JP4898729B2 - 感光性ペースト組成物 - Google Patents
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Description
[製造例1]タンタル酸化物を用いた有機物−無機物複合体の製造
(1−1)タンタル酸化物の製造
反応容器に溶媒としてn−ブタノール(n−BuOH)100mlと純水1.40gとを入れて攪拌しつつ、塩酸(HCl)0.017molを徐々に加えた。約30分間攪拌した後、タンタルエトキシド(純度99.9%)5.28g(0.013mol)を攪拌しながら徐々に加えた。次に、常温で24時間攪拌して加水分解および縮合反応することによって、タンタル酸化物を製造した。
表面改質剤として3−(メタクリロイルオキシ)プロピルトリメトキシシラン(MPTS)0.323g(0.0013mol)をn−BuOH 50gに加えて、攪拌することによって混合した。これに、上記タンタル酸化物を攪拌しつつ、徐々に加えた。これに、MPTSの加水分解物およびタンタル酸化物との反応を促進させるために、0.1N HClを0.1g加えた。次に、1時間還流させて反応を完結した後、ジエチレングリコール100mlを用いて、溶媒置換を行い、残っている溶剤および純水をジエチレングリコールに置換した。これを、イオン交換樹脂を用いて精製することによって、ジエチレングリコールに分散されたタンタル酸化物の有機物−無機物複合体を製造した。
(2−1)チタン酸化物の製造
反応容器に、チタンテトライソプロポキシド(Ti(OPr)4)50g(0.176mol)を入れて攪拌しつつ、テトラヒドロフラン(THF)50gと1N HCl 10mlとを混合した溶液を徐々に加えた。次に、透明な状態になるまで攪拌して加水分解および縮合反応することによって、チタン酸化物を製造した。
チタン酸化物を攪拌しつつ、トリエトキシシランキャッピングPSF 10gをジメチルホルムアミド(DMF)に溶解して10質量%溶液としたものを徐々に加えた。投入完了後1時間攪拌してチタン酸化物とトリエトキシシランキャッピングPSFとの反応を完結した後、ジエチレングリコール100mlを用いて、溶媒置換を行い、残っている溶剤および純水をジエチレングリコールに置換した。次に、イオン交換樹脂を用いて精製させることによって、ジエチレングリコールに分散されたチタン酸化物の有機物−無機物複合体を製造した。
(3−1)ジルコニウム酸化物の製造
反応容器にジルコニウムテトラ−n−プロポキシド(Zr(OPr)4)50g(0.153mol)を入れて攪拌しつつ、THF50gと、10N HCl 0.87mlとを混合した溶液を徐々に加えた。次に、透明な状態になるまで攪拌して加水分解および縮合反応を行うことによって、ジルコニウム酸化物を製造した。
(3−2)ジルコニウム酸化物を用いた有機物−無機物複合体の製造
上記ジルコニウム酸化物を用いて、上記(2−2)と同様の方法で、ジルコニウム酸化物の有機物−無機物複合体を製造した。
(4−1)チタン−ジルコニウム酸化物の製造
上記(2−1)および(3−1)で得たチタン酸化物およびジルコニウム酸化物を50:50体積の割合で混合することにより、チタン−ジルコニウム酸化物を得た。
上記チタン−ジルコニウム酸化物を用いて、上記(2−2)と同様の方法で、チタン−ジルコニウム酸化物の有機物−無機物複合体を製造した。
上記製造例1〜4で製造した4種の有機物−無機物複合体について、屈折率をAbbe屈折計を用いて、20℃の条件で測定した。有機物−無機物複合体の比重は20℃の条件で比重計を用いて測定した。また、有機物−無機物複合体の平均粒子径は、PCS(Photon Correlation Spectroscopy)を用いて測定した。測定の結果を下記表1に示す。
[製造例5]有機物1の製造
バインダーとしてポリ(メチルメタクリレート−co−ブチルアクリレート−co−メタクリル酸)共重合体(分子量9000g/mol、酸価170mgKOH/g)35.0質量%、光開始剤として(ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキシド)1.0質量%、架橋剤1として(フェノキシエチルアクリレート)14.0質量%、架橋剤2として(ビスフェノールA変性ジアクリレート)14.0質量%、保存安定剤として(ベンゾトリアゾール)6.0質量%、溶剤として(エチルカルビトール)30.0質量%を混合することによって有機物1を製造した。
バインダーとしてポリ(スチレン−co−ブチルアクリレート−co−メチルメタクリル酸)共重合体(分子量12000g/mol、酸価220mgKOH/g)34.0質量%、光開始剤1として(2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン)4.0質量%、光開始剤2として(2,4−ジエチルチオキサントン)1.0質量%、架橋剤として(ビスフェノールA変性エポキシジアクリレート)24.0質量%、保存安定剤として(ベンゾトリアゾール)6.0質量%、溶剤として(エチルカルビトール)31.0質量%を混合することによって有機物2を製造した。
