JP4519869B2 - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置 Download PDF

Info

Publication number
JP4519869B2
JP4519869B2 JP2007054679A JP2007054679A JP4519869B2 JP 4519869 B2 JP4519869 B2 JP 4519869B2 JP 2007054679 A JP2007054679 A JP 2007054679A JP 2007054679 A JP2007054679 A JP 2007054679A JP 4519869 B2 JP4519869 B2 JP 4519869B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
mol
formula
represented
silicone resin
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2007054679A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2008214512A (ja
Inventor
伸次 村井
鋼児 浅川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP2007054679A priority Critical patent/JP4519869B2/ja
Priority to US11/958,111 priority patent/US7851564B2/en
Priority to KR1020080020143A priority patent/KR100932030B1/ko
Priority to TW97107495A priority patent/TW200902630A/zh
Publication of JP2008214512A publication Critical patent/JP2008214512A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4519869B2 publication Critical patent/JP4519869B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/54Silicon-containing compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L83/00Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L83/04Polysiloxanes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/04Polysiloxanes
    • C08G77/12Polysiloxanes containing silicon bound to hydrogen
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/04Polysiloxanes
    • C08G77/20Polysiloxanes containing silicon bound to unsaturated aliphatic groups
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/54Silicon-containing compounds
    • C08K5/541Silicon-containing compounds containing oxygen
    • C08K5/5425Silicon-containing compounds containing oxygen containing at least one C=C bond
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/56Organo-metallic compounds, i.e. organic compounds containing a metal-to-carbon bond
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31652Of asbestos
    • Y10T428/31663As siloxane, silicone or silane

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
  • Polyethers (AREA)

