JP4776429B2 - 処理液供給システム、処理液供給方法、処理液供給プログラム及びそのプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 - Google Patents
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Description
即ち、窒素ガスN2が溶け込んだレジストRが各基板処理モジュールに供給される際、レジストR内に溶存している窒素ガスN2が配管内の負圧によりマイクロバブルとして発泡する場合があった。そして、そのようなレジストRが基板に塗布されると、塗布むら等の欠陥が生じるという問題があった。
しかしながら、このような手段によっても加圧の段階で窒素ガスN2が新たにレジストR中に多量に入り込むことには変わりがなく、配管経路中において発泡する虞が大きかった。
しかしながら、袋容器51bに収容されたレジストRであっても、窒素ガスN2等の気体が微量に溶存しているため、基板処理モジュールまでの配管経路においてフィルタ等の通過時にレジストRが振動し、これにより、その溶存している気体が発泡する場合があった。
そこで従来、配管経路中で発泡した気体を排出するためのバルブ(弁)を多数設け、定期的にそれらのバルブを開いて、気泡を含むレジスト等の薬液を定量排出する構成が用いられているが、装置が複雑化すると共に薬液を無駄に廃液するため、掛かるコストが高くなるという課題があった。
したがって、従来のように配管経路中に気体排出のためのバルブを多数設ける必要がないため、装置が複雑化することがない。また、気体を検出した際に、気泡を含む処理液を排出する構成であるため、気泡を含む処理液を定期的に定量排出する従来の構成よりも処理液の無駄な廃液をなくすことができ、掛かるコストを低減することができる。
特に、前記処理液貯留タンク加振手段により、前記処理液を振動させると共に前記排出管を振動させ、該排出管内の処理液を処理液貯留タンク内に逆流させることにより、発泡した気体を効率的に排出管に導くことができ、気体検出手段により容易に気体を検出することができる。
このように、前記排出管を振動させる排出管加振手段を備え、前記処理液貯留タンク加振手段により前記処理液を振動させると共に前記排出管加振手段により前記排出管を振動させ、該排出管内の処理液を前記処理液貯留タンク内に逆流させることにより、処理液から発泡した気体を前記排出管に移動させるようにしてもよい。
このような構成によっても、発泡した気体を効率的に排出管に導くことができ、気体検出手段により容易に気体を検出することができる。
このように構成することにより、処理液貯留タンク内で発泡した気体を、より容易に排出管に導くことができる。
したがって、従来のように配管経路中に気体排出のためのバルブを多数設ける必要がないため、装置が複雑化することがない。また、気体を検出した際に、気泡を含む処理液を排出するため、気泡を含む処理液を定期的に定量排出する従来の方法よりも処理液の無駄な廃液をなくすことができ、掛かるコストを低減することができる。
即ち、ウエハ処理を行う各ユニット(基板処理モジュール)へ薬液(処理液)を供給する際には、ケミカルユニットCUから薬液が各ユニットに対応するディスペンスユニットDUに送出され、各ディスペンスユニットDUのポンプ動作により各ユニットに薬液供給されるよう構成されている。
図3に示すこのディスペンス機構1は、前記したようにレジストの供給機構であるケミカルユニットCUと、それからレジストが分配されて供給される複数のディスペンスユニットDUと、それらケミカルユニットCU及びディスペンスユニットDUにおけるバルブ制御等を行う制御部10とで構成されている。
前記ディスペンスユニットDUは、多段に重ねられた塗布ユニットCOT等のユニット台数と同数設けられ、それぞれ1対1に対応するようになされている。
また、L/Eタンク21には、タンク20と、フィルタ22とに夫々接続するための経路配管の他、気泡を含むレジストRを排出するためのドレイン配管30が接続されている。
また、L/Eタンク21に順次供給されるレジストRは、フィルタ22においてフィルタリングされ、制御部10の制御によりバルブV3が開弁されることで、各ディスペンスユニットDUにレジストRを供給するように構成されている。
また、この例の場合、塗布ユニットCOTにレジストRを供給する際には、バルブV5が開かれた状態で定圧ポンプ40からレジストRがノズルに向けて送出されるよう構成されている。尚、バルブV4は、ポンプ40において発泡した気体を排出するために設けられている。
そして、制御部10は当該プログラムを読み出し、後述の気体除去処理が実施されるよう制御を行う。尚、このプログラムは、例えばハードディスク、コンパクトディスク、マグネットオプティカルディスク、メモリーカードなどの記録媒体に記録され収納された状態で制御部10の記憶部に格納される。
例えば塗布ユニットCOTにレジストを供給する際には、先ず、タンク20を窒素ガスN2により加圧し、L/Eタンク21にレジストRを圧送して図5(a)に示すようにL/Eタンク21内にレジストRを貯留する(図4のステップS1)。
L/Eタンク21内のレジストRが振動すると、図5(b)に示すようにレジストRで気体が発泡し、気泡Baとなって上昇し、L/Eタンク21内上部に気体が集結する。
尚、図5に示すようにL/Eタンク21内の天井面が傾斜面に形成され、その傾斜面の最上部にドレイン配管30が接続されていることにより、より容易に気体がドレイン配管30に導かれる。また、このステップS3におけるドレイン配管30の振動は、前記のように加振器24によりなされてもよいが、他の加振器(排出管加振手段)を設けて、確実にドレイン配管30を振動させるよう構成してもよい。
また、ステップS8の後、加振器24(及び排出管加振手段)の振動動作は、継続して行ってもよいし、或いは定期的に所定時間行うように制御してもよい。
また、L/Eタンク21において、溶存していた気体が略除去されたレジストRは、その後、フィルタ22によりフィルタリングされ、バルブV3を通過して各ディスペンスユニットDUに供給される。
したがって、従来のように配管経路中に気体排出のためのバルブを多数設ける必要がないため、装置が複雑化することがない。また、気体を検出した際に、気泡を含む薬液を排出する構成であるため、気泡を含む薬液を定期的に定量排出する従来の構成よりも薬液の無駄な廃液をなくすことができ、掛かるコストを低減することができる。
また、図6、図7に示す構成の場合、加振器24によりドレイン配管30を充分に振動させることができない可能性があるため、ドレイン配管30を振動させるための他の加振器(排出管加振手段)を設けるのが好ましい。
また、タンク20は、前記したように外側容器20aの中にレジストを収容した袋容器20bを設けた構造が好ましいが、本発明においては、その形態に限定されず、例えば図8に示したように窒素ガスN2でレジストを直接加圧して圧送する構造にも適用することができる。
10 制御部
20 タンク(処理液供給源)
21 L/Eタンク(処理液貯留タンク)
22 フィルタ
23 気泡検出器(気体検出手段)
24 加振器(処理液貯留タンク加振手段)
30 ドレイン配管(排出管)
40 定圧ポンプ
100 レジスト塗布現像装置
CU ケミカルユニット
DU ディスペンスユニット
R レジスト(処理液)
V1〜V5 バルブ
Claims (6)
- 処理液を用いて基板処理を行うモジュールに対し前記処理液を供給する処理液供給システムにおいて、
処理液が収容された処理液供給源と、前記処理液供給源から供給される処理液を充填し前記モジュールに処理液を送出するための処理液貯留タンクと、前記処理液貯留タンク内の処理液を振動させると共に、前記排出管を振動させる処理液貯留タンク加振手段と、前記処理液貯留タンクに接続され該処理液貯留タンク内の処理液から発泡した気体を排出するための排出管と、前記排出管の途中に設けられ該排出管を開閉制御するバルブと、前記排出管において前記処理液貯留タンクと前記バルブとの間を通過する気体を検出する気体検出手段とを備え、
前記処理液貯留タンク加振手段により、前記処理液貯留タンク内の処理液を振動させ、発泡させると共に、前記排出管を振動させ、該排出管内の処理液を処理液貯留タンク内に逆流させることにより、処理液から発泡した気体を前記排出管に移動させ、
前記排出管に移動した気体を前記気体検出手段が検出すると、前記バルブを開いて気体を排出管から排出することを特徴とする処理液供給システム。 - 処理液を用いて基板処理を行うモジュールに対し前記処理液を供給する処理液供給システムにおいて、
処理液が収容された処理液供給源と、前記処理液供給源から供給される処理液を充填し前記モジュールに処理液を送出するための処理液貯留タンクと、前記処理液貯留タンク内の処理液を振動させる処理液貯留タンク加振手段と、前記処理液貯留タンクに接続され該処理液貯留タンク内の処理液から発泡した気体を排出するための排出管と、前記排出管の途中に設けられ該排出管を開閉制御するバルブと、前記排出管において前記処理液貯留タンクと前記バルブとの間を通過する気体を検出する気体検出手段と、前記排出管を振動させる排出管加振手段と、を備え、
前記処理液貯留タンク加振手段により前記処理液を振動させ発泡させると共に、前記排出管加振手段により前記排出管を振動させ、該排出管内の処理液を前記処理液貯留タンク内に逆流させることにより、処理液から発泡した気体を前記排出管に移動させることを特徴とする処理液供給システム。 - 前記処理液貯留タンク内の天井面は傾斜面に形成され、該傾斜面の最上部に前記排出管が接続されていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載された処理液供給システム。
- 処理液を用いて基板処理を行うモジュールに対し前記処理液を供給する処理液供給方法において、
処理液が収容された処理液供給源から供給される処理液を、処理液貯留タンクに充填するステップと、
前記処理液貯留タンク内の処理液を振動させ、処理液に溶存する気体を発泡させるステップと、
前記処理液貯留タンクに接続された排出管を振動させて該排出管内の処理液を処理液貯留タンク内に逆流させ、前記処理液の振動により発泡した気体を排出管に移動させるステップと、
前記排出管内に移動した気体を検出するステップと、
前記排出管内を開閉制御するバルブを開き、前記気体を排出するステップとを実行することを特徴とする処理液供給方法。 - 前記請求項4に記載された処理液供給方法をコンピュータに実行させるためのプログラム。
- 前記請求項5に記載のプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
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