JP4480001B2 - ムラ欠陥検査マスク、ムラ欠陥検査装置及び方法、並びにフォトマスクの製造方法 - Google Patents
ムラ欠陥検査マスク、ムラ欠陥検査装置及び方法、並びにフォトマスクの製造方法 Download PDFInfo
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Description
本発明の第2の目的は、被検査体の繰り返しパターンに発生したムラ欠陥を高精度に検出できるムラ欠陥検査装置を提供することにある。
本発明の第3の目的は、被検査体の繰り返しパターンに発生したムラ欠陥を高精度に検出できるムラ欠陥検査方法を提供することにある。
本発明の第4の目的は、フォトマスクの遮光パターンにおける繰り返しパターンに発生したムラ欠陥を高精度に検出できるフォトマスクの製造方法を提供することにある。
図1は、本発明に係るムラ欠陥検査装置の一実施の形態の構成を示す斜視図である。図2は、図1におけるフォトマスクのチップにおける繰り返しパターンを示す平面図である。
また、ピッチムラ欠陥57は、図3(C)及び(D)に示すように、繰り返しパターン51における単位パターン53の配列間隔の異常に基づくものであり、描画の繋ぎ目に位置ずれが発生することによって、繰り返しパターン51における単位パターン53の間隔が部分的に異なってしまうことにより発生するムラ欠陥である。
また、ディフェクトムラ欠陥59は、図4(C)及び(D)に示すように、繰り返しパターン51における単位パターン53の形状欠陥に基づくものであり、描画の繋ぎ目に単位パターン53が存在し、この繋ぎ目が重なってオーバー露光となることにより発生するムラ欠陥(突起)、繋ぎ目が離れてアンダー露光となることにより発生するムラ欠陥(クワレ)である。
図9に示すCDムラ欠陥検査マスク20は、上述のようなレジストの現像や遮光膜のエッチングに起因したCDムラを疑似的に発生させたムラ欠陥検査マスクである。このCDムラ欠陥検査マスク20も、多数の単位パターン63が配列された繰り返しパターン61を備えた複数のチップ65が、透明基板62の縦横に配置されている。
例えば、上記受光器13は、フォトマスク50における繰り返しパターン51の単位パターン53のエッジ部で散乱された光を受光するものを述べたが、このフォトマスク50の繰り返しパターン51における単位パターン53間を透過する透過光、特にこの透過光のうち、単位パターン53のエッジ部で回折された回折光を受光してもよい。
また、擬似ムラ欠陥として、CDムラ欠陥、ピッチムラ欠陥、バッティングムラ欠陥及びディフェクトムラ欠陥を挙げたが、他の種類の擬似ムラ欠陥を用いてもよく、強度の割り振り方も上記実施の形態に限定されるものではない。
13 受光器
14 解析装置
16 CDムラ欠陥検査マスク
17 ピッチムラ欠陥検査マスク
18 バッティングムラ欠陥検査マスク
19 ディフェクトムラ欠陥検査マスク
20 CDムラ欠陥検査マスク
50 フォトマスク
51 繰り返しパターン
52 透明基板
53 単位パターン
56 CDムラ欠陥
57 ピッチムラ欠陥
58 バッティングムラ欠陥
59 ディレクトムラ欠陥
61 繰り返しパターン
62 透明基板
63 単位パターン
66、67、68、69、70 疑似ムラ欠陥
Claims (7)
- 所定の繰り返しパターンに発生するムラ欠陥の種類毎に、当該ムラ欠陥の強度を段階的に変更して割り振った複数の疑似ムラ欠陥をそれぞれ有する複数の繰り返しパターンが、基板上に形成されて構成されたことを特徴とするムラ欠陥検査マスク。
- 上記ムラ欠陥の種類は、繰り返しパターンにおける単位パターンの線幅の異常に基づくCDムラ欠陥、繰り返しパターンにおける単位パターンの間隔の異常に基づくピッチムラ欠陥、繰り返しパターンにおける単位パターンの位置ずれに基づくバッティングムラ欠陥、繰り返しパターンにおける単位パターンの形状欠陥に基づくディフェクトムラ欠陥の少なくとも一つであることを特徴とする請求項1に記載のムラ欠陥検査マスク。
- 多数の単位パターンが規則的に配列された繰り返しパターンを有する被検査体の上記繰り返しパターンに発生したムラ欠陥を検査するムラ欠陥検査装置であって、
請求項1または2に記載のムラ欠陥検査マスクにおける複数の疑似ムラ欠陥を検出することにより検出感度が確認され、または確認して調整されるよう構成されたことを特徴とするムラ欠陥検査装置。 - 上記被検査体が、映像デバイスまたはこの映像デバイスを製造するためのフォトマスクであることを特徴とする請求項3に記載のムラ欠陥検査装置。
- 多数の単位パターンが規則的に配列された繰り返しパターンを有する被検査体の上記繰り返しパターンに発生したムラ欠陥を検査するムラ欠陥検査方法であって、
上記被検査体における上記繰り返しパターンのムラ欠陥を、請求項3に記載のムラ欠陥検査装置を用いて検査することを特徴とするムラ欠陥検査方法。 - 上記被検査体が、映像デバイスまたはこの映像デバイスを製造するためのフォトマスクであることを特徴とする請求項5に記載のムラ欠陥検査方法。
- 透光性基板上に所定の遮光膜パターンを備えたフォトマスクを製造するフォトマスクの製造方法において、
上記透光性基板上に、多数の単位パターンが規則的に配列された繰り返しパターンからなる遮光膜パターンを形成する遮光膜パターン形成工程と、
上記繰り返しパターンに発生したムラ欠陥を、請求項5に記載のムラ欠陥検査方法を実施して検査するムラ欠陥検査工程と、を有することを特徴とするフォトマスクの製造方法。
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