JP4562190B2 - 光学式異物検出装置およびこれを搭載した処理液塗布装置 - Google Patents
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Description
1a 基板の盛り上がり部
2 載置台(ステージ)
3 異物
4 光軸(光ビーム)
4a 回析光
5 投光部
6 受光部
6a 受光セル
6b 有効セル
11 処理液供給ノズル
11a 処理液供給口
11b 処理液吐出開口
13 光軸誘導体
21 セル選択手段
22 パラメータ設定手段
24 比較器(第1検出手段)
25 閾値設定手段
26 微分器
27 比較器(第2検出手段)
28 閾値設定手段
29 OR(論理和)回路
R 処理液
Claims (6)
- ステージ上に載置された被処理基板の上面に沿って光ビームを投射する投光部、および前記光ビームを受光する受光部とを含む光透過型センサユニットと、前記センサユニットを被処理基板に対して相対移動させることで、前記光ビームの光軸が被処理基板の上面に沿って平行に走査されるようになされる相対移動手段とを備えた光学式異物検出装置であって、
前記相対移動手段の駆動状態における前記受光部における光ビームの受光出力が所定値以上であるか否かを検出する第1検出手段と、前記受光出力の単位時間における変化量が所定値以上であるか否かを検出する第2検出手段とが具備され、
前記第1検出手段と第2検出手段による検出出力の論理和に基づいて、異物の存在を検知するように構成したことを特徴とする光学式異物検出装置。 - 前記受光部が多数の受光セルをマトリクス状に配列して構成され、特定の受光セルからの出力を選択して前記光ビームの受光出力として利用するように構成したことを特徴とする請求項1に記載された光学式異物検出装置。
- 前記投光部と受光部を結ぶ光ビームの直進路の少なくとも上部を覆い、前記投光部から受光部を結ぶ直進路を迂回して受光部に至る回析光を減衰させる光軸誘導体をさらに具備したことを特徴とする請求項1または請求項2に記載された光学式異物検出装置。
- ステージ上に載置された前記被処理基板に対峙して相対的に移動し、前記被処理基板に向かって処理液を吐出することで、処理液を前記基板の表面に塗布する処理液供給ノズルが備えられ、
前記被処理基板に対して相対移動する処理液供給ノズルの移動方向の前方に、前記請求項1ないし請求項3のいずれか1項に記載された光学式異物検出装置を搭載することで、前記処理液供給ノズルを前記相対移動手段として利用するように構成したことを特徴とする処理液塗布装置。 - 前記処理液供給ノズルには、前記基板の幅方向に延びるスリット状吐出開口が備えられ、処理液供給ノズルの前記スリット状吐出開口から帯状に吐出される処理液を前記基板の表面に塗布するように構成され、前記スリット状吐出開口の長手方向に平行するように、かつ前記基板の直近に沿って前記光ビームが投射されるように前記センサユニットが配置されていることを特徴とする請求項4に記載された処理液塗布装置。
- 前記光学式異物検出装置により異物の存在を検知した場合において、前記基板に対する処理液供給ノズルの相対移動が停止されるように構成したことを特徴とする請求項4または請求項5に記載された処理液塗布装置。
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