Description

本発明は、シリコーン樹脂組成物用いた半導体装置に関する。
白色LEDにおいては、実使用中の紫外線などによってエポキシ封止材が黄変することが問題とされつつある。また、小型化に伴なって発熱量が増加し、エポキシ封止材にクラックが発生するという新たな問題も発生しており対応が急務となっている。こうした問題に対しては、分子中に多数のフェニル基を有するシリコーン樹脂を用いることによって対応が進められている。
今後のLEDの光源としては、より低波長なものが使用されるようになる傾向にある。従来のエポキシ封止材やフェニル基含有シリコーン樹脂は、低波長領域での光透過性が悪いことから、低波長領域を光源としたLEDへ適用するのは困難となることが予測される。LED用として、直鎖状や環状のシリコーン樹脂を含有する樹脂組成物が提案されている(例えば、特許文献1,2,3参照。)が、いずれにおいても、硬化収縮が生じるために十分な接着性は得られていない。
特開2004−292714号公報 特開2005−42099号公報 特開2004−186168号公報
本発明は、透明性に優れ、経時による変色が少なく、しかも接着性に優れた硬化物を与えるシリコーン樹脂組成物硬化物によって半導体素子が封止されてなる半導体装置を提供することを目的とする。
本発明の一態様にかかる樹脂封止型半導体装置は、紫外線で蛍光体が励起される白色発光ダイオードであって、発光素子と、この発光素子を封止する樹脂層とを具備し、前記樹脂層は、
下記平均組成式(A)で表わされるアルケニル基含有ポリシロキサンと、
Figure 0004519869
(Rは、0.1モル%以上95モル%以下がアルケニル基であり、残りは、炭素数1以上4以下のアルキル基である。nは1以上3以下であり、重量平均分子量は400以上30000以下である。ただし、下記式で表わされるQ単位を20モル%以上80モル%以下の量で含有する。)
Figure 0004519869
下記平均組成式(B)で表わされるヒドロ基含有ポリシロキサンと、
Figure 0004519869
(R’は、0.1モル%以上95モル%がヒドロ基であり、残りは、炭素数1以上4以下のアルキル基である。mは1以上3以下であり、重量平均分子量は100以上10000以下である。ただし、上記式で表わされるQ単位を10モル%以上50モル%以下の量で含有する。)
下記式(C)で表わされ、kの範囲が異なる2つの両末端ビニル基封鎖型ポリシロキサンと、
Figure 0004519869
(R1は、同一でも異なっていてもよく、それぞれ炭素数1以上4以下のアルキル基である。kは20以上300以下と700以上1200以下である。)
ヒドロシリル化触媒と
を含有するシリコーン樹脂組成物を硬化させてなる硬化物からなることを特徴とする。
本発明の一態様にかかる半導体装置は、発光素子と、
この発光素子を封止する樹脂層とを具備し、
前記樹脂層は前述のシリコーン樹脂組成物を硬化させてなる硬化物からなることを特徴とする。
本発明によれば、透明性に優れ、経時による変色が少なく、しかも接着性に優れた硬化物を与えるシリコーン樹脂組成物硬化物により半導体素子が封止されてなる半導体装置が提供される。
以下、本発明の実施形態を説明する。
本発明の実施形態にかかるシリコーン樹脂組成物には、3種類の特定のポリシロキサンと、ヒドロシリル化触媒とが含有される。
本発明の実施形態にかかるシリコーン樹脂組成物に含有される第1のポリシロキサンは、前記平均組成式(A)で表わされるアルケニル基含有ポリシロキサンである。
前記平均組成式中(A)におけるRの0.1モル%以上95モル%以下は、アルケニル基に規定される。アルケニル基の含有量が少なすぎる場合には、反応が不十分になり十分に大きな硬度を有する硬化物を作製するのが困難となる。一方、アルケニル基の含有量が多すぎる場合には、未反応のアルケニル基が残存し、硬化物の光透過性が低下するといった不都合が生じる。アルケニル基としては、炭素数2〜8のビニル基、アリル基、ブテニル基、およびペンテニル基などが例示される。硬化後のシリコーン樹脂の透明性や入手のしやすさ等を考慮すると、アルケニル基としてはビニル基が特に好ましい。
前記平均組成式(A)における残りのRは、炭素数1以上4以下のアルキル基である。合成のしやすさとコストが低いことから、メチル基が特に好ましい。
上述したようなアルケニル基およびアルキル基の少なくとも1つの水素原子は、ハロゲン原子、Si原子、O原子、N原子、またはS原子等のヘテロ原子によって置換されていてもよい。
Q単位は、前記式で表わされるとおり、Si原子の4つの結合手の全てにO原子が結合した構造でそれぞれに官能基を有する。こうした構造に起因して、Q単位は、架橋密度が高くなり、得られる硬化物の硬度が高くなるという利点を有する。前記平均組成式(A)中に20モル%以上のQ単位が含有されていれば、この利点を確保することができる。しかしながら、Q単位の含有量が多すぎる場合には、得られる硬化物の硬度が高くなりすぎ、接着性が得にくいという不都合が生じるため、平均組成式(A)中におけるQ単位の含有量の上限は80モル%以下に規定される。
前記平均組成式(A)で表わされるアルケニル基含有ポリシロキサンは、重量平均分子量が400以上30,000以下に規定される。本明細書における重量平均分子量とは、GPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィ)によるポリスチレン換算の重量平均分子量をさす。重量平均分子量が400未満の場合には、硬度の高い硬化物を得ることが困難となる。一方、30,000を越えると、接着性が損なわれる。アルケニル基含有ポリシロキサンの重量平均分子量は、1000〜10,000が好ましく、2000〜8,000がより好ましい。
なお、ポリシロキサンの合成のしやすさを考慮すると、前記平均組成式(A)におけるnは1以上3.5以下に規定される。得られる硬化物の硬度を考慮すると、nの値は3が特に好ましい。
こうしたアルケニル基含有ポリシロキサンの一部には、R2SiO2/2(D単位)あるいはRSiO3/2(T単位)が含まれていてもよい。
前記平均組成式(A)で表わされるアルケニル基含有ポリシロキサンは、各単位の原料(M単位、Q単位)となる化合物を、上述したモル割合となるように組み合わせ、酸の存在下で共加水分解を行なうことによって容易に合成することができる。
SiO2単位(Q単位)の原料としては、ケイ酸ソーダ、アルキルシリケート、ポリアルキルシリケート、および四塩化ケイ素等を挙げることができる。
また、R3SiO0.5単位(M単位)の原料としては、下記化学式で表わされるものを例示することができる。
Figure 0004519869
また、R’3SiO0.5単位(M単位)の原料の例を下記化学式に示す。
Figure 0004519869
本発明の実施形態にかかるシリコーン組成物に配合され得るアルケニル基含有ポリシロキサンとしては、例えば、下記一般式で表されるものが挙げられる。
Figure 0004519869
具体的には、アルケニル基シロキサン樹脂としては、Q単位を20〜25%含有するVQM135(GELEST社製)、およびVQM146(GELEST社製)などが挙げられる。
本発明の実施形態にかかるシリコーン樹脂組成物に含有される第2のポリシロキサンは、前記平均組成式(B)で表わされるヒドロ基含有ポリシロキサンである。かかるヒドロ基含有ポリシロキサンは、前述のアルケニル基含有ポリシロキサンとヒドロシリル化反応を生じて、組成物を硬化させる架橋剤として作用する。
Figure 0004519869
前記平均組成式(B)におけるR’の0.1モル%以上95モル%以下は、ヒドロ基に規定される。ヒドロ基の含有量が少なすぎる場合には、硬化が困難となる。一方、ヒドロ基の含有量が多すぎる場合には、未反応のヒドロ基が残存し、硬化物の安定性などに悪影響を与えるといった不都合が生じる。
前記平均組成式(B)における残りのR’は、炭素数1以上4以下のアルキル基であり、合成のしやすさとコストの観点から、メチル基が特に好ましい。
上述したようにQ単位は、硬化物の硬度を向上させるという利点を有する。前記平均組成式(B)中に10モル%以上のQ単位が含有されていれば、この利点を確保することができる。しかしながら、Q単位の含有量が多すぎる場合には、硬度が高くなりすぎ接着性が得にくいという不都合が生じるため、平均組成式(B)中におけるQ単位の含有量の上限は50モル%以下に規定される。
前記平均組成式(B)で表わされるヒドロ基含有ポリシロキサンは、GPCによるポリスチレン換算の重量平均分子量が100以上10,000以下に規定される。100未満の場合には、十分な強度を有する硬化物が得られなくなる。一方、10,000を越えるポリシロキサンは、合成が困難である。ヒドロ基含有ポリシロキサンの重量平均分子量は、200〜5,000が好ましく、400〜3、000がより好ましい。
なお、ポリシロキサンの合成のしやすさを考慮すると、前記平均組成式(B)におけるmは1以上3以下に規定される。得られる硬化物の硬度を考慮すると、mの値は2.3が特に好ましい。
こうしたヒドロ基含有ポリシロキサンの一部には、RSiO3/2(T単位)が含まれていてもよい。
例えば、Q単位の割合が10〜50モル%で、M単位が10〜80モル%、D単位が0〜20モル%になるように、M、D、Q各単位の割合を調製する。このような構造のヒドロ基含有ポリシロキサンは、各単位の原料(M単位、D単位、Q単位)となる化合物を、上述のモル割合となるように配合し、酸の存在下で共加水分解を行なうことによって合成することができる。
SiO2単位(Q単位)の原料として、ケイ酸ソーダ、アルキルシリケート、ポリアルキルシリケート、および四塩化ケイ素等を挙げることができる。
3SiO0.5単位(M単位)の原料の例を、下記化学式に示す。
Figure 0004519869
また、R’3SiO0.5単位(M単位)の原料の例を、下記化学式に示す。
