JP4910701B2 - 基板搬送装置、基板搬送方法および露光装置 - Google Patents
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Description
本発明は、かかる従来の問題を解決するためになされたもので、チャックの下面に基板を確実に吸着させることができる基板搬送装置および基板搬送方法を提供することを目的とする。また、この基板搬送装置を用いた露光装置を提供することを目的とする。
請求項2の基板搬送装置は、基板を搬送する基板搬送装置であって、前記基板を吸着する吸着面を下向きに有するチャックを備え、前記チャックに対して前記基板の着脱を行なう着脱位置と前記基板を用いて露光動作を行なう露光位置とを含む水平方向に移動可能な可動ステージと、前記基板を搬送するとともに前記基板を昇降させて、前記基板を前記着脱位置で前記チャックに押圧または当接する搬送部と、を備えることを特徴とする。
請求項3の基板搬送装置は、請求項2に記載の基板搬送装置において、前記搬送部は、前記基板を載置して、前記着脱位置に前記基板を移動可能な昇降テーブルを有する昇降装置と、前記基板を前記昇降装置に搬送する搬送アームを有する搬送手段と、を備えることを特徴とする。
請求項5の基板搬送装置は、請求項1または請求項3に記載の基板搬送装置において、前記搬送アームは、ベース部材とカバー部材とに分割可能な保護ポッド内に収容される前記基板を、前記カバー部材を離脱した状態で前記ベース部材とともに前記昇降テーブルに搬送することを特徴とする。
請求項6の基板搬送装置は、請求項1または請求項3に記載の基板搬送装置において、前記昇降装置は、前記昇降テーブルに作用する力を測定する測定装置を有することを特徴とする。
請求項7の基板搬送装置は、請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の基板搬送装置において、前記可動ステージの下方に配置され、汚染物が除去された清浄な領域を形成する熱泳動プレートをさらに有することを特徴とする。
請求項8の基板搬送装置は、請求項1から請求項7のいずれか1項に記載の基板搬送装置において、前記可動ステージは、前記基板を前記水平方向に移動し、汚染物が除去された清浄な領域で、前記基板を着脱することを特徴とする。
請求項9の基板搬送装置は、請求項1から請求項8のいずれか1項記載の基板搬送装置において、前記チャックに吸着された前記基板の誤落下を防止する落下防止手段を有することを特徴とする。
請求項12の基板搬送装置は、請求項10または請求項11に記載の基板搬送装置において、前記可動ステージは、粗動ステージの下方に微動テーブルを上下方向に移動可能に配置し、前記微動テーブルの下方に前記チャックを配置してなり、前記基板保持手段は、前記粗動ステージから下方に向けて突設される保持用部材であることを特徴とする。
請求項14の基板搬送装置は、請求項13に記載の基板搬送装置において、前記脱落防止部材保持手段は、ヒンジとバネを用いたトグル機構により前記脱落防止部材を保持することを特徴とする。
請求項16の基板搬送方法は、搬送アームにより基板を昇降テーブルに載置した後、可動ステージを前記昇降テーブルの上方に移動させ、前記昇降テーブルを上方に移動することにより前記基板を前記可動ステージのチャックの下面に吸着させることを特徴とする。
また、本発明の基板搬送装置では、基板を吸着する吸着面を下向きに有するチャックを備え、チャックに対して基板の着脱を行なう着脱位置と基板を用いて露光動作を行なう露光位置とを含む水平方向に移動可能な可動ステージと、基板を搬送するとともに基板を昇降させて、基板を着脱位置でチャックに押圧または当接する搬送部と、を備えていることから、チャックの下面に基板を迅速且つ確実に吸着させることができる。
本発明の基板搬送方法では、搬送アームにより基板を昇降テーブルに載置した後、可動ステージを昇降テーブルの上方に移動させ、昇降テーブルを上方に移動することにより基板が可動ステージのチャックの下面に吸着される。従って、チャックの下面に基板を確実に吸着させることができる。
(第1の実施形態)
図1は、本発明の基板搬送装置の第1の実施形態を示している。
