JP4589890B2 - 光伝送体 - Google Patents

Description

本発明は、光伝送体に関し、より詳細には、高い透明性を有するポリ塩化ビニル系樹脂組成物からなる光伝送体に関する。

ポリ塩化ビニル樹脂、塩素化ポリ塩化ビニル樹脂及び塩化ビニルとエチレン、酢酸ビニル等との共重合樹脂は、耐酸性、耐アルカリ性、耐水性、電気絶縁性、難燃性、機械強度に優れ、管材、建材、農業用品、電子電気用品、日用品などの用途で多く使用されている。
しかし、ポリ塩化ビニル樹脂は、あまり透明性が優れたものではないため、通常は着色された状態で使用されていた。一部のポリ塩化ビニル樹脂で、透明性が改善されたものもあるが、その透明性は、せいぜい数ｍｍの厚みで光線が透過する程度のものであった。
一方、透明性に優れたポリアクリル酸系の樹脂は、光学樹脂材料として新たな用途が期待され、例えば、光ファイバーへの開発が進められている（例えば、特許文献１）。

一般に、近赤外〜赤外域（６００〜１５５０ｎｍ）で光吸収を起こす炭素−水素結合が少ない樹脂は、理論的には透明性に優れるはずである。例えば、波長６５０ｎｍにおけるポリメタクリル酸メチルの炭素−水素結合による吸収損失は９６ｄＢ／ｋｍと見積もられているのに対し、ポリ塩化ビニルの炭素−水素結合の吸収損失は７８ｄＢ／ｋｍであり、塩素化ポリ塩化ビニルに至っては、塩素含有率が大きくなるに従って吸収損失がさらに７８ｄＢ／ｋｍよりも小さくなると見積もられる。従って、ポリ塩化ビニル系樹脂であっても、透明性を向上させ、光吸収を減少させることによって、光学樹脂材料として使用することが可能である。
にもかかわらず、ラジカル重合法で工業的に生産されているポリ塩化ビニル系樹脂は、実際には透明性が優れず、光学用途への開発が実現されていないのが現状である。これは、
１）成形熱により樹脂の分岐構造等の不安定構造が基点となって脱塩酸を起こし、その結果生成する炭素−炭素二重結合が、光、特に短波長光を吸収する、
２）重合時、ポリマーがモノマーに溶解しないために生成するポリマー粒子の凝集体が光を散乱する、
３）樹脂中に存在する微結晶が光を散乱するためである。

ＷＯ９３／０８４８８号パンフレット

本発明は上記課題に鑑みなされたものであり、透明性に優れ、光学樹脂材料として許容されるポリ塩化ビニル系樹脂組成物からなる光伝送体を提供することを目的とする。

本発明の光伝送体は、塩素含有率が６２％以上７３％以下であるポリ塩化ビニル系樹脂を主成分とする樹脂組成物にジフェニルスルホン及びその誘導体から選択される化合物が配合されてなり、
該ジフェニルスルホン及びその誘導体から選択される化合物が２５重量％以下であり、かつ、ジフェニルスルホン誘導体が４，４'−ジクロロジフェニルスルホン及び３，３'，４，４'−テトラクロロジフェニルスルホンからなる群から選択される少なくとも１つである。

この光伝送体では、２００℃、３０分間加熱下での発生塩化水素量が１５０ｐｐｍ以下であるポリ塩化ビニル系樹脂を主成分とする樹脂組成物からなることが好ましい。
屈折率分布を有することが好ましい。

本発明によれば、透明性に優れ、光学樹脂材料として許容されるポリ塩化ビニル系樹脂組成物からなる光伝送体を得ることが可能となる。

本発明の光伝送体は、ポリ塩化ビニル系樹脂を主成分として含有する樹脂組成物からなる。ここで、「主成分」とは、通常、樹脂組成物中において５０重量％以上がポリ塩化ビニル系樹脂を含むことを意味するが、必ずしも５０重量％以上でなくてもよく、樹脂組成物中において最多量の成分がポリ塩化ビニル系樹脂であることをも包含する。
この樹脂組成物は、（１）ポリ塩化ビニル系樹脂を主成分として含有し、１１０〜２１０℃に存在する吸熱ピークの熱量が０ｍＪ/ｍｇ以上４．０ｍＪ/ｍｇ以下であるか、（２）塩素含有率が６２％以上７３％以下であるポリ塩化ビニル系樹脂を主成分とするか、（３）ポリ塩化ビニル系樹脂を主成分として含有し、溶解性パラメーターが７．５〜１２．０（cal/cm³）^1/2である物質を５０重量％未満で含むか、あるいはこれらの２以上、さらに、全てを備えることが好ましい。

本発明において、ポリ塩化ビニル系樹脂とは、塩化ビニルモノマー及び／又は塩化ビニルと共重合可能なモノマーを重合又は共重合して得られる（共）重合体若しくはその後塩素化物である。
塩化ビニルと共重合可能なモノマーとしては、公知のビニルモノマーのすべてが含まれ、例えば、エチレン、プロピレン、ブチレン等のα−オレフィン類：酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル等のビニルエステル類：エチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル等のビニルエーテル類：メチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸エステル類などが挙げられる。これらは単独で使用してもよく、２種類以上を併用してもよい。

本発明のポリ塩化ビニル樹脂として好適なもの、つまり、分岐構造や頭−頭構造などの不規則構造の少ないポリ塩化ビニル系樹脂は、例えば、上述した塩化ビニルモノマー及び／又は塩化ビニルと共重合可能なモノマーを、
一般式
ＺｒＸ¹Ｘ²Ｘ³Ｘ⁴
（式中、Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³、Ｘ⁴はハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、置換又は非置換アリール基、置換又は非置換アリールオキシ基等）で表されるジルコニウム化合物と、
一般式
ＡｌＹ¹Ｙ²Ｙ³
（式中、Ｙ¹、Ｙ²、Ｙ³はハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、置換又は非置換アリール基、置換又は非置換アリールオキシ基等）で表されるアルミニウム化合物又はアルキルアルミノキサンとの存在下で（共）重合するか、あるいはアルキルリチウム存在下で（共）重合することによって得ることができる。また、これらの(共)重合体は、後塩素化してもよい。

Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³、Ｘ⁴のハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素及びヨウ素原子等が挙げられる。
アルキル基としては、炭素数１〜６のものが適しており、例えば、メチル、エチル、プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｔ−ブチル等が挙げられる。
アルコキシ基としては、炭素数１〜６のものが適しており、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ｉ−プロポキシ、ｎ−ブトキシ、ｔ−ブトキシ等が挙げられる。
置換又は非置換アリール基としては、炭素数６〜９のものが適している。また、置換基としては、ハロゲン原子が挙げられる。例えば、フェニル、トリル、キシリル、クメニル、メシチル、ナフチル等、塩化フェニル、塩化トリル、塩化キシリル等が挙げられる。
置換又は非置換アリールオキシ基としては、炭素数６〜９のものが適している。また、置換基としては、ハロゲン原子が挙げられる。例えば、フェノキシ、トリルオキシ、キシルオキシ、クメニルオキシ、メシチルオキシ、ナフチルオキシ等、塩化フェノキシ、塩化トリルオキシ、塩化キシリルオキシ等が挙げられる。
なかでも、得られる塩化ビニル系樹脂の分岐構造がより少ないという点で、アルコキシ基、アリールオキシ基の４置換体であるジルコニウムアルコキシド類やジルコニウムアリールオキシド類が好ましく、さらに、Ｘ¹からＸ⁴の全てが同一の置換基であることがより好ましい。