Figure 0004519869
さらに、R2SiO2/2単位(D単位)の原料の例を、下記化学式に示す。
Figure 0004519869
上述したようなヒドロ基含有ポリシロキサンは、分子中に接着性付与成分を結合させることができる。平均組成式(B)におけるヒドロ基と反応したアルコキシ基含有シリル基が、接着性付与成分として作用する。この接着性付与成分は、ヒドロ基含有ポリシロキサンにおけるヒドロ基の一部と、アルケニルアルコキシシランとを予め反応させる。反応を十分に進行させるために、接着性付与成分が結合したヒドロ基含有ポリシロキサンは、アルケニル基含有ヒドロキシシランにおけるアルケニル基1個に対して0.5〜2個のケイ素原子に結合した水素原子となる量で、配合することが望まれる。0.5個未満の場合には、接着性が損なわれるおそれがあり、2個より多い場合には樹脂の相溶性が低下するおそれがある。
本発明の実施形態にかかるシリコーン樹脂組成物に配合され得るヒドロ基含有ポリシロキサンとしては、例えば、下記一般式で表されるものが挙げられる。
Figure 0004519869
具体的には、ヒドロ基含有シロキサン樹脂としては、Q単位を含有するHQM105(GELEST社製)およびHQM107(GELEST社製)のヒドロ基と、アルケニルアルコキシシランとを、塩化白金酸等の触媒によって反応させることにより得られる化合物が挙げられる。ここで用いられるアルケニルアルコキシシランは、下記一般式で表わすことができる。
Figure 0004519869
nは1乃至3の整数である。Rはアルケニル基を表わし、炭素数2〜8のビニル基、アリル基、ブテニル基、およびペンテニル基などが例示される。より好ましくはビニル基である。また、Rpは一価の炭化水素基を表わし、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル、ドデシル、およびオクタデシルなどの炭層数が1〜18個のアルキル基などが例示される。好ましくはメチル、およびエチルである。ORpの一部が一価の炭化水素基あるいは水素に置換されていてもよい。具体的には、ビニルトリメトキシシラン、およびビニルトリエトキシシラン等が挙げられる。
こうしたアルケニルアルコキシシランと、前述のヒドロ基含有ポリシロキサンとを反応させることによって、例えば下記一般式で表わされるような、接着性付与剤が直結したヒドロ基含有シロキサン樹脂が得られる。
Figure 0004519869
本発明のシリコーン樹脂組成物に含有される第3のポリシロキサンは、下記一般式(C)で表わされ、分子量の異なる2つの両末端ビニル基封鎖型ポリシロキサンである。
Figure 0004519869
1は、同一でも異なっていてもよく、それぞれ炭素数1以上4以下のアルキル基である。合成上のしやすさと製造コストを考慮すると、R1としてはメチル基およびエチル基が特に好ましい。
また、kは20以上300以下、および700以上1200以下に規定される。
kが20以上300以下のビニル基含有ポリシロキサンは樹脂組成物の粘度を調整する目的で加えられる。20未満の場合には、硬化物が脆くなりやすくなり、一方、300を越えると、低粘度化の効果が小さくなるので不利となる。kは、30以上250以下が好ましい。その粘度は、50〜1000mPa・sの範囲内であることが好ましい。こうした範囲内の粘度であれば、硬化状態が悪化するのも避けられる。両末端ビニル基封鎖型ポリシロキサンの粘度は、80〜800mPa・sがより好ましい。
また、kが700以上1200以下の両末端ビニル基封鎖型含有ポリシロキサンを用いると、接着性が向上する。kが700未満の場合には、十分な接着性を有する硬化物が得にくい。一方、1200を越えると、組成物の粘度が高くなりすぎて作業性が損なわれる。kは750以上1100以下が好ましい。その粘度は、8000〜30000mPa・sの範囲内であることが好ましい。こうした範囲内の粘度であれば、高粘度に起因して反応性が劣化することはなく、硬化状態が悪化することも避けられる。このような両末端ビニル基封鎖型ポリシロキサンの粘度は、9000〜25000mPa・sがより好ましい。
kの範囲が異なる2つの両末端ビニル基封鎖型含有ポリシロキサンを用いることによって、次の利点が得られる。ます、接着性の優れた硬化物が得られやすい。しかも、作業性のよい粘度が得られる。組成物の粘度は、5000mPa・s以下がよい。両末端ビニル基封鎖型ポリシロキサンを1種類用いた場合には、接着性に優れた硬化物と作業性のよい粘度を有する樹脂を得ることは困難である。
本発明の実施形態にかかるシリコーン樹脂組成物おいては、上述したようなアルケニル基含有ポリシロキサンとヒドロ基含有ポリシロキサンとをヒドロシリル化反応によって架橋するための触媒として、白金触媒が含有される。
例えば、白金の単体、アルミナ、シリカ、カーボンブラック等の担体に固体白金を担持させたもの、塩化白金酸、塩化白金酸とアルコール、アルデヒド、ケトン等との錯体、白金−オレフィン錯体(例えば、Pt(CH2=CH22(PPh32、Pt(CH2=CH22Cl2)、白金−ビニルシロキサン錯体(例えば、Pt(ViMe2SiOSiMe2Vi)n、Pt[(MeViSiO)4]m)、白金−ホスフィン錯体(例えば、Pt(PPh3)4、Pt(PBu3)4)、白金−ホスファイト錯体(例えば、Pt[P(OPh)34、Pt[P(OBu)34)(Meはメチル基、Buはブチル基、Viはビニル基、Phはフェニル基を表わし、nおよびmは整数である。)、ジカルボニルジクロロ白金、カールシュテト(Karstedt)触媒などが挙げられる。
また、RhCl(PPh)3、RhCl3、RhAl23、RuCl3、IrCl3、PdCl2・2H2O、およびNiCl2等、非白金系の触媒を用いることもできる。
これらの中では、触媒活性の点から塩化白金酸、白金−オレフィン錯体、および白金−ビニルシロキサン錯体等が好ましい。また、これらの触媒は単独で使用することができ、2種以上併用してもよい。
白金触媒の配合量は特に規定されないが、組成物全体の重量の0.1〜500ppm程度の割合で配合されれば、効果が得られる。
上述したように、本発明の実施形態にかかるシリコーン樹脂組成物には、特定の3種類のポリシロキサンが含有される。第1のポリシロキサンであるアルケニル基含有ポリシロキサンおよび第2のポリシロキサンであるヒドロ基含有ポリシロキサンには、硬化収縮率の小さいQ単位が所定の量で含有される。これによって、ポリフタルアミドなどの基板あるいは金属に対する良好な接着性が確保される。しかも、これらのポリシロキサンには、不飽和結合が含まれないことから、特に紫外領域の光に対して光透過性が向上する。
さらに、ビニル基含有ポリシロキサンが第3のポリシロキサンとして含有されることによって、基板あるいは金属に対する接着性が高められる。また、芳香族環やエステル基などの紫外領域に吸収のある置換基を含有していないので、本発明の実施形態にかかるシリコーン樹脂組成物の硬化物は、経時変化による変色も少ない。
特定の3種類のポリシロキサンを含有することに起因して、本発明の実施形態にかかるシリコーン樹脂組成物は、光透過性と接着性に優れた硬化物を得ることができる。したがって、特に白色発光ダイオード(LED)素子用シリコーン樹脂組成物として好適に用いられる。
上述した成分に加えて、本発明の実施形態にかかるシリコーン樹脂組成物には、接着性を損なわない範囲で鎖状のシリコーン樹脂や環状のシリコーン樹脂、かご状シリコーン樹脂を配合することができる。シリコーン樹脂としては、ポリオルガノアルケニルシロキサンおよびポリオルガノハイドロジェンシロキサンが挙げられる。
直鎖状のポリオルガノアルケニルシロキサンとしては、(a−1)で表わされるものが挙げられる。
Figure 0004519869
上記一般式(a−1)中、pは、0〜10,000の整数である。R1の少なくとも2つはアルケニル基であり、残りは同一でも異なっていてもよく、炭素数1〜18の1価の炭化水素基である。アルケニル基としては、ビニル基、アリル基、1−ブテニル基、および1−ヘキセニル基などが挙げられる。容易に合成できることから、ビニル基が好ましい。アルケニル基は、分子鎖末端および分子鎖途中のいずれの位置のR1として導入されてもよいがが、少なくとも分子鎖両末端のケイ素原子に結合している場合には、硬化速度や硬化物の物性などを高めることができる。
一方、R1として導入され得る1価の炭化水素基としては、例えば、アルキル基、アリール基、およびアラルキル基が挙げられる。こうした炭化水素基における少なくとも1つの水素原子は、ハロゲン原子、Si原子、O原子、N原子、またはS原子等のヘテロ原子等によって置換されていてもよい。合成しやすく、しかも硬化後に良好な光透過性を保つという点を考慮すると、メチル基が好ましい。直鎖状ポリオルガノアルケニルシロキサンの具体例を以下に示す。
Figure 0004519869
環状のポリオルガノアルケニルシロキサンとしては、下記一般式(a−2)で表わされるものが挙げられる。
Figure 0004519869
上記一般式(a−2)中、nは2から8の整数である。R1の少なくとも2つはアルケニル基であり、残りは同一でも異なっていてもよく、炭素数1〜18の1価の炭化水素基である。R1として導入され得る1価の炭化水素基としては、例えば、アルキル基、アリール基、およびアラルキル基が挙げられる。こうした炭化水素基における少なくとも1つの水素原子は、ハロゲン原子、Si原子、O原子、N原子、またはS原子等のヘテロ原子等により置換されていてもよい。特に、メチル基が好ましい。環状ポリオルガノアルケニルシロキサンの具体例を以下に示す。
Figure 0004519869
3次元網目状、かご状のアルケニル基含有ポリシロキサンとして下記一般式(a−3)で表されるものが挙げられる。
Figure 0004519869
