JP4274734B2 - トランジスタ回路 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
各種素子を駆動するためのトランジスタ回路、特にその動作検査を容易にしたものに関する。
【0002】
【従来の技術】
従来より、表示装置などでは、電流の供給を制御するために、トランジスタを利用している。
【0003】
例えば、フラットディスプレイパネルの1つとして、有機ELディスプレイパネルがあり、この有機ELディスプレイは、有機EL素子を画素として、これを多数マトリクス状に配置して構成される。また、この有機EL素子の駆動方法として、アクティブマトリクス方式があり、画素毎にスイッチ用のトランジスタを設け、そのトランジスタを制御して、各画素の表示をコントロールしている。
【0004】
図5に、従来の薄膜トランジスタ(TFT)を利用した有機ELパネルにおける画素回路の構成例を示す。有機ELパネルは、このような画素をマトリクス配置して構成される。
【0005】
行方向に伸びるゲートラインには、ゲートラインによって選択されるnチャネル薄膜トランジスタである第1TFT10のゲートが接続されている。この第1TFT10のドレインには列方向に伸びるデータラインDLが接続されており、そのソースには他端が低電圧の電源である容量ラインSLに接続された保持容量CSが接続されている。また、第1TFT10のソースと保持容量CSの接続点は、pチャネル薄膜トランジスタである第2TFT40のゲートに接続されている。そして、この第2TFT40のソースが電源ラインVLに接続され、ドレインが有機EL素子ELに接続されている。なお、有機EL素子ELの他端はカソード電源CVに接続されている。
【0006】
従って、ゲートラインGLがHレベルの時に第1TFT10がオンとなり、そのときのデータラインDLのデータが保持容量CSに保持される。そして、この保持容量CSに保持されているデータ(電位)に応じて第2TFT40の電流が制御され、この第2TFT40の電流に従って有機EL素子ELに電流が流れ発光する。
【0007】
そして、第1TFT10がオンしているときにデータラインDLに、その画素に対応するビデオ信号が供給される。従って、データラインDLに供給されるビデオ信号に応じて保持容量CSが充電され、これによって第2TFT40が対応する電流を流し、有機EL素子ELの輝度制御が行われる。すなわち、第2TFT40のゲート電位を制御して有機EL素子に流す電流を制御して各画素の階調表示が行われる。
【0008】
このような有機ELパネルにおいて、その製造プロセスにおいて、画素毎に形成する2つのTFT等に欠陥が生じ、所定の表示が行えない画素が生じる。このような、点欠陥が発生することを完全に防止することは難しく、所定の確率で発生する。そして、その欠陥が表示のなされない暗点であれば、視認しがたいため、レーザによって配線を切断するなどの手法で欠陥画素の暗点化がなされている。
【0009】
このために、画素毎の動作検査を行う必要がある。この検査として、真空中で電子線等を照射し、画素毎の反射した2次電子を光検出器などで検出し、動作を確認する方法があるが、これは時間がかかり効率的でない。
【0010】
一方、LCDでは、画素電極が形成された段階で、スイッチング素子をオンして補助容量および画素電極に電圧を印加し、これによって補助容量に充電された電荷量のアレイテストが行われ、このためのアレイテスタも開発されている。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、有機ELパネルの1画素は、2つのTFTを有しており、LCDのアレイテストでは、第1TFTの出力のテストはできるが、第2TFTのテスト、つまり有機EL素子への電流供給が行われる(発光が行われる)か否かのテストを行うことができない。
【0012】
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、アレイテスタを用いて各画素の動作テストを行うことを可能とするための有機ELパネルを提供することを目的とする。
【0013】
【課題を解決するための手段】
