JP4246420B2 - Foupオープナ及びfoupオープナのマッピング方法 - Google Patents

Foupオープナ及びfoupオープナのマッピング方法 Download PDF

Info

Publication number
JP4246420B2
JP4246420B2 JP2001269149A JP2001269149A JP4246420B2 JP 4246420 B2 JP4246420 B2 JP 4246420B2 JP 2001269149 A JP2001269149 A JP 2001269149A JP 2001269149 A JP2001269149 A JP 2001269149A JP 4246420 B2 JP4246420 B2 JP 4246420B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
foup
sensor
port door
door
wafer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP2001269149A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2002164411A (ja
Inventor
澄夫 春川
進二 横山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hirata Corp
Original Assignee
Hirata Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hirata Corp filed Critical Hirata Corp
Priority to JP2001269149A priority Critical patent/JP4246420B2/ja
Publication of JP2002164411A publication Critical patent/JP2002164411A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4246420B2 publication Critical patent/JP4246420B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Description

【0001】
【産業上の利用分野】
本願の発明は、半導体ウェハを所定の間隔で、水平に、複数枚収納して搬送する密閉可能な容器を開閉するための容器開閉装置に関し、特に容器がFOUP(Front Opening Unified Pod )である場合に、FOUP内収納ウェハの有無や収納状態、収納位置等を検出するためのセンサ機構を備えたFOUP開閉装置(FOUPオープナ)に関する。
また、本願の発明は、このようなFOUPオープナの、FOUP内収納半導体ウェハに対するマッピング方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
FOUPオープナは、第1制御空間であるFOUP内環境100 と第2制御空間であるウェハ転送空間200 との間を、外部雰囲気300 にウェハをさらすことなく、連通させ、ウェハをロボット等で転送できるようにする役割を担う。FOUPオープナの要求仕様は、高精細度の300mmウェハともなると、きわめて高価なものとなるために、塵埃によるウェハ汚染に対しては、オープナ自体の発塵量を0.1μm 粒子で1個/10cft 以下、マッピング誤報率(虚報率)を1回/(10万枚〜100万枚)以下に抑えることが求められている。また、ウェハを転送するためには、ウェハの有無や収納状態等を検出する必要があり、マッピング手段は、FOUPオープナあるいはロボットのいずれか一方に設けられている。一般的には、これら両者ともに、オプション機能としての位置付けとなっている。
【0003】
FOUPのフレームは、一般に樹脂成形品であり、その底部には3個のテーパ状の位置決め長孔が形成されている。FOUPは、ドックプレートに設けられた頂部を半球状にした3個のピンの球面と、FOUPフレーム底部のテーパ状の位置決め長孔とで位置決めするように規格化されている。FOUPは、多いものであれば、1ラインに数千個が必要とされる。FOUP寸法は、元々、成形時の誤差があるばかりか、経時的に変化し、歪み、捩じれ、また、位置決め部は摩耗する。FOUPにおけるウェハ収納ピッチは10mmであり、ウェハの厚みは1mm弱であり、ウェハ間の間隙は約9mmである。ウェハ間に進入してウェハを取り上げ、保持するロボットハンド部の総高さ(厚み)は、通常3〜4mm前後となっている。FOUPの歪みや捩じれや摩耗等により、FOUP内に収納されるウェハの位置は、FOUP毎に毎回ばらつく。そして、そのバラツキの量は、経時的な変化により増長する。さらに、ストッカーなどで長時間保管されたような状態のFOUP内ウェハは、FOUPドアを開放する際に、FOUPドアに設けられたウェハ押え部材に粘着して、FOUPドアの開放時に、ドアとともに移動する可能性が指摘されている。そのために、インタロック用のウェハ飛び出しセンサをFOUPオープナに設けて、センサがウェハ飛び出しを検出したら、FOUPドアの開放動作を停止して保護するようにしている。飛び出しセンサは、FOUP内に取り付けることは不可能で、FOUPフレームの外で、収納されたウェハ端縁部から約20mm前後の位置に設けられる。20mm以内の間でウェハが移動しても、正常ウェハとして処理することが求められている。
【0004】
また、ウェハ転送ロボットは、昇降旋回可能な軸に第1アームを、その先端に第2アームと同じ長さの第2アームを、その先端にウェハを保持するハンドを設けて構成されるような水平多関節ロボットを用いることが多く、ロボットを中央に配置し、片側にFOUPオープナ群を、対面側に処理室へのウェハ出入り口を配置して、中央をフロントエンドに形成している。
【0005】
フロントエンドのフットプリントの広さを決定する要因に、FOUPフレームから脱開放されたF0UPドアを第2制御空間200 に退避格納する格納寸法があげられる。格納寸法はSEMI規格に定められ、該規格によると、FOUPオープナのポートプレートの取付け面(BOLTS面)から第2制御空間200 側に100mm出っ張った位置となっている。走行し、旋回可能なウェハ転送ロボットは、格納域外に設けられる。ロボットの旋回昇降軸中心位置とFOUPオープナ上のFOUP内収納ウェハ中心位置との距離が、ロボットのアームの長さを決定する。旋回する場合は、旋回半径が最小になるような位置まで、ウェハを保持してアームを折り畳む。旋回半径は、アーム長やハンド長で定まり、フロントエンドのフットプリントも定まる。
【0006】
FOUPオープナに搭載されて、FOUP内収納ウェハの有無や収納状態等を検出するマッピング技術としては、米国特許第6013920号明細書、特開平11−145244号公報、特開平11−214483号公報、特開平11−354609号公報等に開示のものがある。これらの4つの技術に共通している技術の骨子は、マッピング検出手段をFOUPオープナを構成しているFOUPドア保持体(ポートドア)の上部に設け、FOUPドアを退避させるための昇降手段の昇降動作で連続的に収納ウェハの有無や収納状態を検出しようとするものである。検出手段としては、光学的な透過型センサや反射型センサあるいはCCDカメラ等を用いた撮像手段が提案されている。
【0007】
通常、マッピングは、ウェハの有無や傾き挿入、多重挿入等のウェハ収納状態を、各溝毎に予め設定された領域内で検出手段から出力される情報を基に判定することによって行なわれている。特開平11−354609号公報では、CCDカメラの撮像タイミングを予め設定して行なうように記載されており、特開平11−145244号公報では、センサがカセットの溝に対面する位置を通過している時間と、時間経過におけるセンサの出力信号との情報に基づいて、各溝毎の論理演算によってウェハの有無や収納状態を判定し、判定結果を上位装置に出力するようにすることが記載されている。