上記一般式(a−3)中、R1の少なくとも2つはアルケニル基であり、残りは同一でも異なっていてもよく、炭素数1〜18の1価の炭化水素基である。R1として導入され得る1価の炭化水素基としては、例えば、アルキル基、アリール基、およびアラルキル基が例示される。こうした炭化水素基における少なくとも1つの水素原子は、ハロゲン原子、Si原子、O原子、N原子、またはS原子等のヘテロ原子等により置換されていてもよい。特に、メチル基であることが好ましい。かご状の具体的なものとしては、下記式で表されるものが挙げられる。
Figure 0004519869
1の少なくとも2個はアルケニル基であり、残りは、例えばメチル基に代表されるアルキル基や水酸基とすることができる。具体的には、下記化学式で表される化合物である。
Figure 0004519869
直鎖状のポリオルガノハイドロジェンシロキサンとしては、下記一般式(b−1)で表わされるものが挙げられる。
Figure 0004519869
上記一般式(b−1)中、rは0〜10,000の整数である。R2の少なくとも2つはヒドロ基であり、残りは同一でも異なっていてもよく、炭素数1〜18の1価の炭化水素基である。R2として導入され得る1価の炭化水素基としては、例えば、アルキル基、アリール基、およびアラルキル基が挙げられる。特に、光透過性やコストの観点からメチル基であることが好ましい。具体例を、下記化学式に示す。
Figure 0004519869
環状のポリオルガノハイドロジェンシロキサンとしては、下記一般式(b−2)で表されるものが挙げられる。
Figure 0004519869
上記一般式(b−2)中、nは2から8の整数である。R2の少なくとも2つはヒドロ基であり、残りは同一でも異なっていてもよく、炭素数1〜18の1価の炭化水素基である。R2として導入され得る1価の炭化水素基としては、例えば、アルキル基、アリール基、およびアラルキル基が挙げられる。こうした炭化水素基における少なくとも1つの水素原子は、ハロゲン原子、Si原子、O原子、N原子、またはS原子等のヘテロ原子等により置換されていてもよい。特に、光透過性やコストの観点からメチル基であることが好ましい。具体例を、下記化学式に示す。
Figure 0004519869
3次元網目状、かご状のヒドロ基含有ポリシロキサンとして下記一般式(b−3)で表されるものが挙げられる。
Figure 0004519869
上記一般式(b−3)中、R2の少なくとも2つはヒドロ基であり、残りは同一でも異なっていてもよく、炭素数1〜18の1価の炭化水素基である。R2として導入され得る1価の炭化水素基としては、例えば、アルキル基、アリール基、およびアラルキル基が例示される。こうした炭化水素基における少なくとも1つの水素原子は、ハロゲン原子、Si原子、O原子、N原子、またはS原子等のヘテロ原子等により置換されていてもよい。特に、メチル基であることが好ましい。
かご状の具体的なものとしては、下記一般式で表わされるものが挙げられる。
Figure 0004519869
一般式(b−3)について説明したように、R2の少なくとも2つはヒドロ基であり、残りは、メチル基とすることができる。具体的には、下記化学式で表わされる化合物である。
Figure 0004519869
本発明の実施形態にかかるシリコーン樹脂組成物には、透明性に粘度に悪影響を与えない範囲で各種の添加剤を配合することができる。そのような添加剤としては、例えば、シリコン系やフッ素系の消泡剤、煙霧質シリカ、シリカエアロゾル、沈殿シリカ、粉砕シリカ、けいそう土、酸化鉄、酸化亜鉛、酸化チタン、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸亜鉛、およびカーボンブラックなどの無機充填剤が例示される。また、必要により適当な顔料、染料、接着助剤、防カビ剤、耐熱性向上剤、難燃剤または酸化防止剤を添加することができる。
以下、具体例を示して本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
前記平均組成式(A)で表わされるアルケニル基含有ポリシロキサンとして、次の化合物を準備した。
(PSA1)
エチルポリシリケート、ビニルジメチルクロロシラン、およびトリメチルクロロシランを、トルエン中で共加水分解反応により重合させて液状物質を得た。重量平均分子量は2800であることが、GPCにより確認された。1H−NMRの結果、アルケニル基としてのビニル基の含有量は33モル%であり、Q単位の含有量は60モル%であった。
(PSA2)
エチルポリシリケート、ビニルジメチルクロロシラン、およびトリメチルクロロシランを、トルエン中で共加水分解反応により重合させて液状物質を得た。重量平均分子量は2800であることが、GPCにより確認された。1H−NMRの結果、アルケニル基としてのビニル基の含有量は25モル%であり、Q単位の含有量は70モル%であった。
(PSA3)
エチルポリシリケート、ビニルジエチルクロロシラン、およびトリエチルクロロシランを、トルエン中で共加水分解反応により重合させて液状物質を得た。重量平均分子量は2800であることが、GPCにより確認された。1H−NMRの結果、アルケニル基としてのビニル基の含有量は33モル%であり、Q単位の含有量は60モル%であった。
(PSA4)
エチルポリシリケート、ビニルジブチルクロロシラン、およびトリメチルクロロシランを、トルエン中で共加水分解反応により重合させて液状物質を得た。重量平均分子量は3300であることが、GPCにより確認された。1H−NMRの結果、アルケニル基としてのビニル基の含有量は30モル%であり、Q単位の含有量は60モル%であった。
(PSA5)
エチルポリシリケート、ビニルメチルジクロロシラン、およびジメチルジクロロシランを、トルエン中で共加水分解反応により重合させて液状物質を得た。重量平均分子量は4000であることが、GPCにより確認された。1H−NMRの結果、アルケニル基としてのビニル基の含有量は20モル%であり、Q単位の含有量は60モル%であった。
(PSA6)
エチルポリシリケート、ビニルメチルジクロロシラン、およびジブチルジクロロシランを、トルエン中で共加水分解反応により重合させて液状物質を得た。重量平均分子量は4200であることが、GPCにより確認された。1H−NMRの結果、アルケニル基としてのビニル基の含有量は20モル%であり、Q単位の含有量は60モル%であった。
(PSA7)
エチルポリシリケート、ビニルトリクロロシラン、およびメチルトリクロロシランを、トルエン中で共加水分解反応により重合させて液状物質を得た。重量平均分子量は2500であることが、GPCにより確認された。1H−NMRの結果、アルケニル基としてのビニル基の含有量は10モル%であり、Q単位の含有量は60モル%であった。
PSA1〜PSA7のアルケニル基含有ポリシロキサンは、いずれも前記平均組成式(A)で表わされる。平均組成式(A)におけるR、アルケニル基含有量(モル%)、n、分子量、およびQ単位含有量(モル%)を、下記表1にまとめる。各アルケニル基含有ポリシロキサンについてのnの値は、29Si−NMRにより求めた。
Figure 0004519869
前記平均組成式(B)で表わされるヒドロ基含有ポリシロキサンとしては、次の化合物を準備した。
(PSB1)
Q単位を20モル%含有するヒドロシロキサン樹脂(GELEST社製、製品名:HQM105)6gと、ビニルトリメトキシシラン(東レダウコーニング社製、SZ6300)1gとを、塩化白金触媒存在下、100℃で1時間反応させた。生成物においては、ビニルトリメトキシシランのビニル基が完全に消失していることが1H−NMRにより確認された。
(PSB2)
Q単位を20モル%含有するヒドロシロキサン樹脂(HQM105)6gと、ビニルトリメトキシシラン(SZ6300)2gとを、塩化白金触媒存在下、100℃で1時間反応させた。生成物においては、ビニルトリメトキシシランのビニル基が完全に消失していることが1H−NMRにより確認された。
(PSB3)
Q単位を25モル%含有するヒドロシロキサン樹脂(HQM107)6gと、ビニルトリメトキシシラン(SZ6300)2gとを、塩化白金触媒存在下、100℃で1時間反応させた。生成物においては、ビニルトリメトキシシランのビニル基が完全に消失していることが、1H−NMRにより確認された。
(PSB4)
エチルポリシリケート、ヒドロジエチルクロロシラン、およびトリエチルクロロシランを、トルエン中で共加水分解反応により重合させて液状物質を得た。重量平均分子量は800であることが、GPCにより確認された。1H−NMRの結果、ヒドロ基の含有量は75モル%であり、Q単位の含有量は20モル%であった。
この液状物質6gとビニルトリメトキシシラン(SZ6300)1gとを、塩化白金触媒存在下、100℃で1時間反応させた。生成物においては、ビニルトリメトキシシランのビニル基が完全に消失していることが1H−NMRにより確認された。
(PSB5)
エチルポリシリケート、ヒドロジブチルクロロシラン、およびトリメチルクロロシランを、トルエン中で共加水分解反応により重合させて液状物質を得た。重量平均分子量は820であることがGPCにより確認された。1H−NMRの結果、ヒドロ基の含有量は74モル%であり、Q単位の含有量は20モル%であった。
この液状物質6gとビニルトリメトキシシラン(SZ6300)1gとを、塩化白金触媒存在下、100℃で1時間反応させた。生成物においては、ビニルトリメトキシシランのビニル基が完全に消失していることが1H−NMRにより確認された。
(PSB6)
エチルポリシリケート、ヒドロメチルジクロロシラン、およびジメチルジクロロシランを、トルエン中で共加水分解反応により重合させて液状物質を得た。重量平均分子量は700であることが、GPCにより確認された。1H−NMRの結果、ヒドロ基の含有量は72モル%であり、Q単位の含有量は18モル%であった。
