JP4975080B2 - 減圧乾燥装置及び減圧乾燥方法 - Google Patents
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Description
本発明の第1の観点における減圧乾燥方法は、被処理基板上に形成された塗布液の膜に減圧乾燥処理を施す減圧乾燥方法であって、前記基板を減圧可能なチャンバ内にコロ搬送路上のコロ搬送によって搬入する第1の工程と、前記チャンバ内で前記基板を複数の支持ピンで水平に支持して前記コロ搬送路の上方に持ち上げる第2の工程と、前記減圧乾燥処理を行うために、密閉状態の前記チャンバ内を前記チャンバの底壁に形成された排気口を介して真空排気する第3の工程と、前記減圧乾燥処理を終了させるために、前記基板を前記複数の支持ピン上から前記コロ搬送路上に移して、前記チャンバ内の前記コロ搬送路の両側に設けられる前記コロ搬送路よりも高い位置のガス噴出口よりパージング用のガスを前記コロ搬送路上の前記基板に向けて水平に噴出する第4の工程と、前記パージングの終了後に、前記基板を前記チャンバの外へ前記コロ搬送路上のコロ搬送によって搬出する第5の工程とを有する。
上記第1の観点によれば、チャンバ内でチャンバ側壁に沿って搬送方向に延びるパージング機構のパージングガス噴出部が、コロ搬送路よりも高い位置に設けられたガス噴出口よりパージング用のガスをコロ搬送路上の前記基板に向けて水平に噴出することにより、チャンバの天井と基板との間の空間にパージング用のガスが送り込まれ、パージング用のガスはこの空間を速やかに行き渡ってから基板の前後の隙間を下方に抜けてもチャンバ底部の排気口に向かって流れる。このことにより、基板が支持ピンを通じて受ける熱的影響が低減され、基板上の塗布膜の膜質が向上する。
本発明の第2の観点における減圧乾燥方法は、被処理基板上に形成された塗布液の膜に減圧乾燥処理を施す減圧乾燥方法であって、前記基板を減圧可能なチャンバ内にコロ搬送路上のコロ搬送によって搬入する第1の工程と、前記チャンバ内で前記基板を複数の支持ピンで水平に支持して前記コロ搬送路の上方に持ち上げる第2の工程と、前記減圧乾燥処理を行うために、密閉状態の前記チャンバ内を前記チャンバの底壁に形成された排気口を介して真空排気する第3の工程と、前記減圧乾燥処理を終了させるために、前記基板を前記複数の支持ピン上から前記コロ搬送路上に移して、前記チャンバ内で前記コロ搬送路よりも高い位置でチャンバ側壁に沿って搬送方向に延びるガス噴出口よりパージング用のガスを前記コロ搬送路上の前記基板に向けて噴出する第4の工程と、前記パージングの終了後に、前記基板を前記チャンバの外へ前記コロ搬送路上のコロ搬送によって搬出する第5の工程とを有し、前記第4の工程において、前記ガス噴出口より噴出された前記パージング用のガスが、前記チャンバの天井と前記基板との間の最上部空間、前記基板と前記コロ搬送路の近くで前記基板の下を覆うように設けられ、前記支持ピンを昇降可能に貫通させるための第1の開口と、前記コロ搬送路との干渉を避けるための第2の開口とを有する遮蔽板との間の中間空間、および前記遮蔽板と前記チャンバの底面との間の最下部空間に分かれて流れる。
上記第2の観点によれば、チャンバ内でチャンバ側壁に沿って搬送方向に延びるパージング機構のパージングガス噴出部が、コロ搬送路よりも高い位置に設けられたガス噴出口よりパージング用のガスをコロ搬送路上の前記基板に向けて噴出することにより、前記ガス噴出口より噴出されたパージング用のガスが、チャンバの天井と基板との間の最上部空間、基板とコロ搬送路の近くで基板の下を覆うように設けられ、支持ピンを昇降可能に貫通させるための第1の開口と、コロ搬送路との干渉を避けるための第2の開口とを有する遮蔽板との間の中間空間、およびこの遮蔽板とチャンバの底面との間の最下部空間に分かれて流れる。
