JP5081261B2 - 塗布装置 - Google Patents
塗布装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5081261B2 JP5081261B2 JP2010038481A JP2010038481A JP5081261B2 JP 5081261 B2 JP5081261 B2 JP 5081261B2 JP 2010038481 A JP2010038481 A JP 2010038481A JP 2010038481 A JP2010038481 A JP 2010038481A JP 5081261 B2 JP5081261 B2 JP 5081261B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- air supply
- suction port
- levitation
- floating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67784—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations using air tracks
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
- B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
- B65G47/00—Article or material-handling devices associated with conveyors; Methods employing such devices
- B65G47/74—Feeding, transfer, or discharging devices of particular kinds or types
- B65G47/90—Devices for picking-up and depositing articles or materials
- B65G47/91—Devices for picking-up and depositing articles or materials incorporating pneumatic, e.g. suction, grippers
- B65G47/911—Devices for picking-up and depositing articles or materials incorporating pneumatic, e.g. suction, grippers with air blasts producing partial vacuum
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
- B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
- B65G49/00—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for
- B65G49/05—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles
- B65G49/06—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles for fragile sheets, e.g. glass
- B65G49/063—Transporting devices for sheet glass
- B65G49/064—Transporting devices for sheet glass in a horizontal position
- B65G49/065—Transporting devices for sheet glass in a horizontal position supported partially or completely on fluid cushions, e.g. a gas cushion
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
- B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
- B65G51/00—Conveying articles through pipes or tubes by fluid flow or pressure; Conveying articles over a flat surface, e.g. the base of a trough, by jets located in the surface
- B65G51/02—Directly conveying the articles, e.g. slips, sheets, stockings, containers or workpieces, by flowing gases
- B65G51/03—Directly conveying the articles, e.g. slips, sheets, stockings, containers or workpieces, by flowing gases over a flat surface or in troughs
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/1303—Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
- B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
- B65G2249/00—Aspects relating to conveying systems for the manufacture of fragile sheets
- B65G2249/04—Arrangements of vacuum systems or suction cups
- B65G2249/045—Details of suction cups suction cups
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Fluid Mechanics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
Description
12 搬送機構
14 スリットノズル
16 噴出口
18 吸引口
40 レジスト供給機構
44 第1給気部
46 吸引排気部
48 第2給気部
110 コントローラ
Claims (20)
- 多数の噴出口と多数の吸引口とが混在して設けられた第1の浮上領域を有する浮上ステージと、
前記噴出口より噴き出す気体の圧力によって被処理基板を浮上させるために、前記噴出口に第1のマニホールドを介して正圧の気体を供給する第1の給気部と、
前記吸引口に気体を吸い込む吸引力によって前記基板の浮上高を制御するために、前記吸引口に第2のマニホールドを介して負圧を与える吸引排気部と、
前記浮上ステージ上で空中に浮く前記基板を保持して前記第1の浮上領域を通過するように搬送する搬送機構と、
