JP4677986B2 - ノズル部材、露光方法、露光装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
本願は、2004年4月19日に出願された特願2004−123253号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
また、露光を行う際には、解像度と同様に焦点深度(DOF)も重要となる。解像度R、及び焦点深度δはそれぞれ以下の式で表される。
R=k1・λ/NA … (1)
δ=±k2・λ/NA2 … (2)
ここで、λは露光波長、NAは投影光学系の開口数、k1、k2はプロセス係数である。(1)式、(2)式より、解像度Rを高めるために、露光波長λを短くして、開口数NAを大きくすると、焦点深度δが狭くなることが分かる。
本発明の露光装置(EX)は、投影光学系(PL)と液体(LQ)とを介して露光光(EL)を基板(P)上に照射することによって、基板(P)を露光する露光装置において、投影光学系(PL)の像面側に配置された基板(P)表面と略平行に液体(LQ)を吹き出す供給口(13)を有し、投影光学系(PL)の像面側に液体(LQ)を供給する液体供給機構(10)を備えたことを特徴とする。
したがって、液浸領域のうち少なくとも投影光学系の端面と物体との間、すなわち露光光の光路上に気体部分(気泡)が生成される不都合を防止することができ、気体部分のない液浸領域を迅速に形成することができる。したがって、スループットを向上できるとともに、高い露光精度及び計測精度を得ることができる。
また本発明の露光装置(EX)は、液体(LQ)を介して露光光(EL)を基板(P)上に照射することによって、基板(P)を露光する露光装置において、物体(P)の上方で物体表面と略平行に液体(LQ)を供給可能な供給口(13)を有する液体供給機構(10)と、露光光(EL)の光路に対して供給口(13)よりも離れた位置に配置され、物体(P)の上方から物体(P)上の液体を回収可能な回収口(23)を有する液体回収機構(20)とを備えたことを特徴とする。
本発明によれば、液体供給機構は供給口より基板の表面と略並行に液体を供給するので、供給された液体が物体に及ぼす力を抑制することができる。したがって、高い露光精度、計測精度を得ることができる。
本発明によれば、液浸領域を良好に形成して高い露光精度及び計測精度を得ることができるので、所望の性能を有するデバイスを製造することができる。
図1において、露光装置EXは、マスクMを支持するマスクステージMSTと、基板Pを支持する基板ステージPSTと、マスクステージMSTに支持されているマスクMを露光光ELで照明する照明光学系ILと、露光光ELで照明されたマスクMのパターン像を基板ステージPSTに支持されている基板Pに投影露光する投影光学系PLと、露光装置EX全体の動作を統括制御する制御装置CONTとを備えている。
なお、以下の説明においては、一例として、ノズル部材70と基板Pとが対向している場合について説明するが、基板P以外の他の物体(例えば、基板ステージPSTの上面など)がノズル部材70と対向している場合も同様である。
フォーカス・レベリング検出系80の投光部81は、基板P表面に投影光学系PLの光軸AXに対して所定の入射角で検出光Laを照射する。投光部81から射出された検出光Laは、第1光学部材83に照射され、ノズル部材70の下面70Aに形成された凹部78の+Y側を向く内側面79Yの開口部79Kを通過し、基板P上の液体LQを介して基板P上に斜め方向から入射角で照射される。基板P上で反射した検出光Laの反射光は、ノズル部材70の下面70Aに形成された凹部78の−Y側を向く内側面79Yの開口部79Kを通過し、第2光学部材84を通過した後、受光部82に受光される。ここで、フォーカス・レベリング検出系80の投光部81は、基板P上に複数の検出光Laを照射する。これにより、フォーカス・レベリング検出系80は、基板P上における例えばマトリクス状の複数の各点(各位置)での各フォーカス位置を求めることができ、求めた複数の各点でのフォーカス位置に基づいて、基板P表面のZ軸方向の位置情報、及び基板PのθX及びθY方向の傾斜情報を検出することができる。
マスクMがマスクステージMSTにロードされるとともに、基板Pが基板ステージPSTにロードされた後、基板Pの走査露光処理を行うに際し、制御装置CONTは液体供給機構10を駆動し、基板P上に対する液体供給動作を開始する。液浸領域AR2を形成するために液体供給機構10の液体供給部11から供給された液体LQは、図7Aに示すように、供給管12及び供給流路14を流通した後、供給口13より投影光学系PLの像面側に供給される。
このように、制御装置CONTは、排気機構90の排気部91を駆動し、投影光学系PLの投影領域AR1の近傍に配置された吸引口98を介して、投影光学系PLの像面側の気体の排出を行いながら、液浸領域AR2を形成するための液体供給機構10による液体供給を開始する。
