JPH11139846A - 感光性ガラスペースト - Google Patents
感光性ガラスペーストInfo
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- JPH11139846A JPH11139846A JP9301641A JP30164197A JPH11139846A JP H11139846 A JPH11139846 A JP H11139846A JP 9301641 A JP9301641 A JP 9301641A JP 30164197 A JP30164197 A JP 30164197A JP H11139846 A JPH11139846 A JP H11139846A
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- Japan
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- photosensitive
- glass paste
- inorganic material
- resin
- resin material
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/02—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with glass
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C8/00—Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
- C03C8/02—Frit compositions, i.e. in a powdered or comminuted form
- C03C8/10—Frit compositions, i.e. in a powdered or comminuted form containing lead
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C8/00—Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
- C03C8/14—Glass frit mixtures having non-frit additions, e.g. opacifiers, colorants, mill-additions
- C03C8/16—Glass frit mixtures having non-frit additions, e.g. opacifiers, colorants, mill-additions with vehicle or suspending agents, e.g. slip
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- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 高深度露光が可能で且つ高精細なパターニン
グができ、しかも酸素の影響を受けないＰＤＰ用の障壁
形成用感光性ガラスペーストを提供することを目的とす
る。 【解決手段】 酸により硬化し得る樹脂系材料と光酸発
生剤を含む感光性樹脂材料と；低融点ガラス粉末を含む
無機材料と；を含有してなる感光性ガラスペーストであ
って、該ガラス粉末が、酸化物換算表記で、ＰｂＯ：３
２〜４２wt％、Ｂｉ2 Ｏ3 ：１８wt％以下、ＺｎＯ：８
〜１２wt％、Ｂ2 Ｏ3 ：１５〜２５wt％、ＳｉＯ2 ：１
０〜２５wt％、Ａｌ2 Ｏ3 ：５wt％以下、Ｎａ2 Ｏ＋Ｋ
2 Ｏ＋Ｌｉ2 Ｏ：５wt％以下の組成範囲からなるもので
あること；該感光性樹脂材料と該無機材料との屈折率の
差が０．２以内であること；を特徴とする。
グができ、しかも酸素の影響を受けないＰＤＰ用の障壁
形成用感光性ガラスペーストを提供することを目的とす
る。 【解決手段】 酸により硬化し得る樹脂系材料と光酸発
生剤を含む感光性樹脂材料と；低融点ガラス粉末を含む
無機材料と；を含有してなる感光性ガラスペーストであ
って、該ガラス粉末が、酸化物換算表記で、ＰｂＯ：３
２〜４２wt％、Ｂｉ2 Ｏ3 ：１８wt％以下、ＺｎＯ：８
〜１２wt％、Ｂ2 Ｏ3 ：１５〜２５wt％、ＳｉＯ2 ：１
０〜２５wt％、Ａｌ2 Ｏ3 ：５wt％以下、Ｎａ2 Ｏ＋Ｋ
2 Ｏ＋Ｌｉ2 Ｏ：５wt％以下の組成範囲からなるもので
あること；該感光性樹脂材料と該無機材料との屈折率の
差が０．２以内であること；を特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、感光性を有するガ
ラスペーストに関し、更に詳しくは、プラズマ・ディス
プレイ・パネル（ＰＤＰ）の障壁（リブ、バリヤリブと
も言う）形成に用いられる感光性ガラスペーストに関す
る。
ラスペーストに関し、更に詳しくは、プラズマ・ディス
プレイ・パネル（ＰＤＰ）の障壁（リブ、バリヤリブと
も言う）形成に用いられる感光性ガラスペーストに関す
る。
【０００２】
【従来の技術】従来、ＰＤＰ用の障壁は、当初はスクリ
ーン印刷法にて製造されていたが、印刷を繰り返すため
位置合わせが難しくプロセスが複雑になるし、解像度に
も限界があり高精細パネルへの対応には厳しいものがあ
るとして、最近ではサンドブラスト法がその製法の主流
になっている。しかしながら、サンドブラスト法は加工
精度に優れる反面、工程が複雑化するため処理時間が長