ジルコニウム化合物としては、具体的に、ジルコニウムテトラ−ｎ−ブトキサイド、ジルコニウムテトラ−ｔ−ブトキサイド、ジルコニウムテトライソプロポキサイド等のジルコニウムアルコキシド類；ジルコニウムテトラフェノキサイド等のジルコニウムアリールオキシド類；ジシクロペンタジエニルジルコニウムジクロライド、ジシクロペンタジエニルジルコニウムジブトキサイド等のジルコノセン類；シクロペンタジエニルジルコニウムトリクロライド、シクロペンタジエニルジルコニウムトリブトキサイド、ペンタメチルシクロペンタジエニルジルコニウムトリブトキサイド、ペンタメチルシクロペンタジエニルジルコニウムトリフェノキサイド等のハーフジルコノセン類等が挙げられる。

ジルコニウム化合物の重合系内における濃度は、特に限定されないが、塩化ビニル系樹脂の重合度を確保し、残存するジルコニウム量を減少し、さらに、重合効率の向上という観点から、ジルコニウム濃度で１０^-1〜１０^-8ｍｏｌ／ｌの範囲であることが好ましい。

Ｙ¹、Ｙ²、Ｙ³としては、Ｘ¹からＸ⁴で例示したものと同様のものが挙げられる。
アルミニウム化合物としては、具体的に、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリ−ｉ−ブチルアルミニウム、トリ−ｎ−ヘキシルアルミニウム、エチルアルミニウムセスキクロライド、ジエチルアルミニウムクロライド、エチルアルミニウムジクロライド、ｉ−ブチルアルミニウムジクロライド、ジエチルアルミニウムエトキサイド等が挙げられる。

アルキルアルミノキサンとしては、例えば、メチルアルミノキサン、エチルアルミノキサン等が挙げられる。

本発明においては、得られる塩化ビニル系樹脂の生産効率や分岐構造がより少ないことから、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、エチルアルミニウムジクロライド、メチルアルミノキサンがより好ましい。これらは単独又は２種以上を併用して用いることができる。

アルミニウム化合物及び／又はアルキルアルミノキサンの重合系内における濃度は、重合収率の向上、残存する金属量増加の抑制の観点から、ジルコニウムとのモル比において、アルミニウム／ジルコニウムのモル比が１〜１０⁵の範囲であることが好ましい。

アルキルリチウムとしては、具体的に、メチルリチウム、エチルリチウム、n‐プロピルリチウム、ｉ−プロピルリチウム、ｎ−ブチルリチウム、s−ブチルリチウム、t−ブチルリチウム等が挙げられる。

アルキルリチウムの重合系内における濃度は、特に限定されないが、塩化ビニル系樹脂の重合度を確保し、残存するアルキルリチウムを減少し、さらに、重合効率の向上という観点から、アルキルリチウム濃度で１０^-1〜１０^-4ｍｏｌ／ｌの範囲であることが好ましい。

重合又は共重合は、窒素、アルゴンのような不活性ガス雰囲気下で反応容器に、塩化ビニルモノマー及び／又は塩化ビニルモノマーと、共重合可能なモノマーと、ジルコニウム化合物、アルミニウム化合物、アルキルアルミノキサンもしくはアルキルリチウムとを加えて重合反応を開始させる。任意に溶媒を加えて重合反応を行ってもよい。反応器への添加の際には溶媒等で溶解又は希釈して添加してもよい。
本発明におけるポリ塩化ビニル系樹脂として好適なものを重合する際の温度は、特に限定されるものではないが、低くなると反応速度が遅くなり、所定の収率まで重合するのに時間がかかり、高くなると停止反応、又は、連鎖反応等の副反応が進行し易くなることを考慮すると、−５０℃〜６０℃が適当である。反応圧力は、特に限定されない。

上記重合により得られた反応混合物に、メタノールや水等の失活剤を添加して、失活処理を行った後に、酸・アルカリによる脱灰処理、多孔質吸着剤による残触媒除去処理等を行うことにより、（共）重合体を得ることができる。本発明において適切に用いられるポリ塩化ビニル系樹脂は、公知の任意の方法を採用して製造することができる。例えば、通常、イオン重合方法と呼ばれる方法を好適に利用することができる。また、別の観点から、塊状重合方法、溶液重合方法等が挙げられる。なお、溶液重合を行う場合の溶剤としては、特に限定されないが、溶媒自体が重合中に変性しないものが選択される。例えば、ヘキサン、ジクロロメタン、トルエン等が挙げられる。
（共）重合体を塩素化して後塩素化物を得る方法は、公知の塩素化方法又はこれに準じた方法を用いることができ、例えば、水懸濁熱塩素化法、水懸濁光塩素化法、溶液塩素化法等が挙げられる。なお、塩素化の際に、過酸化水素のようなラジカル発生剤を添加すると、得られた後塩素化物は、主鎖に脱塩酸の基点となる構造が生成するので、可能な限り添加しないのが好ましい。ラジカル発生剤を添加する場合の添加量は、５０ｐｐｍ以下が適当である。

本発明においては、ポリ塩化ビニル系樹脂として、脱塩酸性が低く、透明性が向上する点から、後塩素化物であることが好ましく、中でも、脱塩酸性がより低いため、水懸濁熱塩素化法により得られた後塩素化物が好ましい。
本発明において、１１０〜２１０℃に存在する吸熱ピークの熱量が０ｍＪ／ｍｇ以上、４．０ｍＪ/ｍｇ以下であるということは、すなわち結晶化度が極めて低いことを意味し、ポリマー粒子の凝集体及び結晶による光散乱が小さく、透明性に優れたものであることを示す。
この吸熱ピークの熱量は、３．８ｍＪ/ｍｇ程度以下、３．６ｍＪ/ｍｇ程度以下、３．５ｍＪ/ｍｇ程度以下、３．０ｍＪ/ｍｇ程度以下、さらに２．０ｍＪ／ｍｇ程度以下であることが好ましい。結晶化度を低減させることにより、光伝送体における伝送損失、特に散乱損失を低減させることができるからである。

ポリ塩化ビニル系樹脂組成物において、１１０〜２１０℃に存在する吸熱ピークの熱量を４．０ｍＪ/ｍｇ以下にする手段は、特に限定されず、上述した（共）重合体を塩素化する方法、塩化ビニルと共重合可能なモノマーを共重合する方法、ポリ塩化ビニル系樹脂にポリ塩化ビニル系樹脂と相溶性の化合物を配合する方法等及びこれらの方法の組み合わせ等、種々の方法が挙げられる。
１１０〜２１０℃に存在する吸熱ピークの熱量は、以下の要領で測定した値のことをいう。
示差走査熱量計を用い、２０℃から２００℃まで１０℃／分で昇温し、引き続き２００℃から２０℃まで１０℃／分で降温した後、２０℃から２８０℃まで１０℃／分で昇温したときの１１０〜２１０℃に存在する吸熱ピークの熱量を測定し、試料重量で除して単位重量当りの熱量として算出した値である。

本発明において、塩素含有率が６２％以上、７３％以下であるとは、樹脂中の塩素原子が、６２〜７３重量％であり、すなわち、塩素含有量が多いことを意味する。これにより、ポリマー粒子の凝集体及び結晶構造の存在による光散乱が小さく、透明性に優れ、さらに、成形性を向上させることができる。
この塩素含有率は、６３％程度以上、６５％程度以上、６６％程度以上、７２％程度以下、７１％程度以下、７０％程度以下であることがより好ましい。
塩素含有率を増加させる方法としては、上述したような塩素化法が挙げられる。
なお、塩素含有率は、ＪＩＳ Ｋ ７２２９に準拠した方法によって測定することができる。
本発明において、溶解性パラメーター（ＳＰ値）が７．５〜１２．０（cal/cm³）^1/2である物質を用いるとは、ポリ塩化ビニル系樹脂共存系において相分離による白濁が生じず、散乱を抑制し、光伝送損失を良好に維持し得ることを意味する。