最上部空間に送り込まれたパージングガスは、この空間 1 に速やかに行き渡ってから基板の前後の隙間を下方に抜けて、チャンバ底部の排気口に向かって流れる。中間空間に送り込まれたパージングガスは、この空間内に拡散しながら、あちこちの遮蔽板の第1および第2の開口を通り抜け、あるいは基板の前後の隙間を下方に抜けて、最下部空間に流下する。そして、最下部空間に送り込まれたパージング用のガス、および中間空間から遮蔽板の第1および第2の開口を通り抜けて最下部空間に降りてきたパージングガスは、最下部空間内でコロの各部にに衝突しながらチャンバ底部の排気口に向かって流れる。このことにより、基板が支持ピンを通じて受ける熱的影響が低減され、基板上の塗布膜の膜質が向上する。
上記実施形態のように、遮蔽板100を設け、パージングガス噴出部80のガス噴出口をコロ搬送路38Bよりも高い位置に設ける構成である。
上記実施形態と同様に遮蔽板100を設けるが、パージングガス噴出部80のガス噴出口をコロ搬送路38Bよりも低い位置(搬送面より約100mm低い位置)に設ける構成である。上記実施形態の一変形例(第1変形例)である。
上記遮蔽板100を設けないが、パージングガス噴出部80のガス噴出口をコロ搬送路38Bよりも高い位置に設ける構成である。これも、上記実施形態の一変形例(第2変形例)である。
上記遮蔽板100を設けず、しかもパージングガス噴出部80のガス噴出口をコロ搬送路38Bよりも低い位置(搬送面より約100mm低い位置)に設ける構成である。これは、従来技術の構成に相当する。
Claims (7)
- 被処理基板上に形成された塗布液の膜に減圧乾燥処理を施す減圧乾燥装置であって、
前記基板を水平状態で収容するための空間を有する減圧可能なチャンバと、
前記チャンバの外と中で連続するコロ搬送路を有し、前記コロ搬送路上のコロ搬送で前記基板を前記チャンバに搬入し、または前記チャンバから搬出する搬送機構と、
前記減圧乾燥処理のために、前記チャンバの底壁に形成された排気口を介して密閉状態の前記チャンバ内を真空排気する排気機構と、
前記基板をピン先端で水平に支えて上げ下げするために前記チャンバの中に離散的に配置された複数の支持ピンを有し、前記減圧乾燥処理を行う時は前記支持ピンの先端を前記コロ搬送路よりも高くして前記基板を支持し、前記基板の搬入出を行う時は前記支持ピンのピン先端を前記コロ搬送路よりも低くして前記搬送機構による前記基板のコロ搬送を可能とする基板リフト機構と、
前記チャンバ内でチャンバ側壁に沿って搬送方向に延びるパージングガス噴出部を有し、前記減圧乾燥処理を終了させるために前記コロ搬送路よりも高い位置に設けられた前記パージングガス噴出部のガス噴出口よりパージング用のガスを前記コロ搬送路上の前記基板に向けて水平に噴出するバージング機構と
を有する減圧乾燥装置。 - 被処理基板上に形成された塗布液の膜に減圧乾燥処理を施す減圧乾燥装置であって、
前記基板を水平状態で収容するための空間を有する減圧可能なチャンバと、
前記チャンバの外と中で連続するコロ搬送路を有し、前記コロ搬送路上のコロ搬送で前記基板を前記チャンバに搬入し、または前記チャンバから搬出する搬送機構と、
前記減圧乾燥処理のために、前記チャンバの底壁に形成された排気口を介して密閉状態の前記チャンバ内を真空排気する排気機構と、
前記チャンバ内でチャンバ側壁に沿って搬送方向に延びるパージングガス噴出部を有し、前記減圧乾燥処理を終了させるために前記コロ搬送路よりも高い位置に設けられる前記パージングガス噴出部のガス噴出口よりパージング用のガスを前記コロ搬送路上の前記基板に向けて噴出するバージング機構と、
前記基板をピン先端で水平に支えて上げ下げするために前記チャンバの中に離散的に配置された複数の支持ピンを有し、前記減圧乾燥処理を行う時は前記支持ピンの先端を前記コロ搬送路よりも高くして前記基板を支持し、前記基板の搬入出を行う時は前記支持ピンのピン先端を前記コロ搬送路よりも低くして前記搬送機構による前記基板のコロ搬送を可能とする基板リフト機構と、
前記チャンバ内の雰囲気温度の変動を低減させるために前記コロ搬送路の近くで前記基板の下を覆うように設けられ、前記支持ピンを昇降可能に貫通させるための第1の開口と、前記コロ搬送路との干渉を避けるための第2の開口とを有する遮蔽板と
を具備し、