製造例5および6で製造した有機物1および2の屈折率は、Abbe屈折計を用いて20℃の条件で測定し、比重は比重計を用いて20℃の条件で測定した。
下記製造例7〜10で、体積比とは、溶剤を除外した成分の体積比を意味する。
製造例5で製造した有機物1 85体積部に、製造例1で製造したタンタル酸化物有機物−無機物複合体15体積部を攪拌しながら加え、その後2時間攪拌して透明な有機物−無機物複合体ゾル1を得た。この有機物−無機物複合体ゾル1の屈折率は、1.62であった。
製造例5で製造した有機物1 85体積部に、製造例2で製造したチタン酸化物有機物−無機物複合体15体積部を攪拌しながら加え、その後2時間攪拌して透明な有機物−無機物複合体ゾル2を得た。この有機物−無機物複合体ゾル2の屈折率は、1.65であった。
製造例6で製造した有機物2 85体積部に、製造例3で製造したジルコニウム酸化物有機物−無機物複合体15体積部を攪拌しながら加え、その後2時間攪拌して透明な有機物−無機物複合体ゾル3を得た。この有機物−無機物複合体ゾル3の屈折率は、1.63であった。
製造例6で製造した有機物2 85体積部に、製造例4で製造したチタン−ジルコニウム酸化物有機物−無機物複合体15体積部を攪拌しながら加え、その後2時間攪拌して透明な有機物−無機物複合体ゾル3を得た。この有機物−無機物複合体ゾル3の屈折率は、1.65であった。
[実施例1]感光性ペースト組成物1の製造
製造例7で製造した有機物−無機物複合体ゾル1 40体積%、低融点ガラス粉末(ZnO−SiO2−B2O3系、無定形、D50=3.2μm、屈折率=1.65)55体積%、高融点ガラス粉末(SiO2−B2O3−BaO系、無定形、D50=2.5μm、屈折率=1.65)5体積%を混合することによって、感光性ペースト組成物1を製造した。
有機物−無機物複合体ゾル1の代りに有機物−無機物複合体ゾル2を使用したことを除いては、実施例1と同様の方法で感光性ペースト組成物2を製造した。
有機物−無機物複合体ゾル1の代りに有機物−無機物複合体ゾル3を使用したことを除いては、実施例1と同様の方法で感光性ペースト組成物3を製造した。
有機物−無機物複合体ゾル1の代りに有機物−無機物複合体ゾル4を使用したことを除いては、実施例1と同様の方法で感光性ペースト組成物4を製造した。
製造例6で製造した有機物2 40体積%、低融点ガラス粉末(SiO2−BaO−B2O3−Li2O系、無定形、D50=3.2μm、屈折率=1.56)50体積%、高融点ガラス粉末(SiO2−B2O3−CaO系、無定形、D50=3.0μm、屈折率=1.55)10体積%を混合することによって、感光性ペースト組成物5を製造した。
前記実施例1〜4および比較例1で製造した感光性ペースト組成物1〜5のそれぞれを、6インチガラス基板上にコータを用いて塗布した。これを、ドライオーブンに入れて80℃で60分間乾燥した。次に、格子(横:線幅=40μm(ピッチ=160μm)、縦:線幅=40μm(ピッチ=560μm))パターンを有するフォトマスクが装着された高圧水銀ランプ紫外線露光装置を用いて、300〜1000mJ/cm2で照射した。照射されたガラス基板は、30℃の0.4質量%の炭酸ナトリウム水溶液をノズル圧力1.2kgf/cm2で120秒間噴射して現像した後、常温の純水をノズル圧力1.2kgf/cm2で30秒間噴射して洗浄した。次に、エアナイフを用いて乾燥させた後、電気焼成炉に入れて570℃で20分間焼成して隔壁を形成した。次に、光学顕微鏡およびSEMを用いて形成された隔壁を評価した。前記評価についての結果を下記表3に示す。なお、下記表3で、露光量は、最適のパターン結果を表す値を記載した。
感光性ペースト組成物のうち、実施例2および4で製造した感光性ペースト組成物を用いて6インチパネルを製作した。これとの比較のために、比較例1による感光性ペースト組成物を用いて、同じ方法でパネルを製作した。
111 前面基板、
111a 前面基板の背面、
112 Y電極、
112a、113a バス電極、
112b、113b 透明電極、
113 X電極、
114 維持電極対、
115 前方誘電体層、
116 保護膜、
120 後方パネル、
121 背面基板、
121a 背面基板の前面、
122 アドレス電極、
123 後方誘電体層、
124 隔壁、
125 蛍光体層、
126 発光セル。
Claims (48)
- 有機物−無機物複合体ゾルと、無機物とを含む感光性ペースト組成物において、
前記有機物−無機物複合体ゾルは、金属酸化物の表面に表面改質剤をコーティングしてなる有機物−無機物複合体を、有機物に分散してなり、
前記表面改質剤は、ポリ(アリーレンエーテルケトン)(PEK)またはポリ(アリーレンエーテルスルホン)(PSF)に、トリエトキシシランを導入させたトリエトキシシラン−キャッピングポリ(アリーレンエーテルケトン)またはトリエトキシシラン−キャッピングポリ(アリーレンエーテルスルホン)からなる群から選択される少なくとも1種を含み、
