JP4737115B2 - 薄膜磁気デバイス - Google Patents
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- 薄膜コイルと、
前記薄膜コイルの延在面上に積層され、積層面内に磁化容易軸および磁化困難軸を有することにより一軸異方性を示すと共に前記磁化困難軸方向に沿って延在する複数の帯状磁性膜と
を備え、
前記帯状磁性膜は、この帯状磁性膜の幅方向の両端に対配置しつつ帯状磁性膜の長手方向に沿って並んだ複数の第1の磁区を有する
ことを特徴とする薄膜磁気デバイス。 - 前記帯状磁性膜は、一対の前記第1の磁区間に挟まれつつ前記帯状磁性膜の長手方向に沿って並んだ第2の磁区を有する
ことを特徴とする請求項1に記載の薄膜磁気デバイス。 - 薄膜コイルと、
前記薄膜コイルの延在面上に積層され、積層面内に磁化容易軸および磁化困難軸を有することにより一軸異方性を示すと共に、前記磁化困難軸方向に沿って延びる複数のスリットが形成された磁性膜と
を備え、
前記磁性膜のうちの前記複数のスリット間に挟まれた帯状領域に、複数の第1の磁区が前記帯状領域の幅方向の両端に対配置しつつ前記帯状領域の長手方向に沿って並んでいる
ことを特徴とする薄膜磁気デバイス。 - 前記磁性膜のうちの前記帯状領域に、第2の磁区が一対の前記第1の磁区間に挟まれつつ前記帯状領域の長手方向に沿って並んでいる
ことを特徴とする請求項3に記載の薄膜磁気デバイス。 - 前記第1の磁区は、前記帯状磁性膜または前記帯状領域の長手方向に磁化されている
ことを特徴とする請求項1ないし請求項4のいずれか1項に記載の薄膜磁気デバイス。 - 前記第2の磁区は、前記帯状磁性膜または前記帯状領域の幅方向に磁化されている
ことを特徴とする請求項5に記載の薄膜磁気デバイス。 - 前記帯状磁性膜または前記帯状領域に占める前記第1の磁区の面積比が、12%以下である
ことを特徴とする請求項1ないし請求項6のいずれか1項に記載の薄膜磁気デバイス。
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JP2002252115A (ja) * | 2001-02-26 | 2002-09-06 | Alps Electric Co Ltd | インピーダンス素子及びその製造方法 |
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JPH0765316A (ja) * | 1993-06-15 | 1995-03-10 | Sony Corp | 磁気ヘッド |
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- 2007-02-27 JP JP2007047171A patent/JP4737115B2/ja active Active
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