い、研磨剤を使用するためクリーン化対応に難がある、
高精細パネルへの対応が困難であるとして、感光性ペー
スト法が脚光を浴びるようになってきた。これに対し感
光性ペースト法は、感光性樹脂材料と低融点ガラスを含
む無機材料とを混合した感光性ガラスペーストを基板に
塗布し、フォトリソでパターニングし、最後に焼成する
という一見極めてシンプルなプロセスのように見える
が、該ペーストが感光性を付加するための樹脂材料と低
融点ガラスを含む無機材料との混合物であるため両材料
の界面にて散乱が起こり、露光不要部まで露光されてし
まうという問題があった。
ーン印刷法にて製造されていたが、印刷を繰り返すため
位置合わせが難しくプロセスが複雑になるし、解像度に
も限界があり高精細パネルへの対応には厳しいものがあ
るとして、最近ではサンドブラスト法がその製法の主流
になっている。しかしながら、サンドブラスト法は加工
精度に優れる反面、工程が複雑化するため処理時間が長
い、研磨剤を使用するためクリーン化対応に難がある、
高精細パネルへの対応が困難であるとして、感光性ペー
スト法が脚光を浴びるようになってきた。これに対し感
光性ペースト法は、感光性樹脂材料と低融点ガラスを含
む無機材料とを混合した感光性ガラスペーストを基板に
塗布し、フォトリソでパターニングし、最後に焼成する
という一見極めてシンプルなプロセスのように見える
が、該ペーストが感光性を付加するための樹脂材料と低
融点ガラスを含む無機材料との混合物であるため両材料
の界面にて散乱が起こり、露光不要部まで露光されてし
まうという問題があった。
【０００３】その解決策として、感光性ガラスペースト
に黒色顔料を配合すること（特開平６−１４４８７１
号）や該ペーストに紫外線吸収剤を配合すると共に高感
度・高解像度の樹脂を使用すること（特開平８−５０８
１１号）が、それぞれ提案されている。しかしながら、
前者においては、光の透過率が著しく低下し、光が所望
の深度まで到達しないので、位置合わせ→塗布→露光→
現像という工程を多数回繰り返す必要があり生産性が極
端に低い、という問題があり、後者においては、前者の
問題については若干の改善が見られるものの、樹脂自体
が露光時に酸素の影響を受けるという別の問題が起こ
る。
に黒色顔料を配合すること（特開平６−１４４８７１
号）や該ペーストに紫外線吸収剤を配合すると共に高感
度・高解像度の樹脂を使用すること（特開平８−５０８
１１号）が、それぞれ提案されている。しかしながら、
前者においては、光の透過率が著しく低下し、光が所望
の深度まで到達しないので、位置合わせ→塗布→露光→
現像という工程を多数回繰り返す必要があり生産性が極
端に低い、という問題があり、後者においては、前者の
問題については若干の改善が見られるものの、樹脂自体
が露光時に酸素の影響を受けるという別の問題が起こ
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、高深度露光
が可能で且つ高精細なパターニングができ、しかも酸素
の影響を受けないＰＤＰ用の障壁形成用感光性ガラスペ
ーストを提供することを目的としてなされたものであ
る。
が可能で且つ高精細なパターニングができ、しかも酸素
の影響を受けないＰＤＰ用の障壁形成用感光性ガラスペ
ーストを提供することを目的としてなされたものであ
る。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記目的
に適う感光性ガラスペーストを得るべく鋭意研究を重ね
た結果、低融点ガラスの組成に工夫をこらすと共に適当
な樹脂を選定することによりその目的を達成し得ること
を見出し、この知見に基づいて本発明を完成するに至っ
た。
に適う感光性ガラスペーストを得るべく鋭意研究を重ね
た結果、低融点ガラスの組成に工夫をこらすと共に適当
な樹脂を選定することによりその目的を達成し得ること
を見出し、この知見に基づいて本発明を完成するに至っ
た。
【０００６】すなわち、本発明は、酸により硬化し得る
樹脂系材料と光酸発生剤を含む感光性樹脂材料と；ガラ
ス粉末を含む無機材料と；を含有してなる感光性ガラス
ペーストであって、該ガラス粉末が、酸化物換算表記で ＰｂＯ ：３２〜４２wt％ Ｂｉ2 Ｏ3 ： １８wt％以下 ＺｎＯ ： ８〜１２wt％ Ｂ2 Ｏ3 ：１５〜２５wt％ ＳｉＯ2 ：１０〜２５wt％ Ａｌ2 Ｏ3 ： ５wt％以下 Ｎａ2 Ｏ＋Ｋ2 Ｏ＋Ｌｉ2 Ｏ： ５wt％以下 の組成範囲からなるものであること；該感光性樹脂材料
と該無機材料との屈折率の差が０．２以内であること；
を特徴とする（ここで、該感光性樹脂材料の屈折率とは
該感光性樹脂材料の溶剤を蒸散させ基板上に成膜した状
態のものの屈折率をいい、該無機材料のそれは該無機材
料を熔融固化したものの屈折率をいう。尚、測定は、該
感光性樹脂材料についてはエリプソメトリー法、該無機
材料については重液法による）。
樹脂系材料と光酸発生剤を含む感光性樹脂材料と；ガラ
ス粉末を含む無機材料と；を含有してなる感光性ガラス
ペーストであって、該ガラス粉末が、酸化物換算表記で ＰｂＯ ：３２〜４２wt％ Ｂｉ2 Ｏ3 ： １８wt％以下 ＺｎＯ ： ８〜１２wt％ Ｂ2 Ｏ3 ：１５〜２５wt％ ＳｉＯ2 ：１０〜２５wt％ Ａｌ2 Ｏ3 ： ５wt％以下 Ｎａ2 Ｏ＋Ｋ2 Ｏ＋Ｌｉ2 Ｏ： ５wt％以下 の組成範囲からなるものであること；該感光性樹脂材料
と該無機材料との屈折率の差が０．２以内であること；
を特徴とする（ここで、該感光性樹脂材料の屈折率とは
該感光性樹脂材料の溶剤を蒸散させ基板上に成膜した状
態のものの屈折率をいい、該無機材料のそれは該無機材