この液状物質6gとビニルトリメトキシシラン(SZ6300)1gとを、塩化白金触媒存在下、100℃で1時間反応させた。生成物においては、ビニルトリメトキシシランのビニル基が完全に消失していることが1H−NMRにより確認された。
(PSB7)
エチルポリシリケート、ヒドロエチルジクロロシラン、およびジエチルジクロロシランを、トルエン中で共加水分解反応により重合させて液状物質を得た。重量平均分子量は730であることが、GPCにより確認された。1H−NMRの結果、ヒドロ基の含有量は70モル%であり、Q単位の含有量は18モル%であった。
この液状物質6gとビニルトリメトキシシラン(SZ6300)1gとを、塩化白金触媒存在下、100℃で1時間反応させた。生成物においては、ビニルトリメトキシシランのビニル基が完全に消失していることが1H−NMRにより確認された。
(PSB8)
エチルポリシリケート、ヒドロトリクロロシラン、およびメチルトリクロロシランを、トルエン中で共加水分解反応により重合させて液状物質を得た。重量平均分子量は670であることが、GPCにより確認された。1H−NMRの結果、ヒドロ基の含有量は74モル%であり、Q単位の含有量は20モル%であった。
この液状物質6gとビニルトリメトキシシラン(SZ6300)0.5gとを、塩化白金触媒存在下、100℃で1時間反応させた。生成物においては、ビニルトリメトキシシランのビニル基が完全に消失していることが1H−NMRにより確認された。
(PSB9)
エチルポリシリケート、ヒドロトリクロロシラン、およびブチルトリクロロシランを、トルエン中で共加水分解反応により重合させて液状物質を得た。重量平均分子量はであることが、GPCにより確認された。1H−NMRの結果、ヒドロ基の含有量は74モル%であり、Q単位の含有量は21モル%であった。
この液状物質6gとビニルトリメトキシシラン(SZ6300)0.3gとを、塩化白金触媒存在下、100℃で1時間反応させた。生成物においては、ビニルトリメトキシシランのビニル基が完全に消失していることが1H−NMRにより確認された。
PSB1〜PSB9のヒドロ基含有ポリシロキサンは、いずれも前記平均組成式(B)で表わされる。平均組成式(B)におけるR’、ヒドロ基含有量(モル%)、m、重量平均分子量、およびQ単位含有量(モル%)を、下記表2にまとめる。ヒドロ基含有量およびQ単位含有量は、NMRにより求め、重量平均分子量はGPCにより求めた。mの値は、1H−NMRにより得た。
Figure 0004519869
前記一般式(C)で表わされるビニル基含有ポリシロキサンとしては、次の化合物を準備した。
(PSC1)
両末端ビニル基封鎖ポリジメチルシロキサン、粘度100cSt、0.33〜0.37eq/kg、GELEST社製、製品名:DMS−V21
(PSC2)
両末端ビニル基封鎖ポリジメチルシロキサン、粘度500cSt、0.11〜0.13eq/kg、GELEST社製、製品名:DMS−V25
(PSC3)
両末端ビニル基封鎖ポリジメチルシロキサン、粘度3500cSt、0.05〜0.06eq/kg、GELEST社製、製品名:DMS−V31
(PSC4)
両末端ビニル基封鎖ポリジメチルシロキサン、粘度10000cSt、0.08〜0.12eq/kg、GELEST社製、製品名:DMS−V41
(PSC5)
両末端ビニル基封鎖ポリジメチルシロキサン、粘度20000cSt、0.07〜0.09eq/kg、GELEST社製、製品名:DMS−V42
(PSC6)
両末端ビニル基封鎖ポリジメチルシロキサン、粘度6cSt、2.4〜2.9eq/kg、GELEST社製、製品名:DMS−V05
PSC1〜PSC6の両末端ビニル基封鎖ポリシロキサンは、いずれも前記一般式(C)で表わされる。一般式(C)におけるR1およびkを、下記表3にまとめる。R11H−NMRにより確認し、kの値はGPCにより求めた。
Figure 0004519869
白金触媒として、2mmol/Lの塩化白金酸の2−プロパノール溶液を用いた。
上述の各成分を下記表4および5に示す処方で配合して、実施例のシリコーン樹脂組成物を調製した。
Figure 0004519869
Figure 0004519869
表4,5に示したポリシロキサンの配合量は、重量%で表わした。
さらに、下記表6に示す処方で各成分を配合して、比較例のシリコーン樹脂組成物を調製した。
Figure 0004519869
上記表6に示されるように、比較例1〜5の組成物には、低分子量のビニル基含有ポリシロキサンが含有されず、比較例6〜8の組成物には、高分子量のビニル基含有ポリシロキサンが含有されていない。
上述の各組成物を硬化させて硬化物を得、その光透過性を調べた。具体的には、各組成物を石英基板上にバーコーダーにより塗布して、それぞれの塗膜を形成した。石英基板ごと所定の温度のホットプレート上に静置し、この塗膜を100℃で1時間、さらに150℃で3時間、熱処理することによりで硬化させた。その結果、厚み0.3mmの薄膜からなる硬化物が形成された。薄膜から10cmの距離に低圧水銀灯を配置して、1000時間照射した。
その後、分光光度計を用いて、硬化物の光透過率を測定した。光透過率の測定は、400nmおよび300nmの2種類の波長について行なった。波長400nmの光に対する光透過率は、紫外線で蛍光体を励起した白色LEDの透明性の指標となり、波長300nmの光に対する光透過率も同様である。長期的に光透過性に優れたシリコーン樹脂封止材を得るためには、いずれの波長に対する光透明性も、85%以上であることが要求される。
また、硬化物の収縮率を調べた。具体的には、硬化前後における樹脂の比重差によって評価した。収縮率は4.5%以下であれば許容範囲内である。
さらに、IRリフローでシリコーン樹脂とパッケージとの界面における剥離を観測した。IRリフロー用のサンプルは、以下のようにして作製した。PPA(ポリフタルアミド)樹脂から形成されたパッケージのくぼみ(直径3mm、高さ2mmの円柱状)にシリコーン樹脂組成物を流し込み、所定の温度で硬化させた。パッケージごと高温吸湿槽に投入してシリコーン樹脂の硬化物に吸湿させたのち、IRリフロー(260℃/10秒)処理をした。同様の条件で、吸湿・IRリフローを繰り返し行なった。シリコーン樹脂硬化物とPPA樹脂との界面における剥離を顕微鏡により観察し、剥離が発生するまでの回数を調べた。8回以上であれば、十分な接着性を有するといえる。
得られた結果を、下記表7および8にまとめる。
Figure 0004519869
Figure 0004519869
上記表7および8に示されるように、光透過性に関しては、実施例および比較例のいずれも組成物においても、400nmおよび300nmにおいて優れた透過性を有している。収縮率に関しては、実施例の組成物は、全て4.3%以下であるのに対し、比較例の組成物では、5.1%に及ぶものもある。
硬化物の接着性に関しては、実施例9,10、および15の樹脂組成物が優れており、剥離が発生するまでの回数が12回以上である。これらの組成物に含有されているアルケニル基含有ポリシロキサンは、平均組成式(A)におけるnが3である。また、これらの組成物に含有されているヒドロ基含有ポリシロキサンは、平均組成式(B)におけるmが3である
低分子量のアルケニル基含有ポリシロキサンを含まない比較例6〜8の樹脂組成物の場合には、接着性はほとんど期待できない。比較例1〜3の樹脂組成物においては、平均組成式(A)におけるnが3のアルケニル基含有ポリシロキサンと、平均組成式(B)におけるmが3のヒドロ基含有ポリシロキサンとが含有されている。しかしながら、一般式(C)で表わされる低分子量のビニル基含有ポリシロキサンが含まれないために、組成物の粘度が高い。その結果、作業性が悪くなり十分な接着性を有する硬化物は得られない。
このように、特定の3種類のポリシロキサンを含有することによって、高い透明性と優れた接着性とを備え、しかも経時変化による変色の少ない硬化物を形成し得るシリコーン樹脂組成物が得られる。
図1には、本発明の一実施形態にかかる半導体装置の構成を表わす概略図を示す。図示する半導体装置は、LED発光装置であり、凹部を有する基板4と、この凹部内に配置されたダイオードチップ6と、ダイオードチップを覆う透明樹脂層2とを含む。基板4には、内部電極5aおよび外部電極5bが設けられ、ダイオードチップ6の接続端子(図示せず)は、導電ワイヤ3により内部電極5aに接続される。
光は樹脂層を通過して出てくることから、図示するようなLED発光装置1においては、ダイオードチップ6を覆う透明樹脂層2には高い透明性が求められる。本発明の実施形態にかかるシリコーン樹脂組成物は、上述したように優れた透明性を有するので、透明樹脂層2の形成に好適に用いられる。
なお、本発明の実施形態にかかるシリコーン樹脂組成物を硬化させてなる硬化物で半導体素子を封止することによって、種々の半導体装置を製造することができる。例えば、半導体素子としてのフリップチップ実装により半導体素子を、本発明の実施形態にかかるシリコーン樹脂組成物の硬化物で封止することによって、熱応力の緩和に優れた半導体装置が得られる。また、色素増感型太陽電池の電解液を封止する際に本発明の実施形態にかかるシリコーン樹脂組成物を適用してもよい。色素増感型太陽電池の場合には、耐久性が向上する。
さらに、本発明の実施形態にかかるシリコーン樹脂組成物は、半導体装置のみならず、種々の用途に適用することができる。例えば、一般工業におけるディッピング剤、型取り用ゴム、成形材料、剥離用コーティング剤、歯科用印象材などの付加反応型シリコーンゴムまたはシリコーンゲルなど、幅広い用途に好適に使用することができる。こうした用途に適用した場合も、高い接着性という効果が得られ、その利用性は大きい。
本発明の一実施形態にかかる半導体装置の構成を示す模式図。
符号の説明
1…LED発光装置; 2…透明樹脂層; 3…導電ワイヤ; 4…基板
5a…内部電極; 5b…外部電極; 6…ダイオードチップ。

