CN1983023A - 波纹缺陷检查方法和***及光掩模的制造方法 - Google Patents

波纹缺陷检查方法和***及光掩模的制造方法 Download PDF

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Abstract

波纹缺陷检查方法和***及光掩模的制造方法。本发明的课题是提供可以有效地且高精度地进行波纹缺陷检查的波纹缺陷检查方法。作为解决手段，波纹缺陷检查方法，检查在具有规律地排列了多个单位图形的重复图形的光掩模(50)的上述重复图形中产生的波纹缺陷，在利用图形信息获取装置(20)的摄像机(21)拍摄到的光掩模的整体图像中，指定具有成为波纹缺陷检查的对象的重复图形的区域作为检查区域，从该检查区域中的重复图形的利用显微镜(22)拍摄到的图像中获取相关重复图形的图形信息，根据该图形信息确定通过波纹缺陷检查装置(10)进行波纹缺陷检查的检查条件，由上述波纹缺陷检查装置根据该检查条件实施波纹缺陷检查。

Description

波纹缺陷检查方法和***及光掩模的制造方法
技术领域
本发明涉及检测视频装置中的图形的波纹(ムラ)缺陷、或者检测用于制造视频装置的光掩模中的图形的波纹缺陷的波纹缺陷检查方法和***、及光掩模的制造方法。
背景技术
以往，在制造摄像装置和显示装置等的视频装置或者制造它们用的光掩模中，作为在表面上形成的图形的检查项目有波纹缺陷检查。波纹缺陷是指有规律地排列的图形中出现意外产生的不同规律性的误差，在制造过程等中由于种种原因而产生。
在摄像装置和显示装置中，如果存在波纹缺陷，则产生灵敏度不均匀和显示不均匀，有可能降低装置的性能。在制造摄像装置和显示装置时使用的光掩模中，如果在光掩模的图形中产生波纹缺陷，则因该波纹缺陷将被转印到视频装置的图形中，有可能降低视频装置的性能。
以往，如上述的视频装置的图形和光掩模的图形中的波纹缺陷由于通常是规律地排列有细微的缺陷，因而在各个图形的形状检查中无法检测到的情况较多，但在作为整体区域而考虑时，会造成与其他部分不同的状态。因此，波纹缺陷检查主要通过基于目视的斜光检查等的外观检查来实施。
另一方面，在视频装置基板(例如液晶TFT基板等)中，有例如专利文献1所公开的检查波纹缺陷的装置。该波纹缺陷检查装置向基板表面照射光，通过观察来自该表面所形成的图形的边缘部的散射光，检测波纹缺陷。
专利文献1  日本特开平10-300447号公报
但是，如上述的基于目视的波纹缺陷检查是主观性检查，因此检查结果因进行检查的作业者而产生偏差。所以，有可能无法高精度地检测光掩模和视频装置的图形中的波纹缺陷。
并且，专利文献1所记载的波纹缺陷检查装置检测视频装置中的图形的波纹缺陷，而不检测用于制造该视频装置的光掩模的图形的波纹缺陷。
另外，在光掩模或视频装置的图形(重复图形)中，各个图形(单位图形)的形状或间距等的图形信息因其种类而不同，需要根据重复图形的上述图形信息变更波纹缺陷的检查条件。可是，在专利文献1所记载的波纹缺陷检查装置中，并不根据需要检查的重复图形的图形信息变更波纹缺陷检查的检查条件，其结果是，无法高精度地检测波纹缺陷。
发明内容
本发明就是考虑到上述情况而提出的，其目的在于，提供可有效地且高精度地实施波纹缺陷检查的波纹缺陷检查方法和***、及光掩模的制造方法。
本发明的技术方案之一的波纹缺陷检查方法，检查在具有规律地排列了多个单位图形的重复图形的被检查体的上述重复图形中产生的波纹缺陷，其特征在于，在上述被检查体的整体图像中指定成为波纹缺陷检查的检查对象的检查区域，从该检查区域中的上述重复图形的图像中获取相关重复图形的图形信息，根据该图形信息确定波纹缺陷检查的检查条件，根据该检查条件实施波纹缺陷检查。
本发明的技术方案之二的波纹缺陷检查方法的特征在于，在本发明的技术方案之一中，上述被检查体是视频装置或用于制造该视频装置的光掩模。
本发明的技术方案之三的波纹缺陷检查***，检查在具有规律地排列了多个单位图形的重复图形的被检查体的上述重复图形中产生的波纹缺陷，其特征在于，具有：图形信息获取单元，其可以在上述被检查体的整体图像中指定成为波纹缺陷检查的检查对象的检查区域，从该检查区域中的上述重复图形的图像中获取相关重复图形的图形信息；以及波纹缺陷检查单元，其根据基于由该图形信息获取单元获取的图形信息确定的检查条件，检查在上述重复图形中产生的波纹缺陷。
本发明的技术方案之四的波纹缺陷检查***的特征在于，在本发明的技术方案之三中，上述被检查体是视频装置或用于制造该视频装置的光掩模。
本发明的技术方案之五的光掩模的制造方法，制造在透光性基板上具有预定的遮光膜图形的光掩模，其特征在于，具有：遮光膜图形形成步骤，在上述透光性基板上形成由规律地排列了多个单位图形的重复图形构成的遮光膜图形；以及波纹缺陷检查步骤，实施本发明的技术方案之一所述的波纹缺陷检查方法而检查在上述重复图形中产生的波纹缺陷。