ＳＰ値は、次式により計算で求めることができる。（Hoyらの方法（POLYMER HANDBOOK, Third edition, VII/519（Wiley Interscience 社発行）を参照）。
ＳＰ＝ｄΣＧ／Ｍ
（式中、ｄ及びＭは、それぞれポリマーの密度及び分子量を示し、Ｇは、原子団、基に固有の定数（Group Molar Attraction Constant）を示す。）
ＳＰ値は、さらに、７．８程度以上、８．０程度以上、８．２程度以上、１１．８程度以下、１１．６程度以下、１１．５程度以下であることが好ましい。ポリ塩化ビニル系樹脂との均一混合を維持しながら、透明性を確保するためである。
本発明のポリ塩化ビニル系樹脂組成物には、ポリ塩化ビニル系樹脂に加えて、いわゆる、散乱抑制剤を混合することができる。ここで散乱抑制剤とは、光ファイバーの物性のひとつである、ポリ塩化ビニル系樹脂の結晶化度を低下させて、光散乱を減少させるものを意味する。なお、散乱抑制剤は、任意に粒子構造を消滅させるもの、屈折率を増減し得るものでもよい。散乱抑制剤としては、例えば、上述したＳＰ値が７．５〜１２．０（cal/cm³）^1/2の範囲であるものが挙げられる。

このような散乱抑制剤としては、例えば、アルキル基部分の炭素数が１〜８、好ましくは炭素数が１〜６であるポリ（メタ）アクリル酸アルキルエステル、ポリ（メタ）アクリル酸ベンジル、ポリ（メタ）アクリル酸フェニル、ポリ（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、ポリ（メタ）アクリル酸１−フェニルエチル、ポリ酢酸ビニル、ポリアクリロニトリル、ポリクロロスチレン等が挙げられる。特に、ポリメタクリル酸メチル（ＳＰ値：９．２（cal/cm³ ）^{1 / 2}）が好ましい。

また、エポキシ化大豆油、エポキシ化アマニ油、ポリプロピレンアジペート、ポリプロピレンセバケート、塩素化ポリエチレン、塩素化パラフィン；リン酸トリフェニル、リン酸トリエチル、リン酸トリ−２-エチルヘキシル等のリン酸エステル；アジピン酸ジ−２−エチルヘキシル、アジピン酸ジブチル、アジピン酸ジイソデシル等のアジピン酸エステル；アゼライン酸ジ−２−エチルヘキシル、アゼライン酸ジイソオクチル等のアゼライン酸エステル；セバシン酸ジ−２−エチルヘキシル、セバシン酸ジブチル等のセバシン酸エステル；二塩基酸とグリコールとを重縮合させたものを基本構造とするポリマー又はオリゴマーを用いることができる。二塩基酸としてはセバシン酸、アゼライン酸、アジピン酸、フタル酸などが挙げられる。また、グリコールとしてはプロピレングリコール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、ヘキサンジオールなどが挙げられる。さらに、フタル酸ジ−２−エチルヘキシル、フタル酸ジイソデシル、フタル酸イソトリデシル等のフタル酸エステル；ピロメリット酸オクチルエステル等のピロメリット酸エステル；トリメリット酸とアルコールとのエステル化反応で得られるエステル、すなわち、下記式（Ｉ）

（式中、Ｒ¹〜Ｒ³は、同一又は異なって、アルキル基を示す。）
で表わされるトリメリット酸エステル；旭電化製ＵＬ−６等の下記式（II）

（式中、Ｒ⁴は、任意の官能基、ｘは１〜４の整数を示す。）
で表されるジペンタエリストールエステル等を用いてもよい。なお、散乱抑制剤の候補としては、ジフェニルスルホンおよびジフェニルスルホン誘導体、ジフェニルスルフィド、ジフェニルスルホキシド等の硫黄化合物も例示される。ジフェニルスルホン誘導体としては４，４'−ジクロロジフェニルスルホン、３，３'，４，４'−テトラクロロジフェニルスルホン等が挙げられる。

ここで、Ｒ¹〜Ｒ³のアルキル基としては、それぞれ異なっていてもよいが、３つが同じであることが好ましい。また、炭素数１〜１２、さらに炭素数４〜１０のアルキル基が好ましい。
また、Ｒ⁴としては、例えば、炭素数１〜６の低級アルキル基（メチル、エチル、プロピル、ｎ−ブチル、ｔ−ブチル等）、アリール基（フェニル、トリル、キシリル、ビフェニル等）、

等が例示される。なお、置換基Ｒ⁴は、ｘが２〜４の場合には、その数に応じて２〜４価の置換基となり得る。具体的には、ｘが２、Ｒ⁴が−（ＣＨ₂）₄−である化合物が挙げられる。
トリメリット酸エステルとしては、例えば、トリメリット酸トリブチル、トリメリット酸トリ−２-エチルヘキシル、トリメリット酸トリｎ−オクチル、トリメリット酸トリイソノニル、トリメリット酸トリイソデシル等のトリメリット酸トリアルキルが挙げられる。また、トリメリット酸と複数種のアルコールとのエステルであってもよい。なかでも、トリメリット酸トリ-２-エチルヘキシル、トリメリット酸トリイソデシルが好ましい。

散乱抑制剤としては、特に、硫黄化合物（特に、ジフェニルスルホン）、リン酸エステル（特に、トリフェニルホスフェート）及びトリメリット酸エステル、ジペンタエリストールエステルが好ましい。これらは比較的屈折率が高い又は低いため（例えば、ジフェニルスルホン及びトリフェニルホスフェートの屈折率は1.630と高く、トリメリット酸エステルの屈折率は1.480〜1.490、ジペンタエリストールエステル（旭電化製ＵＬ−６）の屈折率は1.456と低い）、ポリ塩化ビニル系樹脂組成物の屈折率を増減して、適当な値に調節することができるからである。

このような散乱抑制剤の添加は、ポリ塩化ビニル系樹脂組成物中に、５０重量％未満とすることが適当である。ポリ塩化ビニル系樹脂の特性を優勢に維持するためである。
特に、硫黄化合物、リン酸エステル、トリメリット酸エステル及び／又はジペンタエリストールエステルをポリ塩化ビニル系樹脂組成物に含有させる場合には、２５重量％以下で含有させることが好ましい。これにより、ポリ塩化ビニル系樹脂組成物のガラス転移点を適当な値に維持し、必要な強度を確保することができる。

また、散乱抑制剤を配合する際に、二種類以上の屈折率の異なる化合物を配合してもよい。この二種類以上の化合物の中に、ベースとなる樹脂組成物の屈折率と比較して、高屈折率の化合物及び低屈折率の化合物が含まれることが好ましい。このような高屈折率の化合物及び低屈折率の化合物を併用することにより、高屈折率の化合物のみ又は低屈折率の化合物のみを配合した場合と比較して、これと同じ屈折率差を得るために樹脂組成物に配合させる散乱抑制剤の添加量を相対的に少なくすることができる。このため、ガラス転移点が相対的に高くなり、これによって得られる光伝送体の耐熱性を向上させることができる。

この場合には、次式で定義される換算重合度が４００以上１０００以下の範囲となることが好ましい。さらに好ましくは５００以上８００以下の範囲である。必要な強度が確保しつつ、成形を容易にするためである。
換算重合度＝ポリ塩化ビニル系樹脂の重合度×（ポリ塩化ビニル系樹脂の配合比率／（ポリ塩化ビニル系樹脂の配合比率／１．５）＋散乱抑制剤の配合比率）／１．５
なお、上記式中の散乱抑制剤は、上に例示したものうち、硫黄化合物、リン酸エステル、トリメリット酸エステル及び／又はジペンタエリストールエステルであることが特に好ましい。

散乱抑制剤としては、上述したＳＰ値が７．５〜１２．０（cal/cm³）^1/2である物質のいずれかを単独で又は複数種組み合わせて用いてもよい。また、この範囲を外れるＳＰ値を有する散乱抑制剤及び／又はいわゆるドーパントを組み合わせて用いてもよい。