【0008】
マッピングの方法は、FOUPドアを退避下降させる動作でウェハ収納状態等を検出する方法が合理的であり、前述の4つの公報に記載されているように、FOUPドアを保持するポートドアの上部にカメラやセンサを設けることにより、実現することができる。
【0009】
マッピングセンサをFOUPドアに配設する方法では、FOUPドアの厚みが約20mm、ポートプレートの厚みが約8mm、ウェハ先端はFOUPフレーム前面から16mmの位置にあることから、退避移動する前のマッピングセンサ先端とウェハ先端とは約20mm離れて位置することになり、FOUPドアを、30mm以上好ましくは35mm前後退避移動させて下降させることになる。これより、マッピングするときのセンサ先端とウェハ先端との距離は、約50mm離れた状態にある。
【0010】
マッピング用反射型センサをポートドアの上部に配設する方法については、前記した両公報(特開平11−145244号公報、特開平11−214483号公報)に、その詳しい説明はない。しかし、1つの照射部と1つの受光部とで形成されるような従来の一般的な2眼式反射型センサは、対象となるエッジ形状や色に左右される場合が多く、特に窒化膜の検出が難しく、虚報率も高いことから、ウェハマッピングセンサとしては好ましいものではない。また、ポートドアがFOUPドアを保持して水平方向に退避したとき、センサ後端からポートプレートまでの距離が大きくなり、その結果として、装置全体のフットプリントが広くなる傾向を避け難い。
【0011】
図11ないし図15は、このような従来の反射型センサ070 をポートドア023の上部に配設したマッピング機能付きFOUPオープナ01に関する図であって、FOUP010 のFOUPドア013 が開放されてフロントエンドに格納されるまでの過程A〜DにおけるFOUPドア013 およびポートドア023 の各状態を順に図示したものである。
先ず、図11に図示されるように、FOUPドア013 により密閉されて外部環境(第3空間)300 を搬送されてきたFOUP010 が、ドック移動機構030 のドックプレート031 上に載置されて、位置決めされる(過程A)。次いで、図12に図示されるように、FOUP010 が前進して、FOUPドア013 がポートドア023 に突き当てられると、ポートドア023 に内蔵されるFOUPドア着脱機構とFOUPドア保持機構とが作動して、FOUPドア013 をFOUPフレーム011にラッチするラッチ機構が解除され、FOUPドア013 は、ポートドア023 に吸着保持される(過程B)。次いで、図13に図示されるように、ポートドア023が、FOUPドア013 を保持した状態で、ポートドア進退機構040 により水平方向に後退させられ(過程C)、さらに、図14に図示されるように、ポートドア昇降機構050 により垂直に下降させられて、FOUPドア013 がフロントエンドの第2制御空間200 に格納される(過程D)。このようにして、FOUP010 内に収納されていたウェハ014 が、図示されないウェハ転送ロボットにより、FOUP010 内の第1制御空間100 から第2制御空間200 に転送される準備がなされる。
【0012】
このとき、ポートドア023 が水平方向に後退させられる距離(退避ストローク)は、FOUPドア013 の厚さ20mm、ポートプレート021 の厚さ8mm、FOUPドア013 とポートプレート021 との間隙距離2mmの合計距離に相当するから、30mm以上は必要となり、振動や寸法バラツキを考慮すると、FOUPドア013 とポートプレート021 との最小間隙は5mm必要であるから、好ましい退避ストロークは33mmとなる。このとき、反射型センサ070 の後端からポートプレート021 までの距離W1は、センサの幅(奥行き)寸法の小さいアンプ分離タイプを使用するとしても、65mm前後の相当に大きなものになる(以上の寸法関係については、図14および図15参照)。ここで、このセンサの幅(奥行き)寸法は、アンプ分離タイプで30mm前後、アンプ内蔵タイプで80mm前後である。
【0013】
なお、図15に図示されるように、飛び出しセンサ071 がポートプレート021に設けられていて、20mmの最大距離を位置ずれして飛び出したウェハ014 を検出している。このようなウェハ014 の飛び出しは、FOUPドア013 の開放時に、収納ウェハ014 がFOUPドア013 に設けられたウェハ押え部材に粘着して、FOUPドア013 とともに移動する場合に生ずる。
【0014】
また、ポートドアの上部にセンサ移動機構を設けてウェハ収納状態を検出するような前記公報記載の方法では、反射型センサ、透過型センサのいずれかを問わず、センサ移動機構がウェハあるいはFOUPドアの上部位置に設けられることから、移動機構からの発塵が第2制御環境200 のダウンフローにより運ばれて、ウェハ汚染やFOUPドアの内面汚染を引き起こすことが懸念される。加えて、センサ移動機構に直線移動機構が採用されると、センサ後端からポートプレートまでの距離W1はさらに大きくなり、これを避けるために、折り畳み可能なリンク機構を採用すると、機構は複雑になり、発塵は増長される。
【0015】
次に、CCDカメラ等をポートドアの上部に配設する方法では、前述した塵埃の発生はない。しかしながら、例えば、2重挿入されたウェハで、かつ、上部のウェハが位置ずれし、下部のウェハがずれていない状況のウェハ収納状態を認識するには、ウェハエッジの正面から撮像しなければ、正確な収納状態を検出することはできない。前記公報に記載されているような、撮像するタイミングを予め設定する方法では、FOUPの寸法変化、すなわち、ウェハ収納位置の変化に対応できない可能性が高い。
【0016】
さらに、透過型センサとセンサ移動機構とをポートドアの上部に設ける方法では、発塵の問題だけでなく、ポートドアの退避ストローク(35mm)にセンサとウェハとの初期の距離(20mm)を加え、さらに、センサがウェハ間の間隙内部に進入する距離(5mm)を加えて、合計約60mm程度のセンサおよびセンサ移動機構の移動ストロークは必要になる。このようなセンサ移動機構をポートドアの上部に設けて、ポートドアおよびFOUPドアを水平に退避移動させると、第2制御空間200 に占めるFOUPドアの格納スペースは、センサ移動機構に左右されて広くなる。その結果、ウェハ転送ロボットのアームは長くなり、装置全体のフットプリントは著しく広くなるといった問題がある。
【0017】
前述したように、マッピング情報がウェハの有無や傾き挿入、多重挿入等の収納状態情報だけであると、FOUP位置決め部の摩耗等でウェハの収納位置(高さ)が変化したり、フレームの捩じれ等でウェハが水平状態を維持できなくなった場合、移動するロボットハンドと収納ウェハとが衝突したり、擦動したりする可能性がきわめて高くなる。
【0018】
また、FOUPオープナに不具合が発生した場合、不具合の状況によっては、オープナを構成する部品を入れ替えたり、オープナそのものを交換する場合があり、不具合を解消するのに費やす時間、すなわち、復帰時間の長短が定められるのが一般的である。その時間は、各工場によって異なり、10分〜30分の間で定められている。例えば、復旧時間10分と定められている場合に、復旧に10分以上費やすと判断された場合には、速やかにオープナを取り外し、予備のオープナをセッティングして立ち上げなければならない。製造ラインに投入されるオープナは、必ずしも1社1種類のオープナとは限らず、複数メーカの複数種類のオープナがラインに投入される。オープナにも、各々固有差があることは言うまでもない。オープナに限らず、ロボットあるいはロボットを構成する部材を交換
することになるような不具合も考えられる。
【0019】
このように、FOUPオープナやロボット等の構成部品の一部を交換したり、あるいは、これらをそっくり入れ替えた場合、問題になるのがロボットアクセス高さの再現性である。
【0020】
【発明が解決しようとする課題】
本願の発明は、従来のFOUPオープナが有する前記のような問題点を解決して、半導体ウェハ検出用センサ機構からの発塵をウェハ部から隔離し、ウェハの有無や収納状態に加えて収納位置(高さ)情報を上位装置(ロボット)に伝達し、ウェハにダメージを与えないようにするとともに、センサ機構をコンパクトに実現し、装置のフットプリントをより狭くすることで、よりコストパフォーマンスと歩留まりの高いFOUPオープナを提供することを課題とする。
また、本願の発明は、このようなFOUPオープナの、FOUP内収納半導体ウェハに対する新規なマッピング方法を提供することを課題とする。
【0021】
【課題を解決するための手段および効果】
本願の発明は、前記のような課題を解決したFOUPオープナ及びFOUPオープナのマッピング方法に係り、その請求項1に記載された発明は、FOUPオープナが、少なくとも、半導体ウェハを所定の間隔で、水平に、複数枚収納するFOUPを載置して位置決めするドックプレートと、前記FOUPを構成するFOUPドアを着脱して保持する着脱機構と保持機構とを有するポートドアと、前記ポートドアにより閉塞される開口部を有するポートプレートと、前記FOUPよりも下方位置において垂直方向に昇降自在な昇降基部材を有するポートドア昇降機構と、前記昇降基部材に設けられるとともに、前記ポートドアに接続される支持腕を有し、その支持腕を前記昇降基部材に沿って水平に進退移動させるポートドア進退機構と、枠体で構成され、前記ポートドアを間隔を開けて囲むように設けられるセンサ取付部材と、前記昇降基部材に設けられるとともに、前記センサ取付部材を前記昇降基部材に沿って水平に、前記ポートドア進退機構と独立して進退移動させるセンサ進退機構と前記センサ取付部材の枠体上部に取り付けられ、前記FOUP内収納ウェハの有無や収納状態を検出するための光学式の透過型センサと、を備えたことを特徴とするFOUPオープナである。
【0022】
請求項1に記載された発明は、前記のように構成されており、そのFOUPオープナのポートドア昇降機構の昇降基部材には、センサ進退機構とポートドア進退機構とがそれぞれ設けられ、該センサ進退機構は、ポートドアを間隔を開けて囲む枠体で構成されるセンサ取付部材を進退移動させるものであり、該センサ取付部材の上部には、FOUP内収納ウェハの有無や収納状態を検出するための光学式の透過型センサが取り付けられている。
【0023】
この結果、透過型センサは、ポートドアやロボットハンドに直接取り付けられることなく、これらから独立して、センサ取付部材に取り付けられ、しかも、このセンサ取付部材は、ポートドア昇降機構の昇降基部材に設けられるので、ポートドアやロボットハンドの水平進退移動に拘束されることがなく、これと独立に水平進退移動して、センサ取付け位置の設定の自由度が向上する。また、FOUP内に必要量進入して、ポートドア昇降機構の昇降動作を利用しつつ、FOUP内収納ウェハの有無や収納状態を確実に検出することができる。
また、センサ進退機構は、ウェハあるいはFOUPドア(閉塞状態時)の下部位置に設けられることになるので、センサ進退機構からの発塵は、第2制御環境200 のダウンフローによりさらに下部に運ばれ、ウェハ汚染やFOUPドアの内面汚染を引き起こす懸念が払拭される。
さらに、透過型センサの後端およびセンサ進退機構の後端が第2制御空間200側に出っ張る量W2が抑制されるので(W2<W1)、透過型センサ、センサ進退機構、センサ取付部材等からなるセンサ機構をコンパクトに実現して、装置のフットプリントをより狭くすることができる。
これらにより、コストパフォーマンスと歩留まりの高いFOUPオープナを提供することができる。
【0024】
また、請求項2に記載された発明は、FOUPオープナが、少なくとも、半導体ウェハを所定の間隔で、水平に、複数枚収納するFOUPを載置して位置決めするドックプレートと、前記FOUPを構成するFOUPドアを着脱して保持する着脱機構と保持機構とを有するポートドアと、前記ポートドアにより閉塞される開口部を有するポートプレートと、前記FOUPよりも下方位置において垂直方向に昇降自在な昇降基部材を有するポートドア昇降機構と、前記昇降基部材に設けられるとともに、前記ポートドアに接続される支持腕を有し、その支持腕を昇降基部材に沿って水平に移動させるポートドア進退機構と、枠体で構成され、前記ポートドアを間隔を開けて囲むように設けられるセンサ取付部材と、前記昇降基部材に設けられるとともに、前記センサ取付部材を前記昇降基部材に設けられる旋回中心軸の回りに進退方向に、前記ポートドア進退機構と独立して旋回移動させるセンサ旋回進退機構と、前記センサ取付部材の枠体上部に取り付けられ、前記FOUP内収納ウェハの有無や収納状態を検出するための光学式の透過型センサと、を備えたことを特徴とするFOUPオープナである。
【0025】
請求項2に記載された発明は、前記のように構成されており、そのFOUPオープナが、昇降基部材に設けられるとともに、センサ取付部材を該昇降基部材に設けられる旋回中心軸の回りに進退方向に、ポートドア進退機構と独立して旋回移動させるセンサ旋回進退機構を備えるので、請求項1に記載された発明が奏する前記のような効果に加えて、センサ進退機構の構造がやや簡単化される。
【0026】
また、請求項3に記載のように請求項1または請求項2に記載の発明を構成することにより、そのポートドア昇降機構は、昇降基部材を昇降動させるべく、数値制御可能なサーボモータとボールネジとからなるネジ送り機構を備えている。
この結果、マッピング情報に含まれるウェハ位置データやロボットハンド(ウェハ転送手段のハンド部)の位置データは、同一のエンコーダ情報により収集することができるようになるので、該ウェハ位置データに基づき、ロボットハンドの適切なウェハへのアクセス位置を誤差なくロボット側に教示することができる。また、オープナの構成品であるドックプレートやロボットの構成品であるハンド等を交換したり、あるいはオープナをそっくり入れ換えるような事態において、交換後の位置合わせ(キャリブレーション)作業を自動的に、しかも、瞬時に行なうことが可能になり、異常時の復旧時間を短縮することができる。
【0027】
さらに、請求項4に記載のように請求項1に記載の発明を構成することにより、そのセンサ取付部材の枠体上部に、異なる寸法のウェハにも対応することができるように、複数種類のセンサが取り付けられる。
この結果、ウェハの寸法が300mmや200mmと異なっても、センサ取付部材を、センサが取り付けられたまま、当該寸法のウェハに見合ったセンサを備える他のセンサ取付部材に交換する作業や、センサ自体を交換する作業を要さずに、当該寸法のウェハに見合ったセンサを使用して、迅速に当該寸法のウェハのFOUP内における有無や収納状態、収納位置(高さ)等を検出することができ、作業能率が格段に向上する。
【0028】
また、その請求項5に記載された発明は、FOUPオープナが、少なくとも、半導体ウェハを所定の間隔で、水平に、複数枚収納するFOUPを載置して位置決めするドックプレートと、前記FOUPを構成するFOUPドアを着脱して保持する着脱機構と保持機構とを有するポートドアと、前記ポートドアにより閉塞される開口部を有するポートプレートと、前記FOUPよりも下方位置において垂直方向に昇降自在な昇降基部材を有するポートドア昇降機構と、前記昇降基部材に設けられるとともに、前記ポートドアに接続される支持腕を有し、その支持腕を前記昇降基部材に沿って水平に進退移動させるポートドア進退機構と、枠体で構成され、前記ポートドアを間隔を開けて囲むように設けられるセンサ取付部材と、前記センサ取付部材の枠体上部に取り付けられる光学式の透過型センサと、前記昇降基部材に設けられるとともに、前記センサ取付部材を前記昇降基部材に沿って水平に、前記ポートドア進退機構と独立して進退移動させるセンサ進退機構と、を備えるFOUPオープナのマッピング方法であって、前記ポートドアにて前記FOUPドアを吸着保持した後、前記ポートドアを後退させ、前記センサ取付部材に取り付けられる前記透過型センサと前記ポートドアとを、前記透過型センサが前記FOUP内に進入する位置まで下降させ、前記センサ進退機構にて、前記センサ取付部材だけを前記ポートドアとは独立に前進させて、前記透過型センサを前記FOUP内に進入させ、前記センサ取付部材に取り付けられる前記透過型センサと前記ポートドアとを、前記透過型センサが前記FOUPの最下段に位置するまで下降させて、この間に、前記透過型センサに前記複数枚の半導体ウェハをマッピングさせ、前記センサ進退機構にて、前記センサ取付部材だけを前記ポートドアとは独立に後退させて、前記透過型センサを前記FOUP内から後退させ、前記センサ取付部材に取り付けられる前記透過型センサと前記ポートドアとを下降退避させる、ことを特徴とするFOUPオープナのマッピング方法である。
【0029】
請求項5に記載された発明は、前記のように構成されているので、その透過型センサは、ポートドアやロボットハンドに直接取り付けられることなく、これらから独立して、センサ取付部材の枠体上部に取り付けられ、しかも、このセンサ取付部材は、センサ進退機構により水平に移動させられるので、ポートドアやロボットハンドの水平進退移動に拘束されることがなく、これと独立に水平進退移動して、センサ取付け位置の設定の自由度が向上する。また、FOUP内に必要量進入して、昇降しつつ、FOUP内収納ウェハの有無や収納状態を確実に検出することができる。
また、透過型センサの後端およびセンサ進退機構の後端が第2制御空間200側に出っ張る量W2が抑制されるので(W2<W1)、透過型センサ、センサ進退機構、センサ取付部材等からなるセンサ機構をコンパクトに実現して、装置のフットプリントをより狭くすることができる。
これらにより、コストパフォーマンスと歩留まりの高いFOUPオープナを提供することができる。
【0030】
【発明の実施の形態】
次に、図1ないし図6に図示される本願の発明の一実施形態(実施形態1)について説明する。
図1は、本実施形態1におけるFOUPオープナのFOUPドア開放前の概略側面図であって、一部を断面にして示す図、図2は、図1の正面図、図3は、同FOUPオープナのFOUPドア下降退避(格納)時の概略側面図であって、一部を断面にして示す図、図4のA〜Hは、同FOUPオープナにおいて、FOUPドアがFOUPフレームから離脱開放されてフロントエンドに格納されるまでの一連の過程を示す図であって、F〜Hは、ロボットハンドの高さ位置を検出して、適切な高さ位置においてロボットハンドをFOUP内に進入させる過程を合わせて示した図、図5は、検出される収納ウェハの位置ずれの状態とセンサの位置とを説明する側断面図、図6は、図5の平面図である。
【0031】
すでに従来の技術の項で説明したとおり、反射型センサをポートドアの上部に配設する方法は、センサの後端からポートプレートまでの距離W1が大きくなって、装置全体のフットプリントを大きくするので、好ましくない。また、ポートドアの上部にセンサ移動機構を設けてウェハ収納状態を検出する方法は、反射型センサ、透過型センサのいずれかを問わず、センサ移動機構からの発塵がウェハ汚染やFOUPドアの内面汚染を引き起こす懸念があるとともに、センサ移動機構の後端からポートプレートまでの距離W1が大きくなって、装置全体のフットプリントが大きくなる傾向にあるので、これまた好ましくない。そこで、本実施形態1は、以上の知見を踏まえて、ウェハエッジを検出するセンサとして、光学式の透過型センサを用い、この透過型センサを、ポートドアとは別個に設けられるセンサ取付部材に取り付けるようにする。
【0032】
先ず、本実施形態1におけるFOUPオープナの全体構造のあらましを説明する。
図1に図示されるように、本実施形態1におけるFOUPオープナ1は、半導体ウェハ14を所定の間隔で、水平に、複数枚収納したFOUP10と、該FOUP10を載置して位置決めするドックプレート31と、該ドックプレート31をFOUPドア13が着脱される位置まで移動させるドック移動機構30と、FOUPドア13を着脱して保持する着脱機構と保持機構と(いずれも図示されず)を有するポートドア23と、該ポートドア23により閉塞される開口部22を有するポートプレート21と、ポートドア23を水平に移動させるポートドア進退機構40と、FOUPドア13をフロントエンド(第2制御空間200 )に格納するために、ポートドア23がFOUPドア13を保持した状態で、ポートドア23を垂直に移動させるポートドア昇降機構50とを備えている。FOUP10は、FOUPフレーム11とFOUPドア13と
からなり、FOUPドア13は、FOUPフレーム11の開口12を閉塞する。ポートプレート21とポートドア23とは、フロントエンドのFOUP供給側壁体の一部をなしている。ポートドア進退機構40は、後述する昇降基部材51の上側に固定されたリニアガイド41に沿ってポートドア23を水平な進退方向(図1において左右方向)に移動させる機構を備えている(図1、図2参照)。
【0033】
本実施形態1におけるFOUPオープナ1は、センサ進退機構60をさらに備えている。このセンサ進退機構60は、ポートドア昇降機構50の昇降基部材51に設けられ、このセンサ進退機構60には、矩形状の枠体(図2参照)からなるセンサ取付部材62が上方に向けて延設されている。センサ進退機構60は、昇降基部材51の下側に固定されたリニアガイド61に沿ってセンサ取付部材62を水平な進退方向(図1において左右方向)に移動させる機構を備えている(図1、図2参照)。その駆動源としては、電動モータ(図示されず)が使用される。
【0034】
センサ取付部材62の枠体上部には、光学式の透過型センサ70が取り付けられている(図1、図2参照)。センサ取付部材62を構成する矩形状の枠体は、正面視してポートドア23を間隔を開けて囲む大きさを有し、ポートドア23の水平進退移動とセンサ取付部材62の水平進退移動とが干渉しないようにされている。これにより、センサ取付部材62は、ポートドア23の水平進退移動とは無関係に、水平進退移動することができる。この透過型センサ70は、FOUP10内に進入して、FOUP内収納ウェハ14の有無や収納状態を検出する。透過型センサ70のFOUP10内への進入量は、センサ進退機構60がセンサ取付部材62を水平方向に進退移動させる量を調節することにより、適切な量に設定することができる。
【0035】
ドック移動機構30、ポートドア進退機構40およびポートドア昇降機構50は、従来と異なるものではない。詳細には図示されないが、ドック移動機構30は、前記のとおり、ドックプレート31を、FOUP10を載置した状態で、FOUPドア13が着脱される位置(ドック位置)まで移動させるものであり、ポートドア進退機構40は、ポートドア23の支持台42をリニアガイド41に沿って水平な進退方向に移動させるものであり、支持台42からは、ポートドア23に届く支持腕43が伸びている。また、ポートドア昇降機構50は、リニアガイド41およびリニアガイド61の固定台をなす昇降基部材51をポートプレート21に形成された案内溝52に沿って昇降動させるものであり、この昇降動を可能にするために、数値制御可能なサーボモータ53とボールネジ54とからなるネジ送り機構が用いられている(図1、図2参照)。
【0036】
次に、透過型センサ70がFOUP10内に進入して、FOUP内収納ウェハ14の有無や収納状態(傾き挿入、多重挿入等)を検出する過程を、図4のA〜H、図5、図6を参照しながら、詳細に説明する。
先ず、図4Aにおいて、FOUPドア13は、FOUPフレーム11から離脱開放される直前にあり、ポートドア23と透過型センサ70とは待機状態にある。次いで、ポートドア23が、FOUPドア13を吸着保持して、水平方向に後退する(図4B)。次いで、センサ取付部材62の枠体上部に取り付けられている透過型センサ70が、ポートドア23と一体にFOUP10内に進入する位置まで下降して、位置決めされる(図4C)。次いで、センサ進退機構60にて、センサ取付部材62だけがポートドア23とは独立に前進して、透過型センサ70が、FOUP10内に進入する(図4D)。次いで、透過型センサ70が、ポートドア23と一体にFOUP10の最下段に位置するまで下降する(図4E)。次いで、センサ進退機構60にて、センサ取付部材62だけがポートドア23とは独立に後退して、透過型センサ70が、FOUP10内から後退する(図4F)。最後に、透過型センサ70が、ポートドア23と一体に下降退避して、FOUPドア13が、フロントエンド(第2制御空間200 )に格納される(図4H)。
【0037】
透過型センサ70がFOUP10内に進入して、その最下段に位置するまで下降するまでの過程(図4D、E)において、透過型センサ70は、FOUP内収納ウェハ14の有無や収納状態(傾き挿入、多重挿入等)を検出する。図6に図示されるように、透過型センサ70の光軸70a が基準ウェハ14の先端から5mm進入した位置が、その検出位置とされている。ここで、基準ウェハ14の先端は、FOUPフレーム11の前面から16mmのところにあり、ポートプレート21の厚さは8mm、センサ70の光軸からセンサ70の先端までの距離は3mmであるから、センサ70が退避したときのセンサ70とポートプレート21との間の最小限必要な間隙2mmを考慮すると、透過型センサ70の進退ストロークは、35mm前後必要であることが理解されよう。
【0038】
なお、ポートプレート21の開口部22には、図5および図6に図示されるように、飛び出しセンサ71が設けられていて、この飛び出しセンサ71が、FOUP内収納ウェハ14の水平方向の位置ずれの状態を検出している。ウェハ14の水平方向の位置ずれは、FOUPドア13がFOUPフレーム11から離脱開放される時に生ずるが、その位置ずれ量が所定量(20mm)を越えたことを飛び出しセンサ71が検出すると、その検出結果に基づいてFOUPドア13の離脱開放動作は停止されて、ウェハ14およびFOUPドア13の保護が図られている。71a は、飛び出しセンサ71の光軸である。
【0039】
透過型センサ70がFOUP内収納ウェハ14の有無や収納状態(傾き挿入、多重挿入等)を検出すると、その検出結果は、ロボット側に送信されて、ロボットハンド80の移動量制御やロボットハンド80のウェハ14へのアクセス位置の調節がなされる。
【0040】
本実施形態1は、前記のように構成されているので、次のような効果を奏することができる。
光学式の透過型センサ70は、ポートドア23やロボットハンド80に直接取り付けられることなく、これらから独立して、センサ取付部材62の枠体上部に取り付けられ、しかも、このセンサ取付部材62は、ポートドア昇降機構50の昇降基部材51に設けられるセンサ進退機構60に上方に向けて延設されるものであるので、透過型センサ70は、ポートドア23やロボットハンド80の水平進退移動に拘束されることがなく、センサ取付け位置の設定の自由度が向上する。また、FOUP10内に必要量進入して、ポートドア昇降機構50の昇降動作を利用しつつ、FOUP内収納ウェハ14の有無や収納状態(傾き挿入、多重挿入等)を確実に検出することができる。
【0041】
また、センサ進退機構60は、ウェハ14あるいはFOUPドア13(閉塞状態時)より下部の位置に設けられることになるので、センサ進退機構60からの発塵は、第2制御環境200 のダウンフローによりさらに下部に運ばれ、ウェハ汚染やFOUPドア13の内面汚染を引き起こす懸念が払拭される。
【0042】
さらに、透過型センサ70の後端およびセンサ進退機構60の後端が第2制御空間200 側に出っ張る量W2が抑制されるので(W2<W1)、透過型センサ70、センサ進退機構60、センサ取付部材62等からなるセンサ機構をコンパクトに実現して、装置のフットプリントをより狭くすることができる。
これらにより、コストパフォーマンスと歩留まりの高いFOUPオープナ1を提供することができる。
【0043】
本実施形態1において、センサ進退機構60は、水平な進退方向に直線移動するものとされたが、これに限定されず、図7および図8に図示されるように、昇降基部材51に旋回中心軸55を設けて、この旋回中心軸55の回りに旋回するセンサ旋回進退機構63として構成されてもよい。図8は、センサ旋回進退機構63が旋回した姿勢において、透過型センサ70がFOUP10内に進入して、ウェハ14の有無や収納状態(傾き挿入、多重挿入等)を検出している状態を示している。このようにすると、センサ進退機構の構造がやや簡単化される。
【0044】
次に、本願の発明の他の実施形態(実施形態2)について説明する。
本実施形態2におけるFOUPオープナ1は、実施形態1におけるFOUPオープナ1と基本的構造において異なるものではないが、実施形態1における透過型センサ70は、本実施形態2においては、FOUP内収納ウェハ14の有無や収納状態(傾き挿入、多重挿入等)のみならず、ウェハ14の収納位置(高さ)をも検出することができるマッピングセンサ72に代えられている(図4F〜H参照)。そして、このマッピングセンサ72は、ロボットのウェハ転送手段のハンド部(ロボットハンド)80を検出するためのハンドセンサとしても使用され、ハンドセンサに兼用されるようになっている。
【0045】
本実施形態2におけるマッピング機能付きFOUPオープナ1は、図4のF〜Hに特徴的に図示されている。
図4Fは、マッピングセンサ72がマッピング作業を終えて、ポートドア23とは独立にFOUP10内から後退している状態と、ロボットハンド80が、マッピングセンサ72の上部の所定の位置に位置決めされている状態を示している。マッピングセンサ72は、次いで、図4Fに図示される位置からポートドア23と一体に上昇して、ロボットハンド80の高さ位置を検出し、その位置情報を得る(図4G)。この位置情報は、ロボット側に送信されて、マッピング情報から得られるウェハ位置データと比較されて、ロボットハンド80のウェハ14へのアクセス高さ位置の補正がなされる。
【0046】
マッピング情報のウェハ位置データに基づき、ロボットハンド80の適切なウェハ14へのアクセス高さ位置が誤差なくロボット側に教示されるように、マッピング情報のウェハ位置データとロボットハンド80の位置データとは、同一のサーボモータ53のエンコーダ情報により収集されるようになっている。このようにして収集されたウェハ位置データに基づいて、ロボットハンド80のウェハ14へのアクセス高さ位置の補正値がロボット側に教示されて、ロボットハンド80が、ウェハ14の高さ位置に応じた適切な高さ位置においてウェハ14にアクセスすることができるようになる(図4H)。なお、このとき、マッピングセンサ72は、ポートドア23と一体に下降退避して、FOUPドア13はフロントエンド(第2制御空間200 )に格納されている。
【0047】
以上のようなロボットハンド80のウェハ14へのアクセス高さ位置の補正方法は、要するに、FOUPオープナ1側でマッピング情報からロボットハンド80のウェハ14へのアクセス高さ位置を求め、FOUPオープナ1側でロボットハンド80の実際の高さ位置を検出し、FOUPオープナ1側からロボット側へロボットハンド80のウェハ14へのアクセス高さ位置の補正量を教示する方法である。
このようにすると、FOUPオープナ1の構成品であるドックプレート31やロボットの構成品であるロボットハンド80等を交換したり、あるいはFOUPオープナ1をそっくり入れ変えるような事態において、交換後の位置合わせ(キャリブレーション)作業を自動的に、しかも、瞬時に行うことが可能になり、異常時の復旧時間を短縮することができる。
【0048】
キャリブレーション動作が終了し、生産を始めると、FOUP10が順次入れ替わることになる。このような場合には、FOUP10が入れ替わる度にキャリブレーション動作を行わずに、FOUPオープナ1側から上位(ロボット)へ単に、マッピング情報に基づく補正値のみを出力するようにしてもよく、また、FOUP10が入れ替わる度に、毎回この動作を行なうようにしてもよい。このようにすれば、ウェハ14の収納高さ位置がばらついても、適切な位置にロボットハンド80を進入させることができるようになり、ロボットハンド80とウェハ14とが接触したり、衝突したりするような事態を回避することができる。
【0049】
そのためには、ポートドア昇降機構50に、サーボモータ53、ボールネジ54からなるネジ送り機構を採用し、エンコーダの出力情報(パルス)に同期してマッピングセンサ72やハンドセンサ(マッピングセンサ72と兼用されない場合)の出力情報を収集できるデータ収集手段を設けることが望ましい。
【0050】
本実施形態2は、前記のように構成されているので、次のような効果を奏することができる。
FOUPオープナ1のポートドア昇降機構50の昇降動作に伴い昇降するセンサ取付部材62の枠体上部に、ハンドセンサを兼用するマッピングセンサ72が取り付けられているので、マッピングセンサ72は、FOUP1内に進入して、ポートドア昇降機構50の昇降動作を利用しつつ、FOUP内収納ウェハ14の有無や収納状態、収納位置(高さ)等を検出して、ウェハ14のマッピングを行なうことができるとともに、ウェハ転送手段のハンド部(ロボットハンド)80の高さ位置を検出することができる。これにより、ウェハ14の収納高さ位置がばらついたとしても、このセンサ72の出力情報に基づいてロボットハンド80の適切な進入高さ位置を設定することができ、ウェハ転送手段のウェハ14へのアクセスに際して、ロボットハンド80がウェハ14に接触したり、衝突したりすることがなくなり、ウェハ14にダメージを与える虞が払拭される。また、ハンドセンサは、マッピングセンサ72と兼用されているので、部品を削減して、FOUPオープナ1の製作コストを低減することができる。
【0051】
また、マッピングセンサ72の後端が第2制御空間200 側に出っ張る量W2が抑制されるので(W2<W1)、マッピングセンサ72(ハンドセンサを兼ねる)、センサ進退機構60、センサ取付部材62等からなるセンサ機構をコンパクトに実現して、装置のフットプリントをより狭くすることができる。
これらにより、コストパフォーマンスと歩留まりの高いFOUPオープナ1を提供することができる。
【0052】
さらに、ポートドア昇降機構50は、数値制御可能なサーボモータ53とボールネジ54とからなるネジ送り機構を備え、サーボモータ53のエンコーダからの出力パルス情報に同期してマッピングセンサ72の出力情報を収集することができるデータ収集手段が設けられているので、マッピング情報より得られるウェハ位置データやロボットハンド80の位置データは、同一のエンコーダ情報により収集することができ、ウェハ位置データに基づきロボットハンド80の適切なウェハ14へのアクセス高さ位置を誤差なくロボット側に教示することができる。これにより、ロボットハンド80とウェハ14との接触、衝突の虞がさらになくなる。
また、FOUPオープナ1の構成品であるドックプレート31やロボットの構成品であるハンド部80等を交換したり、あるいはFOUPオープナ1をそっくり入れ換えるような事態において、交換後の位置合わせ(キャリブレーション)作業を自動的に、しかも、瞬時に行なうことが可能になり、異常時の復旧時間を短縮することができる。
【0053】
本実施形態2において、マッピングセンサ72は、ハンドセンサを兼用するようにされたが、ハンドセンサを別個に設けてもよいことはもちろんである。この場合において、ハンドセンサは、センサ取付部材62のマッピングセンサ72が取り付けられる位置の近傍の部位に取り付けるようにすることができる。
【0054】
次に、本願の発明のさらに他の実施形態(実施形態3)について説明する。
図9は、実施形態1および実施形態2におけるFOUPオープナに使用されたセンサ取付部材を比較のために単体で取り出して見た同センサ取付部材の斜視図、図10は、本実施形態3におけるFOUPオープナに使用されるセンサ取付部材の部分斜視図である。なお、実施形態1および実施形態2と対応する部分には、同一の符号を付している。
【0055】
これらの図の比較から明らかなように、本実施形態3におけるFOUPオープナ1に使用されるセンサ取付部材62の枠体上部には、実施形態1においてそこに取り付けられていた透過型センサ70に加えて、もう1つの透過型センサ(発光部と受光部との対からなるもの)73が、その上部の中央部寄りに、取り付けられている。このもう1つの透過型センサ73は、寸法において異なる(より小径の)他のウェハ14のFOUP10内における有無や収納状態を検出することができるものである。
【0056】
このようにすることにより、ウェハの寸法が300mmや200mmと異なっても、センサ取付部材62を異なる寸法のウェハに見合った透過型センサを備える他のセンサ取付部材62に取り換える作業や、透過型センサ70を他の透過型センサ73に交換する作業等を要さずに、当該寸法のウェハ14に見合った透過型センサを使用して、迅速に当該寸法のウェハ14のFOUP10内における有無や収納状態を検出することができ、作業能率が格段に向上する。透過型センサの種類数は、ウェハの寸法の種類数に応じて2つ以上とされてもよい。
【0057】
また、実施形態2においてセンサ取付部材62の枠体上部に取り付けられていたマッピングセンサ72に加えて、異なる寸法のウェハに見合ったもう1つのマッピングセンサ73が取り付けられてもよく、このようにすれば、寸法において異なる他のウェハ14のFOUP10内における有無や収納状態、収納位置(高さ)等を迅速に検出することができ、前記と同様の効果を奏することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本願の発明の一実施形態(実施形態1)におけるFOUPオープナのFOUPドア開放前の概略側面図であって、一部を断面にして示す
図である。
【図2】 図1の正面図である。
【図3】 同FOUPオープナのFOUPドア下降退避(格納)時の概略側面図であって、一部を断面にして示す図である。
【図4】 A〜Hは、同FOUPオープナにおいて、FOUPドアがFOUPフレームから離脱開放されてフロントエンドに格納されるまでの一連の過程を示す図であって、特にF〜Hは、ロボットハンドの高さ位置を検出して、適切な高さ位置においてロボットハンドがFOUP内に進入するようにする過程を合わせて示した図である。
【図5】 検出される収納ウェハの位置ずれの状態とセンサの位置とを説明する側断面図である。
【図6】 図5の平面図である。
【図7】 センサ旋回進退機構のみが異なる、実施形態1の変形例を示す図1と同様の図である。
【図8】 センサ旋回進退機構が旋回した状態における図7と同様の図である。
【図9】 実施形態1および実施形態2におけるFOUPオープナに使用されたセンサ取付部材を比較のために単体で取り出して見た同センサ取付部材の斜視図である。
【図10】 本願の発明のさらに他の実施形態(実施形態3)におけるFOUPオープナに使用されるセンサ取付部材の部分斜視図である。
【図11】 従来の反射型センサをポートドアの上部に配設したFOUPオープナの概略側面図であって、一部を断面にして示す図である。
【図12】 異なる状態における図11と同様の図である。
【図13】 さらに異なる状態における図11と同様の図である。
【図14】 さらに異なる状態における図11と同様の図である。
【図15】 従来の反射型センサがFOUP内収納ウェハを検出している状態におけるFOUPおよびセンサを含む部分の平面図である。
【符号の説明】
1…FOUPオープナ、10…FOUP、11…FOUPフレーム、12…開口、13…FOUPドア、14…半導体ウェハ、21…ポートプレート、22…開口部、23…ポートドア、30…ドック移動機構、31…ドックプレート、40…ポートドア進退機構、41…リニアガイド、42…支持台、43…支持腕、50…ポートドア昇降機構、51…昇降基部材、52…案内溝、53…サーボモータ、54…ボールネジ、55…旋回中心軸、60…センサ進退機構、61…リニアガイド、62…センサ取付部材、63…センサ旋回進退機構、70…透過型センサ、70a …光軸、71…飛び出しセンサ、71a…光軸、72…マッピングセンサ、73…センサ(透過型センサ、マッピングセンサ)、80…ロボットハンド(ウェハ転送手段のハンド部)、100 …第1制御空間、200 …第2制御空間、300 …外部環境(第3空間)。

Claims (5)

  1. FOUPオープナが、少なくとも、
    半導体ウェハを所定の間隔で、水平に、複数枚収納するFOUPを載置して位置決めするドックプレートと、
    前記FOUPを構成するFOUPドアを着脱して保持する着脱機構と保持機構とを有するポートドアと、
    前記ポートドアにより閉塞される開口部を有するポートプレートと、
    前記FOUPよりも下方位置において垂直方向に昇降自在な昇降基部材を有するポートドア昇降機構と、
    前記昇降基部材に設けられるとともに、前記ポートドアに接続される支持腕を有し、その支持腕を前記昇降基部材に沿って水平に進退移動させるポートドア進退機構と、
    枠体で構成され、前記ポートドアを間隔を開けて囲むように設けられるセンサ取付部材と、
    前記昇降基部材に設けられるとともに、前記センサ取付部材を前記昇降基部材に沿って水平に、前記ポートドア進退機構と独立して進退移動させるセンサ進退機構と
    前記センサ取付部材の枠体上部に取り付けられ、前記FOUP内収納ウェハの有無や収納状態を検出するための光学式の透過型センサと、
    を備えた
    ことを特徴とするFOUPオープナ。
  2. FOUPオープナが、少なくとも、
    半導体ウェハを所定の間隔で、水平に、複数枚収納するFOUPを載置して位置決めするドックプレートと、
    前記FOUPを構成するFOUPドアを着脱して保持する着脱機構と保持機構とを有するポートドアと、
    前記ポートドアにより閉塞される開口部を有するポートプレートと、
    前記FOUPよりも下方位置において垂直方向に昇降自在な昇降基部材を有するポートドア昇降機構と、
    前記昇降基部材に設けられるとともに、前記ポートドアに接続される支持腕を有し、その支持腕を昇降基部材に沿って水平に移動させるポートドア進退機構と、
    枠体で構成され、前記ポートドアを間隔を開けて囲むように設けられるセンサ取付部材と、
    前記昇降基部材に設けられるとともに、前記センサ取付部材を前記昇降基部材に設けられる旋回中心軸の回りに進退方向に、前記ポートドア進退機構と独立して旋回移動させるセンサ旋回進退機構と、
    前記センサ取付部材の枠体上部に取り付けられ、前記FOUP内収納ウェハの有無や収納状態を検出するための光学式の透過型センサと、
    を備えた
    ことを特徴とするFOUPオープナ。
  3. 前記ポートドア昇降機構は、前記昇降基部材を昇降動させるべく、数値制御可能なサーボモータとボールネジとからなるネジ送り機構を備えている
    ことを特徴とする請求項1または請求項2に記載のFOUPオープナ。
  4. 前記センサ取付部材の枠体上部に、異なる寸法のウェハにも対応することができるように、複数種類のセンサが取り付けられたことを特徴とする請求項1に記載のFOUPオープナ。
  5. FOUPオープナが、少なくとも、
    半導体ウェハを所定の間隔で、水平に、複数枚収納するFOUPを載置して位置決めするドックプレートと、
    前記FOUPを構成するFOUPドアを着脱して保持する着脱機構と保持機構とを有するポートドアと、
    前記ポートドアにより閉塞される開口部を有するポートプレートと、
    前記FOUPよりも下方位置において垂直方向に昇降自在な昇降基部材を有するポートドア昇降機構と、
    前記昇降基部材に設けられるとともに、前記ポートドアに接続される支持腕を有し、その支持腕を前記昇降基部材に沿って水平に進退移動させるポートドア進退機構と、
    枠体で構成され、前記ポートドアを間隔を開けて囲むように設けられるセンサ取付部材と、
    前記センサ取付部材の枠体上部に取り付けられる光学式の透過型センサと、
    前記昇降基部材に設けられるとともに、前記センサ取付部材を前記昇降基部材に沿って水平に、前記ポートドア進退機構と独立して進退移動させるセンサ進退機構と、
    を備えるFOUPオープナのマッピング方法であって、
    前記ポートドアにて前記FOUPドアを吸着保持した後、前記ポートドアを後退させ、
    前記センサ取付部材に取り付けられる前記透過型センサと前記ポートドアとを、前記透過型センサが前記FOUP内に進入する位置まで下降させ、
    前記センサ進退機構にて、前記センサ取付部材だけを前記ポートドアとは独立に前進させて、前記透過型センサを前記FOUP内に進入させ、
    前記センサ取付部材に取り付けられる前記透過型センサと前記ポートドアとを、前記透過型センサが前記FOUPの最下段に位置するまで下降させて、この間に、前記透過型センサに前記複数枚の半導体ウェハをマッピングさせ、
    前記センサ進退機構にて、前記センサ取付部材だけを前記ポートドアとは独立に後退させて、前記透過型センサを前記FOUP内から後退させ、
    前記センサ取付部材に取り付けられる前記透過型センサと前記ポートドアとを下降退避させる、
    ことを特徴とするFOUPオープナのマッピング方法。
JP2001269149A 2000-09-14 2001-09-05 Foupオープナ及びfoupオープナのマッピング方法 Expired - Lifetime JP4246420B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001269149A JP4246420B2 (ja) 2000-09-14 2001-09-05 Foupオープナ及びfoupオープナのマッピング方法

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000279530 2000-09-14
JP2000-279530 2000-09-14
JP2001269149A JP4246420B2 (ja) 2000-09-14 2001-09-05 Foupオープナ及びfoupオープナのマッピング方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2002164411A JP2002164411A (ja) 2002-06-07
JP4246420B2 true JP4246420B2 (ja) 2009-04-02

Family

ID=26599970

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001269149A Expired - Lifetime JP4246420B2 (ja) 2000-09-14 2001-09-05 Foupオープナ及びfoupオープナのマッピング方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4246420B2 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013069965A (ja) * 2011-09-26 2013-04-18 Tdk Corp ロードポート装置及び被処理物の検出方法
EP2940721A1 (en) 2014-04-28 2015-11-04 Sinfonia Technology Co., Ltd. Wafer mapping apparatus and load port including same

Families Citing this family (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4669643B2 (ja) 2001-09-17 2011-04-13 ローツェ株式会社 ウエハマッピング装置およびそれを備えたロードポート
AU2003239820A1 (en) * 2002-04-25 2003-11-10 Hermos Informatik Gmbh Controlling device for monitoring the spatial or mechanical delimitation of producer goods or materials in the production cycle by using transponder technology
KR100468437B1 (ko) * 2002-08-23 2005-01-27 코리아테크노(주) 후프 오프너의 후프도어 개폐장치
KR20020070951A (ko) * 2002-08-23 2002-09-11 코리아테크노(주) 후프오프너의 도어홀더 전후진 이송장치
KR20020071827A (ko) * 2002-08-23 2002-09-13 코리아테크노(주) 후프오프너의 도어홀더 리프팅장치
JP3916148B2 (ja) 2002-11-15 2007-05-16 Tdk株式会社 ウェハーマッピング機能を備えるウェハー処理装置
JP2006013123A (ja) * 2004-06-25 2006-01-12 Applied Materials Inc ウェーハ検出装置及び方法
JP4012189B2 (ja) 2004-10-26 2007-11-21 Tdk株式会社 ウエハ検出装置
JP2006140418A (ja) * 2004-11-15 2006-06-01 Kaijo Corp 被処理基板の検出システム
TW200725785A (en) * 2005-12-30 2007-07-01 Powerchip Semiconductor Corp Displaced wafer detection systems
JP4863985B2 (ja) 2007-12-20 2012-01-25 大日本スクリーン製造株式会社 基板処理装置
JP5518513B2 (ja) * 2010-02-04 2014-06-11 平田機工株式会社 フープオープナ及びその動作方法
JP2012146870A (ja) * 2011-01-13 2012-08-02 Disco Abrasive Syst Ltd カセット収容装置
JP5875316B2 (ja) * 2011-10-06 2016-03-02 株式会社ディスコ 加工装置
JP2013143425A (ja) 2012-01-10 2013-07-22 Tokyo Electron Ltd 基板処理システム及び基板位置矯正方法
JP6024433B2 (ja) 2012-12-10 2016-11-16 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置、基板処理システム及び搬送容器の異常検出方法
JP6227334B2 (ja) * 2013-09-04 2017-11-08 ローツェ株式会社 複数種類の半導体ウエハを検出するロードポート
JP6415220B2 (ja) * 2014-09-29 2018-10-31 株式会社Screenホールディングス 基板処理装置および基板処理方法
JP6410626B2 (ja) * 2015-02-06 2018-10-24 株式会社ディスコ 切削装置
KR200481041Y1 (ko) * 2015-02-23 2016-08-05 주식회사 테크네스트 반도체 제조 설비용 웨이퍼 박스 투입부 안전 바아 장치
JP6965378B2 (ja) * 2016-06-13 2021-11-10 東京エレクトロン株式会社 基板搬送装置および基板搬送装置の異常検出方法
CN106672660B (zh) * 2017-03-09 2019-08-30 合肥京东方光电科技有限公司 掩膜版装载装置及显示面板制备***
JP7082274B2 (ja) * 2017-11-06 2022-06-08 シンフォニアテクノロジー株式会社 ロードポート、及びロードポートにおけるマッピング処理方法
JP7346839B2 (ja) 2019-02-15 2023-09-20 Tdk株式会社 ロードポート
JP7200834B2 (ja) * 2019-06-14 2023-01-10 信越半導体株式会社 搬送システム
JP7447661B2 (ja) 2020-04-23 2024-03-12 Tdk株式会社 板状対象物の配列検出装置およびロードポート
JP7433644B2 (ja) 2020-06-05 2024-02-20 Aiメカテック株式会社 基板検出装置、基板検出方法、及び基板処理ユニット
KR102528602B1 (ko) * 2021-11-26 2023-05-04 상하이 구어나 세미컨덕터 테크놀로지 컴퍼니 리미티드 웨이퍼 포드 도어를 위한 배치 시스템
CN116666284B (zh) * 2023-06-28 2024-06-21 江苏圣创半导体科技有限公司 一种晶圆载入机

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013069965A (ja) * 2011-09-26 2013-04-18 Tdk Corp ロードポート装置及び被処理物の検出方法
US9324595B2 (en) 2011-09-26 2016-04-26 Tdk Corporation Load port apparatus and method of detecting object to be processed
EP2940721A1 (en) 2014-04-28 2015-11-04 Sinfonia Technology Co., Ltd. Wafer mapping apparatus and load port including same
KR20150124399A (ko) 2014-04-28 2015-11-05 신포니아 테크놀로지 가부시끼가이샤 웨이퍼 맵핑 장치 및 그것을 구비한 로드 포트
US9239228B2 (en) 2014-04-28 2016-01-19 Sinfonia Technology Co., Ltd. Wafer mapping apparatus and load port including same
KR20220050868A (ko) 2014-04-28 2022-04-25 신포니아 테크놀로지 가부시끼가이샤 웨이퍼 맵핑 장치 및 그것을 구비한 로드 포트

Also Published As

Publication number Publication date
JP2002164411A (ja) 2002-06-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4246420B2 (ja) Foupオープナ及びfoupオープナのマッピング方法
KR100688436B1 (ko) Smif 및 개방 포드에 적용하기 위한 만능 툴 인터페이스 및/또는 제조품 이송 장치
KR100616125B1 (ko) 수직 인터페이스에 적합한 개방 시스템
US8251636B2 (en) Lid closing method for closed container and lid opening/closing system for closed container
KR101408294B1 (ko) 로드 포트 장치
EP1443549B1 (en) Wafer mapping device and load port with the device
US6612797B1 (en) Cassette buffering within a minienvironment
EP1204138B1 (en) Attaching and removing unit of lid for wafer carrier
TWI425590B (zh) 基板處理裝置及其基板搬送方法
US4861222A (en) Cassette elevator for use in a modular article processing machine
JPH11145244A (ja) 基板処理装置
US11031265B2 (en) Load port module
JP2001210700A (ja) 基板検出方法およびその装置
US8379082B2 (en) System, methods and apparatus for substrate carrier content verification using a material handling system
CN116391249A (zh) 装载端口
JP4177114B2 (ja) プリアライナー及び格納ポッド・アクセス機構を備える集積回路基板ハンドラー
US6717171B2 (en) Method and apparatus for accessing microelectronic workpiece containers
JP2002076097A (ja) ウェハ転送装置およびウェハアライメント方法
KR20200099945A (ko) 로드 포트
JP2001284439A (ja) ウェーハマッピング装置
JP2001156147A (ja) ウエハ搬送装置
KR200380341Y1 (ko) 파드 반출기능을 갖는 로드 포트
CN217933723U (zh) Smif晶片盒晶片感测装置
KR100557302B1 (ko) 파드 반출기능을 갖는 로드 포트
JP3565810B2 (ja) 基板収納容器の蓋を開閉する装置、並びに基板の検出方法およびその装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20050310

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20071026

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080408

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080605

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080812

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20081007

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20090106

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20090108

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4246420

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120116

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120116

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150116

Year of fee payment: 6

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term