前記パージングガス噴出部より噴出された前記パージング用のガスが、前記チャンバの天井と前記基板との間の最上部空間、前記基板と前記遮蔽板との間の中間空間および前記遮蔽板と前記チャンバの底面との間の最下部空間に分かれて流れる、
減圧乾燥装置。 - 前記遮蔽板が一定の高さ位置に固定して設けられる、請求項2に記載の減圧乾燥装置。
- 前記パージングガス噴出部のガス噴出口が、前記コロ搬送路の搬送面よりも20mm〜30mm高い位置に設けられる、請求項1〜3のいずれか一項に記載の減圧乾燥装置。
- 被処理基板上に形成された塗布液の膜に減圧乾燥処理を施す減圧乾燥装置であって、
前記基板を水平状態で収容するための空間を有する減圧可能なチャンバと、
前記チャンバの外と中で連続するコロ搬送路を有し、前記コロ搬送路上のコロ搬送で前記基板を前記チャンバに搬入し、または前記チャンバから搬出する搬送機構と、
前記減圧乾燥処理のために前記チャンバ内を密閉状態で真空排気する排気機構と、
前記減圧乾燥処理を終了させるために前記チャンバ内にパージング用のガスを供給するパージング機構と、
前記減圧乾燥処理および前記パージング中の前記チャンバ内の雰囲気温度を小さくするために、前記基板の下を覆うように設けられる遮蔽板と、
前記減圧乾燥処理中に前記基板をピン先端で水平に支えるために前記遮蔽板の上に離散的に設けられる複数の支持ピンと、
前記遮蔽板に結合され、前記乾燥処理を行う時は前記支持ピンの先端を前記コロ搬送路よりも高くして前記支持ピンによる前記基板の支持を可能とし、前記基板の搬入出を行う時は前記支持ピンのピン先端を前記コロ搬送路よりも低くして前記搬送機構による前記基板のコロ搬送を可能とするように、前記遮蔽板を昇降移動させる遮蔽板昇降機構と
を有する減圧乾燥装置。 - 被処理基板上に形成された塗布液の膜に減圧乾燥処理を施す減圧乾燥方法であって、
前記基板を減圧可能なチャンバ内にコロ搬送路上のコロ搬送によって搬入する第1の工程と、
前記チャンバ内で前記基板を複数の支持ピンで水平に支持して前記コロ搬送路の上方に持ち上げる第2の工程と、
前記減圧乾燥処理を行うために、密閉状態の前記チャンバ内を前記チャンバの底壁に形成された排気口を介して真空排気する第3の工程と、
前記減圧乾燥処理を終了させるために、前記基板を前記複数の支持ピン上から前記コロ搬送路上に移して、前記チャンバ内の前記コロ搬送路の両側に設けられる前記コロ搬送路よりも高い位置のガス噴出口よりパージング用のガスを前記コロ搬送路上の前記基板に向けて水平に噴出する第4の工程と、
前記パージングの終了後に、前記基板を前記チャンバの外へ前記コロ搬送路上のコロ搬送によって搬出する第5の工程と
を有する減圧乾燥方法。 - 被処理基板上に形成された塗布液の膜に減圧乾燥処理を施す減圧乾燥方法であって、
前記基板を減圧可能なチャンバ内にコロ搬送路上のコロ搬送によって搬入する第1の工程と、
前記チャンバ内で前記基板を複数の支持ピンで水平に支持して前記コロ搬送路の上方に持ち上げる第2の工程と、
前記減圧乾燥処理を行うために、密閉状態の前記チャンバ内を前記チャンバの底壁に形成された排気口を介して真空排気する第3の工程と、
前記減圧乾燥処理を終了させるために、前記基板を前記複数の支持ピン上から前記コロ搬送路上に移して、前記チャンバ内で前記コロ搬送路よりも高い位置でチャンバ側壁に沿って搬送方向に延びるガス噴出口よりパージング用のガスを前記コロ搬送路上の前記基板に向けて噴出する第4の工程と、
前記パージングの終了後に、前記基板を前記チャンバの外へ前記コロ搬送路上のコロ搬送によって搬出する第5の工程と
を有し、
前記第4の工程において、前記ガス噴出口より噴出された前記パージング用のガスが、前記チャンバの天井と前記基板との間の最上部空間、前記基板と前記コロ搬送路の近くで前記基板の下を覆うように設けられ、前記支持ピンを昇降可能に貫通させるための第1の開口と、前記コロ搬送路との干渉を避けるための第2の開口とを有する遮蔽板との間の中間空間、および前記遮蔽板と前記チャンバの底面との間の最下部空間に分かれて流れる、
減圧乾燥方法。
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