根据本发明的技术方案之一、之二或之五，在实施波纹缺陷检查之前，在被检查体的整体图像中指定成为波纹缺陷检查的检查对象的检查区域，从该检查区域中的重复图形的图像中获取该重复图形的图形信息，根据该图形信息确定波纹缺陷检查的检查条件，所以能够根据成为检查对象的重复图形优化该波纹缺陷检查的检查条件，能够有效地且高精度地实施在被检查体的重复图形中产生的波纹缺陷的检查。
根据本发明的技术方案之三或之四，在通过波纹缺陷检查单元实施波纹缺陷检查之前，图形信息获取单元可以在被检查体的整体图像中指定成为波纹缺陷检查的检查对象的检查区域，从该检查区域中的重复图形的图像中获取相关重复图形的图形信息，根据由该图形信息获取单元获取的重复图形的图形信息，确定通过波纹缺陷检查单元进行波纹缺陷检查的检查条件，所以能够根据成为检查对象的重复图形优化该检查条件。其结果是，能够有效地且高精度地实施在被检查体的重复图形中产生的波纹缺陷的检查。
附图说明
图1是表示本发明的波纹缺陷检查***的一利实施方式的***结构图。
图2是表示图1中的图形信息获取装置实施的整体图像取入处理等的实施状况的立体图。
图3是表示图1中的图形信息获取装置实施的图形图像取入处理等的实施状况的立体图。
图4是表示图1中的波纹缺陷检查装置实施的波纹缺陷的检查状况的立体图。
图5是表示图1和图4的光掩模中的重复图形的俯视图。
图6是表示图1中的波纹缺陷检查***实施的动作的流程图。
具体实施方式
下面，根据附图说明用于实施本发明的优选方式。
图1是表示本发明的波纹缺陷检查***的一种实施方式的***结构图。图4是表示图1中的波纹缺陷检查装置实施的波纹缺陷的检查状况的立体图。
图1所示的波纹缺陷检查***30是检测在作为被检查体的光掩模50的表面上形成的重复图形51(图5)中产生的波纹缺陷的***，构成为具有作为图形信息获取单元的图形信息获取装置20、和作为波纹缺陷检查单元的波纹缺陷检查装置10。上述光掩模50是用于制造视频装置的曝光掩模。
这里，视频装置是如对多个像素图形进行最终的图像处理或画面显示的装置，可以列举出摄像装置和显示装置。摄像装置以CCD、CMOS、VMIS等固体摄像装置为代表。并且，显示装置以液晶显示装置、等离子显示装置、EL显示装置、LED显示装置、DMD显示装置为代表。因此，形成摄像装置的摄像面的上述像素图形具体讲是形成CCD和CMOS等的受光部的重复图形。并且，形成显示装置的显示面的像素图形具体讲是液晶显示面板的薄膜晶体管或相对基板、滤色器等的重复图形。
上述光掩模50具有由在玻璃等的透明基板52(图4)上部分去除铬膜等遮光膜而形成的遮光图形构成的所期望的重复图形51(图5)。该重复图形51是使用光刻法转印上述视频装置的多个像素图形时所用的图形，对应于像素图形规律地排列多个单位图形53而构成。图4和图5中的标号55表示形成有重复图形51的芯片，在光掩模50上设置例如约5×5个。
该光掩模50的制造方法具有：遮光膜图形形成步骤，形成由规律地排列了多个单位图形53的重复图形51构成的遮光膜图形；以及波纹缺陷检查步骤，实施使用图1所示的波纹缺陷检查***30的波纹缺陷检查方法而检查在重复图形51中产生的波纹缺陷。
遮光膜图形形成步骤首先在透明基板52(图4)上形成遮光膜，在该遮光膜上形成抗蚀膜。接着，向该抗蚀膜照射描绘机中的电子束或激光束进行描绘，对预定图形曝光。接着，选择性地去除描绘部和非描绘部，形成抗蚀图形。然后，把抗蚀图形作为掩模，蚀刻遮光膜，在该遮光膜上形成由多个单位图形53(图5)构成的重复图形51，形成遮光膜图形。
在上述遮光膜图形形成步骤中，在通过电子束或激光束的扫描，对抗蚀膜实施描绘时，根据波束的扫描宽度或波束直径，在描绘中产生接头，有时在该接头处按照每个描绘单位周期性地产生因描绘不良造成的缺陷，这成为产生所述波纹缺陷的原因。
图1所示的波纹缺陷检查***30检测在光掩模50中的重复图形51中产生的波纹缺陷，其中的波纹缺陷检查装置10如图4所示那样构成为具有载物台11、光源12、受光器13和分析装置14。载物台11是载置光掩模50的台。并且，光源12配置在载物台11的一方侧上方，从斜上方向光掩模50表面上的重复图形51照射光。
受光器13配置在载物台11的另一方侧上方，接受从光掩模50的重复图形51反射的反射光、特别是在重复图形51中的单位图形53的边缘部散射的散射光，并转换为受光数据。例如，该受光器13使用CCD线传感器或CCD面传感器等摄像传感器。在通过受光器13转换的受光数据中，如果光掩模50的重复图形51中产生波纹缺陷，则受光数据的规律性产生紊乱。因此，利用分析装置14分析该受光数据，从而检测出波纹缺陷。
波纹缺陷检查***30的图1所示的图形信息获取装置20获取光掩模50中的重复图形51的图形信息，详细情况将在后面说明。根据该图形信息，确定了上述波纹缺陷检查装置10中的波纹缺陷检查的检查条件(例如，从光源12向光掩模50照射的照射光的入射角、受光器13的摄像倍率等)。
光掩模50的制造方法中的所述波纹缺陷检查步骤，通过实施使用了波纹缺陷检查***30的波纹缺陷检查方法，检查(检测)在光掩模50的重复图形51中产生的波纹缺陷，其中，所述波纹缺陷检查方法为：根据由图形信息获取装置20获取的重复图形51的图形信息，确定波纹缺陷检查装置10的检查条件，根据该检查条件，从波纹缺陷检查装置10的光源12向光掩模50的重复图形51照射光，受光器13接受在重复图形51的单位图形53中的边缘部散射的散射光，由分析装置14分析受光数据。