料を熔融固化したものの屈折率をいう。尚、測定は、該
感光性樹脂材料についてはエリプソメトリー法、該無機
材料については重液法による）。
【０００７】前記の感光性樹脂材料と無機材料との屈折
率の差が０．１以内であるものが更に好ましい。両材料
の界面で起こる散乱がより緩和されるからである。
率の差が０．１以内であるものが更に好ましい。両材料
の界面で起こる散乱がより緩和されるからである。
【０００８】ここで、「酸により硬化し得る樹脂系材
料」とは、例えば尿素樹脂やメラミン樹脂などのアミノ
樹脂のようなＮ−メチロール構造を有する架橋剤と；フ
ェノール性水酸基又はカルボキシル基を有する樹脂との
樹脂系材料、エポキシ樹脂及びフェノール樹脂との樹脂
系材料、あるいはｐ−ヒドロキシスチレン及びｐ−アセ
トキシスチレンとのヒドロキシスチレン構造を含む共重
合体との樹脂系材料などを挙げることができ、酸によっ
て硬化する性質を有するものをいう。これらの具体的化
合物、すなわち「Ｎ−メチロール構造を有する架橋剤」
については特開平４−１６３５５２号公報の３頁左上欄
５〜１６行目記載のものを、一方、樹脂又は重合体につ
いては、同公報の３頁左上欄１７行目〜同頁左下欄７行
目及び同頁左下欄１８行目〜同頁右下欄７行目（フェノ
ール性水酸基を有する樹脂）、同公報の３頁右下欄８〜
１４行目（カルボキシル基を有する樹脂）、同公報の３
頁右下欄１５〜１９行目（エポキシ樹脂）及び同公報の
３頁左下欄８〜１７行目（ヒドロキシスチレン構造を含
む重合体）にそれぞれ記載のものを、それぞれ使用し得
る。
料」とは、例えば尿素樹脂やメラミン樹脂などのアミノ
樹脂のようなＮ−メチロール構造を有する架橋剤と；フ
ェノール性水酸基又はカルボキシル基を有する樹脂との
樹脂系材料、エポキシ樹脂及びフェノール樹脂との樹脂
系材料、あるいはｐ−ヒドロキシスチレン及びｐ−アセ
トキシスチレンとのヒドロキシスチレン構造を含む共重
合体との樹脂系材料などを挙げることができ、酸によっ
て硬化する性質を有するものをいう。これらの具体的化
合物、すなわち「Ｎ−メチロール構造を有する架橋剤」
については特開平４−１６３５５２号公報の３頁左上欄
５〜１６行目記載のものを、一方、樹脂又は重合体につ
いては、同公報の３頁左上欄１７行目〜同頁左下欄７行
目及び同頁左下欄１８行目〜同頁右下欄７行目（フェノ
ール性水酸基を有する樹脂）、同公報の３頁右下欄８〜
１４行目（カルボキシル基を有する樹脂）、同公報の３
頁右下欄１５〜１９行目（エポキシ樹脂）及び同公報の
３頁左下欄８〜１７行目（ヒドロキシスチレン構造を含
む重合体）にそれぞれ記載のものを、それぞれ使用し得
る。
【０００９】また、「光酸発生剤」とは、光の照射によ
り酸を発生する化合物をいい、多くの公知化合物及びそ
れらの混合物を用いればよい。具体的には、特開平４−
１６３５５２号公報の３頁下から１行目〜５頁左上欄２
行目に記載のものが挙げられる。尚、光酸発生剤は必要
に応じて酸発生効率を高める増感剤、具体的には同公報
５頁左上欄６行目〜同頁右上欄６行目に記載のもの、と
組み合わせて使用してもよい。
り酸を発生する化合物をいい、多くの公知化合物及びそ
れらの混合物を用いればよい。具体的には、特開平４−
１６３５５２号公報の３頁下から１行目〜５頁左上欄２
行目に記載のものが挙げられる。尚、光酸発生剤は必要
に応じて酸発生効率を高める増感剤、具体的には同公報
５頁左上欄６行目〜同頁右上欄６行目に記載のもの、と
組み合わせて使用してもよい。
【００１０】一方、無機材料としては、ガラス粉末の外
に障壁の骨格形成因子としてセラミック成分、例えば、
石英、ペリクレース、スピネル、正長石、アルバイト、
アノーサイト、シリマイト、ムライト、方解石等を含む
ものであってもよい。これらの成分の屈折率は１．５０
〜１．７５の範囲にあり本発明の目的を阻害しないから
である。尚、これらのセラミック成分は、組み合わせる
樹脂の屈折率が前記の至適範囲にあるものを必要に応じ
て選択すればよい。
に障壁の骨格形成因子としてセラミック成分、例えば、
石英、ペリクレース、スピネル、正長石、アルバイト、
アノーサイト、シリマイト、ムライト、方解石等を含む
ものであってもよい。これらの成分の屈折率は１．５０
〜１．７５の範囲にあり本発明の目的を阻害しないから
である。尚、これらのセラミック成分は、組み合わせる
樹脂の屈折率が前記の至適範囲にあるものを必要に応じ
て選択すればよい。
【００１１】尚、ガラス粉末の組成の内、重金属成分
（ＰｂＯ、Ｂｉ2 Ｏ3 、ＺｎＯ）は、それぞれ３２〜４
２wt％、１８wt％以下、８〜１２wt％の範囲で配合する
のが好ましく（これらの成分は無機材料の屈折率と融点
の調整成分であり、上限値を超えると屈折率が高くな
り、下限値未満においては融点が高くなる。更に、Ｂｉ
2Ｏ3 については高価格故、上限超領域においてはコス
トの増大を招くし、ＺｎＯについては上限超領域におい
て無機材料の結晶化が起こる）、Ｂ2 Ｏ3 、ＳｉＯ2 、
Ａｌ2 Ｏ3 は、それぞれ１５〜２５wt％、１０〜２５wt
％、５wt％以下の範囲で配合するのが好ましく（これら
の成分の内、Ｂ2 Ｏ3 、ＳｉＯ2 は無機材料の基本マト
リックス形成成分であり、上限値を超えると融点が高く
なり、下限値未満においては、耐水性が悪化する。尚、
Ａｌ2 Ｏ3 は耐水性を向上させる効果があり、しかも結
晶化防止に資するので規定範囲を超えない程度に配合す
ることが好ましい）、アルカリ成分（Ｎａ2 Ｏ＋Ｋ2 Ｏ
＋Ｌｉ2 Ｏ）については、５wt％以下で配合するのが好
ましい（この成分は無機材料の融点を下げる効果を有す
るが、上限値を超えると耐水性が悪化する。尚、アルカ