Claims (2)

  1. 紫外線で蛍光体が励起される白色発光ダイオードであって、
    発光素子と、
    この発光素子を封止する樹脂層とを具備し、
    前記樹脂層は、
    下記平均組成式(A)で表わされるアルケニル基含有ポリシロキサンと、
    Figure 0004519869
    (Rは、0.1モル%以上95モル%以下がアルケニル基であり、残りは、炭素数1以上4以下のアルキル基である。nは1以上3以下であり、重量平均分子量は400以上30000以下である。ただし、下記式で表わされるQ単位を20モル%以上80モル%以下の量で含有する。)
    Figure 0004519869
    下記平均組成式(B)で表わされるヒドロ基含有ポリシロキサンと、
    Figure 0004519869
    (R’は、0.1モル%以上95モル%がヒドロ基であり、残りは、炭素数1以上4以下のアルキル基である。mは1以上3以下であり、重量平均分子量は100以上10000以下である。ただし、上記式で表わされるQ単位を10モル%以上50モル%以下の量で含有する。)
    下記式(C)で表わされ、kの範囲が異なる2つの両末端ビニル基封鎖型ポリシロキサンと、
    Figure 0004519869
    (R1は、同一でも異なっていてもよく、それぞれ炭素数1以上4以下のアルキル基である。kは20以上300以下と700以上1200以下である。)
    ヒドロシリル化触媒と
    を含有するシリコーン樹脂組成物を硬化させてなる硬化物からなることを特徴とする樹脂封止型半導体装置
  2. 前記シリコーン樹脂組成物中の上記平均組成式(A)において、前記Rに導入される前記アルケニル基はビニル基であり、前記Rに導入される前記アルキル基はメチル基であることを特徴とする請求項1記載の樹脂封止型半導体装置
JP2007054679A 2007-03-05 2007-03-05 半導体装置 Active JP4519869B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007054679A JP4519869B2 (ja) 2007-03-05 2007-03-05 半導体装置
US11/958,111 US7851564B2 (en) 2007-03-05 2007-12-17 Silicone resin composition
KR1020080020143A KR100932030B1 (ko) 2007-03-05 2008-03-04 실리콘 수지 조성물 및 반도체 장치
TW97107495A TW200902630A (en) 2007-03-05 2008-03-04 Silicone resin composition and semiconductor device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007054679A JP4519869B2 (ja) 2007-03-05 2007-03-05 半導体装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2008214512A JP2008214512A (ja) 2008-09-18
JP4519869B2 true JP4519869B2 (ja) 2010-08-04