另外，图1所示的上述图形信息获取装置20构成为具有：可以拍摄整体光掩模50的摄像机21；可以拍摄光掩模50的重复图形51的显微镜22；以及取入来自摄像机21和显微镜22的图像而进行处理并显示的图像处理显示装置23。
如图2所示，摄像机21拍摄整体光掩模50，该光掩模50的整体图像被取入到图像处理显示装置23中，从而实施整体图像取入处理。在光掩模50中除了成为波纹缺陷的检查对象的重复图形51以外，还包括不成为波纹缺陷的检查对象的重复图形51。图像处理显示装置23构成为可以在光掩模50的整体图像中指定具有成为波纹缺陷检查对象的重复图形51的区域作为检查区域。该指定例如针对每一个或多个芯片55分别实施。
如图3所示，显微镜22构成为可以拍摄所指定的上述检查区域中的重复图形51，通过向图像处理显示装置23中取入该重复图形51的图像，实施图形图像取入处理。图像处理显示装置23从取入并显示的重复图形51的图像中获取该重复图形51的图形信息。该图形信息是构成重复图形51的单位图形53的形状或间距等。
并且，根据该图形信息，确定通过波纹缺陷检查装置10实施波纹缺陷检查用的检查条件。该检查条件例如是根据单位图形的形状确定的、从光源12向光掩模50照射的照射光的入射角，另外，是根据单位图形53的间距确定的受光器13的摄像倍率等。该检查条件的确定是由检查员根据图像处理显示装置23获取的重复图形51的图形信息选择并确定的。或者，在图像处理显示装置23中存储了图形信息和检查条件之间的对应表的情况下，该图像处理显示装置23可以根据上述对应表由所获取的图形信息来确定检查条件。
根据这样确定的检查条件，波纹缺陷检查装置10按照前面所述那样检查(检测)在光掩模50的重复图形51中产生的波纹缺陷。
接着，使用图6的流程图说明如上所述构成的波纹缺陷检查***30的作用。
首先，图形信息获取装置20的摄像机21拍摄整体光掩模50，实施由图像处理显示装置23取入并显示该光掩模50的整体图像的整体图像取入处理(S1)。接着，检查员指定在图像处理显示装置23中的光掩模50的图像中具有成为波纹缺陷检查对象的重复图形51的区域作为检查区域(S2)。
这样，对于上述检查区域，由显微镜22拍摄重复图形51，实施由图像处理显示装置23取入并显示该重复图形51的图像的图形图像取入处理(S3)。并且，从图像处理显示装置23中的重复图形51的图像中获取该重复图形51的图形信息(例如单位图形53的形状或间距等)(S4)。
检查员根据所获取的图形信息，选择并确定在波纹缺陷检查装置10中用于实施波纹缺陷检查的检查条件(S5)。然后，根据该检查条件，由波纹缺陷检查装置10检查(检测)在光掩模50的重复图形51中产生的波纹缺陷(S6)。
由于是按上面所述构成的，所以根据上述实施方式获得以下效果。
在利用波纹缺陷检查装置10检查在光掩模50的重复图形51中产生的波纹缺陷之前，使用图形信息获取装置20，在摄像机21拍摄的光掩模50的整体图像中指定具有成为波纹缺陷检查的对象的重复图形51的区域作为检查区域，从该检查区域的重复图形51的显微镜图像中获取相关重复图形51的图形信息，根据使用该图形信息获取装置20获取的重复图形51的图形信息，确定波纹缺陷检查装置10进行缺陷检查的检查条件。因此，即使在光掩模50中的重复图形51的图形信息不明确时，也能够根据成为检查对象的重复图形51优化波纹缺陷检查的检查条件。其结果是，能够利用波纹缺陷检查装置10有效地且高精度地实施在光掩模50的重复图形51中产生的波纹缺陷的检查。
以上，根据上述实施方式说明了本发明，但本发明不限于此。
例如，在上述实施方式中叙述了被检查体是光掩模50，波纹缺陷检查***30检测在用于制造视频装置的上述光掩模50的重复图形51中产生的波纹缺陷的情况，但该被检查体也可以是摄像装置或显示装置等的视频装置。在这种情况下，波纹缺陷检查***30利用图形信息获取装置20获取形成摄像装置中的摄像面的像素图形(具体讲指形成CCD或CMOS等的受光部的重复图形)、或者形成显示装置中的显示面的像素图形(具体讲指液晶显示面板的薄膜晶体管或相对基板、滤色器等的重复图形)中的各个图形信息，根据该图形信息确定波纹缺陷检查的检查条件，根据该检查条件，使用波纹缺陷检查装置10检测在上述像素图形中产生的波纹缺陷。
另外，作为被检查体也可以是制造DRAM、SRAM等的半导体存储器用的光掩模。在这种情况下，波纹缺陷检查***30利用图形信息获取装置20获取该光掩模的重复图形中的图形信息，根据该图形信息确定波纹缺陷检查的检查条件，根据该检查条件，使用波纹缺陷检查装置10检测在上述重复图形中产生的波纹缺陷，由此可以检查局部CD误差等的波纹缺陷。
并且，叙述了波纹缺陷检查装置10中的受光器13接受在光掩模50中的重复图形51的单位图形53的边缘部所散射的光，但也可以接受透过该光掩模50的重复图形51中的单位图形53之间的透过光，特别是该透过光中的在单位图形53的边缘部发生衍射的衍射光。