リ成分は感光性樹脂材料の主成分である樹脂のゲル化を
もたらす、として忌避されることが多いが、この欠点
は、該感光性樹脂材料にゲル化防止剤を配合することに
よって容易に克服し得るので余り大きな問題とはならな
い。その配合量は、無機材料に対し０．１〜３５wt％で
十分である。因に、使用し得るゲル化防止剤としては、
BYK Chemie社製のＤｉｓｐｅｒｂｙｋ−１６０、−１６
１、−１６２、−１６３、−１６４、−１６６、−１７
０、−１８０、−１８２、−１１０、−１１５等が挙げ
られる）。
（ＰｂＯ、Ｂｉ2 Ｏ3 、ＺｎＯ）は、それぞれ３２〜４
２wt％、１８wt％以下、８〜１２wt％の範囲で配合する
のが好ましく（これらの成分は無機材料の屈折率と融点
の調整成分であり、上限値を超えると屈折率が高くな
り、下限値未満においては融点が高くなる。更に、Ｂｉ
2Ｏ3 については高価格故、上限超領域においてはコス
トの増大を招くし、ＺｎＯについては上限超領域におい
て無機材料の結晶化が起こる）、Ｂ2 Ｏ3 、ＳｉＯ2 、
Ａｌ2 Ｏ3 は、それぞれ１５〜２５wt％、１０〜２５wt
％、５wt％以下の範囲で配合するのが好ましく（これら
の成分の内、Ｂ2 Ｏ3 、ＳｉＯ2 は無機材料の基本マト
リックス形成成分であり、上限値を超えると融点が高く
なり、下限値未満においては、耐水性が悪化する。尚、
Ａｌ2 Ｏ3 は耐水性を向上させる効果があり、しかも結
晶化防止に資するので規定範囲を超えない程度に配合す
ることが好ましい）、アルカリ成分（Ｎａ2 Ｏ＋Ｋ2 Ｏ
＋Ｌｉ2 Ｏ）については、５wt％以下で配合するのが好
ましい（この成分は無機材料の融点を下げる効果を有す
るが、上限値を超えると耐水性が悪化する。尚、アルカ
リ成分は感光性樹脂材料の主成分である樹脂のゲル化を
もたらす、として忌避されることが多いが、この欠点
は、該感光性樹脂材料にゲル化防止剤を配合することに
よって容易に克服し得るので余り大きな問題とはならな
い。その配合量は、無機材料に対し０．１〜３５wt％で
十分である。因に、使用し得るゲル化防止剤としては、
BYK Chemie社製のＤｉｓｐｅｒｂｙｋ−１６０、−１６
１、−１６２、−１６３、−１６４、−１６６、−１７
０、−１８０、−１８２、−１１０、−１１５等が挙げ
られる）。
【００１２】本発明において、前記の感光性樹脂材料と
前記の無機材料との配合比は、５０〜９５％（重量基
準。無機材料／〔無機材料＋感光性樹脂材料〕）の範囲
とする。好ましくは、６０〜９０％（同前）である。該
配合比が５０％未満だと焼成後の密度が低く障壁として
の強度がでないし、９５％を超えるとパターニングが困
難になるからである。また、該感光性樹脂材料の組成範
囲としては、光酸発生剤と架橋剤が樹脂に対しそれぞれ
０．１〜２５wt％含むものを用いるのがよい。好ましく
は０．５〜１０wt％である。
前記の無機材料との配合比は、５０〜９５％（重量基
準。無機材料／〔無機材料＋感光性樹脂材料〕）の範囲
とする。好ましくは、６０〜９０％（同前）である。該
配合比が５０％未満だと焼成後の密度が低く障壁として
の強度がでないし、９５％を超えるとパターニングが困
難になるからである。また、該感光性樹脂材料の組成範
囲としては、光酸発生剤と架橋剤が樹脂に対しそれぞれ
０．１〜２５wt％含むものを用いるのがよい。好ましく
は０．５〜１０wt％である。
【００１３】本発明の感光性ガラスペーストは、前記の
候補から適宜選択された所定量の感光性樹脂材料を適当
な溶剤に溶解せしめた溶液（感光性樹脂材料の濃度：２
０〜６０wt％）とし、次いで該溶液に所定の手順にて作
製された所定量の無機材料と、所望に応じて用いられる
各種添加成分とを加え、３本ローラーで均質に分散せし
めペーストを作製しそれを用いる。
候補から適宜選択された所定量の感光性樹脂材料を適当
な溶剤に溶解せしめた溶液（感光性樹脂材料の濃度：２
０〜６０wt％）とし、次いで該溶液に所定の手順にて作
製された所定量の無機材料と、所望に応じて用いられる
各種添加成分とを加え、３本ローラーで均質に分散せし
めペーストを作製しそれを用いる。
【００１４】ここで、溶剤としては、公知のもの、例え
ば、エチレングリコール、エチレングリコールモノエチ
ルエーテルアセテート、乳酸エチル、酢酸ブチル、メチ
ル−３−メトキシプロピオネート、エチル−３−エトキ
シプロピオネート、プロピレングリコールモノメチルエ
ーテルアセテート、３−メトキシブチルアセテート、メ
チル−ｎ−アミルケトン等から適宜選択すればよい。
ば、エチレングリコール、エチレングリコールモノエチ
ルエーテルアセテート、乳酸エチル、酢酸ブチル、メチ
ル−３−メトキシプロピオネート、エチル−３−エトキ
シプロピオネート、プロピレングリコールモノメチルエ
ーテルアセテート、３−メトキシブチルアセテート、メ
チル−ｎ−アミルケトン等から適宜選択すればよい。
【００１５】尚、低融点ガラス粉末は、定法に従って作
製すればよい。すなわち、それぞれ所定量の原料粉末を
準備し混合した後、適当なルツボに入れ熔融（９００〜
１，２００℃）し、通常の手段にて冷却・粉砕する。こ
こで、該ガラス粉末は、粒径として１μm 以下のものが
排除されていることが好ましい。露光時の散乱防止に資
するからである。
製すればよい。すなわち、それぞれ所定量の原料粉末を
準備し混合した後、適当なルツボに入れ熔融（９００〜
１，２００℃）し、通常の手段にて冷却・粉砕する。こ
こで、該ガラス粉末は、粒径として１μm 以下のものが
排除されていることが好ましい。露光時の散乱防止に資
するからである。
【００１６】本発明の感光性ガラスペーストの好適な使