前記有機物−無機物複合体ゾルの平均屈折率N1および前記無機物の平均屈折率N2は、下記数式1の関係を満たすことを特徴とする、感光性ペースト組成物。
- 前記金属酸化物は、前記金属酸化物に含まれる金属成分のアルコキシドまたはハロゲン化物を加水分解し、縮合してなる生成物であることを特徴とする、請求項1に記載の感光性ペースト組成物。
- 前記金属酸化物の金属成分は、Si、Ti、Al、Zr、Ta、Ge、YおよびZnからなる群から選択される少なくとも1種を含むことを特徴とする、請求項1または2に記載の感光性ペースト組成物。
- 前記表面改質剤は、テトラエチルオルトシリケート(TEOS)、(3−メタクリロイ
ルオキシ)プロピルトリメトキシシラン(MPTS)、3−グリシジルオキシプロピルト
リメトキシシラン(GPTS)、ジフェニルジメトキシシラン(DPDMS)、およびジ
フェニルシランジオール(DPSD)からなる群から選択される少なくとも1種を含むこ
とを特徴とする、請求項1〜3のいずれか1項に記載の感光性ペースト組成物。 - 前記有機物−無機物複合体の平均粒子径は、1〜60nmであることを特徴とする、請求項1〜4のいずれか1項に記載の感光性ペースト組成物。
- 前記有機物−無機物複合体の平均屈折率は、1.3〜3.0であることを特徴とする、請求項1〜5のいずれか1項に記載の感光性ペースト組成物。
- 前記有機物−無機物複合体ゾルの平均屈折率N1は、1.4〜2.0であることを特徴とする、請求項1〜6のいずれか1項に記載の感光性ペースト組成物。
- 前記有機物−無機物複合体ゾルにおいて、前記有機物−無機物複合体の含有量は、前記有機物100体積部に対して5〜50体積部であることを特徴とする、請求項1〜7のいずれか1項に記載の感光性ペースト組成物。
- 前記有機物−無機物複合体ゾルの平均屈折率N1および前記無機物の平均屈折率N2は、下記数式2の関係を満たすことを特徴とする、請求項1〜8のいずれか1項に記載の感光性ペースト組成物。
- 前記有機物−無機物複合体ゾルの平均屈折率N1および前記無機物の平均屈折率N2は、下記数式3の関係を満たすことを特徴とする、請求項9に記載の感光性ペースト組成物。
- 前記金属酸化物の含有量は、前記無機物100体積部に対して3〜30体積部であることを特徴とする、請求項1〜10に記載の感光性ペースト組成物。
- 前記金属酸化物と前記無機物との平均熱膨張係数aは、下記数式4の関係を満たすことを特徴とする、請求項1〜11のいずれか1項に記載の感光性ペースト組成物。
- 前記無機物の平均屈折率N2は、1.5〜1.8であることを特徴とする、請求項1〜12のいずれか1項に記載の感光性ペースト組成物。
- 前記無機物は、低融点ガラス粉末および高融点ガラス粉末を含むことを特徴とする、請求項1〜13に記載の感光性ペースト組成物。
- 前記低融点ガラス粉末の平均粒子径は、中間値D50が2〜5μm、最小値Dminが0.1μm、最大値Dmaxが20μmであることを特徴とする、請求項14に記載の感光性ペースト組成物。
- 前記低融点ガラス粉末の軟化温度Tsは、下記数式5の関係を満たすことを特徴とする、請求項14または15に記載の感光性ペースト組成物。
- 前記低融点ガラス粉末の含有量は、前記無機物100体積部に対して70体積部〜100体積部であることを特徴とする、請求項14〜16のいずれか1項に記載の感光性ペースト組成物。
- 前記低融点ガラス粉末は、Pb、Bi、Si、B、Al、Ba、Zn、Mg、Ca、P、V、Mo、およびTeからなる群から選択される元素の酸化物を少なくとも3種含む複合酸化物または混合物であることを特徴とする、請求項14〜17のいずれか1項に記載の感光性ペースト組成物。
- 前記低融点ガラス粉末は、PbO−B2O3系、PbO−SiO2−B2O3系、Bi2O3−B2O3系、Bi2O3−SiO2−B2O3系、SiO2−B2O3−Al2O3系、SiO2−B2O3−BaO系、SiO2−B2O3−CaO系、ZnO−B2O3−Al2O3系、ZnO−SiO2−B2O3系、P2O5系、SnO−P2O5系、V2O5−P2O5系、V2O5−Mo2O3系、およびV2O5−P2O5−TeO2系からなる群から選択される少なくとも1種を含むことを特徴とする請求項18に記載の感光性ペースト組成物。
- 前記高融点ガラス粉末の平均粒子径は、中間値D50が1〜4μm、最小値Dminが0.1μm、最大値Dmaxが20μmであることを特徴とする、請求項14〜19のいずれか1項に記載の感光性ペースト組成物。
- 前記高融点ガラス粉末の軟化温度Tsは、下記数式6の関係を満たすことを特徴とする、請求項14〜20のいずれか1項に記載の感光性ペースト組成物。
- 前記高融点ガラス粉末の含有量は、前記無機物100体積部に対して0を超えて30体積部以下であることを特徴とする、請求項14〜21のいずれか1項に記載の感光性ペースト組成物。
- 前記高融点ガラス粉末は、Si、B、Al、Ba、Zn、Mg、およびCaからなる群から選択される元素の酸化物を少なくとも3種含む、複合酸化物または混合物であることを特徴とする、請求項14〜22のいずれか1項に記載の感光性ペースト組成物。
- 前記高融点ガラス粉末は、SiO2−B2O3−BaO系、SiO2−B2O3−CaO系、SiO2−B2O3−MgO系、SiO2−B2O3−CaO−BaO系、SiO2−B2O3−CaO−MgO系、SiO2−Al2O3−BaO系、SiO2−Al2O3−CaO系、SiO2−Al2O3−MgO系、SiO2−Al2O3−BaO−CaO系、およびSiO2−Al2O3−CaO−MgO系からなる群から選択される少なくとも1種を含むことを特徴とする、請求項23に記載の感光性ペースト組成物。
- 前記低融点ガラス粉末の屈折率と前記高融点ガラス粉末の屈折率との平均屈折率は、1.5〜1.8であることを特徴とする、請求項14〜24のいずれか1項に記載の感光性ペースト組成物。
- 前記低融点ガラス粉末の屈折率N3と前記高融点ガラス粉末の屈折率N4との差は、下記数式7の関係を満たすことを特徴とする、請求項14〜25のいずれか1項に記載の感光性ペースト組成物。
- 前記低融点ガラス粉末の屈折率N3と前記高融点ガラス粉末の屈折率N4との差は、下記数式8の関係を満たすことを特徴とする、請求項26に記載の感光性ペースト組成物。
- 前記低融点ガラス粉末の屈折率N3と前記高融点ガラス粉末の屈折率N4との差は、下記数式9の関係を満たすことを特徴とする、請求項27に記載の感光性ペースト組成物。
- 前記有機物は、バインダー、光開始剤、および架橋剤を含むことを特徴とする、請求項1〜28のいずれか1項に記載の感光性ペースト組成物。
- 前記有機物は、添加剤および溶剤をさらに含むことを特徴とする、請求項1〜29のいずれか1項に記載の感光性ペースト組成物。
- 前記バインダーは、カルボキシル基を有するアクリル系樹脂であることを特徴とする、請求項29または30に記載の感光性ペースト組成物。
- 前記カルボキシル基を有するアクリル系樹脂は、カルボキシル基を有するモノマーとエチレン性不飽和基を有するモノマーとを共重合反応してなる共重合体であることを特徴とする、請求項31に記載の感光性ペースト組成物。
- 前記カルボキシル基を有するモノマーは、アクリル酸、メタクリル酸、フマル酸、マレイン酸、ビニル酢酸、およびそれらの無水物からなる群から選択される少なくとも1種を含み、前記エチレン性不飽和基を有するモノマーは、メチルアクリレート、エチルアクリレート、n−プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、n−ブチルアクリレート、sec−ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、tert−ブチルアクリレート、n−ペンチルアクリレート、アリルアクリレート、フェニルアクリレート、ベンジルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、ブトキシトリエチレングリコールアクリルレート、シクロへキシルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、2−エチルへキシルアクリレート、グリセロールアクリレート、グリシジルアクリレート、イソボルニルアクリレート、イソデキシルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、2−メトキシエチルアクリレート、メトキシエチレングリコールアクリレート、メトキシジエチレングリコールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ステアリルアクリレート、1−ナフチルアクリレート、2−ナフチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、アミノエチルアクリレート、前記モノアクリレート分子内のアクリレートを一部または全部メタクリレートに置換したもの;スチレン;α−メチルスチレン;α−2−ジメチルスチレン、3−メチルスチレン、および4−メチルスチレンからなる群から選択される少なくとも1種を含むことを特徴とする、請求項32に記載の感光性ペースト組成物。
- 前記バインダーは、前記共重合体のカルボキシル基と架橋反応しうる、エチレン性不飽和基を有する化合物を含むことを特徴とする、請求項32または33に記載の感光性ペースト組成物。
- 前記エチレン性不飽和基を有する化合物は、アクリロイルクロライド、メタクリロイルクロライド、アリルクロライド、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、3,4−エポキシシクロへキシルメチルアクリレート、3,4−エポキシシクロへキシルメチルメタクリレート、3,4−エポキシシクロへキシルメチルアクリレート、および3,4−エポキシシクロへキシルメチルメタクリレートからなる群から選択される少なくとも1種を含むことを特徴とする、請求項34に記載の感光性ペースト組成物。
