JP5057491B2 - マスク不良検査装置 - Google Patents
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Description
21 カメラ部、
22 照明部、
30 引張ジグユニット、
31 支持台、
32 クランプ部、
33 テンション部、
50 ベース部材、
100 マスク不良検査装置、
MM メタルマスク。
Claims (7)
- 検査対象であるメタルマスクが置かれる支持台と、
前記支持台の両側に配置されて、前記メタルマスクの両側周縁を固定するクランプ部と、
前記クランプ部によって固定された前記メタルマスクに引張力を加えるテンション部とを含む引張ジグユニット、及び
前記引張ジグユニットによって固定された前記メタルマスクを検査する検査ユニット、を含み、
前記支持台上に置かれた前記メタルマスクと前記検査ユニットとの間の垂直方向の距離は、前記クランプ部及び前記テンション部と前記検査ユニットとの間の垂直方向の距離と同一または短く形成されており、
前記支持台に置かれた前記メタルマスクは、前記支持台の周縁で予め設定された角度に折れて前記クランプ部に固定される、マスク不良検査装置。 - 前記予め設定された角度は、10度乃至30度の範囲内に属する、請求項1に記載のマスク不良検査装置。
- 前記メタルマスクの周縁を固定する前記クランプ部の固定面は、前記メタルマスクが置かれた前記支持台の表面に対して所定の傾斜角を有する、請求項1または請求項2に記載のマスク不良検査装置。
- 前記所定の傾斜角は、10度乃至30度の範囲内に属する、請求項3に記載のマスク不良検査装置。
- 前記テンション部は、前記クランプ部を引っ張って前記メタルマスクに引張力を加える、請求項1〜4のいずれか1項に記載のマスク不良検査装置。
- 前記検査ユニット及び前記引張ジグユニットのうちのいずれか一方を他の一方に対して平行な方向に移送させる移送ユニットをさらに含む、請求項1〜5のいずれか1項に記載のマスク不良検査装置。
- 前記検査ユニットは、前記支持台上に置かれた前記メタルマスクの不良有無を検出するためのカメラ部と、前記カメラ部の周辺に配置された照明部とを含む、請求項1〜6のいずれか1項に記載のマスク不良検査装置。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109540668A (zh) * | 2018-11-22 | 2019-03-29 | 京东方科技集团股份有限公司 | 拉力施加装置及掩膜条的抵抗力确定方法 |
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Families Citing this family (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6074135B2 (ja) | 2011-03-29 | 2017-02-01 | 現代自動車株式会社Hyundai Motor Company | 自動車燃料漏れ防止用吸気マニホールドモジュールの製造方法 |
CN103206924A (zh) * | 2012-01-11 | 2013-07-17 | 昆山允升吉光电科技有限公司 | 金属掩模板面形测量***及其测量方法 |
JP6146638B2 (ja) * | 2012-11-05 | 2017-06-14 | 大日本印刷株式会社 | 金属薄板の寸法測定装置及び金属薄板の寸法測定方法 |
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JP6193028B2 (ja) * | 2013-07-12 | 2017-09-06 | 新東エスプレシジョン株式会社 | 検査装置 |
US9518935B2 (en) * | 2013-07-29 | 2016-12-13 | Kla-Tencor Corporation | Monitoring changes in photomask defectivity |
CN105489517B (zh) * | 2014-09-15 | 2018-07-31 | 上海和辉光电有限公司 | 一种检测掩模缺陷的方法 |
CN105093820A (zh) * | 2015-09-01 | 2015-11-25 | 武汉华星光电技术有限公司 | 光罩检查机和光罩检查方法 |
JP6399119B2 (ja) * | 2017-02-14 | 2018-10-03 | 大日本印刷株式会社 | 金属薄板の寸法測定装置及び金属薄板の寸法測定方法 |
CN107245694B (zh) * | 2017-06-09 | 2019-05-31 | 京东方科技集团股份有限公司 | 张网装置、基台、夹具及掩膜板的夹持方法 |
WO2019023890A1 (zh) * | 2017-07-31 | 2019-02-07 | 深圳市柔宇科技有限公司 | 金属掩膜板缺陷的判断方法和制造设备 |
CN109099851A (zh) * | 2018-07-03 | 2018-12-28 | 上海帆声图像科技有限公司 | 多层光传导介质下的膜材形变识别及检验设备 |
CN108844480A (zh) * | 2018-07-03 | 2018-11-20 | 上海帆声图像科技有限公司 | 用于多层光传导介质下的膜材形变识别*** |
CN112648920B (zh) * | 2019-10-12 | 2022-05-24 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 掩模开口尺寸测量方法、掩模版拉伸装置以及张网机 |
CN110609044B (zh) * | 2019-10-29 | 2021-11-09 | 山东瑞谱检测技术有限公司 | 一种用于膜片结构安装时的品质检查装置 |
CN111982811B (zh) * | 2020-07-20 | 2024-03-08 | 湖北光安伦芯片有限公司 | 一种芯片检测***和芯片检测方法 |