本発明は、端が信号ラインに接続され、ゲートに選択信号を受けて動作する第1トランジスタと、この第1トランジスタの他端がゲートに接続され、電流供給を受け駆動される電流消費素子についての電流を制御する第2トランジスタと、を有し、前記第2トランジスタは、そのゲートとソースまたはドレイン間に生じるトランジスタ容量が5fF以上であることを特徴とする。
【0014】
このように、第2トランジスタの容量を大きくすることで、ここに充電される電荷を読み出し、トランジスタの動作確認ができる。
【0015】
また、前記第1トランジスタの他端および第2トランジスタのゲートには、電荷保持用の保持容量が接続されていることが好適である。
【0016】
また、本発明は、一端が信号ラインに接続され、ゲートに選択信号を受けて動作する第1トランジスタと、この第1トランジスタの他端がゲートに接続され、電流供給を受け駆動される電流消費素子についての電流を制御する第2トランジスタと、前記第1トランジスタの他端および第2トランジスタのゲートに接続された電荷保持用の保持容量と、を有し、前記第2トランジスタは、そのゲートとソースまたはドレイン間に生じるトランジスタ容量の大きさが、前記保持容量の容量の5%以上であることを特徴とする。
【0017】
このように、第2トランジスタの容量を保持容量に対し、ある程度以上にすることで、ここに充電される電荷を読み出し、トランジスタの動作確認ができる。
【0018】
また、本発明は、一端が信号ラインに接続され、ゲートに選択信号を受けて動作する第1トランジスタと、この第1トランジスタの他端がゲートに接続され、電流供給を受け駆動される電流消費素子についての電流を制御する第2トランジスタと、を有し、前記第2トランジスタは、そのチャネル領域の面積を広げる、またはゲート絶縁膜の厚みを薄くする、の少なくとも1つの手段を採用することによって、ゲートとソースまたはドレイン間に生じるトランジスタ容量を増加させる容量増加手段を有することを特徴とする。
【0019】
このように、第2トランジスタ(駆動トランジスタ)の容量を大きくすることで、ここに充電される電荷を読み出し、トランジスタの動作確認ができる。
【0020】
また、前記容量増加手段は、前記第2トランジスタのチャネル領域の一部を平面的に広げ、チャネル幅、チャネル長を維持しつつチャネル領域を拡大し、トランジスタ容量を大きくすることが好適である。
【0021】
また、前記第1トランジスタの他端および第2トランジスタのゲートには、電荷保持用の保持容量が接続されていることが好適である。
【0022】
また、前記第1トランジスタの一端が接続される信号ラインは、表示データを供給するデータラインであり、前記第2トランジスタは、保持容量に保持された電圧に応じた電流を電源ラインから有機EL素子に供給することが好適である。
【0023】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態について、図面に基づいて説明する。
【0024】
図1に、有機EL表示パネルにおける1画素のトランジスタ回路構成を示す。このように、図5と同様に、各画素は、第1TFT10、保持容量CS、第2TFT40、および有機EL素子ELを有する。そして、第2TFT40は、必然的に容量、すなわち第2TFT40のゲート・ソース間トランジスタ容量Cdtrを有している。
【0025】
本実施形態では、第1TFT10をオンし、保持容量CSおよびトランジスタ容量Cdtrに充電して、トランジスタ容量Cdtrの容量値を検出することで、第1TFT10および第2TFT40が正常か否かの検査を行う。
【0026】
すなわち、データラインDLを所定の電圧にして、第1TFT10をオンし、その後データラインDLから充電された電荷量を読み出すことで、第1TFT10が正常か否かを検出できる。
【0027】
ここで、この電荷量は、トランジスタ容量Cdtrに充電されたものも含んでいる。そこで、読み出し電荷量を比較することにより、トランジスタCdtrが設定通りか否かを検出することができる。すなわち、第1TFT10をオンにして、データラインDLの電圧をVtにした場合であって、容量ラインSLとの電位差をVt1、電源ラインVLとの電位差をVt2とすると、Qt=CS・Vt1+Cdtr・Vt2の電荷が充電される。従って、この電荷量をデータラインDLを介し、検出することで、トランジスタ容量Cdtrの検出ができる。