本発明においては、ポリ塩化ビニル系樹脂は、２００℃、３０分間、加熱下での発生塩化水素量が１５０ｐｐｍ以下となるものであることが好ましい。成形時に炭素−炭素二重結合の生成を抑制し、光吸収を低減させるためである。

発生塩化水素量の測定方法は、以下の通りである。
先ず、ポリ塩化ビニル系樹脂１ｇを試験管に供給し、チューブ付き耐熱性ゴム栓で密閉し、２００℃オイルバスに試験管を下から２／３浸漬して加熱する。試験管から発生するガスをチューブを通して１００ｍｌのイオン交換水で２０分間捕集する。捕集開始から２０分後にイオン交換水のｐＨを測定し、捕集開始前のイオン交換水のｐＨとの差から塩化水素の発生量を算出する。

本発明の光伝送体を構成するポリ塩化ビニル系樹脂組成物においては、ポリ塩化ビニル系樹脂の特長である耐酸性、耐アルカリ性、耐水性、電気絶縁性、難燃性、機械強度を損なわない範囲で、必要に応じて、配合剤、例えば、熱安定剤、熱安定化助剤、滑剤、加工助剤、耐熱向上剤、酸化防止剤、光安定剤等を配合してもよい。これら配合剤は、塩化ビニル系樹脂を成形する際に使用されているものであれば、その種類は限定されず、それぞれ、単独又は２種以上を組み合わせて用いることができる。

熱安定剤としては、例えば、ジメチル錫メルカプト、ジブチル錫メルカプト、ジオクチル錫メルカプト、ジブチル錫マレート、ジブチル錫マレートポリマー、ジオクチル錫マレート、ジオクチル錫マレートポリマー、ジブチル錫ラウレート、ジブチル錫ラウレートポリマー等の有機錫系安定剤、ステアリン酸鉛、二塩基性亜リン酸鉛、三塩基性硫酸鉛等の鉛系安定剤、カルシウム−亜鉛系安定剤、バリウム−亜鉛系安定剤、バリウム−カドミウム系安定剤等が挙げられる。

安定化助剤としては、例えば、エポキシ化大豆油、エポキシ化アマニ豆油エポキシ化テトラヒドロフタレート、エポキシ化ポリブタジエン、リン酸エステル等が挙げられる。
滑剤としては、内部滑剤及び外部滑剤が挙げられる。内部滑剤は、熱成形加工時に溶融樹脂の流動粘度を低下し、摩擦発熱を防止する目的で添加される滑剤であり、例えば、ラウリルアルコール、ステアリルアルコール、ステアリン酸、ブチルステアレート、グリセリンモノステアレート、エポキシ化大豆油、ビスアミド等が挙げられる。外部滑剤は、熱成形加工時に溶融樹脂と金型表面との滑り効果を高める目的で添加される滑剤であり、例えば、モンタン酸ワックス、パラフィンワックス、ポリエチレンワックス、エステルワックス等が挙げられる。

加工助剤としては、例えば、重量平均分子量１０万〜２００万のアルキルアクリレート−アルキルメタクリレート共重合体であるアクリル系加工助剤が挙げられ、具体例としては、ｎ−ブチルアクリレート−メチルメタクリレート共重合体、２−エチルヘキシルアクリレート−メチルメタクリレート−ブチルメタクリレート共重合体等が挙げられる。
耐熱向上剤としては、例えば、α−メチルスチレン系、Ｎ−フェニルマレイミド系等の耐熱向上剤が挙げられる。

酸化防止剤としては、例えば、フェノール系抗酸化剤等が挙げられる。
光安定剤としては、例えば、ヒンダードアミン系の光安定剤等が挙げられる。
配合物とポリ塩化ビニル系樹脂組成物とを混合する方法は特に限定されず、例えば、ホットブレンド法、コールドブレンド法、溶液混合法等が挙げられる。

本発明の光伝送体の成形方法は特に限定されないが、成形時にできる限り熱エネルギーがかからない成形方法が、光吸収要因となる二重結合の生成を抑制するために好ましい。
例えば、本発明のポリ塩化ビニル系樹脂組成物をテトラヒドロフラン等の有機溶剤に溶解した溶液を作製し、その溶液をキャストすることにより成形する方法が挙げられる。
押出成形法、射出成形法、ブロー成形法、ロール成形法、カレンダー成形法、プレス成形法等の生産性に優れた従来公知の方法で成形する場合は、特に、上記２００℃、３０分間加熱下での発生塩化水素量が１５０ｐｐｍ以下であるポリ塩化ビニル系樹脂組成物を用いることが好ましく、分岐構造や頭−頭構造などの不規則構造の少ないポリ塩化ビニル系樹脂を主成分とする樹脂組成物を用いることがより好ましい。
二重結合の生成を抑制するために、ＳＰ値が７．５〜１２．０（cal/cm³）^1/2である低分子量の物質を５０重量％未満混合し、可塑化効果により成形温度下げる方法も有効である。

本発明のポリ塩化ビニル系樹脂組成物は、異物を含まないことが好ましい。異物の除去方法は特に限定されないが、ポリ塩化ビニル系樹脂組成物をテトラヒドロフラン等の有機溶剤に溶解した溶液を濾過後、脱溶媒することによる方法などが挙げられる。これらの方法はクリーンルーム内で行なうことが好ましい。
濾過に用いるフィルターの材質としては、アルミナセラミックス、ポリテトラフルオロエチレンなどが挙げられるが、濾過精度、耐薬品性などからアルミナセラミックスが好ましい。
濾過は主フィルターのみを１回以上通過させれば充分な効果が得られるが、多段濾過または循環濾過を行なうことが好ましい。フィルターの細孔径は０．１μｍ以下であれば充分な効果が得られる。濾過速度と異物除去率について高い効果が得られることから、０．０５μｍ程度の細孔径を有するフィルターを用いることが好ましい。

脱溶剤の方法は、特に限定されず、噴霧乾燥法、脱揮口付押出機を用いる方法などが挙げられる。
本発明のポリ塩化ビニル系樹脂の重合度は特に限定されないが、５００以上１０００以下が機械物性と成形性のバランスに優れているので好ましい。
さらに、本発明の光伝送体は、屈折率分布を有することが好ましい。ここで、屈折率分布とは、光伝送体の特定の方向に沿って、屈折率が変化する領域を意味する。例えば、屈折率分布型光ファイバーの屈折率分布は、ファイバーの中心から半径方向に向かって屈折率が放物線に近い曲線で、あるいは一定幅で段階的に低下している。

屈折率の調節方法は特に限定されず、塩素含有率を変化させる方法、ＳＰ値が７．５〜１２．０（cal/cm³）^1/2である物質の屈折率及びその混合比率で調節する方法、トリメリット酸エステルの配合比率で調節する方法、硫黄化合物（例えば、ジフェニルスルホン）及び／又はリン酸エステル（例えば、トリフェニルホスフェート）の配合比率で調節する方法等が挙げられる。
屈折率分布を有する光伝送体を形成する方法としては、当該分野で公知の方法を利用することができる。例えば、配合組成を変化させながら多層押出する方法、キャスト法等が例示される。
多層押出する場合、屈折率がベースとなる樹脂組成物よりも高い及び低い２種の化合物の混合物を用いて各層の総添加剤濃度をほぼ等しくすると、各層の溶融粘度をほぼ等しくできるので、各層界面の平滑性制御が容易となる。

本発明の光伝送体は、この光伝送体よりも屈折率の低い他材料からなるクラッド層で覆われていてもよい。
以下、本発明の光伝送体の実施態様を詳細に説明するが、本発明は下記の例に限定されるものではない。
（実施例１）
攪拌装置及びリフラックスコンデンサーを備えた、５０リットルのジャケット付きステンレススチール製重合器を脱気した後、リフラックスコンデンサーからスチームを吹き込んで重合器内を８０℃に昇温し、５０℃の脱イオン水２５０００ｇ、３％溶液部分鹸化ポリビニルアルコール４００ｇ、３％ヒドロキシプロピルメチルセルロース２００ｇを供給した。その後、反応槽内を水蒸気圧＋０．０１ｋＰａまで脱気し、攪拌しながら、塩化ビニルモノマー１５ｋｇを供給した。次いで、ベンゾイルパーオキサイド５ｇを重合器内に供給後、７７℃に昇温して重合を行った。

重合器内の温度が７７℃に到達した時点でリフラックスコンデンサーの運転を開始し、重合器内の温度を７７℃に維持した。
重合器内の圧力が１．１ＭＰａに低下した時点で、ジャケットに水を流して重合器内を冷却しながら、未反応の塩化ビニルモノマーを除去した。得られた樹脂を脱イオン水で洗浄し、脱水・乾燥して、粉末状の重合度５５０の塩化ビニル樹脂を得た。
得られたポリ塩化ビニル樹脂を、撹拌機を備えたジャケット付きグラスライニング製耐圧反応槽に、脱イオン水と共に供給し、攪拌してポリ塩化ビニル樹脂を脱イオン水中に分散しながら、真空ポンプで反応槽内の空気を吸引し、−７８．４ｋＰａになるまで減圧し、窒素ガスを常圧になるまで供給した。次いで、再度真空ポンプで吸引し反応槽内の酸素を除去した。

加熱したオイルをジャケットに供給して加熱し、反応槽内を７０℃まで昇温した。反応槽内の温度が７０℃に達した時点から塩素ガスを供給し始め、１１０℃に設定して塩素化反応を進めた。反応槽内の発生塩化水素濃度を測定し、ポリ塩化ビニル樹脂の塩素含有率を計算し、塩素含有率が６４．３重量％になった時点で塩素ガスの供給を停止した。
次いで、未反応の塩素ガスを除去し、得られた樹脂を脱イオン水で洗浄し、脱水・乾燥して粉末状の塩素含有率６４．３％、重合度５５０の塩素化ポリ塩化ビニル樹脂を得た。
同様にして、塩素含有率がそれぞれ６６．５％、６８．３％、７０．０％の重合度５５０の塩素化ポリ塩化ビニル樹脂を得た。

塩素含有率６４．３％、重合度５５０の塩素化ポリ塩化ビニルの樹脂濃度１０重量％テトラヒドロフラン溶液（溶液Ａ）、塩素含有率６６．５％、重合度５５０の塩素化ポリ塩化ビニルの樹脂濃度１０重量％テトラヒドロフラン溶液（溶液Ｂ）、塩素含有率６８．３％、重合度５５０の塩素化ポリ塩化ビニルの樹脂濃度１０重量％テトラヒドロフラン溶液（溶液Ｃ）、塩素含有率７０．０％、重合度５５０の塩素化ポリ塩化ビニルの樹脂濃度１０重量％テトラヒドロフラン溶液（溶液Ｄ）をそれぞれ調製し、それぞれ細孔径０．０５μｍのアルミナセラミックス製フィルターで濾過を行った。

その後、中心軸のまわりに回転する内径２０ｍｍの円筒状容器内にチューブポンプを用いて溶液Ａを供給・乾燥を繰り返して円筒状容器内面に厚み１ｍｍ堆積させ、続いて溶液Ｂを同様に供給・乾燥を繰り返して２ｍｍ堆積させ、次に溶液Ｃを同様に供給・乾燥を繰り返して３ｍｍ堆積させ、最後に溶液Ｄを同様に供給・乾燥を繰り返して３．５ｍｍ堆積させて、直径２０ｍｍ、長さ４５０ｍｍの屈折率分布を有する光ファイバーのプリフォームを得た。

得られたプリフォームを、１４０℃に設定された円筒型加熱機に供給し、中心空洞部を減圧しながら加熱延伸して直径０．６ｍｍの屈折率分布を有する光ファイバーを得た。
得られた光ファイバーを切り出して、１１０〜２１０℃に存在する吸熱ピークの熱量及び伝送損失を測定した。その結果を表１に示す。

なお、１１０〜２１０℃に存在する吸熱ピークの熱量は、セイコー電子工業社製示差走査熱量計で測定した（以下、同じ）。光ファイバーの伝送損失は、Ｏｃｅａｎ Ｏｐｔｉｃｓ社製スペクトロメーター及び白色光源を用いカットバック法により測定した（以下、同じ）。
また、樹脂の塩素含有率は、ＪＩＳ Ｋ ７２２９に準拠して測定した。

（実施例２）
攪拌装置及びリフラックスコンデンサーを備えた、５０リットルのジャケット付きステンレススチール製重合器を脱気した後、リフラックスコンデンサーからスチームを吹き込んで重合器内を８０℃に昇温し、５０℃の脱イオン水２５０００ｇ、３％溶液部分鹸化ポリビニルアルコール３００ｇ、３％ヒドロキシプロピルメチルセルロース１５０ｇを供給した。その後、反応槽内を水蒸気圧＋０．０１ｋＰａまで脱気し、攪拌しながら、塩化ビニルモノマー１５ｋｇを供給した。次いで、ｔ−ブチルパーオキシピバレート５ｇを重合器内に供給後、７２℃に昇温して重合を行った。重合器内の温度が７２℃に到達した時点でリフラックスコンデンサーの運転を開始し、重合器内の温度を７２℃に維持した。

重合器内の圧力が０．９ＭＰａに低下した時点で、ジャケットに水を流して重合器内を冷却しながら、未反応の塩化ビニルモノマーを除去した後、得られた樹脂を脱イオン水で洗浄し、脱水・乾燥して粉末状の重合度６４０の塩化ビニル樹脂（塩素含有率５６．８％）を得た。
得られたポリ塩化ビニルの樹脂濃度１０重量％テトラヒドロフラン溶液（溶液Ｅ）、ポリメタクリル酸メチル（ＳＰ値：９．２（cal/cm³ ）^{1 / 2}）の樹脂濃度１０重量％テトラヒドロフラン溶液（溶液Ｆ）、を作製し、それぞれ細孔径０．０５μｍのアルミナセラミックス製フィルターで濾過を行った。

その後、溶液Ｅと溶液Ｆとを瞬間混合機で混合しながら、中心軸のまわりに回転する内径２０ｍｍの円筒状容器内にチューブポンプを用いて供給・乾燥を繰り返して、中心に直径１ｍｍの空洞部を有する直径２０ｍｍ、長さ４５０ｍｍの屈折率分布を有する光ファイバーのプリフォームを得た。
なお、最初、溶液Ｅと溶液Ｆを６：４の割合で供給・乾燥し、次第に溶液Ｆの供給量を減少し、減少した分だけ溶液Ｅを添加して最終８：２の割合で供給・乾燥した。
得られたプリフォームを、１３０℃に設定された円筒型加熱機に供給し、中心空洞部を減圧しながら加熱延伸して直径０．６ｍｍの屈折率分布を有する光ファイバーを得た。
得られた光ファイバーを切り出して、実施例１と同様に評価した。

（実施例３）
ジャケット付きオートクレーブのジャケットに７０℃の温水を通し、オートクレーブ内を真空ポンプで３０分間減圧して、充分に脱水乾燥した後室温まで冷却した。冷却後、減圧下のオートクレーブに、脱水処理した塩化メチレン、ジルコニウムテトラ−ｎ−ブトキサイドの１０重量％トルエン溶液、メチルアルミノキサンの１０重量％トルエン溶液を、順次シリンジでゴム栓を通して注入後、モレキュラーシーブで充分に脱水した塩化ビニルモノマーを注入し、２０℃に調整して２４時間重合した。

重合終了後、オートクレーブから未反応の塩化ビニルモノマーを排出した後、メタノールを供給して反応を失活させた後に重合器から取り出し、メタノールを除去してポリ塩化ビニル樹脂分を真空下で乾燥させた。乾燥したポリ塩化ビニル系樹脂をテトラヒドロフランに投入して溶解後、粉状ゼオライトを投入して１時間撹拌後、０．５μｍのＰＴＦＴフィルターで濾別した。濾液を撹拌下のメタノール中に投入し、ポリ塩化ビニル系樹脂を析出させた後、メタノール中からポリ塩化ビニル系樹脂を濾別した。大量のメタノールで洗浄後、乾燥して粉末状のポリ塩化ビニル樹脂を得た。

得られたポリ塩化ビニル樹脂を、撹拌機を備えたジャケット付きグラスライニング製耐圧反応槽に、脱イオン水と共に供給し、攪拌してポリ塩化ビニル樹脂を脱イオン水中に分散しながら、真空ポンプで反応槽内の空気を吸引し、−７８．４ｋＰａになるまで減圧し、窒素ガスを常圧になるまで供給した。次いで、再度真空ポンプで吸引し反応槽内の酸素を除去した。

加熱したオイルをジャケットに供給して加熱し、反応槽内を７０℃まで昇温した。反応槽内の温度が７０℃に達した時点から塩素ガスを供給し始め、１１０℃に設定して塩素化反応を進めた。反応槽内の発生塩化水素濃度を測定し、ポリ塩化ビニル樹脂の塩素含有率を計算し、塩素含有率が６６．０重量％になった時点で塩素ガスの供給を停止した。
次いで、未反応の塩素ガスを除去し、得られた樹脂を脱イオン水で洗浄し、脱水・乾燥して粉末状の重合度５５０の塩素化ポリ塩化ビニル樹脂を得た。この塩素化ポリ塩化ビニル樹脂の２００℃、３０分間加熱下での発生塩化水素量は、８７ｐｐｍであった。
得られた塩素化ポリ塩化ビニル樹脂の樹脂濃度１０重量％テトラヒドロフラン溶液を作製し、細孔径０．０５μｍのアルミナセラミックス製フィルターで濾過を行ったのち、噴霧乾燥法により脱溶剤して異物を除去した粉末状の塩素化ポリ塩化ビニル樹脂を得た。

得られた異物除去塩素化ポリ塩化ビニル樹脂を内径１８ｍｍのコア層に、ポリメタクリル酸メチルを厚み１ｍｍのクラッド層となるように１９０℃に設定された２台の単軸押出機及び２層金型を用いて成形して直径２０ｍｍの光ファイバーのプリフォームを得た。
得られたプリフォームを、１４０℃に設定された円筒型加熱機に供給し、加熱延伸して直径０．６ｍｍの光ファイバーを得た。
得られた光ファイバーのコア部分を切り出して、実施例１と同様に評価した。

なお、樹脂の発生塩化水素量は、塩化ビニル系樹脂１ｇを試験管に供給し、チューブ付き耐熱性ゴム栓で密閉し、２００℃オイルバスに試験管を下から２／３浸漬して加熱し、試験管から発生するガスをチューブを通して１００ｍｌのイオン交換水で３０分間捕集し、捕集開始から３０分後にイオン交換水のｐＨを測定し、捕集開始前のイオン交換水のｐＨとの差から、算出した（以下、同じ）。

（実施例４）
攪拌装置及びリフラックスコンデンサーを備えた、５０リットルのジャケット付きステンレススチール製重合器を脱気した後、リフラックスコンデンサーからスチームを吹き込んで重合器内を８０℃に昇温し、５０℃の脱イオン水２５０００ｇ、３％溶液部分鹸化ポリビニルアルコール３００ｇ、３％ヒドロキシプロピルメチルセルロース１５０ｇを供給した。その後、反応槽内を水蒸気圧＋０．０１ｋＰａまで脱気し、攪拌しながら、塩化ビニルモノマー１５ｋｇを供給した。次いで、ｔ−ブチルパーオキシネオデカノエート５ｇを重合器内に供給後、６２℃に昇温して重合を行った。重合器内の温度が６２℃に到達した時点でリフラックスコンデンサーの運転を開始し、重合器内の温度を６２℃に維持した。

重合器内の圧力が０．８ＭＰａに低下した時点で、ジャケットに水を流して重合器内を冷却しながら未反応の塩化ビニルモノマーを除去した後、得られた樹脂を脱イオン水で洗浄し、脱水・乾燥して粉末状の重合度８６０の塩化ビニル樹脂を得た。
得られたポリ塩化ビニル樹脂を、撹拌機を備えたジャケット付きグラスライニング製耐圧反応槽に、脱イオン水と共に供給し、攪拌してポリ塩化ビニル樹脂を脱イオン水中に分散しながら、真空ポンプで反応槽内の空気を吸引し、−７８．４ｋＰａになるまで減圧し、窒素ガスを常圧になるまで供給した。次いで、再度真空ポンプで吸引し反応槽内の酸素を除去した。

加熱したオイルをジャケットに供給して加熱し、反応槽内を７０℃まで昇温した。反応槽内の温度が７０℃に達した時点から塩素ガスを供給し始め、１１０℃に設定して塩素化反応を進めた。反応槽内の発生塩化水素濃度を測定し、ポリ塩化ビニル樹脂の塩素含有率を計算し、塩素含有率が６８．０重量％になった時点で塩素ガスの供給を停止した。
次いで、未反応の塩素ガスを除去し、得られた樹脂を脱イオン水で洗浄し、脱水・乾燥して粉末状の塩素含有率６８．０％、重合度８６０の塩素化ポリ塩化ビニル樹脂を得た。
得られた塩素化ポリ塩化ビニルの樹脂濃度１０重量％テトラヒドロフラン溶液（溶液Ｇ）を作製し、細孔径０．０５μｍのアルミナセラミックス製フィルターで濾過を行った。

その後、溶液Ｇとトリメリット酸トリ-2-エチルヘキシル（ＳＰ値：８．９（cal/cm³）^1/2）を瞬間混合機で混合しながら、中心軸のまわりに回転する内径２０ｍｍの円筒状容器内にチューブポンプを用いて供給・乾燥を繰り返して、中心に直径１ｍｍの空洞部を有する直径２０ｍｍ、長さ４５０ｍｍの屈折率分布を有する光ファイバーのプリフォームを得た。

なお、最初、溶液Ｇとトリメリット酸トリ-2-エチルヘキシルを７５：２．５の割合で供給・乾燥し、次第にトリメリット酸トリ-2-エチルヘキシルの供給量を減少し、減少した分の１０倍量の溶液Ｇを添加して最終９０：１の割合で供給・乾燥した。
周辺部から中心部に向かって、トリメリット酸トリ-2-エチルヘキシル配合比率（重量％）は２５から１０に、換算重合度は５７０から７４０に変化している。
得られたプリフォームを、１１０℃に設定された円筒型加熱機に供給し、中心空洞部を減圧しながら加熱延伸して直径０．６ｍｍの屈折率分布を有する光ファイバーを得た。
得られた光ファイバーを切り出して、実施例１と同様に評価した。

（実施例５）
ジャケット付きオートクレーブのジャケットに７０℃の温水を通し、オートクレーブ内を真空ポンプで３０分間減圧して、充分に脱水乾燥した後室温まで冷却した。冷却後、減圧下のオートクレーブに、脱水処理した塩化メチレン、ジルコニウムテトラ−ｎ−ブトキサイドの１０重量％トルエン溶液、メチルアルミノキサンの１０重量％トルエン溶液を順次シリンジでゴム栓を通して注入し、モレキュラーシーブで充分に脱水した塩化ビニルモノマーを注入し、２０℃に調整して４８時間重合した。