Family

ID=39741949

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007054679A Active JP4519869B2 (ja) 2007-03-05 2007-03-05 半導体装置

Country Status (4)

Country Link
US (1) US7851564B2 (ja)
JP (1) JP4519869B2 (ja)
KR (1) KR100932030B1 (ja)
TW (1) TW200902630A (ja)

Families Citing this family (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4519869B2 (ja) 2007-03-05 2010-08-04 株式会社東芝 半導体装置
US7960192B2 (en) * 2007-09-14 2011-06-14 3M Innovative Properties Company Light emitting device having silicon-containing composition and method of making same
JP2009173773A (ja) 2008-01-24 2009-08-06 Toshiba Corp シリコーン樹脂組成物および半導体装置
JP4680274B2 (ja) * 2008-03-10 2011-05-11 信越化学工業株式会社 高硬度シリコーンゴムを与える組成物およびそれを封止材として用いた半導体装置
JP2010013503A (ja) * 2008-07-01 2010-01-21 Showa Highpolymer Co Ltd 硬化性樹脂組成物およびオプトデバイス
JP5170463B2 (ja) * 2008-10-24 2013-03-27 信越化学工業株式会社 可視光遮光性シリコーンゴム組成物及びその硬化物並びに光半導体装置
JP5381684B2 (ja) * 2009-12-22 2014-01-08 日亜化学工業株式会社 発光装置の製造方法
KR100976461B1 (ko) 2009-12-30 2010-08-17 제일모직주식회사 봉지재용 투광성 수지 및 이를 포함하는 전자 소자
KR101030019B1 (ko) 2009-12-31 2011-04-20 제일모직주식회사 봉지재용 투광성 수지 및 이를 포함하는 전자 소자
JP4788837B2 (ja) * 2010-01-26 2011-10-05 横浜ゴム株式会社 シリコーン樹脂組成物およびその使用方法、シリコーン樹脂、シリコーン樹脂含有構造体、ならびに光半導体素子封止体
WO2012093910A2 (ko) * 2011-01-06 2012-07-12 주식회사 엘지화학 경화성 조성물
KR101547382B1 (ko) * 2011-01-06 2015-08-26 주식회사 엘지화학 경화성 조성물
KR101547381B1 (ko) * 2011-01-06 2015-08-26 주식회사 엘지화학 경화성 조성물
CN103403096B (zh) 2011-01-06 2015-09-23 Lg化学株式会社 可固化组合物
JP5760664B2 (ja) * 2011-05-10 2015-08-12 三菱化学株式会社 シリコーン系封止材組成物及び半導体発光装置
JP5912600B2 (ja) * 2011-09-16 2016-04-27 東レ・ダウコーニング株式会社 硬化性シリコーン組成物、その硬化物、および光半導体装置
KR101869246B1 (ko) * 2012-01-13 2018-07-20 엘지이노텍 주식회사 발광소자 패키지
JP2013159671A (ja) * 2012-02-02 2013-08-19 Dow Corning Toray Co Ltd 硬化性シリコーン組成物、その硬化物、および光半導体装置
JP2014051636A (ja) * 2012-09-10 2014-03-20 Dow Corning Toray Co Ltd 硬化性シリコーン組成物、半導体デバイスの製造方法、および半導体デバイス
US10135008B2 (en) 2014-01-07 2018-11-20 Universal Display Corporation Organic electroluminescent materials and devices
WO2017110621A1 (ja) * 2015-12-21 2017-06-29 住友化学株式会社 シリコーン樹脂組成物およびその使用
WO2017110623A1 (ja) * 2015-12-21 2017-06-29 住友化学株式会社 シリコーン樹脂組成物および半導体発光素子用封止材
KR20180099737A (ko) * 2015-12-21 2018-09-05 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 실리콘 수지 조성물 및 반도체 발광 소자용 밀봉재
JP6658295B2 (ja) 2016-05-19 2020-03-04 株式会社オートネットワーク技術研究所 止水用シリコーンゴム組成物、止水用シリコーンゴム成形体およびワイヤーハーネス
JP7297460B2 (ja) * 2019-02-20 2023-06-26 旭化成株式会社 紫外線照射装置
CN116333465B (zh) * 2023-05-23 2023-08-08 北京助天科技集团有限公司 一种有机-无机复合材料、其制备方法及应用