【0028】
これは、TFTのゲートがソースやドレインと短絡していたり、ソース、チャネル、ドレインなどの領域が正常に形成できていなかった場合には、Vt1やCdtrが変化するため、トランジスタの電荷量が変化するからである。本実施形態では、このトランジスタ容量Cdtr×Vt2の電荷量を検出することで第2TFT40が正常か否か、つまりを正常に表示が行われるか否か判定する。
【0029】
なお、このトランジスタ容量Cdtrの検出は、データラインDLを介し、充電電荷量を読み出してもよいし、電源ラインVLを介し読み出してもよい。すなわち、電源ラインVLは、トランジスタ容量Cdtrの他端に接続されているため、ここからトランジスタ容量Cdtrに充電されている電荷量を検出することが可能である。
【0030】
ここで、上述の検出において、保持容量CSにバラツキがあると、トランジスタ容量Cdtrの変化が検出できない。通常保持容量CSは、100fF程度、トランジスタCdtrは数fF程度であり、トランジスタ容量Cdtrの保持電荷量の検出が難しい。
【0031】
そこで、本実施形態では、第2TFT40のトランジスタ容量を通常より増加させている。これは、次のような手法によって行われる。
【0032】
(i)第2TFT40のチャネル面積を大きくすることによって可能である。すなわち、トランジスタ容量Cdtrは、次のように表される。
【0033】
【数1】
Cdtr=K・Sdtr/ds
Sdtr=n・Wdtr・LdTr
ここで、Kは、所定の定数であり、Sdtrはチャネル面積、dsはゲート酸化膜の膜厚、nは第2TFTの並列接続された数、Wdtrは、チャネル幅、LdTrはチャネル長である。
【0034】
従って、トータルのチャネル面積を大きくすることによって、トランジスタ容量Cdtrを増大することができる。
【0035】
(ii)また、ゲート酸化膜の膜厚dsを小さくすることによっても、トランジスタ容量Cdtrを増大することができる。
【0036】
このような手法によって、トランジスタ容量Cdtrを5fF以上、好ましくは10fF以上にすることが好適である。さらに、保持容量CSとの比Cdtr/CSを5%以上(好ましくは10%)に設定することで、確実なトランジスタ容量Cdtrの検出が行える。
【0037】
さらに、積極的にトランジスタCdtrを増加させる手段を講じることも好適である。
【0038】
図2には、一例の構成が示されており、多結晶シリコンなどからなる能動層40a、より具体的にはチャネル領域の形状を変更して、その面積を増大している。すなわち、電源ラインVLには、能動層40aの一端が接続され、他端が陽極50に接続されている。ここで、TFTは、能動層よりゲート電極が上に配置されたトップゲート構造を有しており、ゲート電極40cが間にゲート絶縁膜を挟んで能動層40aの中央部分を覆っている。この中央部分はチャネル領域であり、その両側がソース領域、およびドレイン領域である。
【0039】
そして、図2に示すようにチャネル領域の一部がゲート電極40cの下側で面積が広がるように膨出形成されている。このように、ゲート電極40cの下のチャネル領域を大きくすることによって、第2TFT40の能力は変更せずにそのトランジスタ容量Cdtrを増大することができる。
【0040】
図3は他の例を示しており、この例では、ゲート電極40cの一部であって、能動層40aの上方でない部分、すなわち第2TFT40からはずれた部分において、ゲート電極40cを電源ラインVLの下まで延在させている。これによって、電源ラインVLとゲートライン40cが層間絶縁膜を介し、対向することになり、ここに容量が形成される。
【0041】
さらに、電源ラインVLをゲート電極40cの上に延在させてもよい。すなわち、電源ラインVLの一部であって、能動層40aの上方でない部分、すなわち第2TFT40からはずれた部分において、電源ラインVLの一部をゲートライン40cの上にまで延在させている。これによって、電源ラインVLとゲートライン40cが層間絶縁膜を介し、対向することになり、ここに容量が形成される。
【0042】
図4はさらに他の例を示しており、この例では、能動層40aと同様の例えば多結晶シリコンからなる半導体層を能動層と同時に別に設け、この半導体層の一端を電源ラインVLとコンタクトで能動層40aと電源ラインVLとのコンタクトと同様の構造にて接続し、他端はゲート電極40cの下にまで延在させる。これによって、ゲート電極40cの下方に酸化膜(ゲート酸化膜)を介し他端が電源ラインVLに接続される半導体層が位置することになる。半導体層は、ゲート電極40cの下側では、不純物のドープを受けていないが、半導体層がゲート酸化膜を介しゲート電極40cと対向する構成によって、ここに容量が形成される。
【0043】
以上のように、図2〜図4の構成によって、積極的に第2TFT40のトランジスタ容量Cdtrを増加することができる。従って、このような第2TFT40を有する画素の回路構成によって、増加したトランジスタCdtrを検出することで、その画素の動作を検査することができる。
【0044】
特に、このような検査は、有機EL素子ELの有機層を積層する前に行うことができる。すなわち、陽極50が形成された段階で、その検査を行うことができる。そして、見つかった不良画素(特に輝点欠陥画素)については、レーザによって、配線を切断する。
【0045】
有機EL素子の場合、陽極50を形成した後に、第2平坦化膜60を形成する。そこで、この第2平坦化膜60によって、レーザによって、生じた穴を埋めることができ、製品におけるレーザリペアによる穴の残留の弊害を排除することができる。
【0046】
ここで、図6に、第2TFT40と有機EL素子ELの断面構成を示す。このように、第2TFT40はガラス基板30上に形成され、この第2TFT40は、低温ポリシリコンで形成されている能動層40aを有している。この能動層40aは、両端が不純物がドープされたソース領域、ドレイン領域となっており、これらに挟まれた中央部がチャンネル領域となっている。このチャネル領域の上部には酸化シリコンからなるゲート絶縁膜40bを介しゲート電極40cが形成されている。ゲート絶縁膜40bおよびゲート電極40cは、層間絶縁膜34に覆われており、ゲート電極40cの両側には、層間絶縁膜34のコンタクトホールを介しソース領域およびドレイン領域に接続されるソース電極40d、ドレイン電極40eが形成されている。そして、ソース電極40d、ドレイン電極40eの上端が層間絶縁膜34の表面に位置している。
【0047】
また、層間絶縁膜34の表面上には、ドレイン電極40eと電源ラインVLを接続するメタル配線等が配置される。さらに、この層間絶縁膜34を覆って、第1平坦化膜36が形成されている。
【0048】
そして、第1平坦化膜36の上面には、ITOから構成される透明電極50が形成され、この一端が第1平坦化膜36のコンタクトホールを介し駆動TFT40のソース電極40dに接続されている。
【0049】
また、この透明電極50は、有機EL素子の陽極を構成し、この透明電極50上には、正孔輸送層52、有機発光層54、電子輸送層56を介し、金属製の陰極58が形成されている。なお、透明電極50の周辺および側方には第2平坦化膜60が配置されている。
【0050】
このように、能動層40aは、ガラス基板30の直上に配置されており、その上にゲート絶縁膜40bを介しゲート電極40cが形成されている。また、電源ラインVLは、ゲート電極40c上層に層間絶縁膜34を介して形成されている。従って、上述のように、能動層40aや、ゲート電極40cや電源ラインVLの形状を変更したり、能動層と同層の半導体層を設けるなどという容量増加手段を採用することによって、第2TFT40の容量を増大できることが理解される。
【0051】
なお、上述の例では、第2TFT40として、pチャネルTFTを用いたが、nチャネルTFTを用いることもできる。この場合には、有機EL素子の上側と、保持容量CSの下側を接続するとともに、これを低電圧電源に接続する放電用TFTをさらに設け、このTFTを容量CSのデータ書き換えの際にオンすればよい。なお、この構成については、特願2001−303768号に記載している。
