가이샤 무라타 세이사쿠쇼 | 적층 세라믹 전자부품 |
JP6357640B2 (ja) * | 2013-11-11 | 2018-07-18 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 積層部品 |
KR101630043B1 (ko) * | 2014-06-26 | 2016-06-13 | 삼성전기주식회사 | 기판 내장용 적층 세라믹 전자부품, 그 제조방법 및 적층 세라믹 전자부품 내장형 인쇄회로기판 |
JP6623574B2 (ja) * | 2015-06-24 | 2019-12-25 | 株式会社村田製作所 | 積層セラミックコンデンサ |
KR102198538B1 (ko) * | 2015-12-29 | 2021-01-06 | 삼성전기주식회사 | 적층 전자 부품 |
JP6093054B2 (ja) * | 2016-02-03 | 2017-03-08 | ローム株式会社 | 電子部品の電極構造 |
JP6421137B2 (ja) * | 2016-03-25 | 2018-11-07 | 太陽誘電株式会社 | 積層セラミックコンデンサ |
JP6747273B2 (ja) * | 2016-12-13 | 2020-08-26 | 株式会社村田製作所 | 電子部品の製造方法及び電子部品 |
JP7131897B2 (ja) | 2017-09-27 | 2022-09-06 | 太陽誘電株式会社 | セラミック電子部品およびその製造方法 |
KR102148446B1 (ko) * | 2018-10-02 | 2020-08-26 | 삼성전기주식회사 | 적층 세라믹 전자부품 |
KR102121579B1 (ko) | 2018-10-02 | 2020-06-10 | 삼성전기주식회사 | 적층 세라믹 전자부품 |
KR102145311B1 (ko) | 2018-10-05 | 2020-08-18 | 삼성전기주식회사 | 세라믹 전자 부품 |
JP7031574B2 (ja) * | 2018-12-21 | 2022-03-08 | 株式会社村田製作所 | 電子部品およびその製造方法 |
JP2020202220A (ja) * | 2019-06-07 | 2020-12-17 | 株式会社村田製作所 | 積層セラミック電子部品 |
JP7160024B2 (ja) * | 2019-12-20 | 2022-10-25 | 株式会社村田製作所 | 電子部品 |
JP2021136323A (ja) * | 2020-02-27 | 2021-09-13 | 株式会社村田製作所 | 積層セラミック電子部品 |
KR20210129357A (ko) * | 2020-04-20 | 2021-10-28 | 삼성전기주식회사 | 적층형 커패시터 및 그 실장 기판 |
Family Cites Families (27)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2658509B2 (ja) * | 1989-06-16 | 1997-09-30 | 松下電器産業株式会社 | 電子部品と電極ペーストおよび端子電極の形成方法 |
JPH10154633A (ja) * | 1995-11-29 | 1998-06-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | セラミック電子部品およびその製造方法 |
JP2000216040A (ja) * | 1999-01-25 | 2000-08-04 | Murata Mfg Co Ltd | セラミック電子部品の外部電極用導電性組成物およびセラミック電子部品 |
JP2000277371A (ja) * | 1999-03-29 | 2000-10-06 | Taiyo Yuden Co Ltd | 積層セラミック電子部品 |
JP2001035740A (ja) * | 1999-07-23 | 2001-02-09 | Taiyo Kagaku Kogyo Kk | 外部端子電極具備電子部品及びその製造方法 |
JP2002050536A (ja) * | 2000-07-31 | 2002-02-15 | Murata Mfg Co Ltd | 耐還元性誘電体セラミックおよび積層セラミックコンデンサ |
JP4656275B2 (ja) * | 2001-01-15 | 2011-03-23 | 日本電気株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
US6960366B2 (en) | 2002-04-15 | 2005-11-01 | Avx Corporation | Plated terminations |
US7463474B2 (en) | 2002-04-15 | 2008-12-09 | Avx Corporation | System and method of plating ball grid array and isolation features for electronic components |
US7152291B2 (en) | 2002-04-15 | 2006-12-26 | Avx Corporation | Method for forming plated terminations |
US7576968B2 (en) | 2002-04-15 | 2009-08-18 | Avx Corporation | Plated terminations and method of forming using electrolytic plating |
TWI260657B (en) | 2002-04-15 | 2006-08-21 | Avx Corp | Plated terminations |
US6982863B2 (en) | 2002-04-15 | 2006-01-03 | Avx Corporation | Component formation via plating technology |
US7177137B2 (en) | 2002-04-15 | 2007-02-13 | Avx Corporation | Plated terminations |
US7054136B2 (en) * | 2002-06-06 | 2006-05-30 | Avx Corporation | Controlled ESR low inductance multilayer ceramic capacitor |
US7345868B2 (en) | 2002-10-07 | 2008-03-18 | Presidio Components, Inc. | Multilayer ceramic capacitor with terminal formed by electroless plating |
