JP4642658B2 - 直径のそろった単層カーボンナノチューブの製造方法 - Google Patents
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SWNTの製造方法としては、アーク放電法、レーザーアブレーション法、高周波プラズマ法、化学熱分解法(化学気相蒸着(CVD)法、触媒化学蒸着(CCVD)法)が知られているが、SWNTの直径制御については触媒や炉の温度を変える、不活性ガスの種類や圧力を変えるなど製造条件を調整することによって直径分布を制御することや、SWNT混合物を熱処理することによって特定の直径付近のSWNTだけを取り出そうとする学術的試みがあるものの、確実な分離にはいたっていない。
特開2001−058805は、同種又は異種のフラーレン分子の混合体と遷移金属元素またはその合金を混合して、不活性ガス雰囲気下の減圧状態で、500℃以上でCNTを生成させる方法で簡易に、高収率で製造することを主題としている。
特開2001−089117は、レーザーアブレーション法でCNTを製造する際、レーザー照射ターゲットにフラーレン等の炭素の五員環結合を含ませ、さらにターゲットに触媒を混合することによって低い温度でSWNT生成させるというものでSWNTの径の制御については記載がない。
特開2002−029717は、フラーレンあるいはCNTの少なくとも1つと非晶質炭素と混合して、加熱処理して非晶質炭素をフラーレンまたはCNTに変える炭素材料の製造方法を開示している。ある長さのCNTが得られるとの記載はあるが径については記載がない。
本発明は、CCVD法により直径の制御されたSWNTを製造することを目的とする。
まず、0.5Torr以下の真空にした反応装置の中で、1種類または1種類以上のフラーレンC2n(nはn≧18なる整数、例としてC60、C70、C76、C82など)あるいは化学修飾フラーレンを、そのフラーレンの昇華温度以上で昇華させる。
フラーレンの蒸気圧については、パンカジャバリ(Pankajavalli)、Thermochimica Acta,316(1998),101−108の表3に従来の実験データがまとめられて報告されており、表1に示す。
これを参照して、従来の実験の平均を用いると、例えば,フラーレンC60の蒸気圧は、以下の式で計算できる。
p(Torr)=7.5×108×10−9500/T(K)
フラーレン気体の分圧(すなわちフラーレンの供給速度)が適当であれば、触媒粒子表面でフラーレンが分解して遷移状態のカーボン原子または分子として表面に析出した後、規則性を持った構造が形成され、単層カーボンナノチューブとして析出することができる。これは、フラーレン分子の5員環の向きと位置によって析出するカーボンナノチューブのカイラリティが決まると考えられるためである。従って、フラーレン分子の一部をそのままの形態で触媒粒子表面に残すことができる本方法では、カイラリティが揃った単層カーボンナノチューブを生成することができる。また、本発明の方法で生成されるカーボンナノチューブは、フラーレンの分子構造の規則性を引き継いでいるため、その直径分布を狭くすることができる。
なお、本発明の方法では、粒子径の揃った触媒粒子を有する基板上に単層カーボンナノチューブの生成を行うようにしている。触媒粒子の大きさは、そこから析出する単層カーボンナノチューブの直径を決める要因であるため、触媒粒子の大きさを揃えることにより、そこから析出する単層カーボンナノチューブの直径の分布をさらに狭くすることができる。
本発明の方法では、0.5Torr以下の真空にする。好ましくは0.05Torr以下の真空状態にした反応装置の中で、1種類または1種類以上のフラーレンC2n(nはn≧18なる整数)を、そのフラーレンの昇華温度以上で昇華させる。フラーレン類の蒸発部は、エフュージョンセルか小径の石英管に置く。外部の反応管との間に大きな流動抵抗があるため、その内部の圧力は、おおよそ設定温度におけるフラーレンの蒸気圧になる。
この昇華させたフラーレン気体を整流管を用いてガイドして後流の触媒にふれさせる。図1でフラーレン気体の流れを制御する方法は、片側を封じた石英管内の閉塞側に気化させるフラーレンを置き、真空装置側に開放端を向けて、加熱気化させたフラーレンをフラーレン蒸気圧を駆動力として流動させる。
フラーレン気体の圧力の制御はその加熱温度で行うが、この温度の制御が重要である。反応装置背圧が0.05Torrであれば、フラーレンの蒸気圧として最低でも背圧と同様の0.05Torrは必要となり、660℃での加熱が必要となる。一方、背圧が0.5Torrであると、蒸気圧を0.5Torrとするには760℃での加熱が必要となる。
従って、700℃以上とするとC60の分解が進むと考えられ、フラーレンを加熱する温度には上限があり、背圧を下げ昇華温度を低くすることが好ましい。
操作温度に耐え得る基板上に、多孔質物質または無機物の酸化物を塗布または製膜させた上に1種以上の金属微粒子を担持させる。上記の昇華したフラーレンをこの基板上を通過させる。
遷移金属はFe、Co、Mo、Ni、Rh、Pd、Ptのいずれか単体、または、その混合物が好ましい。より好ましくはFe、Co、Moである。金属粒子の径は小さいほどよく、0.1μm以下が好ましく、10nm以下がより好ましく、さらには3nm以下であるものがより一層好ましい。
これらの多孔質を載せた基板または無機物の酸化膜を形成させた基板(以下基板という)はフラーレンガス流の流れ方向に対し平行に置く。もしくは、反応管内壁に沿った形に加工した板が好ましい。