重合終了後、オートクレーブから未反応の塩化ビニルモノマーを排出し、メタノールを供給して反応を失活させた後に重合器から取り出し、メタノールを除去してポリ塩化ビニル樹脂分を真空下で乾燥させた。乾燥したポリ塩化ビニル系樹脂をテトラヒドロフランに投入して溶解し、粉状ゼオライトを投入して１時間撹拌後、０．５μｍのＰＴＦＴフィルターで濾別した。濾液を撹拌下のメタノール中に投入し、ポリ塩化ビニル系樹脂を析出させた。メタノール中からポリ塩化ビニル系樹脂を濾別し、大量のメタノールで洗浄し、乾燥して粉末状のポリ塩化ビニル樹脂を得た。

得られたポリ塩化ビニル樹脂を、撹拌機を備えたジャケット付きグラスライニング製耐圧反応槽に、脱イオン水と共に供給し、攪拌してポリ塩化ビニル樹脂を脱イオン水中に分散しながら、真空ポンプで反応槽内の空気を吸引し、−７８．４ｋＰａになるまで減圧し、窒素ガスを常圧になるまで供給した。次いで、再度真空ポンプで吸引し反応槽内の酸素を除去した。

加熱したオイルをジャケットに供給して加熱し、反応槽内を７０℃まで昇温した。反応槽内の温度が７０℃に達した時点から塩素ガスを供給し始め、１１０℃に設定して塩素化反応を進めた。反応槽内の発生塩化水素濃度を測定し、ポリ塩化ビニル樹脂の塩素含有率を計算し、塩素含有率が６７．７重量％になった時点で塩素ガスの供給を停止した。
次いで、未反応の塩素ガスを除去し、得られた樹脂を脱イオン水で洗浄し、脱水・乾燥して粉末状の重合度７３０の塩素化ポリ塩化ビニル樹脂を得た。この塩素化ポリ塩化ビニル樹の２００℃、３０分間加熱下での発生塩化水素量は、７６ｐｐｍであった。

得られた塩素化ポリ塩化ビニル樹脂を８重量％及びトリメリット酸トリイソデシル（ＳＰ値：８．４（cal/cm³）^1/2）を２重量％を含むテトラヒドロフラン溶液を作製し、細孔径０．０５μｍのアルミナセラミックス製フィルターで濾過を行ったのち、噴霧乾燥法により脱溶剤して異物を除去した粉末状の塩素化ポリ塩化ビニル樹脂組成物を得た。
得られた異物除去塩素化ポリ塩化ビニル樹脂組成物を内径１８ｍｍのコア層に、ポリメタクリル酸メチルを厚み１ｍｍのクラッド層となるように１９０℃に設定された２台の単軸押出機、及び２層金型を用いて成形して直径が２０ｍｍであり、コア層のトリメリット酸トリイソデシル配合比率が２０重量％、換算重合度が５３０である光ファイバーのプリフォームを得た。

得られたプリフォームを、１４０℃に設定された円筒型加熱機に供給し、加熱延伸して直径０．６ｍｍの光ファイバーを得た。
得られた光ファイバーのコア部分を切り出して、実施例１と同様に評価した。

（実施例６）
実施例４で得られた塩素化ポリ塩化ビニルの樹脂濃度１０重量％テトラヒドロフラン溶液（溶液Ｇ）を作製し、細孔径０．０５μｍのアルミナセラミックス製フィルターで濾過を行った。
その後、トリフェニルホスフェート（ＳＰ値：８．６（cal/cm³）^1/2）を溶液Ｇに溶解させながら、中心軸のまわりに回転する内径２０ｍｍの円筒状容器内にチューブポンプを用いて供給・乾燥を繰り返して、中心に直径１ｍｍの空洞部を有する直径２０ｍｍ、長さ４５０ｍｍの屈折率分布を有する光ファイバーのプリフォームを得た。

なお、最初、溶液Ｇとトリフェニルホスフェートを９０：１の割合で供給・乾燥し、次第に溶液Ｇの供給量を減少し、減少した分の１／１０量だけトリフェニルホスフェートを添加して最終７５：２．５の割合で供給・乾燥した。
周辺部から中心部に向かって、トリフェニルホスフェート配合比率は１０から２５重量％に、換算重合度は７４０から５７０に変化している。
得られたプリフォームを、１１０℃に設定された円筒型加熱機に供給し、中心空洞部を減圧しながら加熱延伸して直径０．６ｍｍの屈折率分布を有する光ファイバーを得た。
得られた光ファイバーを切り出して、実施例１と同様に評価した。

（実施例７）
攪拌装置及びリフラックスコンデンサーを備えた、５０リットルのジャケット付きステンレススチール製重合器を脱気した後、リフラックスコンデンサーからスチームを吹き込んで重合器内を８０℃に昇温し、５０℃の脱イオン水２５０００ｇ、３％溶液部分鹸化ポリビニルアルコール３００ｇ、３％ヒドロキシプロピルメチルセルロース１５０ｇを供給した。その後、反応槽内を水蒸気圧＋０．０１ｋＰａまで脱気後、攪拌しながら、塩化ビニルモノマー１５ｋｇを供給した。次いで、ｔ−ブチルパーオキシピバレート５ｇを重合器内に供給後、６９℃に昇温して重合を行った。重合器内の温度が６９℃に到達した時点でリフラックスコンデンサーの運転を開始し、重合器内の温度を６９℃に維持した。

重合器内の圧力が０．９ＭＰａに低下した時点で、ジャケットに水を流して重合器内を冷却しながら、未反応の塩化ビニルモノマーを除去した後、得られた樹脂を脱イオン水で洗浄し、脱水・乾燥して粉末状の重合度６９０の塩化ビニル樹脂を得た。
得られたポリ塩化ビニル樹脂を、撹拌機を備えたジャケット付きグラスライニング製耐圧反応槽に、脱イオン水と共に供給し、攪拌してポリ塩化ビニル樹脂を脱イオン水中に分散しながら、真空ポンプで反応槽内の空気を吸引し、−７８．４ｋＰａになるまで減圧し、窒素ガスを常圧になるまで供給した。次いで、再度真空ポンプで吸引し反応槽内の酸素を除去した。

加熱したオイルをジャケットに供給して加熱し、反応槽内を７０℃まで昇温した。反応槽内の温度が７０℃に達した時点から塩素ガスを供給し始め、１１０℃に設定して塩素化反応を進めた。反応槽内の発生塩化水素濃度を測定し、ポリ塩化ビニル樹脂の塩素含有率を計算し、塩素含有率が６３．８重量％になった時点で塩素ガスの供給を停止した。
次いで、未反応の塩素ガスを除去し、得られた樹脂を脱イオン水で洗浄し、脱水・乾燥して粉末状の塩素含有率６３．８％、重合度６９０の塩素化ポリ塩化ビニル樹脂を得た。
得られた塩素化ポリ塩化ビニル８．３重量％及びジフェニルスルホン１．７重量％を含むテトラヒドロフラン溶液を調製し、細孔径０．０５μｍのアルミナセラミックス製フィルターで濾過を行ったのち、噴霧乾燥法により脱溶剤して異物を除去した粉末状の塩素化ポリ塩化ビニル樹脂組成物を得た。

得られた異物除去塩素化ポリ塩化ビニル樹脂組成物を内径１８ｍｍのコア層に、ポリメタクリル酸メチルを厚み１ｍｍのクラッド層となるように、それぞれ１５０℃及び１９０℃に設定された２台の単軸押出機、及び２層金型を用いて成形して直径が２０ｍｍであり、コア層のジフェニルスルホン配合比率が１７重量％、換算重合度が５３０である光ファイバーのプリフォームを得た。
得られたプリフォームを、９０℃に設定された円筒型加熱機に供給し、加熱延伸して直径０．６ｍｍの光ファイバーを得た。
得られた光ファイバーのコア部分を切り出して、実施例１と同様に評価した。