- 前記バインダーは、セルロース、メチルセルロース、エチルセルロース、n−プロピルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、2−ヒドロキシエチルセルロース、メチル−2−ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ヒドロキシブチルメチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロースフタレート、セルロースニトレート、セルロースアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートヒドロゲンフタレート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースプロピオネート、(アクリルアミドメチル)セルロースアセテートプロピオネート、(アクリルアミドメチル)セルロースアセテートブチレート、シアノエチレートセルロース、ペクチン酸、キトサン、キチン、カルボキシメチルセルロース、カルボキシメチルセルロースナトリウム、カルボキシエチルセルロース、およびカルボキシエチルメチルセルロースからなる群から選択される少なくとも1種をさらに含むことを特徴とする、請求項29〜35のいずれか1項に記載の感光性ペースト組成物。
- 前記共重合体の重量平均分子量は、500〜100000g/molであり、酸価は、50〜300mgKOH/gであることを特徴とする、請求項32〜35のいずれか1項に記載の感光性ペースト組成物。
- 前記バインダーの含有量は、前記有機物100質量部に対して30〜80質量部であることを特徴とする、請求項29〜37のいずれか1項に記載の感光性ペースト組成物。
- 前記光開始剤は、イミダゾール系化合物、トリアジン系化合物、アミノアセトフェノン系化合物、ベンゾフェノンおよびアセトフェノン系化合物、ベンゾイン系化合物、チタノセン系化合物、オキサジアゾール系化合物、チオキサントン系化合物、(ビス)アシルホスフィンオキシド系化合物、および有機ホウ素塩化合物からなる群から選択される少なくとも1種を含むことを特徴とする、請求項29〜38のいずれか1項に記載の感光性ペースト組成物。
- 前記光開始剤は、増感剤をさらに含むことを特徴とする、請求項29〜39のいずれか1項に記載の感光性ペースト組成物。
- 前記光開始剤の含有量は、前記有機物100質量部に対して1〜20質量部であることを特徴とする、請求項29〜40のいずれか1項に記載の感光性ペースト組成物。
- 前記架橋剤は、アクリル酸、メチルアクリレート、エチルアクリレート、n−プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、n−ブチルアクリレート、sec−ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、tert−ブチルアクリレート、n−ペンチルアクリレート、アリルアクリレート、フェニルアクリレート、ベンジルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、ブトキシトリエチレングリコールアクリレート、シクロへキシルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、2−エチルへキシルアクリレート、グリセロールアクリレート、グリシジルアクリレート、イソボルニルアクリレート、イソデキシルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、2−メトキシエチルアクリレート、メトキシエチレングリコールアクリレート、メトキシジエチレングリコールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ステアリルアクリレート、1−ナフチルアクリレート、2−ナフチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート及びアミノエチルアクリレートからなる群から選択されたモノアクリレート化合物;前記モノアクリレート分子内のアクリレートを一部または全部メタクリレートに置換したもの;ジアクリレート系化合物、トリアクリレート系化合物、テトラアクリレート系化合物、ペンタアクリレート系化合物及びヘキサアクリレート系化合物からなる群から選択された多官能アクリレート化合物;前記多官能アクリレート分子内のアクリレートを一部または全部メタクリレートに置換したもの;またはそれらの混合物であることを特徴とする、請求項29〜41のいずれか1項に記載の感光性ペースト組成物。