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03149260A (ja) * 1989-08-28 1991-06-25 General Electric Co <Ge> 液体射出成形可能なシリコーンゴム
JP2000129132A (ja) * 1998-10-28 2000-05-09 Dow Corning Corp シリコ―ン組成物、それらの製造法及びシリコ―ンエラストマ―
JP2000198930A (ja) * 1998-12-28 2000-07-18 Shin Etsu Chem Co Ltd 付加硬化型シリコ―ン組成物
JP2004186168A (ja) * 2002-11-29 2004-07-02 Shin Etsu Chem Co Ltd 発光ダイオード素子用シリコーン樹脂組成物
JP2005042099A (ja) * 2003-07-09 2005-02-17 Shin Etsu Chem Co Ltd シリコーンゴム組成物並びに発光半導体被覆保護材及び発光半導体装置
JP2006335857A (ja) * 2005-06-01 2006-12-14 Ge Toshiba Silicones Co Ltd 透明な硬化物を与えるポリオルガノシロキサン組成物

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5989719A (en) * 1998-10-13 1999-11-23 Dow Corning Corporation Oil resistant liquid silicone rubber compositions
US6501219B1 (en) * 1999-07-29 2002-12-31 General Electric Company Shatter-resistant incandescent lamp, silicone coating composition, and method
DE10161334A1 (de) * 2001-12-13 2003-07-17 Wacker Chemie Gmbh Alkenylgruppen aufweisende Siloxancopolymere als Antimisting Additive für Siliconbeschichtungszusammensetzungen
JP3865639B2 (ja) * 2002-01-28 2007-01-10 信越化学工業株式会社 半導体封止用シリコーン組成物および半導体装置
US6623864B1 (en) * 2003-01-13 2003-09-23 Dow Corning Corporation Silicone composition useful in flame retardant applications
JP2004292714A (ja) 2003-03-28 2004-10-21 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd 硬化性組成物、硬化物、その製造方法およびその硬化物により封止された発光ダイオード
US20050038219A1 (en) * 2003-08-14 2005-02-17 Yu-Chin Lai Process for the production of high refractive index polysiloxane-based polymeric compositions for use in medical devices
JP4634810B2 (ja) * 2005-01-20 2011-02-16 信越化学工業株式会社 シリコーン封止型led
JP4872296B2 (ja) 2005-09-30 2012-02-08 日亜化学工業株式会社 シリコーンゴム封止型発光装置、及び該発光装置の製造方法
US7479522B2 (en) * 2005-11-09 2009-01-20 Momentive Performance Materials Inc. Silicone elastomer composition
JP4519869B2 (ja) 2007-03-05 2010-08-04 株式会社東芝 半導体装置

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03149260A (ja) * 1989-08-28 1991-06-25 General Electric Co <Ge> 液体射出成形可能なシリコーンゴム
JP2000129132A (ja) * 1998-10-28 2000-05-09 Dow Corning Corp シリコ―ン組成物、それらの製造法及びシリコ―ンエラストマ―
JP2000198930A (ja) * 1998-12-28 2000-07-18 Shin Etsu Chem Co Ltd 付加硬化型シリコ―ン組成物
JP2004186168A (ja) * 2002-11-29 2004-07-02 Shin Etsu Chem Co Ltd 発光ダイオード素子用シリコーン樹脂組成物
JP2005042099A (ja) * 2003-07-09 2005-02-17 Shin Etsu Chem Co Ltd シリコーンゴム組成物並びに発光半導体被覆保護材及び発光半導体装置
JP2006335857A (ja) * 2005-06-01 2006-12-14 Ge Toshiba Silicones Co Ltd 透明な硬化物を与えるポリオルガノシロキサン組成物

Also Published As

Publication number Publication date
US20080220266A1 (en) 2008-09-11
TW200902630A (en) 2009-01-16
JP2008214512A (ja) 2008-09-18
TWI367920B (ja) 2012-07-11
KR100932030B1 (ko) 2009-12-15
US7851564B2 (en) 2010-12-14
KR20080081838A (ko) 2008-09-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4519869B2 (ja) 半導体装置
JP2009173773A (ja) シリコーン樹脂組成物および半導体装置
JP4636242B2 (ja) 光半導体素子封止材及び光半導体素子
JP5149022B2 (ja) 光半導体封止用シリコーン組成物及びそれを用いた光半導体装置
JP5136963B2 (ja) 硬化性シリコーンゴム組成物及び半導体装置
JP4933179B2 (ja) 硬化性シリコーンゴム組成物及びその硬化物
TWI683877B (zh) 加成硬化性聚矽氧樹脂組成物及光半導體裝置用芯片黏接材料
KR102065203B1 (ko) 광반도체 소자 밀봉용 실리콘 조성물 및 광반도체 장치
TWI666267B (zh) 聚矽氧凝膠組合物
TW201538637A (zh) 加成硬化型聚矽氧組成物
JPWO2007125785A1 (ja) 硬化性樹脂組成物
JP2013170270A (ja) 分岐状ポリシロキサンおよびこれらの使用
TWI762649B (zh) 黏晶用固化性矽組合物
TW201439216A (zh) 附加硬化型矽氧烷組成物、光學元件封止材料及光學元件
EP3587498B1 (en) Curable organopolysiloxane composition and semiconductor device
JP2011231145A (ja) シリコーン樹脂用組成物
TW202012510A (zh) 聚矽氧硬化物的製造方法、聚矽氧硬化物及光學用構件
TWI830872B (zh) 晶片黏合用矽氧樹脂組成物、硬化物及光半導體裝置
JP6998905B2 (ja) 付加硬化型シリコーン組成物、硬化物及び光半導体素子
JP2020070402A (ja) 付加硬化型シリコーン樹脂組成物、その硬化物、及び光半導体装置
JP2020070324A (ja) 付加硬化型シリコーン樹脂組成物、その硬化物、及び光半導体装置
TW202010780A (zh) 可固化的有機聚矽氧烷組合物、密封劑和半導體裝置
CN111607231B (zh) 加成固化型硅酮组合物、光反射材料用硅酮固化物、光反射材料及光半导体装置
JP7100600B2 (ja) 硬化性有機ケイ素樹脂組成物
TW202115188A (zh) 加成硬化型聚矽氧組成物及光學元件

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20090210

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090217

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090408

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20100420

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20100519

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130528

Year of fee payment: 3

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 4519869

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130528

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140528

Year of fee payment: 4

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250