（実施例８）
ジャケット付きオートクレーブのジャケットに７０℃の温水を通し、オートクレーブ内を真空ポンプで３０分間減圧して、充分に脱水乾燥した後室温まで冷却した。冷却後、減圧下のオートクレーブに、脱水処理した塩化メチレン、ｔ−ブチルリチウムの１．６mol％ｎ−ペンタン溶液を、順次シリンジでゴム栓を通して注入し、さらに、モレキュラーシーブで充分に脱水した塩化ビニルモノマーを注入し、２０℃に調整して２４時間重合した。

重合終了後、オートクレーブから未反応の塩化ビニルモノマーを排出した後、メタノールを供給して反応を失活させた。その後、重合器から取り出し、メタノールを除去してポリ塩化ビニル樹脂分を真空下で乾燥させた。乾燥したポリ塩化ビニル系樹脂をテトラヒドロフランに投入して溶解後、０．５μｍのＰＴＦＴフィルターで濾別した。濾液を撹拌下のメタノール中に投入し、ポリ塩化ビニル系樹脂を析出させた後、メタノール中からポリ塩化ビニル系樹脂を濾別した。大量のメタノールで洗浄後、乾燥して粉末状のポリ塩化ビニル樹脂を得た。

得られたポリ塩化ビニル樹脂を、撹拌機を備えたジャケット付きグラスライニング製耐圧反応槽に、脱イオン水と共に供給し、攪拌してポリ塩化ビニル樹脂を脱イオン水中に分散しながら、真空ポンプで反応槽内の空気を吸引し、−７８．４ｋＰａになるまで減圧し、窒素ガスを常圧になるまで供給した。次いで、再度真空ポンプで吸引し、反応槽内の酸素を除去した。

加熱したオイルをジャケットに供給して加熱し、反応槽内を７０℃まで昇温した。反応槽内の温度が７０℃に達した時点から塩素ガスを供給し始め、１１０℃に設定して塩素化反応を進めた。反応槽内の発生塩化水素濃度を測定し、ポリ塩化ビニル樹脂の塩素含有率を計算し、塩素含有率が６６．０重量％になった時点で塩素ガスの供給を停止した。
次いで、未反応の塩素ガスを除去し、得られた樹脂を脱イオン水で洗浄し、脱水・乾燥して粉末状の重合度６７０の塩素化ポリ塩化ビニル樹脂を得た。この塩素化ポリ塩化ビニル樹脂の２００℃、３０分間加熱下での発生塩化水素量は、１２８ｐｐｍであった。

得られた塩素化ポリ塩化ビニル樹脂８．５重量％及びトリメリット酸トリ-２-エチルヘキシル（ＳＰ値：８．９（cal/cm³）^1/2）１．５重量％を含むテトラヒドロフラン溶液を作製し、細孔径０．０５μｍのアルミナセラミックス製フィルターで濾過を行った。その後、噴霧乾燥法により脱溶剤して異物を除去した粉末状の塩素化ポリ塩化ビニル樹脂組成物を得た。
得られた異物除去塩素化ポリ塩化ビニル樹脂組成物を内径１８ｍｍのコア層に、ポリメタクリル酸メチルが厚み１ｍｍのクラッド層となるように１９０℃に設定された２台の単軸押出機及び２層金型を用いて成形し、直径が２０ｍｍであり、コア層のトリメリット酸トリ-２-エチルヘキシル配合比率が１５重量％、換算重合度が５３０である光ファイバーのプリフォームを得た。

得られたプリフォームを、１４０℃に設定された円筒型加熱機に供給し、加熱延伸して直径０．６ｍｍの光ファイバーを得た。
得られた光ファイバーのコア部分を切り出して、実施例１と同様に評価した。

（実施例９）
実施例４で得られた塩素化ポリ塩化ビニルの樹脂濃度１０重量％テトラヒドロフラン溶液（溶液Ｇ）を作製し、細孔径０．０５μｍのアルミナセラミックス製フィルターで濾過を行った。
その後、トリフェニルホスフェートおよび旭電化製ジペンタエリストールエステルＵＬ−６（ＳＰ値：８．６（cal/cm³）^1/2）を、溶液Ｇと（トリフェニルホスフェート量とＵＬ−６量の和）が７５：２．５になるように溶液Ｇに溶解させながら、中心軸のまわりに回転する内径２０ｍｍの円筒状容器内にチューブポンプを用いて供給・乾燥を繰り返し、直径２０ｍｍ、長さ４５０ｍｍの屈折率分布を有する光ファイバーのプリフォームを得た。

なお、配合時のトリフェニルホスフェートとＵＬ−６の割合は、最初、ＵＬ−６を１００の割合で供給・乾燥し、次第にＵＬ−６量を減少し、減少した分だけトリフェニルホスフェートを添加して最終トリフェニルホスフェートを１００の割合で供給・乾燥した。周辺部から中心部に向かってＵＬ−６は徐々に減少し、逆にトリフェニルホスフェートが増加する組成分布を有するプリフォームが得られた。

得られたプリフォームを、１１０℃に設定された円筒型加熱機に供給し、中心空洞部を減圧しながら加熱延伸して直径０．６ｍｍの屈折率分布を有する光ファイバーを得た。
得られた光ファイバーを切り出して、実施例１と同様に評価した。

（比較例１）
実施例２で得られた塩素含有率５６．８％、重合度６４０のポリ塩化ビニルの樹脂濃度１０重量％テトラヒドロフラン溶液（溶液Ｅ）を作製し、細孔径０．０５μｍのアルミナセラミックス製フィルターで濾過を行った。
その後、中心軸のまわりに回転する内径２０ｍｍの円筒状容器内にチューブポンプを用いて溶液Ｅを供給・乾燥を繰り返して、中心に直径１ｍｍの空洞部を有する直径２０ｍｍ、長さ４５０ｍｍの光ファイバーのプリフォームを得た。
得られたプリフォームを、１３０℃に設定された円筒型加熱機に供給し、中心空洞部を減圧しながら加熱延伸して直径０．６ｍｍの光ファイバーを得た。
得られた光ファイバーを切り出して、実施例１と同様に評価した。

（比較例２）
実施例５で得られた塩素化ポリ塩化ビニル樹脂７重量％及びトリメリット酸トリイソデシル２．５〜３重量％を含むテトラヒドロフラン溶液を複数調製し、実施例５と同様にして光ファイバーを作製したところ、コア層のトリメリット酸トリイソデシル配合比率（重量％）が、２６から３０と増加するにしたがって徐々に可塑変形が起こりやすくなった。

（比較例３）
実施例７で得られた塩素化ポリ塩化ビニル７重量％及びジフェニルスルホン２．５〜３重量％を含むテトラヒドロフラン溶液を複数調製し、実施例７と同様にして光ファイバーを作製したところ、コア層のジフェニルスルホン配合比率（重量％）が、２６から３０と増加するにしたがって徐々に可塑変形が起こりやすくなった。

本発明は、塩化ビニル系樹脂を使用することを期待するあらゆる分野において利用することができる。特に、高い透明性を有する分野において有用であり、例えば、光学系、具体的には、光ファイバー、光ファイバーのプリフォーム、ロッドレンズ等の各種レンズ、光導波路等に各種光デバイスの構成要素として有用である。

Claims (3)

1. 塩素含有率が６２％以上７３％以下であるポリ塩化ビニル系樹脂を主成分とする樹脂組成物にジフェニルスルホン及びその誘導体から選択される化合物が配合されてなり、
   該ジフェニルスルホン及びその誘導体から選択される化合物が２５重量％以下であり、かつ、ジフェニルスルホン誘導体が４，４'−ジクロロジフェニルスルホン及び３，３'，４，４'−テトラクロロジフェニルスルホンからなる群から選択される少なくとも１つである光伝送体。
2. ２００℃、３０分間加熱下での発生塩化水素量が１５０ｐｐｍ以下であるポリ塩化ビニル系樹脂を主成分とする樹脂組成物からなる請求項１に記載の光伝送体。
3. 屈折率分布を有する請求項１又は２に記載の光伝送体。