生成反応開始後、所定時間経過後にこの基板を冷却する。冷却の方法は、反応管の加熱を停止して、外からファンにて室温の空気を当てて反応管を速やかに冷却し、室温到達後に該板を取り出すと板上にSWNTを得る。
この製造方法によると、直径のそろったSWNTを得ることが可能である。
[実施例1]
図1に示すように、加熱炉の中に置かれた内径26mmの石英管(反応管)の中に、内径4.5mm、長さ200mmの片側を封止した石英管にフラーレンC60500mgを封止側に詰めたものを、フラーレン部分が第一加熱炉の中央に来るように設置する。第二加熱炉内に、Fe/Co触媒微粒子(粒径1〜2nm)を担持したY型ゼオライト粒子(粒径0.3〜1μm)を均一に塗りつけた石英板を流れ方向に平行に置いた。反応管内をロータリーポンプで、0.5Torr以下の真空にした。第一加熱炉は長さ20cm、第二加熱炉は長さ30cmである。第一加熱炉を20cm石英管に沿って第二加熱炉の反対方向にずらし、フラーレンを加熱しない状態で、アルゴンを350Torr、200sccm程度で流しながら第一加熱炉を850℃、第二加熱炉を900℃に昇温した。昇温後にアルゴンを止めて再び0.5Torr以下の真空にした。その後,第一加熱炉を所定に戻してフラーレンの加熱を開始する。上記条件で10分操作を続けた後、加熱を停止し、ファンで室温の空気を当てて反応炉を冷却した。冷却後、ゼオライトを塗布した石英板を取り出し、SWNTを得た。
図2にTEM写真、図3にラマン分光スペクトルを示す。
図2から副生物がなく、径がそろったSWNTが生成していることが分かる。
図3ではグラファイト由来のピーク(1590cm−1)とSWNTに特徴的な150〜300cm−1付近のピークがみられる。また、図にはSWNTの直径とラマンシフトとの関係(Jorio et al.Phys.Rev.Lett.Vol86(2001),pp1118)
d(nm)=248/ν(cm−1)
から見積もった直径が示されてあり、ほぼ1nm程度であることが分かる。
図4に使用した装置の概略図を示す。
実施例1と同様に実施したが、背圧を0.05Torrにし、ゼオライトを塗布した石英板は反応管内壁に沿った形の半円筒型にしたものを使用した。フラーレンを封入した石英管は、直径は実施例1と同じであるが、長さを100mmとした。また、第一加熱炉の温度を680℃、第二加熱炉の温度を825℃とした。
図5に、生成したSWNTのラマン分光スペクトルを示す。
図6に使用した装置の概略図を示す。
実施例2と同様に実施したが、フラーレンを封入した石英管に熱電対を取り付け、フラーレンの昇温条件を測定した。
図7に実験開始からのフラーレンを封入した石英管の温度変化とフラーレンの蒸気圧の変化を示す。
図8、9には、生成したSWNTのTEM写真、図10にラマン分光スペクトルを示す。
実施例3と同様に実施したが、原料としてフラーレンC60に変えてフラーレンC70を用いた。
生成したSWNTのラマン分光スペクトルを図11に示す。
C60の場合と同様のSWNTが出来ているのが分かる。
図12にアルコールからCCVD法によって生成したSWNTのラマン分光スペクトル図を示す。
アルコールからのSWNTと実施例3(C60)および実施例4(C70)で生成したSWNTとの直径分布の比較をラマン分光スペクトルにより示す。アルコールからのSWNTでは、ピークの数が多く、明らかにフラーレンから生成したSWNTの直径分布は狭くなっている。
Claims (11)
- 圧力が0.5Torr以下の真空に保持された反応装置内で、少なくとも1種類の触媒金属からなる多数の微粒子が形成された基板上で単層カーボンナノチューブを製造する方法であって、少なくとも1種類のフラーレンC2n(nはn≧18なる整数)を所定の温度以上で昇華させて、分圧が制御されたフラーレン気体を生成し、このフラーレン気体を前記フラーレンの昇華温度以上に加熱された前記基板上に輸送し、前記フラーレン気体を前記触媒金属微粒子に接触させて単層カーボンナノチューブを生成することを特徴とする単層カーボンナノチューブの製造方法。
- 前記反応装置内の圧力が、0.05Torr以下であることを特徴とする請求項1に記載の単層カーボンナノチューブの製造方法。
- 前記所定の温度が、700℃以下であることを特徴とする請求項1又は2記載の単層カーボンナノチューブの製造方法。
- 前記触媒金属は、元素の周期律表の5A族、6A族および8族に属する遷移金属であることを特徴とする請求項1ないし3のいずれかに記載の単層カーボンナノチューブの製造方法。
- 前記遷移金属が、Fe、Co、Mo、Ni、Rh、Pd、Ptのいずれか一種の単体または一種以上の混合物であることを特徴とする請求項4記載の単層カーボンナノチューブの製造方法。
- 前記基板は、多孔質物質あるいは無機酸化物の少なくとも一方からなる薄膜を有し、前記微粒子は、該薄膜上に形成されていることを特徴とする請求項1ないし5項のいずれかに記載の単層カーボンナノチューブの製造方法。
- 前記多孔質物質が、無機多孔質であることを特徴とする請求項6記載の単層カーボンナノチューブの製造方法。
- 前記無機多孔質が、ゼオライトであることを特徴とする請求項7記載の単層カーボンナノチューブの製造方法。
- 前記ゼオライトが、Y型であることを特徴とする請求項8記載の単層カーボンナノチューブの製造方法。
- 前記無機酸化物が、シリコン酸化膜であることを特徴とする請求項6記載の単層カーボンナノチューブの製造方法。
- 前記微粒子の粒子径が、0.5〜10nmであることを特徴とする請求項1ないし10のいずれかに記載の単層カーボンナノチューブの製造方法。
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