JP5433290B2 - 基板収納方法及び制御装置 - Google Patents
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Description
基板処理システム10は、第1のプロセスシップPS1、第2のプロセスシップPS2、第3のプロセスシップPS3、大気搬送室TM、位置合わせ機構AL、第1の基板収納容器としてのフープLP1〜LP3および第2の基板収納容器としてのフロントストレージFST(Front Storage)1、FST2を有している。
つぎに、制御装置20のハードウエア構成について説明する。制御装置20は、ROM205、RAM210、CPU215、バス220及びインタフェース225を有している。
ウエハの基本的な搬送経路について説明する。図1では、フープLP1に収納されたウエハ(未処理ウエハ)の搬送経路を例に挙げて説明する。ウエハWは、アームAM2に把持されてフープLP1から搬出され、位置合わせ機構ALに搬送され、位置決めされる(経路R1)。その後、ウエハWは、アームAM2からロードロック室104のアームAM1に待機把持され、前のウエハのRIE処理が終了するのを待つ(経路R2)。
次に、制御装置20の動作について図2〜4を参照しながら説明する。具体的説明は、1.ロット処理前確認動作、2.収納可否判定動作、3.搬出及び処理動作、4.退避動作、5.判定動作、6.再収納動作の順に行う。
まず、制御装置20は、ロット処理前にウエハの収納状態を確認する。たとえば、図2(a)では、フープLP1内のスロット番号1〜7のスロットにはロット番号Aに属するウエハ番号1〜7の7枚の未処理ウエハWが収納されている。その上のスロット番号8〜16のスロットにはロット番号Bに属するウエハ番号8〜16の9枚の未処理ウエハWが収納されている。その上のスロット番号17〜21のスロットにはロット番号Cに属するウエハ番号17〜21の5枚の未処理ウエハWが収納されている。その上のスロット番号22〜24のスロットにはロット指定のない3枚の未処理ウエハWが収納されている。スロット番号25のスロットにはウエハWは収納されていない。
本動作では、制御装置20は、フロントストレージFST1及びフロントストレージFST2の空き状況からフープLP1に収納された複数の未処理ウエハのすべてをフロントフロントストレージFST1又はフロントストレージFST2に収納可能かを判定する(収納可否判定ステップ)。
制御装置20は、上記収納可否判定にてフロントストレージFST1,FST2に収納可能であると判定された場合、プラズマ処理の実行を開始する(処理ステップ)。たとえば、図4(a)に示したフープLP3のロット開始待ち状態から図4(b)に示したフープLP3のロット開始許可状態に遷移した場合、制御装置20は、フープLP3内の25枚のウエハWを順次基板処理室110に搬送させ、該基板処理室110にてウエハWをプラズマ処理させる。
プラズマ処理後、制御装置20は、処理済ウエハWをフロントストレージFST1,FST2まで順次搬送し、該処理済ウエハを一時的に退避させる(退避ステップ)。
制御装置20は、フロントストレージFST1,FST2の空きスロット数を管理している。その際、制御装置20は、ロット処理中のフープから最後の未処理基板が搬出されたかを判定する(判定ステップ)。
制御装置20は、最後と決定された未処理ウエハがいずれかのフープから搬出されたと判定した場合、フロントストレージFST1,FST2に収納されている、いずれかのフープに属する複数の処理済ウエハを順次元のフープまで搬送し再収納する動作を開始する(再収納ステップ)。
20 制御装置
102,106,110,114 基板処理室
104,108,112 ロードロック室
205 ROM
210 RAM
215 CPU
TM 大気搬送室
TU 基板搬送ユニット
LP1,LP2,LP3,LP4 フープ
FST1,FST2 フロントストレージ
PS1,PS2,PS3,PS4 プロセスシップ
AL 位置合わせ機構
Claims (9)
- 所定の真空状態にて基板に所望のプラズマ処理を施す基板処理室、前記基板処理室に連結するロードロック室、前記基板を収納する第1及び第2の基板収納容器、及び前記ロードロック室と前記第1及び第2の基板収納容器とを連結する大気搬送室を備える基板処理システムにおける基板収納方法であって、