この基板搬送装置は、レチクルステージ11および昇降装置12が配置される露光チャンバ13を有している。露光チャンバ13の一側には、真空ロボット15が配置されるロボットチャンバ17が設けられている。ロボットチャンバ17の片側には、真空レチクルライブラリ19が設けられ、他側には、クリーンフィルタポッドオープナ(以下CFPオープナという)21が設けられている。露光チャンバ13、ロボットチャンバ17、真空レチクルライブラリ19およびCFPオープナ21は、真空雰囲気とされている。
ロードロック室23の外側には、第2の大気ロボット29を介してレチクルキャリアオープナ31が配置されている。レチクルキャリアオープナ31の外側には、第1の大気ロボット33を介して大気レチクルライブラリ35が配置されている。
レチクルステージ11は熱泳動プレート37の上方に配置されている。熱泳動プレート37には冷媒が循環され所定の温度に冷却されている。このように熱泳動プレート37を冷却することにより微細な汚染物が熱泳動プレート37側に移動し、熱泳動プレート37の上側には汚染物の非常に少ない熱泳動作動領域39が形成される。
大気レチクルライブラリ35に置かれたレチクルキャリア59は、第1の大気ロボット33によりレチクルキャリアオープナ31に搬送される。そして、レチクルキャリアIDリーダ63によりレチクルキャリア59が識別される。このレチクルキャリアオープナ31において、レチクルキャリア59が開かれCFP61が露出される。露出されたCFP61は温度補償ランプ45により2〜3℃程度昇温される。昇温されたCFP61は第2の大気ロボット29により、第1のゲートバルブ27のみが開いた状態のロードロック室23内に搬送される。なお、レチクルキャリアオープナ31からロードロック室23に至る順路は清浄雰囲気とされている。
真空レチクルライブラリ19には、例えば5枚程度のレチクル57がCFP61に収容された状態で保存される。レチクル57は温度調整機構(図示せず)により所定の温度に維持される。CFP61に収容された状態のレチクル57は、レチクルIDリーダ67により識別される。識別されたレチクル57は、真空ロボット15によりCFP61に収容された状態でCFPオープナ21に搬送される。
この実施形態では、図4に示すように、CFPオープナ21に搬送されたCFP61は、CFPステージ69上に載置される。CFP61は、カバー部材71とベース部材73とからなる。そして、図5に示すように、CFPステージ69を下降させることにより、カバー部材71の外周部が支持部材75の上端の係止部材77に係止されレチクル57が露出される。
次に、図6の(a)に示すように、リフト機構51により昇降軸49が上昇され昇降テーブル47の上面にベース部材73が載置される。これによりエンドエフェクター81aがベース部材73から分離される。
次に、図6の(c)に示すように、リフト機構51により昇降軸49が上昇され、レチクルステージ11の静電チャック43の下面にレチクル57が吸着される。すなわち、昇降テーブル47によりベース部材73を介してレチクル57を静電チャック43の吸着面43aに押圧した状態で、静電チャック43をオンすることによりレチクル57の上面が吸着面43aにチャックされる。
次に、図6の(d)に示すように、レチクルステージ11が案内手段41により固定ブラインド45側に移動される。これにより昇降テーブル47上にはベース部材73のみが残される。
(第2の実施形態)
図8は、本発明の基板搬送装置の第2の実施形態を示している。
この実施形態では、レチクルステージ11は粗動ステージ83と微動テーブル84とを有している。
粗動ステージ83は水平方向に移動可能とされている。粗動ステージ83の下方には、Zアクチュエータ85を介して微動テーブル84が配置されている。Zアクチュエータ85は微動テーブル84を上下方向に移動する。微動テーブル84は水平方向、垂直方向および水平面内で回転可能とされている。微動テーブル84の側面には微動テーブル84の位置を測定するための移動鏡86が固定されている。微動テーブル84の下側には吸着面43aを下側にして静電チャック43が固定されている。
脱落防止部材87は微動テーブル84の下面の両側に固定される支持部材91に回動可能に配置されている。保持用部材88はピン状をしており粗動ステージ83の下面の両側に下方に向けて固定されている。片側の保持用部材88は微動テーブル84に形成される貫通穴84aに挿通されている。解除用部材89はピン状をしておりCFP61のベース部材73の両側面に上方に向けて固定されている。
脱落防止部材87はコ字状の本体部87aを有している。本体部87aの端部の静電チャック43側には保持爪87bが形成されている。また、本体部87aの反対側の端部には押圧部87cが形成されている。この脱落防止部材87は、ヒンジ92とコイルスプリング93とを用いたトグル機構により静電チャック43側と保持用部材88側との2位置に保持可能とされている。この実施形態では、コイルスプリング93の下端は保持爪87bの根元の固定部87dに固定され、上端はヒンジ92の上方の固定部94に固定されている。
先ず、図10の(a)に示すように、昇降テーブル47を上昇するとCFP61のベース部材73の両側に配置される解除用部材89が、脱落防止部材87の本体部87aに侵入して脱落防止部材87を外側に向けて回動する。そして、この状態でベース部材73に載置されるレチクル57が静電チャック43の下面に押圧され静電チャック43に吸着される。この状態では粗動ステージ83に固定される保持用部材88の下端が脱落防止部材87の押圧部87cの近傍に位置している。
次に、図10の(c)に示すように、Zアクチュエータ85により微動テーブル84を上昇させると、保持用部材88の下端により脱落防止部材87の押圧部87cが押圧され、脱落防止部材87が静電チャック43側に回動する。これにより脱落防止部材87の保持爪87bが静電チャック43に吸着されるレチクル57の外周に係止されレチクル57が保持される。
次に、図10の(e)に示すように、レチクルステージ11を昇降テーブル47の上方に位置させ、昇降テーブル47を上昇するとCFP61のベース部材73の両側に配置される解除用部材89が、脱落防止部材87の本体部87aに侵入して脱落防止部材87を外側に向けて回動し、脱落防止部材87によるレチクル57の保持が解除される。
また、脱落防止部材87の回動動作を保持用部材88と解除用部材89により行うようにしたので、電気あるいは流体により脱落防止部材87を回動動作する場合に比較して信頼性を向上することができる。
(露光装置の実施形態)
図11は、図1の露光チャンバ13内のEUV光リソグラフィシステムを模式化して示している。なお、この実施形態において第1の実施形態と同一の部材には、同一の符号を付している。この実施形態では、露光の照明光としてEUV光が用いられる。EUV光は0.1〜400nmの間の波長を持つもので、この実施形態では特に1〜50nm程度の波長が好ましい。投影像は像光学系システム101を用いたもので、ウエハ103上にレチクル57によるパターンの縮小像を形成するものである。
この実施形態の像光学システム101は、凹面第1ミラー115a、凸面第2ミラー115b、凸面第3ミラー115c、凹面第4ミラー115dの4つの反射ミラーからなっている。各ミラー115a〜115dにはEUV光を反射する多層膜が備えられている。
レチクル57は可動のレチクルステージ11によって少なくともX−Y平面内で支持されている。ウエハ103は、好ましくはX,Y,Z方向に可動なウエハステージ105によって支持されている。ウエハ103上のダイを露光するときには、EUV光が照明システムによりレチクル57の所定の領域に照射され、レチクル57とウエハ103は像光学系システム101に対して像光学システム101の縮小率に従った所定の速度で動く。このようにして、レチクル57パターンはウエハ103上の所定の露光範囲(ダイに対して)に露光される。
また、上述した基板搬送装置によりレチクル57の搬送を行うようにしたので、汚染の少ないレチクル57を使用して歩留まりの高い製品を得ることができる。
(実施形態の補足事項)
以上、本発明を上述した実施形態によって説明してきたが、本発明の技術的範囲は上述した実施形態に限定されるものではなく、例えば、以下のような形態でも良い。
(2)上述した実施形態では、粗動ステージ83に保持用部材88を固定し、CFP61のベース部材73に解除用部材89を固定した例について説明したが、例えば、図13に示すように、ベース部材73に保持用部材88Aおよび解除用部材89Aを固定するようにしても良い。また、昇降テーブル47に保持用部材あるいは解除用部材を固定するようにしても良い。
Claims (17)
- 基板を搬送する基板搬送装置であって、
前記基板を吸着する吸着面を下向きに有するチャックを備え、水平方向に移動可能な可動ステージと、
前記可動ステージの移動範囲内にかつ前記可動ステージより下方となる位置に配置可能な昇降テーブルを備えた昇降装置と、
前記基板を前記昇降装置に搬送する搬送アームを備えた搬送手段と、を備え、
前記可動ステージは、