- 前記架橋剤の含有量は、前記有機物100質量部に対して15〜60質量部であることを特徴とする、請求項29〜42のいずれか1項に記載の感光性ペースト組成物。
- 前記添加剤は、重合防止剤、酸化防止剤、紫外線吸光剤、消泡剤、分散剤、レベリング剤、可塑剤、および揺変剤からなる群から選択される少なくとも1種を含むことを特徴とする、請求項30に記載の感光性ペースト組成物。
- 前記溶剤は、沸点が150℃以上であることを特徴とする、請求項30に記載の感光性ペースト組成物。
- 前記溶剤は、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、テキサノール、テルピン油、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ジプロピレングリコールメチルエーテル、ジプロピレングリコールエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン、セロソルブアセテート、およびブチルセロソルブアセテートからなる群から選択される少なくとも1種を含むことを特徴とする、請求項45に記載の感光性ペースト組成物。
- 請求項1〜46のいずれか1項に記載の感光性ペースト組成物を用いて形成されてなるプラズマディスプレイパネルの隔壁。
- 請求項47に記載のプラズマディスプレイパネルの隔壁を備える、プラズマディスプレイパネル。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020070029378A KR100894062B1 (ko) | 2007-03-26 | 2007-03-26 | 감광성 페이스트 조성물, 이를 이용하여 제조된 플라즈마디스플레이 패널의 격벽 및 이를 포함하는 플라즈마디스플레이 패널 |
KR10-2007-0029378 | 2007-03-26 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008242461A JP2008242461A (ja) | 2008-10-09 |
JP4898729B2 true JP4898729B2 (ja) | 2012-03-21 |
Family
ID=39793101
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008081383A Expired - Fee Related JP4898729B2 (ja) | 2007-03-26 | 2008-03-26 | 感光性ペースト組成物 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8092982B2 (ja) |
JP (1) | JP4898729B2 (ja) |
KR (1) | KR100894062B1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10390427B2 (en) | 2015-09-28 | 2019-08-20 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Photosensitive glass paste and electronic component |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR20180121550A (ko) * | 2016-03-28 | 2018-11-07 | 제이에스알 가부시끼가이샤 | 감방사선성 조성물 및 패턴 형성 방법 |
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JP7230347B2 (ja) * | 2018-06-13 | 2023-03-01 | 東レ株式会社 | 感光性ペースト、それを用いた硬化膜、焼成体および電子部品とその製造方法 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5209688A (en) | 1988-12-19 | 1993-05-11 | Narumi China Corporation | Plasma display panel |
JP3004044B2 (ja) | 1990-10-29 | 2000-01-31 | 東洋合成工業株式会社 | 感光性着色樹脂組成物 |
JP3567591B2 (ja) | 1995-06-12 | 2004-09-22 | 東レ株式会社 | プラズマディスプレイの製造方法 |
KR100412293B1 (ko) | 1995-06-12 | 2004-04-21 | 도레이 가부시끼가이샤 | 감광성페이스트,플라즈마디스플레이및그제조방법 |
