JP4546556B2 - 真空処理装置及び真空処理方法 - Google Patents
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Description
2.試料
3.カセット
4.大気搬送手段
5.待避カセット
6.真空待避室
7.真空処理室
8.真空搬送機構
9.大気・真空雰囲気切替室
10.カセット載置機構
Claims (3)
- 試料を真空中で処理する複数の真空処理室と、
該真空処理室に試料を搬入出する真空搬送手段と、
前記真空処理室へ試料を搬入出するための大気雰囲気もしくは真空雰囲気に切り替え可能な室と、
試料を収納できる複数のカセットを載置し得るカセット載置手段と、
前記カセット載置手段に載置されるカセットとは異なる待避カセットを大気雰囲気下で載置し得る待避カセット載置手段と、
前記カセット載置手段に載置された任意のカセット内もしくは前記待避カセット載置手段に載置された待避カセット内から試料を抜き取れるように上下動可能に構成された大気搬送手段と、
前記任意のカセット内から大気搬送手段によって抜き取った未処理の試料を前記切り替え可能な室及び前記真空搬送手段を介して前記真空処理室に搬入する制御、前記真空処理室で処理された処理済試料を前記任意のカセットとは異なる待避カセットに搬送する制御、前記任意のカセット内に未処理の試料が存在しない状態で前記待避カセットから処理済試料を前記任意のカセットに戻す制御を行う制御手段とを具備したことを特徴とする真空処理装置。 - 試料を真空中で処理する複数の真空処理室と、
該真空処理室に試料を搬入出する真空搬送手段と、
前記真空処理室へ試料を搬入出するための大気雰囲気もしくは真空雰囲気に切り替え可能な室と、
試料を収納できる複数のカセットを載置し得るカセット載置手段と、
前記カセット載置手段に載置されるカセットとは異なる待避カセットを大気雰囲気下で載置し得る待避カセット載置手段と、
前記カセット載置手段に載置された任意のカセット内もしくは前記待避カセット載置手段に載置された待避カセット内から試料を抜き取れるように上下動可能に構成された大気搬送手段と、
前記任意のカセット内から大気搬送手段によって抜き取った未処理の試料を前記任意のカセットとは異なる待避カセットに搬送する制御、前記任意のカセットまたは前記待避カセット内の未処理の試料を前記切り替え可能な室及び前記真空搬送手段を介して前記真空処理室に搬入する制御、前記真空処理室で処理された処理済試料を前記試料を抜き取った未処理の試料がない状態の前記任意のカセット内に搬送する制御を行う制御手段とを具備したことを特徴とする真空処理装置。 - カセット載置手段に載置される任意のカセット内から未処理の試料を抜き取り、大気雰囲気もしくは真空雰囲気に切り替え可能な室を経由して複数の真空処理室のいずれかに搬入し、該未処理の試料を真空処理後、処理済試料を前記任意のカセット内に搬送する真空処理方法において、
前記任意のカセット内から抜き取った試料を処理中、前記任意のカセット内の未処理の試料または前記真空処理室で処理後の処理済試料のいずれかのみを大気雰囲気下に設けられた待避カセット載置手段に載置した待避カセットに待避させ、未処理の試料と処理済試料とを前記任意のカセット内で混在させないように試料を搬送し、
前記任意のカセットから抜き取って真空処理した処理済試料を待避カセットに待避させ、前記任意のカセット内に未処理の試料が存在しない状態で前記待避カセットから処理済試料を前記任意のカセットに戻すか、
前記任意のカセットから未処理の試料を抜き取り各真空処理室へ搬送し、前記任意のカセットに残された未処理の試料を抜き取り待避カセットに待避させ、前記任意のカセットまたは待避カセットから抜き取られた未処理の試料を真空処理し、前記任意のカセット内に未処理の試料が存在しない状態で前記処理済試料を前記任意のカセットに戻すことを特徴とする真空処理方法。
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Citations (9)
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---|---|---|---|---|
JPS62216315A (ja) * | 1986-03-18 | 1987-09-22 | Toshiba Mach Co Ltd | 半導体処理装置 |
JPH05275511A (ja) * | 1991-03-01 | 1993-10-22 | Tokyo Electron Ltd | 被処理体の移載システム及び処理装置 |
JPH07335708A (ja) * | 1994-06-13 | 1995-12-22 | Hitachi Ltd | 真空処理装置 |
JPH11130255A (ja) * | 1997-10-24 | 1999-05-18 | Sharp Corp | 基板搬送移載装置 |
JPH11330037A (ja) * | 1998-05-20 | 1999-11-30 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
JP2000216211A (ja) * | 2000-01-01 | 2000-08-04 | Hitachi Ltd | 真空処理装置用の基板搬送システム |
JP2001093791A (ja) * | 1999-09-20 | 2001-04-06 | Hitachi Ltd | 真空処理装置の運転方法及びウエハの処理方法 |
JP2001217295A (ja) * | 2000-02-07 | 2001-08-10 | Yaskawa Electric Corp | 半導体製造装置 |
JP2003115518A (ja) * | 2001-10-02 | 2003-04-18 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 基板処理装置 |
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Patent Citations (9)
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---|---|---|---|---|
JPS62216315A (ja) * | 1986-03-18 | 1987-09-22 | Toshiba Mach Co Ltd | 半導体処理装置 |
JPH05275511A (ja) * | 1991-03-01 | 1993-10-22 | Tokyo Electron Ltd | 被処理体の移載システム及び処理装置 |
JPH07335708A (ja) * | 1994-06-13 | 1995-12-22 | Hitachi Ltd | 真空処理装置 |
JPH11130255A (ja) * | 1997-10-24 | 1999-05-18 | Sharp Corp | 基板搬送移載装置 |
JPH11330037A (ja) * | 1998-05-20 | 1999-11-30 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
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JP2001217295A (ja) * | 2000-02-07 | 2001-08-10 | Yaskawa Electric Corp | 半導体製造装置 |
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