前記第1の浮上領域の上方に配置されるノズルを有し、前記第1の浮上領域を通過する前記基板上に前記ノズルより処理液を供給する処理液供給部と、
前記吸引口の中を掃除するために、前記吸引口に前記第2のマニホールドを介して正圧の気体を供給する第2の給気部と
を有する塗布装置。 - 前記第2の給気部を作動させている間、前記第1の浮上領域の一部または全部を上から覆って、前記吸引口より噴き出す気体の中に混じっている異物を吸い取る面状の吸い取り部を有する、請求項1に記載の塗布装置。
- 前記第2の給気部を作動させている間、前記第1の浮上領域の一部または全部を上から覆って、前記吸引口より噴き出す気体の中に混じっている異物を吸着する面状の吸着部を有する、請求項1に記載の塗布装置。
- 前記面状吸着部は、前記浮上ステージ上で前記基板と同様に前記基板搬送部により搬送可能であり、前記第2の給気部の作動が開始される前または開始された直後に前記第1の浮上領域の上に持ち込まれ、前記第2の給気部の作動が終了した後に前記第1の浮上領域の上から持ち去られる、請求項3に記載の塗布装置。
- 多数の噴出口と多数の吸引口とが混在して設けられた第1の浮上領域を有する浮上ステージと、
前記噴出口より噴き出す気体の圧力によって被処理基板を浮上させるために、前記噴出口に正圧の気体を供給する第1の給気部と、
前記吸引口に気体を吸い込む吸引力によって前記基板の浮上高を制御するために、前記吸引口に負圧を与える吸引排気部と、
前記浮上ステージ上で空中に浮く前記基板を保持して前記第1の浮上領域を通過するように搬送する搬送機構と、
前記第1の浮上領域の上方に配置されるノズルを有し、前記第1の浮上領域を通過する前記基板上に前記ノズルより処理液を供給する処理液供給部と、
前記吸引口の中を掃除するために前記吸引口に正圧の気体を供給する第2の給気部と、
前記第1の浮上領域における前記基板の浮上高を浮上高設定値に一致させるように、前記第1の給気部より前記噴出口に供給する気体の圧力および前記排気部より前記吸引口に与える真空の圧力の少なくとも一方を制御する浮上高制御部と、
前記ノズルの直下またはその付近で、前記基板の搬送方向と直交する水平方向に前記浮上高設定値に応じた所定の高さで前記浮上ステージの上を横断可能に投光される光ビームを用いて、前記基板の浮上高を光学的に監視する浮上高監視部と、
前記光ビームの横断伝搬路上のどこかで前記基板の浮上高が定常的に許容値を超えていることが前記浮上高監視部により検出されたときに、前記ノズルの直下またはその付近で一部の前記吸引口が詰まっていると判定する吸引口目詰まり検出部と
を有する塗布装置。 - 前記吸引口の中を掃除する時は、前記第2の給気部を作動させて前記吸引口より気体を噴き出させると同時に、前記第1の給気部も作動させて前記噴出口より気体を噴き出させる、請求項1〜5のいずれか一項に記載の塗布装置。
- 前記吸引口の中を掃除する時は、前記第1の正圧気体供給部を停止または休止させた状態で、前記第2の給気部を作動させて前記吸引口より気体を噴き出させる、請求項1〜5のいずれか一項に記載の塗布装置。
- 前記第2の給気部は、前記第1の給気部と共通の正圧気体供給源を含む、請求項1〜7のいずれか一項に記載の塗布装置。
- 前記第1の給気部が、前記正圧気体供給源から前記噴出口まで延びる第1の給気ラインを有し、
前記排気部が、負圧発生源と、前記負圧発生源から前記吸引口まで延びる排気ラインとを有し、
前記第2の給気部が、前記給気ライン上の第1のノードから前記排気ライン上の第2のノードまで延びる第2の給気ラインを有する、
請求項8に記載の塗布装置。 - 前記第1および第2のノードの少なくとも一方に切換弁を設ける、請求項9に記載の塗布装置。
- 前記第2の給気部が、前記正圧気体供給源から前記排気ライン上の所定のノードまで延びる第2の給気ラインを有する、請求項8に記載の塗布装置。
- 前記ノードに切換弁を設ける、請求項11に記載の塗布装置。
- 前記第2の給気ライン上に開閉弁を設ける、請求項9または請求項11に記載の塗布装置。
- 前記第2の給気ライン上で前記正圧気体供給源からの正圧気体を圧縮するための圧縮タンクを有し、前記圧縮タンクにより圧縮された正圧気体を断続的かつ衝撃的に前記吸引口に供給する、請求項13に記載の塗布装置。
- 前記第2の給気部は、前記第1の給気部が用いる正圧気体供給源とは別個の正圧気体供給源を含む、請求項1〜7のいずれか一項に記載の塗布装置。
- 前記第1の浮上領域に設けられる前記吸引口を複数の組に分割し、前記第2の給気部を作動させるときは、組単位で時分割的に切り換えて前記吸引口の中を掃除する、請求項1〜15のいずれか一項に記載の塗布装置。
- 前記浮上ステージが、基板搬送方向において前記第1の浮上領域の上流側に前記基板を浮かせるための多数の噴出口を設けた第2の浮上領域を有する、請求項1〜16のいずれか一項に記載の塗布装置。
- 前記第2の浮上領域内に、前記基板を搬入するための搬入部が設けられる、請求項17に記載の塗布装置。
- 前記浮上ステージが、基板搬送方向において前記第1の浮上領域の下流側に前記基板を浮かせるための多数の噴出口を設けた第3の浮上領域を有する、請求項1〜18のいずれか一項に記載の塗布装置。
- 前記第3の浮上領域内に、前記基板を搬出するための搬出部が設けられる、請求項19に記載の塗布装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010038481A JP5081261B2 (ja) | 2010-02-24 | 2010-02-24 | 塗布装置 |
KR1020110003790A KR101790787B1 (ko) | 2010-02-24 | 2011-01-14 | 기판 반송 장치 |
TW100106051A TWI475595B (zh) | 2010-02-24 | 2011-02-23 | 基板運送裝置 |
CN2011100448870A CN102161026A (zh) | 2010-02-24 | 2011-02-24 | 基板输送装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010038481A JP5081261B2 (ja) | 2010-02-24 | 2010-02-24 | 塗布装置 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012030343A Division JP5486030B2 (ja) | 2012-02-15 | 2012-02-15 | 塗布装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011176086A JP2011176086A (ja) | 2011-09-08 |
JP5081261B2 true JP5081261B2 (ja) | 2012-11-28 |
Family
ID=44462637
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010038481A Active JP5081261B2 (ja) | 2010-02-24 | 2010-02-24 | 塗布装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5081261B2 (ja) |
