JP4397299B2 - 基板処理装置 - Google Patents
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Description
また、ノズルは遮断部材の貫通孔に挿入されているため、基板処理中に処理液が飛散してノズルに大量の処理液が付着することがない。このため、ノズル移動時においてノズルから処理液が落ちて基板あるいは基板周辺部材に付着して悪影響を及ぼすことが防止される。その結果、ノズルの洗浄も不要となり、装置のスループットを向上させることができる。
また、ノズルが退避位置に位置決めされた状態で、貫通孔から気体を噴出させる気体噴出手段を備えているため、ノズルが遮断部材から離れた退避位置に位置決めされる際にも、気体噴出手段により貫通孔から気体が噴出されているので、処理液が貫通孔に入り込み基板に向けて処理液が跳ね返ることがない。このため、貫通孔に起因する処理液の跳ね返りを抑制して、基板の上面中央部(非処理領域)が腐食されるのを防止することができる。
このように構成された発明では、遮断部材が基板の上面に対向して配設されるので、基板の上面が基板周囲の外部雰囲気から確実に遮断される。また、遮断部材は、その周縁部にノズルが挿入可能な上下方向に貫通する貫通孔を有しているので、ノズルを該貫通孔に挿入させて基板の上面周縁部と対向して配置させることができる。このため、基板保持手段により保持された基板を回転させるとともに、ノズルから処理液を供給することで、基板の上面周縁部の全周に渡って直接に処理液を供給することができる。したがって、遮断部材が基板の上面を覆うことで基板の上面中央部(非処理領域)へ処理液が付着するのを防止しながら、基板の径方向における周端面からの処理幅を均一にして処理することができる。さらに、貫通孔の位置を変えて遮断部材を構成することで基板の径方向における周端面からの処理幅を自由に、例えば、処理液を基板の下面から上面周縁部に回り込ませる場合に比べて処理幅を大きくすることも可能である。
また、ノズルは遮断部材の貫通孔に挿入されているため、基板処理中に処理液が飛散してノズルに大量の処理液が付着することがない。このため、ノズル移動時においてノズルから処理液が落ちて基板あるいは基板周辺部材に付着して悪影響を及ぼすことが防止される。その結果、ノズルの洗浄も不要となり、装置のスループットを向上させることができる。
また、ノズルが退避位置に位置決めされた状態で、回転手段は基板とともに遮断部材を回転させるようにしているため、遮断部材に付着する処理液を振り切るとともに、基板と遮断部材との間に回転に伴う余分な気流が発生するのを防止することができ、より良好な基板処理を行うことができる。
このように構成された発明では、遮断部材が基板の上面に対向して配設されるので、基板の上面が基板周囲の外部雰囲気から確実に遮断される。また、遮断部材は、その周縁部にノズルが挿入可能な上下方向に貫通する貫通孔を有しているので、ノズルを該貫通孔に挿入させて基板の上面周縁部と対向して配置させることができる。このため、基板保持手段により保持された基板を回転させるとともに、ノズルから処理液を供給することで、基板の上面周縁部の全周に渡って直接に処理液を供給することができる。したがって、遮断部材が基板の上面を覆うことで基板の上面中央部(非処理領域)へ処理液が付着するのを防止しながら、基板の径方向における周端面からの処理幅を均一にして処理することができる。さらに、貫通孔の位置を変えて遮断部材を構成することで基板の径方向における周端面からの処理幅を自由に、例えば、処理液を基板の下面から上面周縁部に回り込ませる場合に比べて処理幅を大きくすることも可能である。
また、ノズルは遮断部材の貫通孔に挿入されているため、基板処理中に処理液が飛散してノズルに大量の処理液が付着することがない。このため、ノズル移動時においてノズルから処理液が落ちて基板あるいは基板周辺部材に付着して悪影響を及ぼすことが防止される。その結果、ノズルの洗浄も不要となり、装置のスループットを向上させることができる。
また、基板がその下面に当接する少なくとも3個以上の支持部材によって離間して支持されるとともに、気体供給部から基板の上面に供給される気体によって支持部材に押圧されて回転部材に保持される。そして、回転手段が回転部材を回転させることで支持部材に押圧された基板は支持部材と基板との間に発生する摩擦力で支持部材に支持されながら、回転部材とともに回転することとなる。このように基板を回転部材に保持させることで基板の外周端部に接触して基板を保持する保持部材(例えば、チャックピン等)を不要とすることができるため、基板の回転により基板表面を伝って径方向外側に向かう処理液が直接に保持部材に当たって基板表面へ跳ね返ることがない。また、基板の外周端部付近の気流を乱す要因がないことからミスト状の処理液の基板表面側への巻き込みを軽減することができる。これにより、基板の上面中央部への処理液の付着を効果的に防止することができる。