【0052】
また、上述の例では、有機ELパネルにおける構成を示したが、有機EL素子に代えて、蛍光表示管などを採用してもよい。
【0053】
さらに、上述の回路では、第2TFT40のゲートには、保持容量CSのみを接続することにしたが、リセット回路や、メモリ回路など各種の回路(または素子)が接続されてもかまわない。この場合の素子は、能動素子でも、受動素子でもよい。
【0054】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、第2トランジスタ(駆動トランジスタ)の容量を大きくすることで、ここに充電される電荷を読み出し、トランジスタの動作確認ができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 実施形態の回路を示す図である。
【図2】 第2TFTの容量上昇のための構成の一例を示す図である。
【図3】 第2TFTの容量上昇のための構成の一例を示す図である。
【図4】 第2TFTの容量上昇のための構成の一例を示す図である。
【図5】 画素回路の構成を示す図である。
【図6】 画素部の断面を示す図である。
【符号の説明】
10 第1TFT、40 第2TFT、CS 保持容量、Cdtr 駆動トランジスタ容量、VL 電源ライン、DL データライン、GL ゲートライン。
Claims (7)
- 一端が信号ラインに接続され、ゲートに選択信号を受けて動作する第1トランジスタと、
この第1トランジスタの他端がゲートに接続され、電流供給を受け駆動される電流消費素子についての電流を制御する第2トランジスタと、
を有し、
前記第2トランジスタは、そのゲートとソースまたはドレイン間に生じるトランジスタ容量が5fF以上であることを特徴とするトランジスタ回路。 - 請求項1に記載の回路において、
前記第1トランジスタの他端および第2トランジスタのゲートには、電荷保持用の保持容量が接続されていることを特徴とするトランジスタ回路。 - 一端が信号ラインに接続され、ゲートに選択信号を受けて動作する第1トランジスタと、
この第1トランジスタの他端がゲートに接続され、電流供給を受け駆動される電流消費素子についての電流を制御する第2トランジスタと、
前記第1トランジスタの他端および第2トランジスタのゲートに接続された電荷保持用の保持容量と、
を有し、
前記第2トランジスタは、そのゲートとソースまたはドレイン間に生じるトランジスタ容量の大きさが、前記保持容量の容量の5%以上であることを特徴とするトランジスタ回路。 - 一端が信号ラインに接続され、ゲートに選択信号を受けて動作する第1トランジスタと、
この第1トランジスタの他端がゲートに接続され、電流供給を受け駆動される電流消費素子についての電流を制御する第2トランジスタと、
を有し、
前記第2トランジスタは、そのチャネル領域の面積を広げる、またはゲート絶縁膜の厚みを薄くする、の少なくとも1つの手段を採用することによって、ゲートとソースまたはドレイン間に生じるトランジスタ容量を増加させる容量増加手段を有することを特徴とするトランジスタ回路。 - 請求項4に記載のトランジスタ回路において、
前記容量増加手段は、前記第2トランジスタのチャネル領域の一部を平面的に広げ、チャネル幅、チャネル長を維持しつつチャネル領域を拡大し、トランジスタ容量を大きくすることを特徴とするトランジスタ回路。 - 請求項4〜5のいずれか1つに記載のトランジスタ回路において、
前記第1トランジスタの他端および第2トランジスタのゲートには、電荷保持用の保持容量が接続されていることを特徴とするトランジスタ回路。 - 請求項2、3、6のいずれか1つに記載のトランジスタ回路において、
前記第1トランジスタの一端が接続される信号ラインは、表示データを供給するデータラインであり、
前記第2トランジスタは、保持容量に保持された電圧に応じた電流を電源ラインから有機EL素子に供給することを特徴とするトランジスタ回路。
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