JP4909204B2 - ケーブル接続、ケーブル接続用の制御システム、およびケーブル接続を経て振動が第1の対象から第2の対象へと伝達されることを軽減する方法 - Google Patents
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- 第1の対象と前記第1の対象に振動絶縁マウントで支持される第2の対象との間のケーブル接続であって、
1本または複数本のケーブルを含むケーブルバンドルであって、前記ケーブルバンドルの一端が前記第1の対象に固定され、前記ケーブルバンドルの他端が前記第2の対象に固定された、ケーブルバンドルと、
前記ケーブルバンドルを前記ケーブルバンドルの長さに沿った位置に保持するように構成されたケーブルバンドルホルダと、
前記ケーブルバンドルの剛性が最大になる方向において前記ケーブルバンドルホルダの位置を制御するように構成された制御システムと、を備え、
前記制御システムは、
前記ケーブルバンドルホルダ上に取り付けられ、前記第2の対象に対する前記ケーブルバンドルホルダの位置量を測定するように構成されたセンサと、
前記ケーブルバンドルホルダを前記方向に作動するように構成されたアクチュエータと、
前記センサによって測定された前記位置量に基づいて、前記ケーブルバンドルホルダが前記第2の対象に対して前記方向に実質的に同じ位置に留まるように、前記アクチュエータに制御信号を供給するように構成されたコントローラと、を備えるケーブル接続。 - 前記コントローラは、フィードフォワードユニットを備え、前記フィードフォワードユニットは、フィードフォワード信号として前記第2の対象に対する前記ケーブルバンドルホルダの速度又は加速度を利用する請求項1に記載のケーブル接続。
- 前記コントローラはフィードバック制御ユニットを備える請求項2に記載のケーブル接続。
- 前記アクチュエータは前記第1の対象に取り付けられる請求項2又は請求項3のいずれかに記載のケーブル接続。
- 前記ケーブルバンドルホルダは前記ケーブルバンドルを固定的に保持するように構成される請求項1乃至請求項4のいずれか一項に記載のケーブル接続。
- 第1の対象と前記第1の対象に振動絶縁マウントで支持される第2の対象との間に延在するケーブルバンドルを前記第2の対象に対する前記ケーブルバンドルの長さに沿った位置に保持するように配置されたケーブルバンドルホルダの位置を前記ケーブルバンドルの剛性が最大になる方向において制御するように構成された制御システムであって、
前記ケーブルバンドルホルダ上に取り付けられ、前記第2の対象に対する前記ケーブルバンドルホルダの位置量を測定するように構成されたセンサと、
前記ケーブルバンドルホルダを前記方向に作動するように構成されたアクチュエータと、
前記センサによって測定された前記位置量に基づいて、前記ケーブルバンドルホルダが前記第2の対象に対して前記方向に実質的に同じ位置に留まるように、前記アクチュエータに制御信号を供給するように構成されたコントローラと、
を備える制御システム。 - 前記コントローラは、フィードフォワードユニットを備え、前記フィードフォワードユニットは、フィードフォワード信号として前記第2の対象に対する前記ケーブルバンドルホルダの速度又は加速度を利用する請求項6に記載の制御システム。
- 第1の対象と、第2の対象と、前記第1の対象と前記第2の対象との間に延在する請求項1乃至請求項5のいずれか一項に記載のケーブル接続とを備えるリソグラフィ装置。
- 前記第1の対象はベースフレームであり、前記第2の対象は振動絶縁フレームである請求項8に記載のリソグラフィ装置。
- 前記振動絶縁フレームはメトロフレームである請求項9に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第1の対象は基板ステージのロングストロークモジュールであり、前記第2の対象は前記基板ステージのショートストロークモジュールである請求項8に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第1の対象はパターニングデバイスステージのロングストロークモジュールであり、前記第2の対象は前記パターニングデバイスステージのショートストロークモジュールである請求項8に記載のリソグラフィ装置。
- 第1の対象から前記第1の対象に振動絶縁マウントで支持される第2の対象へと延在するケーブルバンドルを含むケーブル接続を経て振動が前記第1の対象から前記第2の対象へと伝達されることを軽減する方法であって、
(a)ケーブルバンドルを前記ケーブルバンドルの長さに沿った位置に保持するように構成されたケーブルバンドルホルダを備えること、および、
(b)(i)前記ケーブルバンドルホルダ上に備えられたセンサにより、前記ケーブルバンドルの剛性が最大になる方向において前記第2の対象に対する前記ケーブルバンドルホルダの位置量を測定すること、
(ii)測定された前記位置量に基づいてコントローラから制御信号を供給すること、
(iii)前記ケーブルバンドルホルダを前記方向に作動するように構成されたアクチュエータに前記制御信号を送ること
によって、前記ケーブルバンドルホルダが前記第2の対象に対して前記方向に実質的に同じ位置に留まるように、前記ケーブルバンドルホルダの位置を前記方向において制御すること、
を含む方法。 - 前記コントローラは、フィードフォワードユニットを備え、前記フィードフォワードユニットは、フィードフォワード信号として前記第2の対象に対する前記ケーブルバンドルホルダの速度又は加速度を利用する請求項13に記載の方法。