用方法の１例を以下に示す。
用方法の１例を以下に示す。
【００１７】先ず、前記の各成分を含む感光性ガラスペ
ーストを電極等必要な部材を予め形成しておいた基板上
に適当な塗布手段、例えばスピンコータ、スロットコー
タ、ロールコータ等で塗布し、乾燥してペースト層を形
成する。塗布厚みは、塗布手段及び該ペーストの粘度を
選ぶことによって調整し得る。続いて乾燥させた塗布膜
を通常のフォトリソグラフィー法にて選択的に露光した
後、現像して未硬化部分を除去（ネガ型）して、所定パ
ターンの障壁原形を形成する。露光の光源としては、紫
外線、電子線、Ｘ線等が挙げられるが、本発明のペース
トによれば現在フォトリソグラフィー法にて一般的に用
いられている光源、すなわち紫外線で充分である。露光
条件は、塗布膜の厚みに応じて適宜選択すればよい。
ーストを電極等必要な部材を予め形成しておいた基板上
に適当な塗布手段、例えばスピンコータ、スロットコー
タ、ロールコータ等で塗布し、乾燥してペースト層を形
成する。塗布厚みは、塗布手段及び該ペーストの粘度を
選ぶことによって調整し得る。続いて乾燥させた塗布膜
を通常のフォトリソグラフィー法にて選択的に露光した
後、現像して未硬化部分を除去（ネガ型）して、所定パ
ターンの障壁原形を形成する。露光の光源としては、紫
外線、電子線、Ｘ線等が挙げられるが、本発明のペース
トによれば現在フォトリソグラフィー法にて一般的に用
いられている光源、すなわち紫外線で充分である。露光
条件は、塗布膜の厚みに応じて適宜選択すればよい。
【００１８】また、本発明のペーストによれば現像液も
特殊なものを要求しないため、一般的に使用されている
もの、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ケ
イ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、リン酸ナトリ
ウム、リン酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水
素ナトリウム等の無機アルカリ；アンモニア：ｎ−プロ
ピルアミン、ジ−ｎ−プロピルアミン、ジ−ｎ−ブチル
アミン、メチルジエチルアミン、コリジン、ピペリジ
ン、ピペラジン、トリエチレンジアミン、ピロール、
２，５−ジメチルピロール等のアミン；ジメチルエタノ
ールアミン、トリエタノールアミン、ジエチルヒドロキ
シルアミン等のアルコールアミン；テトラメチルアンモ
ニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロ
キシド、２−ヒドロキシエチルトリメチルアンモニウム
ヒドロキシド等の第４級アンモニウムでよい。尚、露光
の制約から、一回以上のペースト塗布を必要とする場合
には、前述の塗布→乾燥→露光を所定回数繰り返した
後、現像を行えばよい。
特殊なものを要求しないため、一般的に使用されている
もの、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ケ
イ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、リン酸ナトリ
ウム、リン酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水
素ナトリウム等の無機アルカリ；アンモニア：ｎ−プロ
ピルアミン、ジ−ｎ−プロピルアミン、ジ−ｎ−ブチル
アミン、メチルジエチルアミン、コリジン、ピペリジ
ン、ピペラジン、トリエチレンジアミン、ピロール、
２，５−ジメチルピロール等のアミン；ジメチルエタノ
ールアミン、トリエタノールアミン、ジエチルヒドロキ
シルアミン等のアルコールアミン；テトラメチルアンモ
ニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロ
キシド、２−ヒドロキシエチルトリメチルアンモニウム
ヒドロキシド等の第４級アンモニウムでよい。尚、露光
の制約から、一回以上のペースト塗布を必要とする場合
には、前述の塗布→乾燥→露光を所定回数繰り返した
後、現像を行えばよい。
【００１９】最終的にパターンニングされた障壁原形を
その上に配された基板を焼成炉にて焼成して障壁が形成
される。その条件は、４５０〜５８０℃で１０〜９０分
程度でよい。
その上に配された基板を焼成炉にて焼成して障壁が形成
される。その条件は、４５０〜５８０℃で１０〜９０分
程度でよい。
【００２０】
【発明の実施の形態】以下に、例により本発明を更に詳
細に説明する。ただし、本発明はこれらの例によってな
んら限定されるものではない。
細に説明する。ただし、本発明はこれらの例によってな
んら限定されるものではない。
【００２１】実施例 先ず、無機材料として下記の組成の低融点ガラス粉末を
準備した。 ＰｂＯ ：３７wt％ Ｂｉ2 Ｏ3 ：１８wt％ ＺｎＯ ：１０wt％ Ｂ2 Ｏ3 ：２０wt％ ＳｉＯ2 ：１０wt％ Ａｌ2 Ｏ3 ： ２wt％ Ｎａ2 Ｏ＋Ｋ2 Ｏ＋Ｌｉ2 Ｏ： ３wt％ 因に、該無機材料の物理特性は以下の通りである。 ガラス転移温度：４０２℃ 屈服点 ：４４３℃ 熱膨張係数 ：９２×１０／℃ 屈折率 ：１．６８（重液法による。以下、
同様） 比重 ：４．５４ ここで、特性及びは目標焼成温度：５８０℃より下
であり、障壁形成用無機材料としての要求を満足してい
ることが確認された。
準備した。 ＰｂＯ ：３７wt％ Ｂｉ2 Ｏ3 ：１８wt％ ＺｎＯ ：１０wt％ Ｂ2 Ｏ3 ：２０wt％ ＳｉＯ2 ：１０wt％ Ａｌ2 Ｏ3 ： ２wt％ Ｎａ2 Ｏ＋Ｋ2 Ｏ＋Ｌｉ2 Ｏ： ３wt％ 因に、該無機材料の物理特性は以下の通りである。 ガラス転移温度：４０２℃ 屈服点 ：４４３℃ 熱膨張係数 ：９２×１０／℃ 屈折率 ：１．６８（重液法による。以下、