前記第1の基板収納容器に収納された複数の未処理基板を順次前記基板処理室に搬送し、該基板処理室にて未処理基板をプラズマ処理する処理ステップと、
前記プラズマ処理後の処理済基板を前記第2の基板収納容器まで順次搬送し、該処理済基板を一時的に前記第2の基板収納容器に退避させる退避ステップと、
前記第1の基板収納容器から最後の未処理基板が搬出されたかを判定する判定ステップと、
前記判定ステップにて最後と決定された未処理基板が搬出された場合、前記第2の基板収納容器に収納された複数の処理済基板を順次前記第1の基板収納容器まで搬送して再収納する再収納ステップと、を含み、
前記判定ステップは、前記第1の基板収納容器に収納されたロット毎の最後の未処理基板が前記ロードロック室に搬入された時点、あるいは、前記基板処理室に搬入された時点を検出して最後の未処理基板が搬出されたと判定する基板収納方法。 - 前記第2の基板収納容器の空き状況から前記第1の基板収納容器に収納された複数の未処理基板のすべてを前記第2の基板収納容器に収納可能かを判定する収納可否判定ステップと、
前記収納可否判定ステップにて前記第2の基板収納容器に収納可能であると判定された場合、前記処理ステップを実行する請求項1に記載の基板収納方法。 - 前記収納可否判定ステップは、前記第1の基板収納容器に収納された複数の未処理基板のうちの製品用基板のすべてが前記第2の基板収納容器に収納可能かを判定する請求項2に記載の基板収納方法。
- 前記収納可否判定ステップは、前記第1の基板収納容器に収納された処理予定の未処理基板の枚数が、前記第2の基板収納容器に収納可能な処理済基板の枚数以下である場合、未処理基板のすべてを前記第2の基板収納容器に収納可能であると判定する請求項2又は3に記載の基板収納方法。
- 前記判定ステップは、前記第1の基板収納容器に収納されたロット毎の最後の未処理基板が前記ロードロック室に搬入された時点、あるいは、前記基板処理室に搬入された時点を検出して最後の未処理基板が搬出されたと判定するか又はロット処理中止の情報に応じて最後の未処理基板が搬出されたと判定する請求項1〜4のいずれか一項に記載の基板収納方法。
- ダミー基板が前記基板処理室に搬送された場合、前記処理ステップを実行した後、前記退避ステップにて前記ダミー基板を前記第2の基板収納容器に一時退避させることなく、該ダミー基板を元の収納容器に戻す請求項1〜5のいずれか一項に記載の基板収納方法。
- 前記第2の基板収納容器が複数個設置され、前記第1の基板収納容器が前記第2の基板収納容器より多い個数設置されている場合、前記第1の基板収納容器のうち前記第2の基板収納容器と同数個の第1の基板収納容器に収納された未処理基板の前記処理ステップが実行され、そのいずれかの第1の基板収納容器に収納された未処理基板のうち最後の未処理基板が搬出されるまで、前記処理ステップが実行されていない残りの第1の基板収納容器に収納された未処理ウエハの前記処理ステップを待ち状態にする請求項1〜6のいずれか一項に記載の基板収納方法。
- 前記判定ステップは、前記いずれかの第1の基板収納容器に収納された最後の未処理基板が決定されたとき、前記待ち状態の前記処理ステップが実行されていない残りの第1の基板収納容器に収納された未処理ウエハの前記待ち状態を解消し、前記処理ステップを開始する請求項7に記載の基板収納方法。
- 所定の真空状態にて基板に所望のプラズマ処理を施す基板処理室、前記基板処理室に連結するロードロック室、前記基板を収納する第1及び第2の基板収納容器、及び前記ロードロック室と前記第1及び第2の基板収納容器とを連結する大気搬送室を備える基板処理システムを制御する制御装置であって、
前記第1の基板収納容器に収納された複数の未処理基板を順次前記基板処理室に搬送し、該基板処理室にて未処理基板をプラズマ処理させ、
前記プラズマ処理後の処理済基板を前記第2の基板収納容器まで順次搬送し、該処理済基板を一時的に前記第2の基板収納容器に退避させ、
前記第1の基板収納容器に収納されたロット毎の最後の未処理基板が前記ロードロック室に搬入された時点、あるいは、前記基板処理室に搬入された時点を検出して最後の未処理基板が搬出されたかを判定し、
判定の結果、最後と決定された未処理基板が搬出された場合、前記第2の基板収納容器に収納された複数の処理済基板を順次前記第1の基板収納容器まで搬送して再収納させる制御装置。
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