Claims (5)

1.一种波纹缺陷检查方法，检查在具有规律地排列了多个单位图形的重复图形的被检查体的上述重复图形中产生的波纹缺陷，其特征在于，
在上述被检查体的整体图像中指定成为波纹缺陷检查的检查对象的检查区域，从该检查区域中的上述重复图形的图像中获取相关重复图形的图形信息，根据该图形信息确定波纹缺陷检查的检查条件，根据该检查条件实施波纹缺陷检查。
2.根据权利要求1所述的波纹缺陷检查方法，其特征在于，上述被检查体是视频装置或用于制造该视频装置的光掩模。
3.一种波纹缺陷检查***，检查在具有规律地排列了多个单位图形的重复图形的被检查体的上述重复图形中产生的波纹缺陷，其特征在于，具有：
图形信息获取单元，其可以在上述被检查体的整体图像中指定成为波纹缺陷检查的检查对象的检查区域，从该检查区域中的上述重复图形的图像中获取相关重复图形的图形信息；以及
波纹缺陷检查单元，其根据基于由该图形信息获取单元获取的图形信息确定的检查条件，检查在上述重复图形中产生的波纹缺陷。
4.根据权利要求3所述的波纹缺陷检查***，其特征在于，上述被检查体是视频装置或用于制造该视频装置的光掩模。
5.一种光掩模的制造方法，制造在透光性基板上具有预定的遮光膜图形的光掩模，其特征在于，具有：
遮光膜图形形成步骤，在上述透光性基板上形成由规律地排列了多个单位图形的重复图形构成的遮光膜图形；以及
波纹缺陷检查步骤，实施权利要求1所述的波纹缺陷检查方法而检查在上述重复图形中产生的波纹缺陷。
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