同様） 比重 ：４．５４ ここで、特性及びは目標焼成温度：５８０℃より下
であり、障壁形成用無機材料としての要求を満足してい
ることが確認された。
【００２２】次いで、感光性樹脂材料としてメチルメタ
アクリレート（ＭＭＡ）とメタアクリル酸（ＭＡＡ）か
らなる共重合体（各モノマーのモル比は１：１）を準備
した。因に、該感光性樹脂材料の屈折率（SOPRA 社製Ｍ
ＯＳＳ ＥＳＶＧにて計測。以下、同様）は、１．５７
であった。
アクリレート（ＭＭＡ）とメタアクリル酸（ＭＡＡ）か
らなる共重合体（各モノマーのモル比は１：１）を準備
した。因に、該感光性樹脂材料の屈折率（SOPRA 社製Ｍ
ＯＳＳ ＥＳＶＧにて計測。以下、同様）は、１．５７
であった。
【００２３】前記の感光性樹脂材料を溶剤としてのプロ
ピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに溶解
せしめたものに前記の無機材料を加え３本ローラーで混
合し、塗布ペーストを調整した（配合比は、感光性樹脂
材料：１４．７wt％、無機材料：２７．３wt％、溶剤：
５８．０wt％である）。
ピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに溶解
せしめたものに前記の無機材料を加え３本ローラーで混
合し、塗布ペーストを調整した（配合比は、感光性樹脂
材料：１４．７wt％、無機材料：２７．３wt％、溶剤：
５８．０wt％である）。
【００２４】前記の塗布ペーストを１０cm×１０cmのガ
ラス基板（ソーダライムガラス）上にスピンコータを用
いて成膜した（スピンコータの回転数と該塗布ペースト
の粘度を適宜調整して膜厚１５μm 、３０μm 、５０μ
m のものを準備）。各膜厚のサンプルをホットプレート
にて９０℃×５分間、脱溶剤・乾燥し３種類の試験サン
プルとした。尚、前記の膜厚の計測は「触針式段差膜厚
計」（SLOAN 社製ＤＥＫＴＡＫを使用）にて行った。
ラス基板（ソーダライムガラス）上にスピンコータを用
いて成膜した（スピンコータの回転数と該塗布ペースト
の粘度を適宜調整して膜厚１５μm 、３０μm 、５０μ
m のものを準備）。各膜厚のサンプルをホットプレート
にて９０℃×５分間、脱溶剤・乾燥し３種類の試験サン
プルとした。尚、前記の膜厚の計測は「触針式段差膜厚
計」（SLOAN 社製ＤＥＫＴＡＫを使用）にて行った。
【００２５】前記の各試験サンプルの４００nmにおける
光透過率を、各試験サンプル作製に使用した基板をリフ
ァレンスとして、「紫外・可視分光光度計」（日立製作
所製Ｖ−３０００を使用）にてそれぞれ計測した。結果
を表１に示す。
光透過率を、各試験サンプル作製に使用した基板をリフ
ァレンスとして、「紫外・可視分光光度計」（日立製作
所製Ｖ−３０００を使用）にてそれぞれ計測した。結果
を表１に示す。
【００２６】比較例 無機材料を従来の組成のもの（ＰｂＯ：７２wt％、Ｂ2
Ｏ3 ：１４wt％、ＳｉＯ2 ：１４wt％）にしたこと（因
に、得られた無機材料の物理特性は下記の通りである ガラス転移温度：４０３℃ 屈服点 ：４３２℃ 熱膨張係数 ：８５×１０／℃ 屈折率 ：１．８４ 比重 ：５．４８）、 塗布液の配合を感光性樹脂材料：１３．５wt％、無機材
料：３１．５wt％、溶剤：５５．０wt％としたこと（成
膜後の感光性樹脂材料と無機材料の体積比率が実施例の
それと等しくさせるため）を除き実施例と同様にして光
透過率測定用サンプルを作った。光透過率の測定結果を
表１に示す。
Ｏ3 ：１４wt％、ＳｉＯ2 ：１４wt％）にしたこと（因
に、得られた無機材料の物理特性は下記の通りである ガラス転移温度：４０３℃ 屈服点 ：４３２℃ 熱膨張係数 ：８５×１０／℃ 屈折率 ：１．８４ 比重 ：５．４８）、 塗布液の配合を感光性樹脂材料：１３．５wt％、無機材
料：３１．５wt％、溶剤：５５．０wt％としたこと（成
膜後の感光性樹脂材料と無機材料の体積比率が実施例の
それと等しくさせるため）を除き実施例と同様にして光
透過率測定用サンプルを作った。光透過率の測定結果を
表１に示す。
【００２７】
【表１】
【００２８】
【発明の効果】表１から明らかなように、本発明の感光
性ガラスペーストは、従来の感光性ガラスペーストに比
し、５０μm の厚みの膜でも４倍以上の光透過率が得ら
れる。結果として、本発明の感光性ガラスペーストによ
れば、光の散乱を極めて効率的に抑えることができ、高
深度露光及び高精細パターニングを可能とする。ひいて
は、ＰＤＰの障壁プロセスを著しく簡素化し得る。
性ガラスペーストは、従来の感光性ガラスペーストに比
し、５０μm の厚みの膜でも４倍以上の光透過率が得ら
れる。結果として、本発明の感光性ガラスペーストによ
れば、光の散乱を極めて効率的に抑えることができ、高
深度露光及び高精細パターニングを可能とする。ひいて
は、ＰＤＰの障壁プロセスを著しく簡素化し得る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｈ０１Ｊ 17/16 Ｈ０１Ｊ 17/16
Claims (5)
- 【請求項１】 酸により硬化し得る樹脂系材料と光酸発
生剤を含む感光性樹脂材料と；低融点ガラス粉末を含む
無機材料と；を含有してなる感光性ガラスペーストであ