- (a)放射ビームのコンディショニングを行うように構成された照明システムと、
(b)前記放射ビームをパターン形成してパターニングされた放射ビームを形成するように構成されたパターニングデバイスを支持するように構成されたパターン支持体と、
(c)基板を支持するように構成された基板支持体と、
(d)前記パターニングされた放射ビームを前記基板上に投影するように構成された投影システムと、
(e)第1の対象と前記第1の対象に振動絶縁マウントで支持される第2の対象との間のケーブルバンドルを前記第2の対象に対する前記ケーブルバンドルの長さに沿った位置に保持するように配置されたケーブルバンドルホルダの位置を前記ケーブルバンドルの剛性が最大になる方向において制御するように構成された制御システムであって、
(i)前記ケーブルバンドルホルダ上に取り付けられ、前記第2の対象に対する前記ケーブルバンドルホルダの位置量を測定するように構成されたセンサと、
(ii)前記ケーブルバンドルホルダを前記方向に作動するように構成されたアクチュエータと、
(iii)前記センサによって測定された前記位置量に基づいて、前記ケーブルバンドルホルダが前記第2の対象に対して前記方向に実質的に同じ位置に留まるように、前記アクチュエータに制御信号を供給するように構成されたコントローラと、
を備えるリソグラフィ装置。 - 前記コントローラは、フィードフォワードユニットを備え、前記フィードフォワードユニットは、フィードフォワード信号として前記第2の対象に対する前記ケーブルバンドルホルダの速度又は加速度を利用する請求項15に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第1の対象は前記基板支持体のロングストロークモジュールであり、前記第2の対象は前記基板支持体のショートストロークモジュールである請求項15又は請求項16のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 前記第1の対象は前記パターン支持体のロングストロークモジュールであり、前記第2の対象は前記基板支持体のショートストロークモジュールである請求項15又は請求項16のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
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US5623853A (en) | 1994-10-19 | 1997-04-29 | Nikon Precision Inc. | Precision motion stage with single guide beam and follower stage |
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JPH10223527A (ja) * | 1996-12-06 | 1998-08-21 | Nikon Corp | 露光装置 |
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JP2000173884A (ja) * | 1998-12-02 | 2000-06-23 | Canon Inc | デバイス製造装置および方法ならびにデバイス製造装置の配線・配管実装方法 |
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JP2002198284A (ja) * | 2000-12-25 | 2002-07-12 | Nikon Corp | ステージ装置および露光装置 |
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US6815699B2 (en) | 2001-12-11 | 2004-11-09 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7109412B2 (en) * | 2002-03-08 | 2006-09-19 | Smc Kabushiki Kaisha | Cable structure |
US6937911B2 (en) * | 2002-03-18 | 2005-08-30 | Nikon Corporation | Compensating for cable drag forces in high precision stages |
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JP2006134921A (ja) * | 2004-11-02 | 2006-05-25 | Sendai Nikon:Kk | 保持装置、ステージ装置、露光装置、及びデバイスの製造方法 |
JP4591050B2 (ja) * | 2004-11-16 | 2010-12-01 | 株式会社安川電機 | 直動ステージ装置 |
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JP4677267B2 (ja) * | 2005-04-04 | 2011-04-27 | キヤノン株式会社 | 平面ステージ装置及び露光装置 |
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