したがって、供給された液体LQにより基板Pや基板ステージPSTが変形を生じる等の不都合を防止することができる。したがって、高い露光精度及び計測精度を得ることができる。
したがって、液体LQを液滴状態にして回収するとき、液滴径を可能な限り小さくし、発生する振動を高周波にすることが有効である。そこで、回収口23に多孔部材30を配置することで、多孔部材30の孔36を通過した液体LQを、径の小さい液滴に変換することができる。
また、特開平11−135400号公報や特開2000−164504号公報に開示されているように、基板を保持する基板ステージと基準マークが形成された基準部材や各種センサを搭載した計測ステージとを備えた露光装置にも本発明を適用することができる。
また、上述の実施形態においては、光透過性の基材上に所定の遮光パターン(又は位相パターン・減光パターン)を形成した光透過型マスクを用いているが、このマスクに替えて、例えば米国特許第6,778,257号公報に開示されているように、露光すべきパターンの電子データに基づいて透過パターン又は反射パターン、あるいは発光パターンを形成する電子マスクを用いてもよい。
また、上述の実施形態においては、投影光学系PLを使ってパターン像を基板P上に投影することによって基板を露光しているが、国際公開第2001/035168号パンフレットに開示されているように、干渉縞を基板P上に形成することによって、基板P上にライン・アンド・スペースを露光する露光装置(リソグラフィシステム)にも本発明を適用することができる。この場合、投影光学系PLを使わなくても良い。
マスクステージMSTの移動により発生する反力は、投影光学系PLに伝わらないように、特開平8−330224号公報(US S/N 08/416,558)に記載されているように、フレーム部材を用いて機械的に床(大地)に逃がしてもよい。
Claims (40)
- 投影光学系と液体とを介して露光光を基板上に照射することによって、前記基板を露光する露光装置に備えられるノズル部材であって、
前記投影光学系の像面側に配置された前記基板表面と略平行に前記液体を吹き出す供給口と、
前記投影光学系の先端部の近傍において前記基板表面が対向するように配置され、前記基板上の液体を回収する回収口と、を備えるノズル部材。 - 前記供給口は、前記基板表面に対して所定距離だけ離れて、前記基板表面の上方で液体供給を行うように配置されている請求項1記載のノズル部材。
- 前記供給口は、前記基板の上方で、前記基板の表面と略平行に液体を供給し、
前記回収口は、前記露光光の光路に対して前記供給口よりも離れた位置に配置され、前記基板の上方から前記基板上の液体を回収可能である請求項1又は2記載のノズル部材。 - 投影光学系と液体とを介して露光光を基板上に照射することによって、前記基板を露光する露光装置に備えられるノズル部材であって、
前記基板の上方で、前記物体表面と略平行に液体を供給可能な供給口と、
前記露光光の光路に対して前記供給口よりも離れた位置に配置され、前記基板の上方から前記基板上の液体を回収可能な回収口と、を備えるノズル部材。 - 前記回収口は、前記基板と対向するように配置される請求項4記載のノズル部材。
- 前記基板の表面が対向する下面に設けられた凹部と、
前記凹部の周りに設けられた平坦面と、を備え、
前記平坦面は、前記凹部と前記回収口との間に設けられている請求項1〜5のいずれか一項記載のノズル部材。 - 前記凹部は内側面を有し、
前記供給口は、前記内側面に設けられている請求項6記載のノズル部材。 - 前記投影光学系の終端部の光学素子を配置可能な穴部を備え、
前記投影光学系の先端部が前記凹部に露出される請求項6又は7記載のノズル部材。 - 前記平坦面は、前記基板の表面が対向するように配置され、
前記投影光学系の終端部の光学素子の液体接触面と前記基板の表面との距離は、前記平坦面と前記基板の表面との距離よりも長い請求項6〜8のいずれか一項記載のノズル部材。 - 前記回収口は、前記凹部の外側に環状に形成されている請求項6〜9のいずれか一項記載のノズル部材。
- 前記平坦面の周囲に設けられた凹部をさらに備え、
前記回収口は、前記平坦面の周囲に形成された前記凹部に設けられている請求項6〜10のいずれか一項記載のノズル部材。 - 前記投影光学系の投影領域に対して前記回収口の外側に設けられた環状の凸部を備え、
前記平坦面と前記凸部との間に、前記回収口が設けられた前記凹部が形成されている請求項11記載のノズル部材。 - 前記凸部の下面と前記基板との距離は、前記平坦面と前記基板との距離とほぼ同じである請求項12記載のノズル部材。
- 前記回収口は、多孔部材を介して前記液体を回収する請求項1〜13のいずれか一項記載のノズル部材。
- 前記回収口に接続された回収流路を備え、
前記回収流路は、前記回収口に接続された環状流路と、前記環状流路の一部に接続されたマニホールド流路とを有する請求項1〜14のいずれか一項記載のノズル部材。 - 前記回収口は、前記基板上の液体を、その周囲の気体とともに回収する請求項1〜15のいずれか一項記載のノズル部材。