って、 該ガラス粉末が、酸化物換算表記で ＰｂＯ ：３２〜４２wt％ Ｂｉ2 Ｏ3 ： １８wt％以下 ＺｎＯ ： ８〜１２wt％ Ｂ2 Ｏ3 ：１５〜２５wt％ ＳｉＯ2 ：１０〜２５wt％ Ａｌ2 Ｏ3 ： ５wt％以下 Ｎａ2 Ｏ＋Ｋ2 Ｏ＋Ｌｉ2 Ｏ： ５wt％以下 の組成範囲からなるものであること；該感光性樹脂材料
と該無機材料との屈折率の差が０．２以内であること；
を特徴とする感光性ガラスペースト。 - 【請求項２】 前記の感光性樹脂材料と無機材料との屈
折率の差が０．１以内である請求項１に記載の感光性ガ
ラスペースト。 - 【請求項３】 前記の樹脂系材料が、Ｎ−メチロール構
造を有する架橋剤とフェノール性水酸基又はカルボキシ
ル基を有する樹脂とからなるものであり、前記の光酸発
生剤が有機ハロゲン化合物、光スルホン酸発生化合物か
らなる群から選択されるものである請求項１又は２に記
載の感光性ガラスペースト。 - 【請求項４】 前記の感光性樹脂材料と前記の無機材料
との配合比が１：１〜１９：１（重量基準）であり、該
感光性樹脂材料が前記の光酸発生剤及び架橋剤を樹脂に
対しそれぞれ０．１〜２５wt％含むものである請求項３
に記載の感光性ガラスペースト。 - 【請求項５】 ゲル化防止剤を無機材料に対して０．１
〜３５wt％含む請求項１乃至４のいずれか一に記載の感
光性ガラスペースト。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9301641A JPH11139846A (ja) | 1997-11-04 | 1997-11-04 | 感光性ガラスペースト |
| US09/181,236 US6117614A (en) | 1997-11-04 | 1998-10-28 | Photosensitive glass paste |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9301641A JPH11139846A (ja) | 1997-11-04 | 1997-11-04 | 感光性ガラスペースト |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11139846A true JPH11139846A (ja) | 1999-05-25 |
Family
ID=17899392
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9301641A Pending JPH11139846A (ja) | 1997-11-04 | 1997-11-04 | 感光性ガラスペースト |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6117614A (ja) |
| JP (1) | JPH11139846A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007075190A1 (en) * | 2005-12-27 | 2007-07-05 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Lead-free bismuth glass |
| KR100852706B1 (ko) | 2007-03-02 | 2008-08-19 | 삼성에스디아이 주식회사 | 격벽 형성용 조성물, 및 이를 이용하여 제조된 플라즈마디스플레이 패널 |
| US8092982B2 (en) | 2007-03-26 | 2012-01-10 | Samsung Sdi Co., Ltd. | Photosensitive paste composition, barrier rib prepared using the composition and plasma display panel comprising the barrier rib |
| CN104986947A (zh) * | 2015-07-13 | 2015-10-21 | 江苏圣达石英制品有限公司 | 一种光敏石英管制备方法 |
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|---|---|---|---|---|
| KR100268725B1 (ko) * | 1997-10-22 | 2000-10-16 | 김순택 | 플라즈마디스플레이장치의격벽제조방법및그에의한플라즈마디스플레이장치 |
| JP3460657B2 (ja) * | 2000-01-31 | 2003-10-27 | 株式会社村田製作所 | 多層配線回路板用感光性ガラスペースト及び多層配線回路板の製造方法 |
| JP3566907B2 (ja) * | 2000-04-24 | 2004-09-15 | 富士通日立プラズマディスプレイ株式会社 | 表示パネルの通気管接着方法 |
| EP1918261B1 (en) * | 2006-10-26 | 2016-09-07 | Karlsruher Institut für Technologie | Chemical etching composition for the preparation of 3-d nanostructures |
| US20080303437A1 (en) * | 2006-12-29 | 2008-12-11 | Samsung Sdi Co., Ltd. | Method of manufacturing lower panel for plasma display panel using x-rays |