ここで、ノズルが退避位置に位置決めされた状態で、貫通孔から気体を噴出させる気体噴出手段をさらに備え、気体噴出手段は気体供給部から供給される気体を貫通孔の内壁に設けられた気体導入口から貫通孔内に導くことで気体を貫通孔から噴出させるようにしてもよい。この構成によれば、ノズルが遮断部材から離れた退避位置に位置決めされる際にも、気体噴出手段により貫通孔から気体が噴出されているので、処理液が貫通孔に入り込み基板に向けて処理液が跳ね返ることがない。このため、貫通孔に起因する処理液の跳ね返りを抑制して、基板の上面中央部(非処理領域)が腐食されるのを防止することができる。また、ノズルが貫通孔から抜き出されると同時に貫通孔から気体が噴出されるので、気体の供給を効率良く行うことができる。また、気体噴出手段が気体供給部とは別個の気体供給源などから気体の供給を受ける場合に比べて、配管系などを共通利用できるため装置構成を簡略化することができる。
この発明にかかる基板処理装置のさらにまた別の態様は、基板を回転させながら基板に処理液を供給して所定の処理を施す基板処理装置であって、上記目的を達成するため、基板を保持する基板保持手段と、基板保持手段により保持された基板を回転させる回転手段と、回転する基板の上面周縁部に処理液を供給するノズルと、基板の上面に対向して配設されるとともに、その周縁部にノズルが挿入可能な上下方向に貫通する貫通孔を有する遮断部材と、ノズルを駆動することでノズルを貫通孔に挿入させて基板の上面周縁部に対向する対向位置と、遮断部材から離れた退避位置とに位置決めさせるノズル駆動機構とを備え、対向位置に位置決めされたノズルから基板の上面周縁部に処理液を供給し、遮断部材は貫通孔を複数個有するものであって、各貫通孔の遮断部材の周端面からの径方向における距離が互いに異なることを特徴としている。
このように構成された発明では、遮断部材が基板の上面に対向して配設されるので、基板の上面が基板周囲の外部雰囲気から確実に遮断される。また、遮断部材は、その周縁部にノズルが挿入可能な上下方向に貫通する貫通孔を有しているので、ノズルを該貫通孔に挿入させて基板の上面周縁部と対向して配置させることができる。このため、基板保持手段により保持された基板を回転させるとともに、ノズルから処理液を供給することで、基板の上面周縁部の全周に渡って直接に処理液を供給することができる。したがって、遮断部材が基板の上面を覆うことで基板の上面中央部(非処理領域)へ処理液が付着するのを防止しながら、基板の径方向における周端面からの処理幅を均一にして処理することができる。さらに、貫通孔の位置を変えて遮断部材を構成することで基板の径方向における周端面からの処理幅を自由に、例えば、処理液を基板の下面から上面周縁部に回り込ませる場合に比べて処理幅を大きくすることも可能である。
また、ノズルは遮断部材の貫通孔に挿入されているため、基板処理中に処理液が飛散してノズルに大量の処理液が付着することがない。このため、ノズル移動時においてノズルから処理液が落ちて基板あるいは基板周辺部材に付着して悪影響を及ぼすことが防止される。その結果、ノズルの洗浄も不要となり、装置のスループットを向上させることができる。
また、遮断部材は貫通孔を複数個有するものであって、各貫通孔の遮断部材の周端面からの径方向における距離が互いに異なるように構成しているため、複数の貫通孔に選択的にノズルを挿入させることで、処理内容に応じて適宜、基板の径方向における周端面からの処理幅を変更することができる。このため、基板の上面中央部へ処理液が付着するのを防止しながらも、処理内容に応じた処理幅で基板周縁部を均一に処理することができる。
5…スピンベース(回転部材)
6…ノズル
9…雰囲気遮断板(遮断部材)
9a…対向面
9b、90b…ガス噴出口(気体噴出口)
9d…ガス導入口(気体導入口)
9e〜9j…貫通孔
21…ガス供給部(気体供給部)
67…ノズル移動機構(ノズル駆動機構)
71…フィルム(支持部材)
J…鉛直軸
NTR…非処理領域
P1…対向位置
P2…退避位置
TR…上面処理領域(上面周縁部)
W…基板
Claims (11)
- 基板を回転させながら前記基板に処理液を供給して所定の処理を施す基板処理装置において、
前記基板を保持する基板保持手段と、
前記基板保持手段により保持された基板を回転させる回転手段と、
回転する前記基板の上面周縁部に前記処理液を供給するノズルと、
前記基板の上面に対向して配設されるとともに、その周縁部に前記ノズルが挿入可能な上下方向に貫通する貫通孔を有する遮断部材と、
前記ノズルを駆動することで前記ノズルを前記貫通孔に挿入させて前記基板の上面周縁部に対向する対向位置と、前記遮断部材から離れた退避位置とに位置決めさせるノズル駆動機構と、
前記ノズルが前記退避位置に位置決めされた状態で、前記貫通孔から気体を噴出させる気体噴出手段と
を備え、
前記対向位置に位置決めされた前記ノズルから前記基板の上面周縁部に処理液を供給することを特徴とする基板処理装置。 - 前記ノズルが前記退避位置に位置決めされた状態で、前記回転手段は前記基板とともに前記遮断部材を回転させる請求項1記載の基板処理装置。
- 前記基板保持手段は、鉛直軸回りに回転自在に設けられた回転部材と、前記回転部材に上方に向けて設けられ、前記基板の下面に当接して該基板を前記回転部材から離間させて支持する少なくとも3個以上の支持部材と、前記遮断部材が前記基板上面と対向する対向面に設けられた気体噴出口から気体を前記対向面と前記基板上面との間に形成される空間に供給することによって前記基板を前記支持部材に押圧させる気体供給部とを備える請求項1または2記載の基板処理装置。
- 基板を回転させながら前記基板に処理液を供給して所定の処理を施す基板処理装置において、
前記基板を保持する基板保持手段と、
前記基板保持手段により保持された基板を回転させる回転手段と、
回転する前記基板の上面周縁部に前記処理液を供給するノズルと、
前記基板の上面に対向して配設されるとともに、その周縁部に前記ノズルが挿入可能な上下方向に貫通する貫通孔を有する遮断部材と、
前記ノズルを駆動することで前記ノズルを前記貫通孔に挿入させて前記基板の上面周縁部に対向する対向位置と、前記遮断部材から離れた退避位置とに位置決めさせるノズル駆動機構と
を備え、
前記対向位置に位置決めされた前記ノズルから前記基板の上面周縁部に処理液を供給し、
前記ノズルが前記退避位置に位置決めされた状態で、前記回転手段は前記基板とともに前記遮断部材を回転させることを特徴とする基板処理装置。 - 前記基板保持手段は、鉛直軸回りに回転自在に設けられた回転部材と、前記回転部材に上方に向けて設けられ、前記基板の下面に当接して該基板を前記回転部材から離間させて支持する少なくとも3個以上の支持部材と、前記遮断部材が前記基板上面と対向する対向面に設けられた気体噴出口から気体を前記対向面と前記基板上面との間に形成される空間に供給することによって前記基板を前記支持部材に押圧させる気体供給部とを備える請求項4記載の基板処理装置。
- 基板を回転させながら前記基板に処理液を供給して所定の処理を施す基板処理装置において、
前記基板を保持する基板保持手段と、
前記基板保持手段により保持された基板を回転させる回転手段と、
回転する前記基板の上面周縁部に前記処理液を供給するノズルと、
前記基板の上面に対向して配設されるとともに、その周縁部に前記ノズルが挿入可能な上下方向に貫通する貫通孔を有する遮断部材と、
前記ノズルを駆動することで前記ノズルを前記貫通孔に挿入させて前記基板の上面周縁部に対向する対向位置と、前記遮断部材から離れた退避位置とに位置決めさせるノズル駆動機構と
を備え、
前記基板保持手段は、鉛直軸回りに回転自在に設けられた回転部材と、前記回転部材に上方に向けて設けられ、前記基板の下面に当接して該基板を前記回転部材から離間させて支持する少なくとも3個以上の支持部材と、前記遮断部材が前記基板上面と対向する対向面に設けられた気体噴出口から気体を前記対向面と前記基板上面との間に形成される空間に供給することによって前記基板を前記支持部材に押圧させる気体供給部とを備え、
前記対向位置に位置決めされた前記ノズルから前記基板の上面周縁部に処理液を供給することを特徴とする基板処理装置。 - 前記ノズルが前記退避位置に位置決めされた状態で、前記貫通孔から気体を噴出させる気体噴出手段をさらに備え、
前記気体噴出手段は前記気体供給部から供給される気体を前記貫通孔の内壁に設けられた気体導入口から前記貫通孔内に導くことで前記気体を前記貫通孔から噴出させる請求項6記載の基板処理装置。 - 前記気体噴出口は前記ノズルから前記基板に供給される処理液によって処理される処理領域より内側の非処理領域に気体を供給するように前記対向面に設けられる請求項6または7記載の基板処理装置。
- 前記遮断部材は前記貫通孔を複数個有するものであって、各貫通孔の前記遮断部材の周端面からの径方向における距離が互いに異なる請求項1ないし8のいずれかに記載の基板処理装置。
- 基板を回転させながら前記基板に処理液を供給して所定の処理を施す基板処理装置において、
前記基板を保持する基板保持手段と、
前記基板保持手段により保持された基板を回転させる回転手段と、
回転する前記基板の上面周縁部に前記処理液を供給するノズルと、
前記基板の上面に対向して配設されるとともに、その周縁部に前記ノズルが挿入可能な上下方向に貫通する貫通孔を有する遮断部材と、
前記ノズルを駆動することで前記ノズルを前記貫通孔に挿入させて前記基板の上面周縁部に対向する対向位置と、前記遮断部材から離れた退避位置とに位置決めさせるノズル駆動機構と
を備え、
前記対向位置に位置決めされた前記ノズルから前記基板の上面周縁部に処理液を供給し、
前記遮断部材は前記貫通孔を複数個有するものであって、各貫通孔の前記遮断部材の周端面からの径方向における距離が互いに異なることを特徴とする基板処理装置。 - 前記遮断部材は前記基板の上面に対向する面が、平面サイズで前記基板と同等以上の大きさである請求項1ないし10のいずれかに記載の基板処理装置。
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