- 前記露光装置において、前記基板は走査方向に移動しながら露光され、
前記供給口は、前記投影光学系の投影領域に対して前記走査方向の一方側に配置される請求項1〜16のいずれか一項記載のノズル部材。 - 前記供給口は、前記走査方向と直交する非走査方向に2つ配置される請求項17記載のノズル部材。
- 前記非走査方向における前記供給口どうしの間隔は、前記投影領域の長さより長い請求項18記載のノズル部材。
- 前記基板を露光するときに、前記供給口からの前記液体の供給と前記回収口からの前記液体の回収を並行して行うことにより、前記投影光学系と前記基板との間に、前記基板よりも小さく、前記投影光学系の投影領域よりも大きい液浸領域を局所的に形成する請求項1〜19のいずれか一項記載のノズル部材。
- 請求項1〜19のいずれか一項記載のノズル部材の前記供給口からの液体供給と、前記ノズル部材の前記回収口からの液体回収を並行して行うことにより、投影光学系と基板との間に、前記基板よりも小さく、前記投影光学系の投影領域よりも大きい液浸領域を局所的に形成することと、
前記投影光学系と前記液浸領域の液体を介してパターン像を前記基板上に投影することによって前記基板を露光することと、
を含む露光方法。 - 投影光学系と
請求項1〜20のいずれか一項記載のノズル部材と、を備え、
前記ノズル部材の前記供給口から供給された液体と前記投影光学系とを介して基板を露光する露光装置。 - 前記ノズル部材は、前記投影光学系の終端部の光学素子の周りを囲むように配置される請求項22記載の露光装置。
- 前記ノズル部材の内側面と前記光学素子の側面との間隙に配置されたシール部材を備える請求項22又は23記載の露光装置。
- 前記回収口から回収された液体と気体とを分離する気液分離器を備えた請求項22〜24のいずれか一項記載の露光装置。
- 投影光学系と液体とを介して露光光を基板上に照射することによって、前記基板を露光する露光装置において、
前記投影光学系の像面側に配置された前記基板表面と略平行に前記液体を吹き出す供給口を有し、前記投影光学系の像面側に液体を供給する液体供給機構と、
前記投影光学系の先端部の近傍において前記基板表面が対向するように配置され、前記基板上の液体を回収する回収口を有する液体回収機構と、を備えたことを特徴とする露光装置。 - 前記供給口は、前記基板表面に対して所定距離だけ離れて、前記基板表面の上方で液体供給を行うように配置されていることを特徴とする請求項26記載の露光装置。
- 前記投影光学系の像面側に配置された前記基板表面とほぼ直交するように前記供給口の近傍に形成された内側面を有する壁部を備え、
前記供給口は、前記壁部の内側面に向かって前記液体を吹き出すことを特徴とする請求項26又は27記載の露光装置。 - 前記供給口は、渦流が形成されるように前記液体を吹き出すことを特徴とする請求項26〜28のいずれか一項記載の露光装置。
- 前記渦流の中心付近に吸引口が形成されていることを特徴とする請求項26〜29のいずれか一項記載の露光装置。
- 前記吸引口は、前記投影光学系の像面側の気体及び液体の少なくとも一方を吸引可能である請求項26〜30のいずれか一項記載の露光装置。
- 前記吸引口から排気を行うことによって、前記投影光学系の像面側の液体中に気体が混入するのを防止することを特徴とする請求項30又は31一項記載の露光装置。
- 前記吸引口は、前記投影光学系の端面よりも鉛直方向に関して高い位置に配置されていることを特徴とする請求項30〜32のいずれか一項記載の露光装置。
- 液体を介して露光光を基板上に照射することによって、前記基板を露光する露光装置において、
物体の上方で、該物体表面と略平行に液体を供給可能な供給口を有する液体供給機構と、
前記露光光の光路に対して前記供給口よりも離れた位置に配置され、前記物体の上方から前記物体上の液体を回収可能な回収口を有する液体回収機構とを備えたことを特徴とする露光装置。 - 前記回収口には、多孔部材が配置されている請求項34記載の露光装置。
- 前記露光光が通過する光学系を有し、
前記光学系は、前記供給口から供給された液体と接触する端面を有する請求項34又は35記載の露光装置。 - 前記物体と対向するように、且つ前記露光光の光路を取り囲むように配置された平坦面をさらに備えた請求項36記載の露光装置。
- 前記光学系は、前記平坦面と前記物体との距離が、前記光学系の端面と前記物体との距離よりも小さくなるように配置される請求項37記載の露光装置。
- 前記光学系の端面近傍に吸気口が配置されていることを特徴とする請求項36〜38のいずれか一項記載の露光装置。
- 請求項22〜請求項39のいずれか一項記載の露光装置を用いて基板を露光することを含むデバイス製造方法。
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