KR (1) | KR101790787B1 (ja) |
CN (1) | CN102161026A (ja) |
TW (1) | TWI475595B (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012142583A (ja) * | 2012-02-15 | 2012-07-26 | Tokyo Electron Ltd | 塗布装置 |
WO2020131620A1 (en) * | 2018-12-21 | 2020-06-25 | Kateeva, Inc. | Devices, systems, and methods for controlling floatation of a substrate |
Families Citing this family (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9623423B2 (en) | 2012-01-26 | 2017-04-18 | Kohler Co. | Spray head |
JP5959914B2 (ja) * | 2012-04-18 | 2016-08-02 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理システム、基板搬送方法および記憶媒体 |
JP6033593B2 (ja) * | 2012-07-18 | 2016-11-30 | 東レエンジニアリング株式会社 | 基板搬送装置 |
JP6043123B2 (ja) * | 2012-08-22 | 2016-12-14 | オイレス工業株式会社 | 非接触支持装置及び塗布装置 |
KR101450713B1 (ko) * | 2012-12-05 | 2014-10-16 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 |
JP2014114085A (ja) * | 2012-12-06 | 2014-06-26 | Toray Eng Co Ltd | 基板浮上装置および基板浮上装置の洗浄方法 |
JP6086476B2 (ja) * | 2012-12-13 | 2017-03-01 | 東レエンジニアリング株式会社 | 基板浮上装置 |
KR102109947B1 (ko) * | 2013-01-11 | 2020-05-11 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 |
EP2991939B1 (en) * | 2013-05-03 | 2017-04-12 | Corning Incorporated | Method and apparatus for conveying a glass ribbon |
CN105564989B (zh) * | 2016-01-27 | 2018-02-23 | 上海集成电路研发中心有限公司 | 一种气垫运输装置及方法 |
CN106304830B (zh) * | 2016-10-19 | 2021-12-24 | 深圳市路远智能装备有限公司 | 一种贴装头汇流结构以及智能贴片机 |
KR101839345B1 (ko) * | 2016-10-27 | 2018-03-16 | 세메스 주식회사 | 기판 플로팅 장치 및 기판 플로팅 방법 |
CN106444110B (zh) * | 2016-11-17 | 2023-08-29 | 合肥京东方光电科技有限公司 | 基板支撑杆以及涂覆防静电液的方法 |
JP2018113327A (ja) * | 2017-01-11 | 2018-07-19 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置 |
JP6860379B2 (ja) * | 2017-03-03 | 2021-04-14 | 株式会社Screenホールディングス | 塗布装置および塗布方法 |
US9889995B1 (en) * | 2017-03-15 | 2018-02-13 | Core Flow Ltd. | Noncontact support platform with blockage detection |
US10513011B2 (en) | 2017-11-08 | 2019-12-24 | Core Flow Ltd. | Layered noncontact support platform |
KR102134161B1 (ko) * | 2018-08-23 | 2020-07-21 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 및 방법 |
CN109323988B (zh) * | 2018-11-06 | 2021-01-19 | 合肥工业大学 | 一种适于气浮***的玻璃基板检测方法 |
JP7263802B2 (ja) * | 2019-02-01 | 2023-04-25 | 株式会社リコー | 搬送装置、画像処理装置、及び画像形成装置 |
KR20220053760A (ko) | 2020-10-22 | 2022-05-02 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 및 방법 |
CN113291825A (zh) * | 2021-05-20 | 2021-08-24 | 哈尔滨工业大学 | 一种精密气浮平台 |
CN114405762A (zh) * | 2022-01-28 | 2022-04-29 | 连云港苏运新能源科技有限公司 | 一种风力发电机叶片生产的立体打胶设备及方法 |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH053139A (ja) * | 1991-06-21 | 1993-01-08 | Sharp Corp | 投影露光装置のステージのクリーニング方法 |
JPH1187458A (ja) * | 1997-09-16 | 1999-03-30 | Hitachi Ltd | 異物除去機能付き半導体製造装置 |
JP4429943B2 (ja) * | 2005-03-17 | 2010-03-10 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置及び基板処理方法 |
JP4646730B2 (ja) * | 2005-08-05 | 2011-03-09 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | プラズマ処理装置の表面異物検出装置および検出方法 |
JP4562190B2 (ja) * | 2005-09-26 | 2010-10-13 | 東京エレクトロン株式会社 | 光学式異物検出装置およびこれを搭載した処理液塗布装置 |
JP4312805B2 (ja) * | 2007-03-27 | 2009-08-12 | Okiセミコンダクタ株式会社 | 半導体製造装置とそれを用いた半導体ウェハの製造方法およびそのプログラムを記録した記録媒体 |