JP4310585B2 (ja) * | 2003-02-21 | 2009-08-12 | 株式会社村田製作所 | 積層型セラミック電子部品およびその製造方法 |
JP4747604B2 (ja) * | 2005-02-18 | 2011-08-17 | Tdk株式会社 | セラミック電子部品 |
JP3861927B1 (ja) * | 2005-07-07 | 2006-12-27 | 株式会社村田製作所 | 電子部品、電子部品の実装構造および電子部品の製造方法 |
JP5104313B2 (ja) | 2005-10-28 | 2012-12-19 | 株式会社村田製作所 | 積層型電子部品およびその製造方法 |
CN101346785B (zh) | 2006-02-27 | 2012-06-27 | 株式会社村田制作所 | 层叠型电子部件及其制造方法 |
WO2007105395A1 (ja) | 2006-03-14 | 2007-09-20 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | 積層型電子部品の製造方法 |
CN101346786B (zh) | 2006-03-15 | 2011-07-27 | 株式会社村田制作所 | 叠层型电子元件及其制造方法 |
JP2009295602A (ja) | 2006-08-22 | 2009-12-17 | Murata Mfg Co Ltd | 積層型電子部品、および積層型電子部品の製造方法。 |
CN101356602B (zh) | 2006-11-15 | 2012-07-04 | 株式会社村田制作所 | 叠层型电子部件及其制造方法 |
JP4807410B2 (ja) | 2006-11-22 | 2011-11-02 | 株式会社村田製作所 | 積層型電子部品およびその製造方法 |
JP5289794B2 (ja) | 2007-03-28 | 2013-09-11 | 株式会社村田製作所 | 積層型電子部品およびその製造方法 |
-
2008
- 2008-06-13 JP JP2008155289A patent/JP5115349B2/ja active Active
-
2009
- 2009-05-21 US US12/469,799 patent/US8014123B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US8014123B2 (en) | 2011-09-06 |
JP2009302300A (ja) | 2009-12-24 |
US20090310277A1 (en) | 2009-12-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5115349B2 (ja) | 積層セラミック電子部品およびその製造方法 | |
JP5282634B2 (ja) | 積層セラミック電子部品およびその製造方法 | |
JP5239731B2 (ja) | 積層セラミック電子部品およびその製造方法 | |
US8484815B2 (en) | Method for manufacturing laminated electronic component | |
TWI406309B (zh) | 積層陶瓷電子零件 | |
US8228663B2 (en) | Laminated ceramic electronic component | |
US8194391B2 (en) | Multilayer ceramic electronic component and manufacturing method thereof | |
JP2017191929A (ja) | 積層型キャパシター及びその製造方法 | |
JP5777179B2 (ja) | 基板内蔵用積層セラミック電子部品及び積層セラミック電子部品内蔵型印刷回路基板 | |
JP2015023271A (ja) | 基板内蔵用積層セラミック電子部品及び積層セラミック電子部品内蔵型印刷回路基板 | |
JP2009283598A (ja) | 積層電子部品およびその製造方法 | |
JP2020102608A (ja) | キャパシタ部品 | |
JP6376604B2 (ja) | 基板内蔵用積層セラミック電子部品及び積層セラミック電子部品内蔵型印刷回路基板 | |
JP2015057810A (ja) | 基板内蔵用積層セラミック電子部品及び積層セラミック電子部品内蔵型印刷回路基板 | |
US20120147517A1 (en) | Multilayer ceramic capacitor and method of manufacturing the same | |
JP2019195037A (ja) | 積層型キャパシタ | |
US20130155573A1 (en) | Electronic component and manufacturing method thereof | |
JP2013098533A (ja) | 積層セラミック電子部品の製造方法 | |
JP4548471B2 (ja) | コンデンサアレイおよびその製造方法 | |
US11837412B2 (en) | Ceramic electronic component | |
JP2020004942A (ja) | 積層セラミックキャパシタ | |
CN111341560B (zh) | 电容器组件 | |
JP2013058722A (ja) | 外部電極用導電性ペースト、これを用いた積層セラミック電子部品及びその製造方法 | |
US20140022693A1 (en) | Ceramic electronic component and method of manufacturing the same | |
JP2002217055A (ja) | 積層セラミック電子部品及びその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110518 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120905 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120918 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20121001 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 5115349 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151026 Year of fee payment: 3 |