前記可動ステージの下方に配置された固定ブラインドから外れた位置に水平方向に移動して、前記基板を着脱することを特徴とする基板搬送装置。 - 基板を搬送する基板搬送装置であって、
前記基板を吸着する吸着面を下向きに有するチャックを備え、前記チャックに対して前記基板の着脱を行なう着脱位置と前記基板を用いて露光動作を行なう露光位置とを含む水平方向に移動可能な可動ステージと、
前記基板を搬送するとともに前記基板を昇降させて、前記基板を前記着脱位置で前記チャックに押圧または当接する搬送部と、
を備えることを特徴とする基板搬送装置。 - 請求項2に記載の基板搬送装置において、
前記搬送部は、
前記基板を載置して、前記着脱位置に前記基板を移動可能な昇降テーブルを有する昇降装置と、
前記基板を前記昇降装置に搬送する搬送アームを有する搬送手段と、
を備えることを特徴とする基板搬送装置。 - 請求項1または請求項3に記載の基板搬送装置において、
前記搬送アームは、
ベース部材とカバー部材とを有する保護ポッド内に収容された前記基板を第1の状態で搬送するとともに、前記カバー部材が分離された前記ベース部材と基板とを第2の状態で搬送することを特徴とする基板搬送装置。 - 請求項1または請求項3に記載の基板搬送装置において、
前記搬送アームは、
ベース部材とカバー部材とに分割可能な保護ポッド内に収容される前記基板を、前記カバー部材を離脱した状態で前記ベース部材とともに前記昇降テーブルに搬送することを特徴とする基板搬送装置。 - 請求項1または請求項3に記載の基板搬送装置において、
前記昇降装置は、
前記昇降テーブルに作用する力を測定する測定装置を有することを特徴とする基板搬送装置。 - 請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の基板搬送装置において、
前記可動ステージの下方に配置され、汚染物が除去された清浄な領域を形成する熱泳動プレートをさらに有することを特徴とする基板搬送装置。 - 請求項1から請求項7のいずれか1項に記載の基板搬送装置において、
前記可動ステージは、
前記基板を前記水平方向に移動し、汚染物が除去された清浄な領域で、前記基板を着脱することを特徴とする基板搬送装置。 - 請求項1から請求項8のいずれか1項に記載の基板搬送装置において、
前記チャックに吸着された前記基板の誤落下を防止する落下防止手段を有することを特徴とする基板搬送装置。 - 請求項9に記載の基板搬送装置において、
前記落下防止手段は、
前記可動ステージ側に回動可能に配置される脱落防止部材と、
前記脱落防止部材を回動して前記チャックに吸着された前記基板を前記脱落防止部材により保持させる基板保持手段と、
前記基板を保護する前記昇降テーブルの上昇により前記脱落防止部材を回動して前記脱落防止部材による前記基板の保持を解除する解除手段と、
を有していることを特徴とする基板搬送装置。 - 請求項10に記載の基板搬送装置において、
前記解除手段は、前記保護ポッドの前記ベース部材から上方に向けて突設される解除用部材であることを特徴とする基板搬送装置。 - 請求項10または請求項11に記載の基板搬送装置において、
前記可動ステージは、粗動ステージの下方に微動テーブルを上下方向に移動可能に配置し、前記微動テーブルの下方に前記チャックを配置してなり、
前記基板保持手段は、前記粗動ステージから下方に向けて突設される保持用部材であることを特徴とする基板搬送装置。 - 請求項10ないし請求項12のいずれか1項に記載の基板搬送装置において、
前記脱落防止部材を、前記基板の保持位置または解除位置に保持する脱落防止部材保持手段を備えていることを特徴とする基板搬送装置。 - 請求項13に記載の基板搬送装置において、
前記脱落防止部材保持手段は、ヒンジとバネを用いたトグル機構により前記脱落防止部
材を保持することを特徴とする基板搬送装置。 - 請求項13に記載の基板搬送装置において、
前記脱落防止部材保持手段は、磁力により前記脱落防止部材を保持することを特徴とする基板搬送装置。 - 搬送アームにより基板を昇降テーブルに載置した後、可動ステージを前記昇降テーブル
の上方に移動させ、前記昇降テーブルを上方に移動することにより前記基板を前記可動ス
テージのチャックの下面に吸着させることを特徴とする基板搬送方法。 - 請求項1から請求項15のいずれか1項に記載の基板搬送装置を有することを特徴とする露光装置。
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