JP4636265B2 - 半導体装置およびその製造方法 - Google Patents
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基体と、
前記基体の上方に設けられた絶縁層と、
前記絶縁層に設けられたコンタクトホールと、
前記コンタクトホールの内部に設けられ、前記絶縁層の上面よりも低い上面を有する第1プラグと、
前記コンタクトホールの内部であって、前記第1プラグの上方に設けられた第2プラグと、
少なくとも前記第2プラグの上方に設けられた第1電極と、
前記第1電極の上方に設けられた強誘電体層と、
前記強誘電体層の上方に設けられた第2電極と、を含み、
前記第2プラグは、タングステン層を含む。
前記第2プラグは、(200)配向((100)面に配向)していることができる。
前記第1プラグと前記第2プラグとの間には、バリア層が設けられていることができる。
前記第1プラグの上面と、コンタクトホールの側面とからなる凹部の深さ方向の長さと、幅方向の長さとの比は、1未満であることができる。
前記タングステン層は、CVD(Chemical Vapor Deposition)法で形成されていることができる。
前記第1プラグは、タングステン層を含むことができる。
図1は、本実施の形態にかかる半導体装置を模式的に示す断面図である。図1に示すように、本実施の形態に係る半導体装置は、基体10と、絶縁層12と、コンタクトホール20と、コンタクト部30と、強誘電体キャパシタ40と、を含む。
次に、本実施の形態に係る半導体装置の製造方法について図2〜図10を参照しつつ説明する。図2〜図10は、本実施の形態に係る強誘電体メモリの製造方法を模式的に示す図である。
次に、本実施の形態にかかる半導体装置の変形例について、図11を参照しつつ説明する。図11は、本変形例にかかる半導体装置を模式的に示す断面図である。なお、以下の説明では、上述の実施の形態と異なる点についてのみ説明する。
Claims (6)
- 基体と、
前記基体の上方に設けられた絶縁層と、
前記絶縁層に設けられたコンタクトホールと、
前記コンタクトホールの内部に設けられ、前記絶縁層の上面よりも低い上面を有する第1プラグと、
前記コンタクトホールの内部であって、前記第1プラグの上面と前記コンタクトホールの側面とによる凹部に設けられた第2プラグと、
少なくとも前記第2プラグの上面に設けられた第1電極と、
前記第1電極の上面に設けられた強誘電体層と、
前記強誘電体層の上面に設けられた第2電極と、
を含み、
前記第1プラグの上面は、前記コンタクトホールの側面に垂直な方向に成長した柱状結晶の断面を含み、
前記第2プラグの上面は、前記第1プラグの上面に垂直な方向に成長した柱状結晶の断面を含み、
前記第2プラグは、タングステン層を含み、
前記凹部の深さ方向の長さと、前記凹部の幅方向の長さとの比は、1未満である、半導体装置。 - 請求項1において、
前記第2プラグは、(100)面に配向している、半導体装置。 - 請求項1または2において、
前記第1プラグと前記第2プラグとの間には、バリア層が設けられている、半導体装置。 - 請求項1ないし3のいずれかにおいて、
前記第1プラグは、タングステン層を含む、半導体装置。 - 基体の上方に絶縁層を形成する工程と、
前記絶縁層にコンタクトホールを形成する工程と、
前記コンタクトホールの内部及び前記絶縁層の上方に第1導電層を形成する工程と、
前記第1導電層を研磨することにより、前記コンタクトホールの内部に第1プラグを形成し、前記第1プラグの上面と前記コンタクトホールの側面とによる凹部を形成する工程と、
前記第1プラグの上方及び前記絶縁層の上方に第2導電層を形成する工程と、
前記第2導電層を研磨することにより、前記コンタクトホールの内部であって前記第1プラグの上方にタングステン層を含む第2プラグを形成する工程と、
前記第2プラグの上面に第1電極を形成する工程と、
前記第1電極の上面に強誘電体層を形成する工程と、
前記強誘電体層の上面に第2電極を形成する工程と、
を含み、
前記凹部のアスペクト比が1未満であり、
前記第1プラグの上面は、前記コンタクトホールの側面に垂直な方向に成長した柱状結晶の断面を含み、
前記第2プラグの上面は、前記第1プラグの上面に垂直な方向に成長した柱状結晶の断面を含む、半導体装置の製造方法。 - 請求項5において、
前記第2導電層を形成する工程に先立ち、前記第1プラグの上面及び前記絶縁層の上面にバリア層を形成する工程を含む、半導体装置の製造方法。
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