| KR101031742B1 (ko) * | 2007-01-30 | 2011-04-29 | 가부시키가이샤 무라타 세이사쿠쇼 | 감광성 유리 페이스트 및 다층 배선 칩 부품 |
| KR20090080756A (ko) | 2008-01-22 | 2009-07-27 | 삼성에스디아이 주식회사 | 감광성 페이스트 조성물, 이를 이용하여 제조된 플라즈마디스플레이 패널의 격벽 및 이를 포함하는 플라즈마디스플레이 패널 |
| CN112830680A (zh) * | 2019-11-22 | 2021-05-25 | 华北理工大学 | 隔热玻璃釉料及其制备方法 |
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| DE3216451C2 (de) * | 1982-05-03 | 1984-04-19 | Schott Glaswerke, 6500 Mainz | Optisches Leichtgewichtglas mit einem Brechwert ≥ 1.70, einer Abbezahl ≥ 22 und einer Dichte ≦ 3,5 g/cm↑3↑ |
| US4692662A (en) * | 1984-07-13 | 1987-09-08 | Okuno Chemical Industries Co. Ltd. | High contrast display device |
| KR910003693B1 (en) * | 1988-09-14 | 1991-06-08 | Samsung Electronic Devices | Pdp barrack manufacturing method |
| DE69130701T2 (de) * | 1990-10-29 | 1999-08-26 | Toyo Gosei Kogyo Kk | Lichtempfindliches gefärbtes Harz, farbiges Bild, Verfahren zur Herstellung von Farbfiltern und Verfahren zur Herstellung einer Schwarzmatrix |
| US5578533A (en) * | 1993-10-01 | 1996-11-26 | Asahi Glass Company Ltd. | Ceramic color composition and process for producing a curved surface glass sheet employing it |
| US5840465A (en) * | 1995-07-17 | 1998-11-24 | Taiyo Ink Manufacturing Co., Ltd. | Compositions and method for formation of barrier ribs of plasma display panel |
-
1997
- 1997-11-04 JP JP9301641A patent/JPH11139846A/ja active Pending
-
1998
- 1998-10-28 US US09/181,236 patent/US6117614A/en not_active Expired - Fee Related
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| US7795165B2 (en) | 2005-12-27 | 2010-09-14 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Lead-free bismuth glass |
| KR101018602B1 (ko) | 2005-12-27 | 2011-03-04 | 니혼 야마무라 글라스 가부시키가이샤 | 무연 비스무트 유리 |
| KR100852706B1 (ko) | 2007-03-02 | 2008-08-19 | 삼성에스디아이 주식회사 | 격벽 형성용 조성물, 및 이를 이용하여 제조된 플라즈마디스플레이 패널 |
| US8029970B2 (en) | 2007-03-02 | 2011-10-04 | Samsung Sdi Co., Ltd. | Composition for manufacturing barrier rib, and plasma display panel manufactured by the same |
| US8092982B2 (en) | 2007-03-26 | 2012-01-10 | Samsung Sdi Co., Ltd. | Photosensitive paste composition, barrier rib prepared using the composition and plasma display panel comprising the barrier rib |
| CN104986947A (zh) * | 2015-07-13 | 2015-10-21 | 江苏圣达石英制品有限公司 | 一种光敏石英管制备方法 |
| CN104986947B (zh) * | 2015-07-13 | 2018-03-16 | 江苏圣达石英制品有限公司 | 一种光敏石英管制备方法 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6117614A (en) | 2000-09-12 |
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