JP5150949B2 (ja) * | 2007-06-18 | 2013-02-27 | Nskテクノロジー株式会社 | 近接スキャン露光装置及びその制御方法 |
JP2008260591A (ja) * | 2007-04-10 | 2008-10-30 | Nippon Sekkei Kogyo:Kk | 薄板状材料搬送装置及び方法 |
JP4880521B2 (ja) * | 2007-05-29 | 2012-02-22 | 株式会社オーク製作所 | 描画装置 |
JP2008300426A (ja) * | 2007-05-29 | 2008-12-11 | Shimadzu Corp | 真空チャック |
JP2009043829A (ja) * | 2007-08-07 | 2009-02-26 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 塗布装置及び塗布方法 |
JP4942589B2 (ja) * | 2007-08-30 | 2012-05-30 | 東京応化工業株式会社 | 塗布装置及び塗布方法 |
FI20075749L (fi) * | 2007-10-24 | 2009-04-25 | Maricap Oy | Menetelmä ja laitteisto materiaalin alipainesiirtojärjestelmässä |
FI124507B (fi) * | 2007-12-21 | 2014-09-30 | Maricap Oy | Menetelmä pneumaattisessa materiaalinsiirtojärjestelmässä ja pneumaattinen materiaalinsiirtojärjestelmä |
-
2010
- 2010-02-24 JP JP2010038481A patent/JP5081261B2/ja active Active
-
2011
- 2011-01-14 KR KR1020110003790A patent/KR101790787B1/ko active IP Right Grant
- 2011-02-23 TW TW100106051A patent/TWI475595B/zh active
- 2011-02-24 CN CN2011100448870A patent/CN102161026A/zh active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012142583A (ja) * | 2012-02-15 | 2012-07-26 | Tokyo Electron Ltd | 塗布装置 |
WO2020131620A1 (en) * | 2018-12-21 | 2020-06-25 | Kateeva, Inc. | Devices, systems, and methods for controlling floatation of a substrate |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW201202115A (en) | 2012-01-16 |
KR20110097615A (ko) | 2011-08-31 |
JP2011176086A (ja) | 2011-09-08 |
TWI475595B (zh) | 2015-03-01 |
CN102161026A (zh) | 2011-08-24 |
KR101790787B1 (ko) | 2017-11-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5081261B2 (ja) | 塗布装置 | |
JP5486030B2 (ja) | 塗布装置 | |
US6446358B1 (en) | Drying nozzle and drying device and cleaning device using the same | |
JP4570545B2 (ja) | 基板処理装置及び基板処理方法 | |
JP4634265B2 (ja) | 塗布方法及び塗布装置 | |
TWI428969B (zh) | Substrate cleaning treatment device | |
JP5658858B2 (ja) | 塗布装置及び塗布方法 | |
JP4571525B2 (ja) | 基板処理装置及び基板処理方法 | |
JP4564454B2 (ja) | 塗布方法及び塗布装置及び塗布処理プログラム | |
JP4429943B2 (ja) | 基板処理装置及び基板処理方法 | |
JP2006237482A (ja) | 基板処理装置及び基板処理方法及び基板処理プログラム | |
JP4676359B2 (ja) | プライミング処理方法及びプライミング処理装置 | |
KR20070098878A (ko) | 스테이지 장치 및 도포 처리 장치 | |
KR20120107871A (ko) | 도포막 형성 장치 및 도포막 형성 방법 | |
JP5189114B2 (ja) | 基板処理装置及び基板処理方法 | |
JP5186161B2 (ja) | 塗布装置及び塗布装置のクリーニング方法 | |
CN108525941B (zh) | 涂覆装置以及涂覆方法 | |
JP5188759B2 (ja) | 塗布装置及び塗布方法 | |
JP5221508B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP4982292B2 (ja) | 塗布装置及び塗布方法 | |
JP6860357B2 (ja) | 塗布装置および塗布方法 | |
JP2009043829A (ja) | 塗布装置及び塗布方法 | |
JP2014114085A (ja) | 基板浮上装置および基板浮上装置の洗浄方法 | |
JP5789416B2 (ja) | 塗布装置及び塗布方法 | |
TWI668173B (zh) | 浮上搬送裝置及基板處理裝置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20111006 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20111220 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120215 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120215 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120828 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120831 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150907 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5081261 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |