JP6607820B2 - フィルタ立ち上げ装置、処理液供給装置、治具ユニット、フィルタの立ち上げ方法 - Google Patents

Description

本発明は、基板上への処理液中の不純物を除去するフィルタを処理液供給装置へ取り付け前に立ち上げるフィルタ立ち上げ装置、処理液供給装置、治具ユニット、フィルタの立ち上げ方法に関する。

半導体デバイス等の製造プロセスにおけるフォトリソグラフィー工程では、半導体ウェハ等の基板上に反射防止膜やレジスト膜などの塗布膜を形成したり、露光後のレジスト膜を現像したりするために、レジストや現像液等の処理液が用いられる。

この処理液中には異物（パーティクル）が含まれていることがある。また、元の処理液にはパーティクルが存在しなくとも、処理液を供給する装置のポンプ、バルブ、配管といった系路中にパーティクルが付着している場合、供給する処理液中にパーティクルが混入することがある。そのため、処理液を供給する装置の系路中にはフィルタが配設され、当該フィルタによってパーティクルの除去が行われている。

フィルタの製造業者から納品される時点では、十分に清浄された状態で納品されてくるが、実際に装置にフィルタを組み入れて処理液を流すと、パーティクルが検知されることがある。そのため、半導体デバイスの製造装置を稼働させる前に、まず処理液供給装置に取り付けられたフィルタに対し、処理液を通液する通液処理を行い、当該フィルタが実際に製造プロセスに適合するまで清浄化する処理を行っている（フィルタの立ち上げ）。

また、リソグラフィー工程中及び／またはリソグラフィー工程後には、基板上のパーティクルや欠陥の有無の検査が行われる。特許文献１には、基板上の欠陥の検査技術が開示されている。

特開２０１５−６２０２２号公報

ところで、特許文献１に開示の技術等を用いることにより、基板上のパーティクルの検出感度が高くなってきている。例えば、２０ｎｍ以下の細かいパーティクルも検出可能である。このように微小なパーティクルをフィルタから除去するためには、上述したような通液処理では大量の処理液が必要であった。

本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、基板上へ処理液を供給する処理液供給装置に取り付けられるフィルタを少量の液体の通流で立ち上げることを可能とすることを目的とする。

前記の目的を達成するため、本発明は、基板の処理液中の異物を除くフィルタを清浄化するための液体が循環する循環系路と、該循環系路に前記液体を供給するポンプと、を備え、前記循環系路には、前記フィルタと前記液体を浄化する浄化フィルタとが、前記ポンプ、前記フィルタ、前記浄化フィルタの順に前記液体が通過するよう取り付けられ、前記循環系路は、当該循環系路外の系で使用するのに先立って前記フィルタを清浄化する立ち上げ処理時に、前記フィルタ及び前記浄化フィルタが取り付けられた状態で、所定の条件を満たすまで前記液体を循環させて、前記フィルタへ通液させるように構成されたことを特徴としている。

本発明のフィルタ立ち上げ装置によれば、フィルタ立ち上げ用の液体を循環させて用いるため、液体の消費量を抑えることができ、また、循環する液体内の不純物は浄化フィルタで浄化するため、ポンプ等の清浄度を保つことができる。

前記液体は、前記処理液あってもよいし、前記処理液と異なってもよい。また前記液体は前記処理液と他の溶液との混合液であってもよい。

フィルタ立ち上げ装置は、前記処理液又は前記液体を脱気する脱気機構と、前記液体の循環後に、前記脱気機構によって前記循環時よりも脱気された前記処理液又は前記液体を前記フィルタに通液する高脱気液供給機構と、を備えることが好ましい。

また、フィルタ立ち上げ装置は、前記循環系路内の前記液体に含まれる不純物を検出する検出装置と、該検出装置での検出結果に基づいて前記所定の条件を満たすか否か判定し、この判定結果に基づいて、前記フィルタへの通経を自動的に終了する制御部と、を備えるとよい。

さらに、フィルタ立ち上げ装置は、前記液体を循環させる前に前記液体を前記浄化フィルタに通液し、該通液した液体を前記循環系路内で循環させずに排出する排液管を備えるとよい。

フィルタ立ち上げ装置は、前記液体を循環させる前に前記液体を前記フィルタに通液し、該通液した溶液を前記浄化フィルタを通さずに且つ前記循環系路内で循環させずに排出する他の排液管を備えることが好ましい。

フィルタ立ち上げ装置は、前記循環系路が、前記フィルタが複数並列に取り付けられ、該複数のフィルタに対し同時に前記液体が通液可能なように構成されたことが好ましい。

別な観点による本発明は、基板に処理液を供給するノズルに接続された処理液供給管を備え、該処理液供給管が、前記ノズルに前記処理液を供給するポンプを有し、前記処理液供給管における前記ポンプと前記ノズルとの間に前記処理液中の異物を除くフィルタが取り付けられる処理液供給装置であって、前記フィルタに通液された処理液を浄化するための浄化フィルタが取り付けられる循環配管を備え、該循環配管は、前記ポンプ、前記フィルタ、前記浄化フィルタの順に前記処理液が通過し循環する循環系路を形成するよう、前記処理液供給管に接続され、前記循環系路は、前記フィルタを清浄化する立ち上げ処理の際、前記フィルタ及び前記浄化フィルタが取り付けられた状態で、所定の条件を満たすまで前記処理液を循環させ、前記フィルタに通液させるように構成されたことを特徴としている。

処理液供給装置は、前記循環系路内を循環する前記処理液に含まれる不純物を検出する検出装置と、該検出装置での検出結果に基づいて前記所定の条件を満たすか否か判定し、この判定結果に基づいて、前記立ち上げ処理を自動的に終了する制御部と、を備えることが好ましい。

処理液供給装置は、前記処理液を循環させる前に前記処理液を前記浄化フィルタに通液し、該通液した処理液を前記循環系路内で循環させずに排出する排液管を備えるとよい。

処理液供給装置は、前記処理液を循環させる前に前記処理液を前記フィルタに通液し、該通液した処理液を前記浄化フィルタを通さずに且つ前記循環系路内で循環させずに排出する他の排液管を備えてもよい。

さらに別な観点によれば、本発明は、上記処理液供給装置に着脱自在に取り付けられる治具ユニットであって、前記浄化フィルタが設けられた配管を有し、該配管は、当該治具ユニットが前記処理液供給装置に取り付けられたときに前記循環系路を形成することを特徴としている。

治具ユニットは、前記処理液を循環させる前に前記処理液を前記フィルタに通液し、該通液した処理液を前記浄化フィルタを通さずに且つ前記循環系路内で循環させずに排出する排液管を有することが好ましい。

さらに、別な観点によれば、本発明は、基板に処理液を供給するノズルに接続された処理液供給管を備え、該処理液供給管が、前記ノズルに前記処理液を供給するポンプを有し、前記処理液供給管における前記ポンプと前記ノズルとの間に前記処理液中の異物を除くフィルタが取り付けられる処理液供給装置におけるフィルタの立ち上げ方法であって、前記処理液供給装置は、前記フィルタに通液された処理液を浄化するための浄化フィルタが取り付けられる配管を備え、該配管は、前記ポンプ、前記フィルタ、前記浄化フィルタの順に前記処理液が通過し、循環する循環系路を形成するよう前記処理液供給管に接続され、当該フィルタの立ち上げ方法は、前記循環系路を形成する前記配管に前記浄化フィルタを取り付けるステップと、前記循環系路を形成する前記処理液供給管に前記フィルタを取り付けるステップと、前記循環系路に前記処理液を供給し、所定の条件を満たすまで前記循環系路内で前記処理液を循環させ、前記フィルタに通液するステップと、を含むことを特徴としている。

前記フィルタに通液するステップは、前記循環系路内を循環する前記処理液に含まれる不純物を検出するステップと、該検出するステップでの検出結果に基づいて前記所定の条件を満たすか否か判定し、この判定結果に基づいて、前記フィルタに通液するステップを自動的に終了するステップと、を含んでいてもよい。

フィルタ立ち上げ方法は、前記前記フィルタに通液するステップの前に、前記処理液を前記浄化フィルタに通液し、該通液した処理液を前記循環系路内で循環させずに排出するステップを含んでいてもよい。

フィルタ立ち上げ方法は、前記フィルタに通液するステップの前に、前記処理系を前記フィルタに通液し、該通液した処理液を前記浄化フィルタを通さずに且つ前記循環系路内で循環させずに排出するステップを含んでいてもよい。

フィルタ立ち上げ方法における前記浄化フィルタを取り付けるステップは、例えば、治具ユニットを用いて前記浄化フィルタを取り付けるステップであり、前記治具ユニットは、前記浄化フィルタが設けられていると共に、当該治具ユニットが前記処理液供給装置に取り付けられたときに前記循環系路を形成する配管と、前記処理液を循環させる前に前記処理液を前記フィルタに通液し、該通液した処理液を前記浄化フィルタを通さずに且つ前記循環系路内で循環させずに排出する排液管と、を有するものである。

本発明によれば、基板上へ処理液を供給する処理液供給装置に取り付けられるフィルタを少量の液体で立ち上げることができる。

本発明の実施の形態に係る基板処理システムの構成の概略を示す平面図である。 本発明の実施の形態に係る基板処理システムの構成の概略を示す正面図である。 本発明の実施の形態に係る基板処理システムの構成の概略を示す背面図である。 本発明の第１の実施形態に係るフィルタ立ち上げ装置の構成の概略を示す配管系統図である。 フィルタ立ち上げ装置の構成の概略を説明するための配管系統を示し、循環用液体貯留工程を実施した状態の説明図である。 フィルタ立ち上げ装置の構成の概略を説明するための配管系統を示し、循環通液工程を実施した状態の説明図である。 フィルタ立ち上げ装置の構成の概略を説明するための配管系統を示し、循環通液工程を実施した状態の説明図である。 フィルタ立ち上げ装置の構成の概略を説明するための配管系統を示し、浄化フィルタ清浄化工程を実施した状態の説明図である。 フィルタ立ち上げ装置の構成の概略を説明するための配管系統を示し、前処理工程を実施した状態の説明図である。 フィルタ立ち上げ装置の構成の概略を説明するための配管系統を示し、循環液入れ替え工程を実施した状態の説明図である。 フィルタ立ち上げ装置の構成の概略を説明するための配管系統を示し、高脱気液通液工程の説明図である。 本発明の第２の実施形態に係るフィルタ立ち上げ装置の構成の概略を示す配管系統図である。 本発明の第３の実施形態に係るフィルタ立ち上げ装置の構成の概略を示す図である。 本発明の第４の実施形態に係るフィルタ立ち上げ装置の構成の概略を示説明するための配管系統を示し、循環用液体貯留工程を実施した状態の説明図である。 本発明の第４の実施形態に係るフィルタ立ち上げ装置の構成の概略を示説明するための配管系統を示し、置換工程を実施した状態の説明図である。 本発明の第５の実施形態に係るフィルタ立ち上げ装置の構成の概略を示す図である。 本発明の第６の実施形態に係る現像液供給装置の構成の概略を示す配管系統図である。

以下、本発明の実施の形態について説明する。図１は、本実施の形態に係るフィルタ立ち上げ装置と共に用いられる基板処理システム１の構成の概略を示す説明図である。図２及び図３は、各々基板処理システム１の内部構成の概略を模式的に示す、正面図と背面図である。なお、本明細書および図面において、実質的に同一の機能構成を有する要素においては、同一の符号を付することにより重複説明を省略する。

基板処理システム１は、図１に示すように複数枚のウェハＷを収容したカセットＣが搬入出されるカセットステーション１０と、ウェハＷに所定の処理を施す複数の各種処理装置を備えた処理ステーション１１と、処理ステーション１１に隣接する露光装置１２との間でウェハＷの受け渡しを行うインターフェイスステーション１３とを一体に接続した構成を有している。

カセットステーション１０には、カセット載置台２０が設けられている。カセット載置台２０には、基板処理システム１の外部に対してカセットＣを搬入出する際に、カセットＣを載置するカセット載置板２１が複数設けられている。

カセットステーション１０には、図１に示すようにＸ方向に延びる搬送路２２上を移動自在なウェハ搬送装置２３が設けられている。ウェハ搬送装置２３は、上下方向及び鉛直軸周り（θ方向）にも移動自在であり、各カセット載置板２１上のカセットＣと、後述する処理ステーション１１の第３のブロックＧ３の受け渡し装置との間でウェハＷを搬送できる。

処理ステーション１１には、各種装置を備えた複数例えば４つのブロックＧ１、Ｇ２、Ｇ３、Ｇ４が設けられている。例えば処理ステーション１１の正面側（図１のＸ方向負方向側）には、第１のブロックＧ１が設けられ、処理ステーション１１の背面側（図１のＸ方向正方向側）には、第２のブロックＧ２が設けられている。また、処理ステーション１１のカセットステーション１０側（図１のＹ方向負方向側）には、第３のブロックＧ３が設けられ、処理ステーション１１のインターフェイスステーション１３側（図１のＹ方向正方向側）には、第４のブロックＧ４が設けられている。

例えば第１のブロックＧ１には、図２に示すように複数の液処理装置、例えばウェハＷを現像処理する現像処理装置３０、ウェハＷのレジスト膜の下層に反射防止膜（以下「下部反射防止膜」という）を形成する下部反射防止膜形成装置３１、ウェハＷにレジスト液を塗布してレジスト膜を形成するレジスト塗布装置３２、ウェハＷのレジスト膜の上層に反射防止膜（以下「上部反射防止膜」という）を形成する上部反射防止膜形成装置３３が下からこの順に配置されている。

例えば現像処理装置３０、下部反射防止膜形成装置３１、レジスト塗布装置３２、上部反射防止膜形成装置３３は、それぞれ水平方向に３つ並べて配置されている。なお、これら現像処理装置３０、下部反射防止膜形成装置３１、レジスト塗布装置３２、上部反射防止膜形成装置３３の数や配置は、任意に選択できる。

これら現像処理装置３０、下部反射防止膜形成装置３１、レジスト塗布装置３２、上部反射防止膜形成装置３３といった液処理装置では、例えばウェハＷ上に所定の処理液を塗布するスピンコーティングが行われる。スピンコーティングでは、例えば塗布ノズルからウェハＷ上に処理液を吐出すると共に、ウェハＷを回転させて、処理液をウェハＷの表面に拡散させる。なお、これら液処理装置の構成については後述する。

例えば第２のブロックＧ２には、図３に示すようにウェハＷの加熱や冷却といった熱処理を行う熱処理装置４０や、レジスト液とウェハＷとの定着性を高めるためのアドヒージョン装置４１、ウェハＷの外周部を露光する周辺露光装置４２が上下方向と水平方向に並べて設けられている。これら熱処理装置４０、アドヒージョン装置４１、周辺露光装置４２の数や配置についても、任意に選択できる。

例えば第３のブロックＧ３には、複数の受け渡し装置５０、５１、５２、５３、５４、５５、５６が下から順に設けられている。また、第４のブロックＧ４には、複数の受け渡し装置６０、６１、６２が下から順に設けられている。

図１に示すように第１のブロックＧ１〜第４のブロックＧ４に囲まれた領域には、ウェハ搬送領域Ｄが形成されている。ウェハ搬送領域Ｄには、例えばＹ方向、Ｘ方向、θ方向及び上下方向に移動自在な搬送アームを有する、ウェハ搬送装置７０が複数配置されている。ウェハ搬送装置７０は、ウェハ搬送領域Ｄ内を移動し、周囲の第１のブロックＧ１、第２のブロックＧ２、第３のブロックＧ３及び第４のブロックＧ４内の所定の装置にウェハＷを搬送できる。

また、ウェハ搬送領域Ｄには、第３のブロックＧ３と第４のブロックＧ４との間で直線的にウェハＷを搬送するシャトル搬送装置８０が設けられている。

シャトル搬送装置８０は、例えば図３のＹ方向に直線的に移動自在になっている。シャトル搬送装置８０は、ウェハＷを支持した状態でＹ方向に移動し、第３のブロックＧ３の受け渡し装置５２と第４のブロックＧ４の受け渡し装置６２との間でウェハＷを搬送できる。

図１に示すように第３のブロックＧ３のＸ方向正方向側の隣には、ウェハ搬送装置１００が設けられている。ウェハ搬送装置１００は、例えばＸ方向、θ方向及び上下方向に移動自在な搬送アームを有している。ウェハ搬送装置１００は、ウェハＷを支持した状態で上下に移動して、第３のブロックＧ３内の各受け渡し装置にウェハＷを搬送できる。

インターフェイスステーション１３には、ウェハ搬送装置１１０と受け渡し装置１１１が設けられている。ウェハ搬送装置１１０は、例えばＹ方向、θ方向及び上下方向に移動自在な搬送アームを有している。ウェハ搬送装置１１０は、例えば搬送アームにウェハＷを支持して、第４のブロックＧ４内の各受け渡し装置、受け渡し装置１１１及び露光装置１２との間でウェハＷを搬送できる。

上述のように構成された基板処理システム１の現像処理装置などの各液処理装置には、それぞれの処理液を供給する不図示の処理液供給装置が接続されている。これら処理液供給装置には、後述のフィルタが取り付けられる。このフィルタを処理液供給装置に取り付ける前に清浄化する、すなわち、このフィルタを立ち上げるのが図１に示したフィルタ立ち上げ装置Ｍ１である。本実施形態において、フィルタ立ち上げ装置Ｍ１は、基板処理システム１とは別体のものとして構成されている。

図４〜図９は、本発明の第１の実施形態に係るフィルタ立ち上げ装置の構成の概略を示す配管系統図である。
図４のフィルタ２００は、フォトリソグラフィー工程に用いられる処理液からパーティクルを除去するものであり、処理液を基板に供給する処理液供給装置に取り付けられて用いられる。以下の例では、上記処理液は、フォトリソグラフィー工程において露光されたレジスト膜を現像する現像液であるものとする。

フィルタ立ち上げ装置Ｍ１は、そのフィルタ２００を、処理液供給装置で実際に使用する前に洗浄化する処理すなわち立ち上げ処理を行うものである
フィルタ立ち上げ装置Ｍ１は、立ち上げ処理対象のフィルタ２００（以下、立ち上げフィルタ２００と省略することがある）を清浄化するための液体が循環する循環系路２０１を備える。立ち上げ処理用の液体は、本例では処理液と同じであり、つまり現像液である。

フィルタ立ち上げ装置Ｍ１は、立ち上げ処理用の液体を循環系路２０１を介して立ち上げフィルタ２００に供給するポンプＰ１、Ｐ２を備える。各ポンプＰ１、Ｐ２は、立ち上げフィルタ２００に対して立ち上げ処理用の液体を圧送すると共に、該液体を一時的に貯留する容器としても機能する。各ポンプＰ１、Ｐ２は、容積が可変な貯留室Ｐ１１と、貯留室Ｐ１１と隣接し、その内部に例えば窒素ガス等を給排気することで貯留室Ｐ１１の容積を変化させる圧力室Ｐ１２を備えている。

循環系路２０１におけるポンプＰ１、Ｐ２の下流側に、立ち上げフィルタ２００は取り付けられる。以下の説明では、循環系路２０１を構成する配管のうち立ち上げフィルタ２００より上流側のものを上流側配管２０１ａと称し、上流側のものを下流側配管２０１ｂと称する。

循環系路２０１の上流側配管２０１ａは、分岐して、各ポンプＰ１、Ｐ２の貯留室Ｐ１１に接続されている。上流側配管２０１ａの分岐部の上流側には、切替弁２０２、２０３が設けられている。この切替弁２０２、２０３を開閉することで、上流側配管２０１ａと貯留室Ｐ１１との接続状態を操作することができる。

各ポンプＰ１、Ｐ２の圧力室Ｐ１２には、給排気管３００がそれぞれ接続されている。給排気管３００には、圧力室Ｐ１２に加圧用のガスとして例えば窒素を供給する給気管３０１と、圧力室Ｐ１２内を排気する排気管３０２がそれぞれ接続されている。

各ポンプＰ１、Ｐ２の圧力室Ｐ１２に接続された給排気管３００は、例えば圧力室Ｐ１２側とは反対側の端部が合流しており、この合流した給排気管３００に対して１の排気管３０２が接続されている。排気管３０２にはエアエゼクタ３０３が接続されている。エアエゼクタ３０３には、当該エアエゼクタ３０３を駆動する駆動空気源３０４が駆動空気管３０５を介して接続されている。

駆動空気管３０５には、当該駆動空気管３０５を流れる駆動空気の流量を調節するレギュレータ３０５ａ、３０５ｂが並列に設けられている。各レギュレータ３０５ａ、３０５ｂの下流側には、切替弁３０６ａ、３０６ｂが設けられている。レギュレータ３０５ａ、３０５ｂは、それぞれ異なる流量に設定されており、切替弁３０６ａ、３０６ｂを開閉操作することで、エアエゼクタ３０３に供給する駆動空気の流量を調整できる。これにより、エアエゼクタ３０３で発生させる真空圧を調整できる。また、給排気管３００における排気管３０２との合流部よりもポンプＰ１側には切替弁３０７が、ポンプＰ２側には切替弁３０８がそれぞれ設けられており、この切替弁３０７、３０８を開閉操作することで、ポンプＰ１またはポンプＰ２のいずれの圧力室Ｐ１２を排気するかを選択できる。

給気管３０１は、給排気管３００における切替弁３０７とポンプＰ１の間、及び、切替弁３０８とＰ２との間に、それぞれ２箇所ずつ接続されている。即ち、本実施の形態では図４に示すように、合計で４つの給気管３０１が設けられている。そして、切替弁３０７とポンプＰ１の間に接続されている給気管３０１と、切替弁３０８とポンプＰ２の間に接続されている給気管３０１は、給排気管３００側と反対側の端部がそれぞれ合流しており、この合流した各給気管３０１に対して、加圧用のガスを供給するガス供給管３０９がそれぞれ接続されている。

各ガス供給管３０９には、当該ガス供給管３０９を流れる加圧用ガスの流量を調整するレギュレータ３１０、３１１がそれぞれ設けられている。各レギュレータ３１０、３１１は、それぞれ異なる流量に設定されている。各ガス供給管３０９は、レギュレータ３１０、３１１よりも上流側で合流しており、合流後のガス供給管３０９には、当該ガス供給管３０９に対して加圧用ガスを供給するガス供給源３１２が接続されている。また、各給気管３０１におけるガス供給管３０９との接続部よりも給排気管３００側には、切替弁３１３、３１４、３１５、３１６がそれぞれ設けられている。したがって、各切替弁３１３、３１４、３１５、３１６を操作することにより、給気管３０１を介して各給排気管３００に供給する加圧用ガスの流量を調整できる。

循環系路２０１の下流側配管２０１ｂも、上流側配管２０１ａと同様に、分岐して、各ポンプＰ１、Ｐ２の貯留室Ｐ１１に接続されている。
下流側配管２０１ｂの各ポンプＰ１、Ｐ２への分岐部よりもポンプＰ１側には切替弁２０３が、ポンプＰ２側には切替弁２０４がそれぞれ設けられている。したがって、例えば、後述の循環切替弁２１７を開状態にする等した上で、ポンプＰ１側の切替弁２０４を閉状態に、ポンプＰ２側の切替弁２０５を開状態にしてポンプＰ１から現像液を吐出すると、当該現像液をポンプＰ２の貯留室Ｐ１１に循環させることができる。

循環系路２０１の下流側配管２０１ｂの各ポンプＰ１、Ｐ２への分岐部の上流側には、補充配管２０６が接続されている。補充配管２０６には現像液供給源２０７が接続されている。したがって、現像液供給源２０７から補充配管２０６及び下流側配管２０１ｂを介して、立ち上げ処理用の液体としての現像液をポンプＰ１、Ｐ２に供給することができる。補充配管２０６には現像液供給源２０７からの現像液の供給を制御する補充弁２０８が設けられている。

フィルタ立ち上げ装置Ｍ１は、循環系路２０１を循環する液体を浄化する浄化フィルタ２０９が、ポンプＰ１、Ｐ２、立ち上げフィルタ２００、浄化フィルタ２０９の順に液体が通過するよう取り付けられる。言い換えると、下流側配管２０１ｂにおける立ち上げフィルタ２００の下流側に浄化フィルタ２０９が取り付けられる。具体的には、下流側配管２０１ｂにおける立ち上げフィルタ２００と補充配管２０６への接続部との間に、浄化フィルタ２０９は取り付けられる。

下流側配管２０１ｂにおける立ち上げフィルタ２００と浄化フィルタ２０９との間には、流量測定機構２１０が設けられている。したがって、立ち上げフィルタ２００を通過する液体の流量を流量測定機構２１０で測定することができる。

下流側配管２０１ｂにおける浄化フィルタ２０９と補充配管２０６の接続部との間には、循環系路２０１内の液体を系外に排出する排液管２１１が接続されている。また、排液管２１１には排液弁２１２が設けられている。また、下流側配管２０１ｂにおける排液管２１１の接続部と補充配管２０６の接続部の間には、排液切替弁２１３が設けられている。そのため、排液切替弁２１３を閉状態とし、排液弁２１２を開状態にすること等により、循環系路２０１内の液体を系外に排出することができる。
なお、下流側配管２０１ｂにおける浄化フィルタ２０９と排液管２１１の接続部との間には、立ち上げ処理用の液体の逆流を防止するための逆止弁２１４が設けられている。

また、下流側配管２０１ｂにおける浄化フィルタ２０９と逆止弁２１４との間には、浄化フィルタ２０９を通過した液体を循環系路２０１内を循環させずに系外に排出する排液管２１５が接続されている。排液管２１５には排液弁２１６が設けられている。また、下流側配管２０１ｂにおける排液管２１５の接続部と逆止弁２１４との間には、循環切替弁２１７が設けられている。そのため、循環系路２０１内に液体を循環させる前に、排液弁２１６を開状態に、循環切替弁２１７を閉状態にするなどして、浄化フィルタ２０９を通過した液体を循環系路２０１内を循環させずに系外に排出させることができる。したがって、立ち上げフィルタ２００に循環液を通液する前に、浄化フィルタ２０９を清浄化することができる。

さらに、下流側配管２０１ｂにおける流量測定機構２１０と浄化フィルタ２０９との間には、立ち上げフィルタ２００を通過した液体を浄化フィルタ２０９を通過させずに循環系路２０１の系外に排出する排液管２１８が接続されている。排液管２１８には排液弁２１９が設けられている。したがって、循環系路２０１内に液体を循環させる前に、排液弁２１６及び循環切替弁２１７を閉状態とし、排液弁２１９を開状態とするなどして、立ち上げフィルタ２００を通過した液体を浄化フィルタ２０９を通過させずに循環系路２０１の系外に排出することができる。したがって、立ち上げ初期時に立ち上げフィルタ２００を通過し特に汚れた液体を系外に直接排出することができ、浄化フィルタ２０９等の清浄度を保つことができる。

なお、立ち上げフィルタ２００の不図示の排液口には、ベント管２２０が接続されている。ベント管２２０は立ち上げフィルタ２００内に蓄積した気体を系外に排出するためのものである。ベント管２２０にはベント弁２２１が設けられている。
同様に、浄化フィルタ２０９の不図示の排液口には、ベント管２２２が接続されている。ベント管２２０は浄化フィルタ２０９内に蓄積した気体を系外に排出するためのものである。ベント管２２２にはベント弁２２３が設けられている。

また、フィルタ立ち上げ装置Ｍ１は、不図示の制御部が設けられている。フィルタ立ち上げ装置Ｍ１に設けられた各弁には、上記制御部により制御可能な電磁弁や空気作動弁が用いられている。この構成により、フィルタ立ち上げ装置Ｍ１における一連の立ち上げ処理は制御部の制御の下、自動で行うことが可能となっている。

以上のように主要部が構成されたフィルタ立ち上げ装置Ｍ１における立ち上げ処理の一例について詳述する。

（浄化フィルタ取り付け工程）
まず、循環切替弁２１７等の全ての弁を閉状態とし、その後、浄化フィルタ２０９を循環系路２０１の所定箇所に取り付ける。なお、図４及び以降の図においては、開状態の弁を白塗りで、閉状態の弁を黒塗りで、現像液等の流体が流通している管を太線で示すことで、その他の弁の開閉状態については説明を省略する。

（立ち上げフィルタ取り付け工程）
次に、立ち上げフィルタ２００を循環系路２０１の所定箇所に取り付ける。

（循環用液体貯留工程）
そして、図５に示すように、切替弁３０７、３０６ａを開状態とし、例えばレギュレータ３０５ａの系統を用いてエアエゼクタ３０３を駆動させることで圧力室Ｐ１２を負圧にして、貯留室Ｐ１１の容積を拡大させる。この際に、例えば補充弁２０８、切替弁２０４を開状態とすることで、現像液供給源２０７からポンプＰ１内に現像液が供給される。これにより、立ち上げ処理用の液体としての現像液がポンプＰ１の貯留室Ｐ１１内に貯留される。

（循環通液工程）
次いで、図６に示すように、補充弁２０８、切替弁２０４を閉状態にすると共に、切替弁２０２、２０５、循環切替弁２１７、排液切替弁２１３を開状態とする。それと共に、切替弁３０７を閉状態にし、切替弁３１３を開状態とし、レギュレータ３１０の系統を用いてガス供給源３１２から加圧用ガスを供給し、ポンプＰ１の圧力室Ｐ１２を加圧し、ポンプＰ１から貯留室Ｐ１１内の現像液を循環系路２０１に圧送する。圧送された現像液は立ち上げフィルタ２００、浄化フィルタ２０９の順に流れ、ポンプＰ２の貯留室Ｐ１１に移される。なお、この際、切替弁３０８を開状態とし、ポンプＰ２の圧力室を減圧するようにしてもよい。

その後、例えば、ポンプＰ１の貯留室Ｐ１１の現像液がほぼ空になる前に、図７に示すように、切替弁２０２、２０５を閉状態とし、切替弁２０３、２０４を開状態とする。それと共に、切替弁３１３、３０８を閉状態とし、切替弁３１４、３０７を開状態とし、ポンプＰ２の圧力室Ｐ１２を加圧すると共に、ポンプＰ１の圧力室Ｐ１２を減圧し、ポンプＰ２から貯留室Ｐ１１内の現像液を循環系路２０１に圧送する。ポンプＰ２から圧送された現像液も、立ち上げフィルタ２００、浄化フィルタ２０９の順に流れ、ポンプＰ１の貯留室Ｐ１１に移される。

これらを交互に繰り返すことにより、立ち上げフィルタ２００と浄化フィルタ２０９が取り付けられた循環系路２０１内を現像液を循環させることができる。そして、所定条件を満たすまで現像液を循環系路２０１内を循環させ、立ち上げフィルタ２００に通液させることで、立ち上げフィルタ２００の清浄化、すなわち、立ち上げフィルタ２００を立ち上げることができる。
上述の所定条件とは、例えば、現像液を所定流量で所定時間循環させることである。流量の調整はレギュレータ３１０、３１１を用いて行うことができる。

循環通液工程終了後、清浄化された立ち上げフィルタ２００は、例えば、全ての弁が閉じられた後に取り外され、基板処理システム１の処理液供給装置に使用される。

上述のように、フィルタ立ち上げ装置Ｍ１では、現像液を循環させて立ち上げフィルタ２００に通液するため、立ち上げ処理に使用する現像液の量を大幅に減らすことができる。また、循環系路２０１内において立ち上げフィルタ２００の下流に浄化フィルタ２０９を設けているため、立ち上げフィルタ２００に通流された後の現像液にパーティクルが存在した場合、浄化フィルタ２０９によって該現像系からパーティクルを除去することができる。したがって、パーティクルが含まれた現像液が循環することを防止することができ、ポンプＰ１、Ｐ２内等の清浄度を保つことができる。

次に、フィルタ立ち上げ装置Ｍ１における立ち上げ処理に含めることが好ましい処理について説明する。なお、以降の図においては、ポンプへの液体の貯留やポンプからの液体の送出に関する機構、すなわち、ポンプの加圧室の圧力を調整する機構（参照符号３００番台のもの）の図示は適宜省略する。

（浄化フィルタ清浄化工程）
浄化フィルタ２０９は、フィルタ立ち上げ装置Ｍ１に取り付ける前に、例えば、他のフィルタ立ち上げ装置で清浄化しておくことで、フィルタ立ち上げ装置Ｍ１に取り付けた時点で高い清浄度を有する。ただし、浄化フィルタ２０９は他のフィルタ立ち上げ装置から本フィルタ立ち上げ装置Ｍ１に運搬する際などにその清浄度が低下することもある。そこで、上述の循環用液体貯留工程前等に浄化フィルタ２０９を清浄化する浄化フィルタ清浄化工程を行ってもよい。

浄化フィルタ清浄化工程では、上述の浄化フィルタ取り付け工程後且つ立ち上げフィルタ取り付け工程前に、上述の循環用液体貯留工程と同様にして、例えばポンプＰ１の貯留室Ｐ１１に現像液を貯留する。
そして、図８に示すように、補充弁２０８、切替弁２０４を閉状態とし、切替弁２０２、排液弁２１６を開状態とする等して、ポンプＰ1から現像液を浄化フィルタ２０９に通液する。これによって、浄化フィルタ２０９に通液された現像液は循環系路２０１を循環することなく、排液管２１５を介して系外に排出される。
所定量の現像液を通液することで浄化フィルタ２０９の清浄度を高めることができる。

なお、循環系路２０１は立ち上げフィルタ２００を取り付けなくともポンプＰ１、Ｐ２と浄化フィルタ２０９との間は連通されている。また、この浄化フィルタ清浄化工程は、立ち上げフィルタ取り付け工程後に行ってもよい。

（前処理工程）
立ち上げフィルタ２００に通液開始直後の該立ち上げフィルタ２００を通過した現像液は、パーティクルを多く含んでいるおそれがある。このような現像液を循環系路２０１内に循環させると、浄化フィルタ２０９等の清浄度が低下する恐れがある。そこで、上述の循環用液体貯留工程前等に、現像液を循環させずに立ち上げフィルタ２００に通液する前処理工程を行ってもよい。

前処理工程では、上述の循環用液体貯留工程前に、まず、その循環用液体貯留工程と同様にして、ポンプＰ１の貯留室Ｐ１１に現像液を貯留する。
そして、図９に示すように、補充弁２０８、切替弁２０４を閉状態とし、切替弁２０２、排液弁２１９を開状態とする等して、ポンプＰ１から現像液を立ち上げフィルタ２００に通液する。これによって、立ち上げフィルタ２００に通液された現像液は、循環系路２０１を循環することなく、また、浄化フィルタ２０９に通液されることなく、排液管２１８を介して系外に排出される。
このように循環通液工程前に所定量の現像液を立ち上げフィルタ２００に通液しておくことで、循環通液工程時に浄化フィルタ２０９の清浄度の低下等を防止することができる。

（循環液入れ替え工程）
循環系路２０１内を循環している現像液は、次第に劣化するおそれがある。そこで、循環通液工程において、一定時間毎に循環系路２０１内の現像液を入れ替える循環液入れ替え工程を行うとよい。
循環液入れ替え工程では、例えば入れ替え直前の各弁の状態が図６のようであったとすると、図１０に示すように排液切替弁２１３、切替弁２０５を閉状態とし、排液弁２１２を開状態とする等して、ポンプＰ１の貯留室Ｐ１１内の現像液を排液する。ポンプＰ１からの排液完了後、ポンプＰ２の貯留室Ｐ１１内にも現像液が貯留されていれば、切替弁２０２を閉状態とし、切替弁２０３を開状態とする等して、ポンプＰ２の貯留室Ｐ１１内の現像液も排液する。

ポンプＰ１、Ｐ２の排液完了後、循環用液体貯留工程と同様にして、ポンプＰ１の貯留室Ｐ１１に現像液を貯留し、循環させることにより循環系路２０１内の現像液を新しくすることができる。

（高脱気液通液工程）
ポンプＰ１、Ｐ２には、処理液すなわち現像液を脱気する脱気機構として不図示の脱気ノズルを設けることができ、循環用液体貯留工程において、ポンプＰ１、Ｐ２の貯留室Ｐ１１に脱気した現像液を貯留できるように構成されている。
フィルタ立ち上げ装置Ｍ１は、立ち上げ処理用の液体である現像液の循環後に、脱気ノズルによって循環時よりも脱気された現像液を立ち上げフィルタ２００に通液する高脱気液供給機構と、を備える。高脱気液供給機構の具体的な構成は以下の通りである。

レギュレータ３０５ｂにおいて設定される圧力の大きさは、レギュレータ３０５ａにおいて設定される圧力の大きさよりも大きい。そのため、ポンプＰ１、Ｐ２に現像液を貯留する際、レギュレータ３０５ａを用いるよりもレギュレータ３０５ｂを用いた方がポンプＰ１、Ｐ２の圧力室Ｐ１２を一層減圧されるので、脱気ノズルを介して処理液がより速い流速でポンプＰ１、Ｐ２の貯留室Ｐ１１内に引き込まれる。その結果、現像液の圧力がより低下し、現像液内に溶存した気体が現像液内からより多く脱気される。

この、より脱気された現像液を、レギュレータ３０５ａを用いて脱気された現像液（通常脱気液）と区別し、本明細書において、高脱気液と言うことがある。なお、通常脱気液の脱気圧は例えば約−３５ｋＰａ、高脱気液の脱気圧は例えば約−８０ｋＰａである。

上述のように高脱気液を製造可能なフィルタ立ち上げ装置Ｍ１は、上述の循環通液工程完了後に、例えば、ポンプＰ１、Ｐ２に設けられた不図示の排液管を介して、ポンプＰ１、Ｐ２の貯留室Ｐ１１内の現像液を排出する。その後、図１１に示すように、切替弁３０７、３０６ｂを開状態とし、レギュレータ３０５ｂの系統を用いてエアエゼクタ３０３を駆動させることで圧力室Ｐ１２をレギュレータ３０５ａを用いた場合よりも負圧にして、貯留室Ｐ１１の容積を拡大させる。この際に、補充弁２０８、切替弁２０４を開状態とすることで、現像液供給源２０７からポンプＰ１内に現像液が供給される。これにより、脱気ノズルにより高脱気液が生成されると共に、高脱気液がポンプＰ１の貯留室Ｐ１１内に貯留される。

そして、図９と同様に補充弁２０８を閉状態とし、切替弁２０２、排液弁２１９を開状態とし、フィルタ立ち上げ装置Ｍ１は、ポンプＰ１内の高脱気液を立ち上げフィルタ２００に通液する。

このように立ち上げフィルタ２００に高脱気液を通液することで、立ち上げフィルタ２００内に存在する通常脱気液では除去することができなかった微小気泡を除去することができる。
なお、立ち上げフィルタ２００に通液した高脱気液は循環系路２０１内を循環されずに例えば排液管２１８から排液される。

図１２は、本発明の第２の実施形態に係るフィルタ立ち上げ装置の構成の概略を示す配管系統図である。
図１２のフィルタ立ち上げ装置Ｍ２は、図４のフィルタ立ち上げ装置Ｍ１の構成に加えて、循環系路内の液体に含まれる不純物を検出する検出装置としての液中パーティクルカウンタ２３０を備える。液中パーティクルカウンタ（以下、カウンタと省略）２３０は、排液管２１８における排液弁２１９の下流に設けられており、排液管２１８に導入された現像液中のパーティクルの数をカウントする。

既述したように、図４のフィルタ立ち上げ装置Ｍ１の循環通液工程では、現像液を所定流量で所定時間循環させたか否かに基づいて、循環通液工程を終了させるか否かを決定していた。
それに対し、図１０のフィルタ立ち上げ装置Ｍ２の循環通液工程では、一定期間経過ごとに、循環切替弁２１７を閉状態とし、排液弁２１９を開状態とし、立ち上げフィルタ２００を通液した現像液を排液管２１８すなわちカウンタ２３０に通液する。そして、フィルタ立ち上げ装置Ｍ２の制御部は、カウンタ２３０での測定結果に基づいて、循環通液工程を終了させるか否か判定する。具体的には、フィルタ立ち上げ装置Ｍ２の制御部は、カウンタ２３０でカウントされた現像液中のパーティクルの数が所定の数以下であれば、循環通液工程を自動的に終了する。

所定流量で所定時間循環させたか否かに基づいて循環通液工程を終了させる場合、所定時間経過前に既に清浄度が高い場合や、所定時間経過後であっても清浄度が十分でない場合もある。それに対し、フィルタ立ち上げ装置Ｍ２では、循環する現像液中のパーティクルの数すなわち実際の清浄度に基づいて循環通液工程を終了させるため、例えば立ち上げフィルタ２００の元々の清浄度が高い場合に、より短時間で立ち上げることができ、また、例えば立ち上げフィルタ２００の元々の清浄度が低い場合には、より確実に所望の清浄度の立ち上げフィルタ２００を得ることができる。

図１３は、本発明の第３の実施形態に係るフィルタ立ち上げ装置の構成の概略を示す図である。
図１３のフィルタ立ち上げ装置Ｍ３は、図４のフィルタ立ち上げ装置Ｍ１の構成の現像液供給源２０７に代えて、シンナー供給源２４０が補充配管２０６に設けられている。

また、フィルタ立ち上げ装置Ｍ４では、循環系路２０１の上流側配管２０１ａの各ポンプＰ１、Ｐ２への分岐部と立ち上げフィルタ２００との間には、現像液供給管２４１が接続されている。現像液供給管２４１には、処理液である現像液を供給する現像液供給源２０７が接続されている。
さらに、現像液供給管２４１における上流側配管２０１ａへの接続部と現像液供給源２０７との間には、ポンプＰ３が設けられている。ポンプＰ３の構成はポンプＰ１、Ｐ２と同様である。現像液供給管２４１における現像液供給源２０７とポンプＰ３との間には供給弁２４２が設けられ、循環系路２０１への接続部とポンプＰ３との間には切替弁２４３が設けられている。

このフィルタ立ち上げ装置Ｍ４では、循環用液体貯留工程において、シンナー供給源２４０から供給されたシンナーを例えばポンプＰ１に貯留し、循環通液工程において、そのシンナーを循環させ、立ち上げフィルタ２００に通液する。循環通液工程では、供給弁２４２、切替弁２４３は閉状態とされる。
この循環通液工程終了後、立ち上げフィルタ２００の取り外し前に、例えば切替弁２０２、循環切替弁２１７を閉状態とし、供給弁２４２を開状態とし、ポンプＰ３に現像液が貯留される。その後、図１２に示すように、供給弁２４２を閉状態とし、切替弁２４３、排液弁２１９を開状態とし、ポンプＰ３から立ち上げフィルタ２００へ現像液を供給する。この現像液の供給を所定時間にわたって行うことで、立ち上げフィルタ２００内の立ち上げ処理用の液体であるシンナーを現像液に置換することができる。なお、シンナーに代えてアルコールを用いてもよい。

上述のように循環通液工程において、立ち上げ処理用の液体としてシンナーやアルコールを用い、立ち上げフィルタ２００に通液させることにより、同工程に要する時間を短縮することができる。現像液に比べてシンナーやアルコールの方が立ち上げフィルタ２００から異物を除去しやすいからである。また、立ち上げフィルタ２００に現像液を通液する前にシンナーやアルコールを通液することにより立ち上げフィルタ２００のフィルタ能力を高めることができる。

図１４及び図１５は、本発明の第４の実施形態に係るフィルタ立ち上げ装置の構成の概略を示す配管系統図である。
図１４のフィルタ立ち上げ装置Ｍ４は、図４のフィルタ立ち上げ装置Ｍ１の循環系路２０１の下流側配管２０１ｂにおける補充配管２０６の接続部と排液切替弁２１３との間に、別の補充配管２５０が接続されている。
補充配管２５０には、シンナーを供給するシンナー供給源２４０が接続されている。補充配管２５０における下流側配管２０１ｂへの接続部とシンナー供給源２４０との間には補充弁２５１が設けられている。

また、フィルタ立ち上げ装置Ｍ４は、現像液供給源２０７からポンプＰ１、Ｐ２を介さずに立ち上げフィルタ２００に現像液を供給するバイパス配管２５２を備える。バイパス配管２５２の一端は、補充配管２０６における循環系路２０１への接続部と補充弁２０８との間に接続され、他端は循環系路２０１の上流側配管２０１ａにおける各ポンプＰ１、Ｐ２への分岐部と立ち上げフィルタ２００との間に接続されている。
バイパス配管２５２にはポンプＰ４が設けられている。ポンプＰ４の構成はポンプＰ１、Ｐ２と同様である。バイパス配管２５２におけるポンプＰ４より補充配管２０６側に供給弁２５３が設けられ、ポンプＰ４より循環系路の上流側配管２０１ａ側に切替弁２５４が設けられている。

このフィルタ立ち上げ装置Ｍ４では、循環用液体貯留工程において、図１４に示すように、補充弁２０８、２５１、切替弁２０４を開状態とすることにより、現像液供給源２０７からポンプＰ１内に現像液を供給するとともに、シンナー供給源２４０からポンプＰ１内にシンナーを供給する。これにより、現像液とシンナーの混合液がポンプＰ１の貯留室Ｐ１１内に貯留される。

そして、循環通液工程において、補充弁２０８、２５１を閉状態とし、他の各弁の状態を図６と同様にし、その後、図７の状態のようにし、以後、交互に繰り返すことによって、上記混合液を循環させ、立ち上げフィルタ２００に通液する。

この循環通液工程終了後、立ち上げフィルタ２００の取り外し前に、図１５に示すように、切替弁２０２、２０３、循環切替弁２１７、排液切替弁２１３を閉状態とし、補充弁２０８、供給弁２５３を開状態とし、ポンプＰ４へ現像液を貯留する。その後、補充弁２０８、供給弁２５３を閉状態とし、切替弁２５４、排液弁２１９を開状態とし、ポンプＰ４から立ち上げフィルタ２００へ現像液を供給する。この現像液の供給を所定時間にわたって行うことで、立ち上げフィルタ２００内の立ち上げ処理用の液体である上述の混合液を、現像液に置換することができる。なお、本実施形態においてもシンナーに代えてアルコールを用いてもよい。

上述の構成により、フィルタ立ち上げ装置Ｍ４では、第３の実施形態に係るフィルタ立ち上げ装置と同様に、立ち上げフィルタ通液処理に要する時間を短縮することができ、また、立ち上げフィルタ２００のフィルタ能力を高めることができる。さらに、フィルタ立ち上げ装置Ｍ５では、立ち上げフィルタ通液処理後に現像液に置換する際に、置換に要する時間を短縮することができる。

図１６は、本発明の第５の実施形態に係るフィルタ立ち上げ装置の構成の概略を示す配管系統図である。
図１６のフィルタ立ち上げ装置Ｍ５は、複数の立ち上げフィルタ２００ａ〜２００ｃを循環系路２０１に並列に取り付けることが可能となっており、複数の立ち上げフィルタ２００ａ〜２００ｃを同時に立ち上げることができる。立ち上げフィルタ２００ａ〜２００ｃは、図４等の立ち上げフィルタ２００と同じものである。

フィルタ立ち上げ装置Ｍ５は、循環系路２０１の上流側配管２０１ａにおける各ポンプＰ１、Ｐ２への分岐部と立ち上げフィルタ２００ａとの間に枝管２６０の一端が接続され、下流側配管２０１ｂにおける立ち上げフィルタ２００ａと流量測定機構２１０との間に枝管２６０の他端が接続されている。枝管２６０には、他の立ち上げフィルタ２００ｂを取り付けることができる。枝管２６０における上記他の立ち上げフィルタ２００ｂの上流側の部分と下流側の部分を連結するように、他の枝管２６１が枝管２６０に接続されている。この枝管２６１には別の立ち上げフィルタ２００ｃを取り付けることができる。

フィルタ立ち上げ装置Ｍ５では、立ち上げフィルタ取り付け工程で複数の立ち上げフィルタ２００ａ〜２００ｃが取り付けられる。
そして、循環通液工程において、複数のフィルタ２００ａ〜２００ｃに同時に循環液を通液することにより、これらを同時に立ち上げることができる。したがって、多数のフィルタを立ち上げるために要する時間を、立ち上げに要する薬液を抑えたまま短縮することができる。

以上の例は、基板処理システム１とフィルタ立ち上げ装置とは別の装置として構成されていたが、以下に説明するように、フィルタ立ち上げ装置を基板処理システム１の処理液供給装置である現像液供給装置に組み込むことができる。

図１６は、本発明の第６の実施形態に係る現像液供給装置の構成の概略を示す配管系統図である。
図の現像液供給装置Ｍ６は、処理液供給装置の一例であり、図１のフィルタ立ち上げ装置Ｍ１と同様に、循環系路２０１を備える。現像液供給装置Ｍ６では、この循環系路２０１が、後述の現像液供給管２７０と、該現像液供給管２７０に接続された循環配管２７１とから構成されている。循環配管２７１は、図において灰色で示されている。

現像液供給管２７０は、現像液供給ノズルＮを介して処理液としての現像液を基板に供給するためのものである。
この現像液供給管２７０は、分岐して、各ポンプＰ１、Ｐ２の貯留室Ｐ１１に接続されている。現像液供給管２７０における各ポンプＰ１、Ｐ２への分岐部と現像液供給ノズルＮとの間には、現像液供給管２７０を通流する現像液中のパーティクルを取り除くフィルタ２００が設けられている。さらに、現像液供給管２７０におけるフィルタ２００と現像液供給ノズルＮとの間に流量測定機構２１０が設けられている。

循環配管２７１は、現像液を現像液供給装置Ｍ６内で循環させるためのものである。循環配管２７１の一端は、現像液供給管２７０における流量測定機構２１０と現像液供給ノズルＮとの間に接続されており、その他端は、上流側配管２０１ａと同様に、分岐して、各ポンプＰ１、Ｐ２の貯留室Ｐ１１に接続されている。循環配管２７１における現像液供給管２７０への接続部と各ポンプＰ１、Ｐ２への分岐部との間に、循環配管２７１を通流する現像液中のパーティクルを取り除く浄化フィルタ２０９が設けられている。

なお、現像液供給装置Ｍ６は、現像液供給管２７０及び現像液供給ノズルＮを介した現像液の供給と、循環系路２０１内の現像液の循環とを切り替えるために、現像液供給管２７０における循環配管２７１の接続部と現像液供給ノズルＮとの間には切替弁２７２が設けられている。この切替弁２７２と循環切替弁２１７等の開閉状態を切り替えることにより、現像液の循環と現像液の基板への供給（吐出）を切り替えることができる。

次に、現像液供給装置Ｍ６におけるフィルタ２００の立ち上げ方法について説明する。なお、現像液供給装置Ｍ６は、フィルタ立ち上げ装置Ｍ１の制御部と同様の制御部を有する。
まず、循環切替弁２１７等の全ての弁を閉状態とし、その後、浄化フィルタ２０９を循環配管２７１の所定箇所に取り付ける。次いで、フィルタ２００を現像液供給管２７０の所定箇所に取り付ける。これらにより、循環系路２０１に浄化フィルタ２０９とフィルタ２００とが取り付けられたことになる。

そして、フィルタ立ち上げモードが操作パネル等を介して選択されると、現像液供給装置Ｍ６の制御部は、図５と同様に、補充弁２０８を開状態にする等して、現像液供給源２０７からポンプＰ１内に現像液を供給する。これにより、立ち上げ処理用の現像液がポンプＰ１の貯留室Ｐ１１内に貯留される。

次いで、図６と同様に、現像液供給装置Ｍ６の制御部は、補充弁２０８、切替弁２０４を閉状態にすると共に、切替弁２０２、２０５、循環切替弁２１７、排液切替弁２１３を開状態として、ポンプＰ１から現像液を現像液供給管２７０に圧送する。圧送された現像液は、現像液供給管２７０の立ち上げフィルタ２００、循環配管２７１の浄化フィルタ２０９の順に通流され、ポンプＰ２の貯留室Ｐ１１に移される。

その後、例えば、ポンプＰ１の貯留室Ｐ１１の現像液がほぼ空になる前に、図７に示すように、切替弁２０２、２０５を閉状態とし、切替弁２０３、２０４を開状態とし、ポンプＰ２から貯留室Ｐ１１内の現像液を現像液供給管２７０に圧送する。ポンプＰ２から圧送された現像液も、現像液供給管２７０の立ち上げフィルタ２００、循環配管２７１の浄化フィルタ２０９の順に通流され、ポンプＰ２の貯留室Ｐ１１に移される。

これらを交互に繰り返すことにより、立ち上げフィルタ２００と浄化フィルタ２０９が取り付けられた循環系路２０１内を現像液を循環させることができる。そして、所定条件を満たすまで現像液を循環系路２０１内を循環させ、立ち上げフィルタ２００に通液させることで、立ち上げフィルタ２００の清浄化、すなわち、立ち上げフィルタ２００を立ち上げることができる。

現像液供給装置Ｍ６の制御部は、上述の通流を交互に繰り返すことにより、フィルタ２００と浄化フィルタ２０９が取り付けられた循環系路２０１内を現像液を循環させ、所定条件を満たすまで立ち上げフィルタ２００に通液させる。所定条件を満たせば、制御部は、循環切替弁２１７を閉状態、切替弁２７２を開状態にする等して、フィルタ立ち上げモードから、現像液を吐出する通常モードに移行する。

以上のようにして現像液供給装置Ｍ６は、フィルタ２００を通常モードで使用する前に清浄化すること、すなわち、フィルタ２００を立ち上げることができる。
上述のように、現像液供給装置Ｍ６は、フィルタ２００の立ち上げの際、現像液を循環させてフィルタ２００に通液するため、少量の現像液でフィルタ２００を立ち上げることができる。また、循環配管２７１における各ポンプＰ１、Ｐ２の入口に対して上流側に浄化フィルタ２０９が設けられているため、現像液供給装置Ｍ６は、立ち上げフィルタ２００の立ち上げの際に現像液を循環させた場合に、ポンプＰ１、Ｐ２に流入する現像液からパーティクルを取り除くことができるため、ポンプＰ１、Ｐ２等の清浄度を保つことができる。

現像液供給装置Ｍ６において、フィルタ２００の立ち上げ処理を行った場合は、立ち上げに用いた現像液は排液管２１１等を介して排液し、基板上に供給する現像液として新たなものを補充することが好ましい。

現像液供給装置Ｍ６では、フィルタ２００の立ち上げが完了した後に、現像液の供給（現像液供給ノズルＮからの吐出）を開始した場合、吐出と次の吐出の間の期間中は、現像液を循環系路２０１内で循環させるとよい。これにより、滞留している現像液に対してフィルタ２００の膜が溶出すること等を防ぐことができるためである。

なお、現像液供給装置Ｍ６は、フィルタ立ち上げ装置Ｍ１における浄化フィルタ清浄化工程と同様の工程のために、浄化フィルタ２０９を通過した現像液を循環系路２０１内を循環させずにノズルＮを介して系外に排出する排液管２７３が設けられている。排液管２７３の一端は、循環配管２７１における浄化フィルタ２０９と循環切替弁２１７との間に接続されており、他端は、現像液供給管２７０における循環配管２７１の接続部と切替弁２７２との間に接続されている。この排液管２７３に排液弁を設けてもよい。

現像液供給装置に対しても、上述の第１〜第５の実施形態の構成を組み込むことができる。

本発明の他の実施形態は、現像液供給装置に着脱可能に取り付けられる治具ユニットであって、上述の浄化フィルタ２０９が取り付けられ配管を有し、該配管は、当該治具ユニットが現像液供給装置に取り付けられたときに循環配管２７１の一部を構成するものである。この治具ユニットは、図１７において、点線で囲まれた部分Ｕにあたる。図示したように、この治具ユニットは、フィルタ２００を通過した現像液を浄化フィルタ２０９を通過させずに循環系路２０１の系外に排出する排液管２１８も含むことが好ましい。また、この治具ユニットの配管は、現像液供給装置内の配管に取付け、取外しが自在に構成されている。

以上の実施の形態では、処理液が現像液である場合を例に説明したが、処理液にどのような液を用いるかは本実施の形態の内容に限定されるものではなく、処理液として例えばレジスト液を用いてもよく、本発明は、レジスト液供給装置等にも適用することができる。

以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施の形態について説明したが、本発明はかかる例に限定されない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。

本発明は基板上に処理液を塗布する技術に有用である。

Ｐ１、Ｐ２…ポンプ
Ｐ１１…貯留室
Ｐ１２…圧力室
Ｍ１〜Ｍ５…フィルタ立ち上げ装置
１…基板処理システム
２００（２００ａ〜２００ｃ）…立ち上げフィルタ
２０１…循環系路
２０１ａ…上流側配管
２０１ｂ…下流側配管
２０７…現像液供給源
２０９…浄化フィルタ
２１０…流量測定機構
２３０…液中パーティクルカウンタ
２４０…シンナー供給源
２７０…現像液供給管
２７１…循環配管

Claims (20)

1. 基板の処理液中の異物を除くフィルタを清浄化するための液体が循環する循環系路と、該循環系路に前記液体を供給するポンプと、を備え、
   前記循環系路には、前記フィルタと前記液体を浄化する浄化フィルタとが、前記ポンプ、前記フィルタ、前記浄化フィルタの順に前記液体が通過するよう取り付けられ、
   前記循環系路は、当該循環系路外の系で使用するのに先立って前記フィルタを清浄化する立ち上げ処理時に、前記フィルタ及び前記浄化フィルタが取り付けられた状態で、所定の条件を満たすまで前記液体を循環させて、前記フィルタへ通液させるように構成されたことを特徴とする、フィルタ立ち上げ装置。
2. 前記液体は前記処理液であることを特徴とする、請求項１に記載のフィルタ立ち上げ装置。
3. 前記液体は前記処理液と異なることを特徴とする、請求項１に記載のフィルタ立ち上げ装置。
4. 前記液体は前記処理液と他の溶液との混合液であることを特徴とする、請求項３に記載のフィルタ立ち上げ装置。
5. 前記処理液又は前記液体を脱気する脱気機構と、
   前記液体の循環後に、前記脱気機構によって前記循環時よりも脱気された前記処理液又は前記液体を前記フィルタに通液する高脱気液供給機構と、を備えることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか１項に記載のフィルタ立ち上げ装置。
6. 前記循環系路内の前記液体に含まれる不純物を検出する検出装置と、
   該検出装置での検出結果に基づいて前記所定の条件を満たすか否か判定し、この判定結果に基づいて、前記液体を循環させることを自動的に終了する制御部と、を備えることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか１項に記載のフィルタ立ち上げ装置。
7. 前記液体を循環させる前に前記液体を前記浄化フィルタに通液し、該通液した液体を前記循環系路内で循環させずに排出する排液管を備えることを特徴とする、請求項１〜６のいずれか１項に記載のフィルタ立ち上げ装置。
8. 前記液体を循環させる前に前記液体を前記フィルタに通液し、該通液した溶液を前記浄化フィルタを通さずに且つ前記循環系路内で循環させずに排出する他の排液管を備えることを特徴とする、請求項１〜７のいずれか１項に記載のフィルタ立ち上げ装置。
9. 前記循環系路は、複数の前記フィルタが並列に取り付けられ、該複数のフィルタに対し同時に前記液体が通液可能なように構成されたことを特徴とする、請求項１〜８のいずれか１項に記載のフィルタ立ち上げ装置。
10. 基板に処理液を供給するノズルに接続された処理液供給管を備え、該処理液供給管が、前記ノズルに前記処理液を供給するポンプを有し、前記処理液供給管における前記ポンプと前記ノズルとの間に前記処理液中の異物を除くフィルタが取り付けられる処理液供給装置であって、
    前記フィルタに通液された処理液を浄化するための浄化フィルタが取り付けられる循環配管を備え、
    該循環配管は、前記ポンプ、前記フィルタ、前記浄化フィルタの順に前記処理液が通過し循環する循環系路を形成するよう、前記処理液供給管に接続され、
    前記循環系路は、前記フィルタを清浄化する立ち上げ処理の際、前記フィルタ及び前記浄化フィルタが取り付けられた状態で、所定の条件を満たすまで前記処理液を循環させ、前記フィルタに通液させるように構成されたことを特徴とする、処理液供給装置。
11. 前記循環系路内を循環する前記処理液に含まれる不純物を検出する検出装置と、
    該検出装置での検出結果に基づいて前記所定の条件を満たすか否か判定し、この判定結果に基づいて前記立ち上げ処理を自動的に終了する制御部と、を備えることを特徴とする、請求項１０に記載の処理液供給装置。
12. 前記処理液を循環させる前に前記処理液を前記浄化フィルタに通液し、該通液した処理液を前記循環系路内で循環させずに排出する排液管を備えることを特徴とする、請求項１０または１１に記載の処理液供給装置。
13. 前記処理液を循環させる前に前記処理液を前記フィルタに通液し、該通液した処理液を前記浄化フィルタを通さずに且つ前記循環系路内で循環させずに排出する他の排液管を備えることを特徴とする、請求項１０〜１２のいずれか１項に記載の処理液供給装置。
14. 請求項１０〜１３のいずれか１項に記載の処理液供給装置に着脱自在に取り付けられる治具ユニットであって、
    前記浄化フィルタが設けられた配管を有し、
    該配管は、当該治具ユニットが前記処理液供給装置に取り付けられたときに前記循環系路を形成することを特徴とする、治具ユニット。
15. 前記処理液を循環させる前に前記処理液を前記フィルタに通液し、該通液した処理液を前記浄化フィルタを通さずに且つ前記循環系路内で循環させずに排出する排液管を有することを特徴とする、請求項１４に記載の治具ユニット。
16. 基板に処理液を供給するノズルに接続された処理液供給管を備え、該処理液供給管が、前記ノズルに前記処理液を供給するポンプを有し、前記処理液供給管における前記ポンプと前記ノズルとの間に前記処理液中の異物を除くフィルタが取り付けられる処理液供給装置におけるフィルタの立ち上げ方法であって、
    前記処理液供給装置は、前記フィルタに通液された処理液を浄化するための浄化フィルタが取り付けられる配管を備え、該配管は、前記ポンプ、前記フィルタ、前記浄化フィルタの順に前記処理液が通過し、循環する循環系路を形成するよう前記処理液供給管に接続され、
    当該フィルタの立ち上げ方法は、
    前記循環系路を形成する前記配管に前記浄化フィルタを取り付けるステップと、
    前記循環系路を形成する前記処理液供給管に前記フィルタを取り付けるステップと、
    前記循環系路に前記処理液を供給し、所定の条件を満たすまで前記循環系路内で前記処理液を循環させ、前記フィルタに通液するステップと、を含むことを特徴とする、フィルタの立ち上げ方法。
17. 前記フィルタに通液するステップは、
    前記循環系路内を循環する前記処理液に含まれる不純物を検出するステップと、
    該検出するステップでの検出結果に基づいて前記所定の条件を満たすか否か判定し、この判定結果に基づいて、前記フィルタに通液するステップを自動的に終了するステップと、を含むことを特徴とする、請求項１６に記載のフィルタの立ち上げ方法。
18. 前記フィルタに通液するステップの前に、前記処理液を前記浄化フィルタに通液し、該通液した処理液を前記循環系路内で循環させずに排出するステップを含むことを特徴とする、請求項１６または１７に記載のフィルタの立ち上げ方法。
19. 前記フィルタに通液するステップの前に、前記処理液を前記フィルタに通液し、該通液した処理液を前記浄化フィルタを通さずに且つ前記循環系路内で循環させずに排出するステップを含むことを特徴とする、請求項１６〜１８のいずれか１項に記載のフィルタの立ち上げ方法。
20. 前記浄化フィルタを取り付けるステップは、治具ユニットを用いて前記配管に前記浄化フィルタを取り付けるステップであり、
    前記治具ユニットは、前記浄化フィルタが設けられていると共に、当該治具ユニットが前記処理液供給装置に取り付けられたときに前記循環系路を形成する配管と、前記処理液を循環させる前に前記処理液を前記フィルタに通液し、該通液した処理液を前記浄化フィルタを通さずに且つ前記循環系路内で循環させずに排出する排液管と、を有することを特徴とする、請求項１６に記載のフィルタの立ち上げ方法。