CN112122164B (zh) * | 2020-08-28 | 2022-04-26 | 阜阳恒泰纺织有限公司 | 一种防毒口罩生产装置 |
Family Cites Families (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3227434A1 (de) * | 1982-07-22 | 1984-01-26 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Spannvorrichtung fuer duenne folien, z.b. aus metall oder kunststoff |
JPH032290U (ja) * | 1989-05-30 | 1991-01-10 | ||
GB2264460B (en) | 1992-06-03 | 1994-02-16 | David Godfrey Williams | Improved stencil or mask for applying solder to circuit boards and support frame |
JP3002290U (ja) | 1994-03-23 | 1994-09-20 | 日本無線株式会社 | メタルマスク保持機構 |
JP2000030610A (ja) * | 1998-07-13 | 2000-01-28 | Toppan Printing Co Ltd | シャドウマスクの検査用治具およびそれを用いた検査方法 |
JP2000173464A (ja) | 1998-12-10 | 2000-06-23 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | シャドウマスクの検査装置 |
JP2002140989A (ja) | 2000-10-31 | 2002-05-17 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 金属薄板の検査装置 |
JP2004037134A (ja) | 2002-07-01 | 2004-02-05 | Nec Corp | メタルマスク検査方法及びメタルマスク検査装置 |
US6729927B2 (en) * | 2002-08-01 | 2004-05-04 | Eastman Kodak Company | Method and apparatus for making a shadow mask array |
KR100526035B1 (ko) | 2003-05-07 | 2005-11-08 | 홍성국 | 메탈 마스크 검사 장치 및 그의 검사 방법 |
KR100942841B1 (ko) * | 2003-06-02 | 2010-02-18 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정표시소자의 검사 방법 및 장치와 리페어방법 및 장치 |
JP3580550B1 (ja) | 2003-08-20 | 2004-10-27 | レーザーテック株式会社 | パターン基板の欠陥修正方法及び欠陥修正装置並びにパターン基板製造方法 |
JP4562488B2 (ja) * | 2004-10-15 | 2010-10-13 | 大日本印刷株式会社 | メタルマスク位置アラインメント方法及び装置 |
JP4510609B2 (ja) | 2004-12-21 | 2010-07-28 | 株式会社アルバック | 基板とマスクのアライメント方法および有機薄膜蒸着方法ならびにアライメント装置 |
JP2006249542A (ja) * | 2005-03-14 | 2006-09-21 | Dainippon Printing Co Ltd | 基準位置指示装置及びメタルマスク位置アラインメント装置 |
JP4587851B2 (ja) | 2005-03-17 | 2010-11-24 | 大日本印刷株式会社 | メタルマスクセット方法 |
JP2006265712A (ja) | 2005-03-25 | 2006-10-05 | Dainippon Printing Co Ltd | 基準位置指示装置及びメタルマスク位置アラインメント装置 |
EP2063262B1 (en) * | 2006-09-14 | 2013-03-06 | Panasonic Corporation | Metal identifying device and metal identifying method |
JP4224863B2 (ja) | 2007-02-02 | 2009-02-18 | レーザーテック株式会社 | 検査装置及び検査方法、並びにパターン基板の製造方法 |
JP2008249921A (ja) | 2007-03-30 | 2008-10-16 | Advanced Mask Inspection Technology Kk | レチクル欠陥検査装置およびレチクル欠陥検査方法 |
JP5325406B2 (ja) | 2007-10-10 | 2013-10-23 | オリンパス株式会社 | 基板検査装置 |
JP5310982B2 (ja) | 2007-11-26 | 2013-10-09 | 凸版印刷株式会社 | メタルマスク用保持具 |
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109540668A (zh) * | 2018-11-22 | 2019-03-29 | 京东方科技集团股份有限公司 | 拉力施加装置及掩膜条的抵抗力确定方法 |
CN109540668B (zh) * | 2018-11-22 | 2022-02-08 | 京东方科技集团股份有限公司 | 拉力施加装置及掩膜条的抵抗力确定方法 |
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