US6197480B1 (en) | 1995-06-12 | 2001-03-06 | Toray Industries, Inc. | Photosensitive paste, a plasma display, and a method for the production thereof |
JPH107432A (ja) | 1996-06-25 | 1998-01-13 | Toray Ind Inc | 感光性ペースト |
JPH1062981A (ja) | 1996-08-13 | 1998-03-06 | Dainippon Printing Co Ltd | パターン形成用ペースト |
JPH1173874A (ja) | 1997-09-01 | 1999-03-16 | Toray Ind Inc | プラズマディスプレイの製造方法 |
JPH11102645A (ja) | 1997-09-29 | 1999-04-13 | Toray Ind Inc | プラズマディスプレイ |
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JP3953625B2 (ja) | 1998-03-02 | 2007-08-08 | 太陽インキ製造株式会社 | 感光性組成物 |
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JP4129824B2 (ja) | 1998-06-25 | 2008-08-06 | 株式会社日立プラズマパテントライセンシング | プラズマディスプレイパネル及びその製造方法 |
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JP4174902B2 (ja) | 1999-04-07 | 2008-11-05 | 東レ株式会社 | プラズマディスプレイパネル用前面板、プラズマディスプレイパネルおよびプラズマディスプレイパネル用前面板の誘電体層形成用ガラスペースト |
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JP4766223B2 (ja) | 2003-03-27 | 2011-09-07 | 戸田工業株式会社 | 透明着色組成物及びカラーフィルター |
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JP2007086772A (ja) | 2005-08-26 | 2007-04-05 | Toray Ind Inc | パターン形成方法、平面ディスプレイ用部材の製造方法ならびにプラズマディスプレイ用部材およびフィールドエミッションディスプレイ用部材。 |
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-
2007
- 2007-03-26 KR KR1020070029378A patent/KR100894062B1/ko not_active IP Right Cessation
-
2008
- 2008-03-25 US US12/055,215 patent/US8092982B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2008-03-26 JP JP2008081383A patent/JP4898729B2/ja not_active Expired - Fee Related
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---|---|---|---|---|
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR100894062B1 (ko) | 2009-04-21 |
JP2008242461A (ja) | 2008-10-09 |
US20080238318A1 (en) | 2008-10-02 |
KR20080087321A (ko) | 2008-10-01 |
US8092982B2 (en) | 2012-01-10 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110208 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110506 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110823 |
|
A521 | Written amendment |
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|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20111206 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |