JP4164338B2 - 合金ナノパーティクルの製造方法 - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、合金ナノパーティクル及びその製造方法並び合金ナノパーティクルを用いた磁気記録媒体に関する。
【0002】
【従来の技術】
磁気記録媒体の記録密度の向上のためには、媒体の磁気的なクラスタを小さく且つ均一にし、隣り合う磁気クラスタの磁気的な結合を弱くすることが必要である。このためには、媒体の記録層を形成する磁性金属の結晶粒径を小さく且つ均一にし、隣り合う結晶粒の間を非磁性の金属で覆うことが必要である。
【0003】
しかし、結晶粒径を小さくした場合、「熱揺らぎ」という自発磁化を失っていく問題も顕著になる。これらの問題には、従来から様々な発明がされ、改良されつつ現在に至っている。
【0004】
磁性金属を、ナノメートルスケールで、且つ粒径が均一な結晶として得る方法の一つとして、化学合成法が提案されている(Science,vol287pp1989,及び特開2000−48340)。
【0005】
この技術は、熱揺らぎに強い高い磁気異方性を有するFePt合金を化学的に合成するものである。この技術は、FePtの結晶粒が、隣り合う結晶粒と有機化合物を媒体として自然に整然と配列することから、自己組織化(セルフアセンブリング)と呼ばれており、約4nmの結晶粒径を有し、且つ分散に優れることから超高密度記録用媒体の記録層として期待されている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、磁気記録媒体としての性能を継続的に向上させていくためには、磁性金属の粒径を制御する技術が必要となるにもかかわらず、上述した化学合成法による磁性合金ナノパーティクルに関する限り、これまで粒径の制御を自由に行うことができなかった。
【0007】
例えば、FePtナノパーティクルの場合、これまで直径3〜4nmの粒子を得る条件しか知られていないために、異なった粒径のナノパーティクルを得るためには、一旦合成したナノパーティクルの分散液に、その原材料を追加して再度反応を行い、粒子を成長させるという手段を取る必要があった。
【0008】
この方法では、当然のことながら、最初に合成される直径3〜4nmの粒子よりも粒径の小さい粒子を入手するこは不可能である。
【0009】
FePtは、fccの結晶構造を規則化してfct構造に変化させることにより、磁性を発現する。この規則化を行うためにはアニールが必要であり、FePtを塗布した基板をアニールすることによ、FePtが大きな保磁力を得ることができる。
【0010】
一般にアニール温度と保磁力は相関があり、アニール温度を高くする保磁力が上昇する(Science,vol287 pp1989)。しかし、高温アニールを行うと、隣り合うナノパーティクルが結合し、粒径の大きな結晶になることが報告されている(Applied Physics Letters,vol79No.26 pp4393)。
【0011】
結晶粒同士の結合によって粒径が大きくなると、結晶粒の平均粒径も大きくなると共に、結晶粒径の分散も大きくなってしまい、ナノパーティクルの長所が失われることになる。
【0012】
よって、本発明の目的は、合成する合金ナノパーティクルの粒径を任意に制御可能な合金ナノパーティクルの製造方法を提供することである。
【0013】
本発明の他の目的は、合金ナノパーティクルを粒径及びその分散を増大させることなく記録層に適用した磁気記録媒体を提供することである。
【0015】
【課題を解決するための手段】
本発明によると、合金ナノパーティクルの製造方法であって、不活性ガス雰囲気中で炭素数が2〜20である炭化水素、アルコール、エーテル、エステルからなる群から選択された有機溶媒中に金属塩、還元剤、安定化配位子、及び有機鉄錯体を加えて反応液を得るステップと、該反応液を所定温度に加熱しながら攪拌するステップとを具備し、前記安定化配位子の量に従って合金ナノパーティクルの粒径の増減を制御することを特徴とする合金ナノパーティクルの製造方法が提供される。
【0016】
安定化配位子は、カルボン酸、スルホン酸、スルフィン酸、ホスホン酸及びアミンからなる群から選択される。好ましくは、有機鉄錯体はFe(CO)5、Fe2(CO)9及びFe3(CO)12からなる群から選択される。
【0017】
好ましくは、金属塩はビスアセチルアセトナト白金、ビスベンゾニトリル白金二塩化物、臭化白金(II)、塩化白金(II)及びヨウ化白金(II)からなる群から選択される。
【0025】
【発明の実施の形態】
本発明は、ナノパーティクルを化学的に合成する際の反応液における金属の飽和濃度を調節し、これによってナノパーティクルの大きさを制御できるという知見に基づくものである。
【0026】
ナノパーティクル合成の際には、反応の進行によって、反応液中にナノパーティクルを構成する金属が増加していき、その濃度が飽和濃度を超えたところで、合金のナノパーティクルが形成され始める。
【0027】
このとき、反応液における金属の飽和濃度が高ければ、ナノパーティクルの核となる金属原子の凝集物が出来難く、結果としてその数が少なくなるために、個々のナノパーティクルは大きく成長する。逆に、金属の飽和濃度が低い反応液中では、ナノパーティクルの粒径は小さくなる。
【0028】
反応液における金属の飽和濃度は、合成反応に用いる安定化配位子(安定剤)の量を変化させることによって、変化させることができる。エーテル、アルコール、エステル、炭化水素といった有機溶媒中では、金属の飽和濃度は極めて低い。
【0029】
そのため、反応液中の金属に飽和濃度は、反応液中の安定化配位子の濃度ではなくその絶対量に依存する。従って、本発明はナノパーティクルの粒径の制御を、使用する安定化配位子の絶対量によって行うことを特徴とする。
【0030】
本発明の一実施形態によると、合金ナノパーティクルの製造方法が提供される。合金ナノパーティクルの製造方法は、不活性ガス雰囲気中で炭素数が2〜20である炭化水素、アルコール、エーテル、エステルからなる群から選択された有機溶媒中に金属塩、還元剤、安定化配位子、及び有機鉄錯体を加えて反応液を得るステップと、この反応液を所定温度に加熱しながら攪拌するステップを含んでいる。そして、安定化配位子の量によって合金ナノパーティクルの粒径を制御することを特徴とする。
【0031】
使用可能な安定化配位子としては、炭素数が6〜22であるカルボン酸、スルホン酸、スルフィン酸、ホスホン酸等の酸が挙げられる。或いは、同じく炭素数が6〜22であるアミン等の塩基性有機化合物が挙げられる。
【0032】
特に、金属微粒子を液中に分散させる能力の大きいカルボン酸の一種であるオレイン酸と、オレイン酸と同一の炭素鎖を有し、化学的性質が類似したオレイルアミンが好適である。これらの酸、アミンは単独で用いてもよいし、同時に組み合わせて用いてもよい。特に、オレイル酸とオレインアミンの組み合わせが適している。
【0033】
反応液の加熱温度は220℃〜260℃の範囲内が好ましい。有機鉄錯体はFe(CO)5,Fe2(CO)9或いはFe3(CO)12が適している。
【0034】
また、金属塩としては、ビスアセチルアセトナ白金、ビスベンゾニトリル白金二塩化物、臭化白金(II)、塩化白金(II)、或いはヨウ化白金(II)が使用可能である。
【0035】
以下、本発明を具体的な実施例に基づいて説明する。
【0036】
実施例1
アルゴンガス雰囲気下で、ビスアセチルアセトナト白金197mg(0.5mmol)と1,2ヘキサデカンジオール390mgを入れたフラスコに、ジオクチルエーテル20mLを加えた。
【0037】
更に、オレイン酸0.32mL(1.0mmol)及びオレイルアミン0.34mL(1.0mmol)を加えた後で、Fe(CO)5を0.13mL(1.0mmol)を加えて反応液を得た。
【0038】
この反応液を攪拌しながら230℃で30分反応させた後、室温まで放冷し、エタノール40mLを加えて遠心分離を行った。更に、沈殿をヘキサンに分散させることにより、FePt合金ナノパーティクルの分散液を得た。この条件で得られたFePt合金ナノパーティクルの平均粒径は4.3nmであった。
【0039】
FePtナノパーティクルの粒径は、上述した合成反応に用いるオレイン酸とオレイルアミンの量を変化させることで制御できる。上述した反応条件のうち、オレイル酸とオレイルアミンの量のみを変化させて得られたFePt合金ナノパーティクルの粒径変化を、表1及び図1(A)〜図3に示す。
【0040】
【表1】
Figure 0004164338
【0041】
図1(A)〜図3は、オレイン酸とオレイルアミンの使用量が、生成するFePtナノパーティクルの粒径に及ぼす影響を、ナノパーティクルの直径と発生頻度との関係で示したグラフである。
【0042】
図1(A)はオレイン酸0.64mL、オレイルアミン0.68mLを使用した場合の粒径分布を示しており、平均粒径は5.5nmである。図1(B)はオレイン酸0.32mL、オレイルアミン0.34mLを使用した場合の粒径分布を示しており、平均粒径は4.3nmである。
【0043】
図1(C)はオレイン酸0.16mL、オレイルアミン0.17mLを使用した場合の粒径分布を示しており、平均粒径は3.3nmである。図2(A)はオレイン酸0.08mL、オレインアミン0.08mLを使用した場合の粒径分布を示しており、平均粒径は3.0nmである。
【0044】
図2(B)はオレイン酸0.04mL、オレイルアミン0.04mLを使用した場合の粒径分布を示しており、平均粒径は2.6nmである。図2(C)はオレイン酸0.02mL、オレイルアミン0.02mLを使用した場合の粒径分布を示しており、平均粒径は2.1nmである。
【0045】
図3はオレイン酸0.01mL、オレイルアミン0,01mLを使用した場合の粒径分布を示しており、平均粒径は1.6mLである。
【0046】
表1及び図1(A)〜図3から明らかなように、FePtナノパーティクルの平均粒径は反応液中に添加する安定化配位子の使用量に応じて制御できことが分かる。即ち、安定化配位子の使用量とFePtナノパーティクルの平均粒径は概略比例関係にある。
【0047】
実施例2
実施例1と同様な反応液中に、更にビスアセチルアセトナト銅を28.8mg(0.11mmol)を加えた。他の条件は実施例1と同一として合成反応を行ったところ、用いた安定化配位子の量と粒径の関係について、実施例1と同様の結果が得られた。このとき合成されるナノパーティクルは、FePtCu合金ナノパーティクルである。
【0048】
実施例3
実施例1と同様な反応液中に、更に酢酸銀(I)を23.4mg(0.14mmol加えた。他の条件は実施例1と同一として合成反応を行ったところ、用いた安定化配位子の量と粒径の関係について、実施例1と同様の結果が得られた。このとき合成されるナノパーティクルは、FePtAg合金ナノパーティクルである。
【0049】
図4を参照すると、本発明方法により製造されたFePt合金ナノパーティクルを記録層として採用した本発明第1実施形態に係る垂直磁気記録媒体2Aの断面構成図が示されている。
【0050】
Al強化ガラス又は結晶化ガラス等の基板4上にFeSi、又はFeTaC等の軟磁性層6が形成されている。軟磁性層6上にはカーボン又はMgO等からなる中間層8が形成されている。
【0051】
中間層8上には1nm〜3nmの平均直径を有するFePt合金ナノパーティクル層10が化学合成法により形成されている。FePt合金ナノパーティクル層10は垂直方向に磁化されており、FePt合金ナノパーティクル10aは実質的に均一な間隔に配置されている。
【0052】
FePt合金ナノパーティクル層10上にはカーボン保護膜12が形成されており、カーボン保護膜12上には潤滑剤14が塗布されている。
【0053】
図5を参照すると、FePt合金ナノパーティクルを記録層に採用した本発明第2実施形態に係る面内磁気記録媒体2Bの断面構成図が示されている。Al強化ガラス又は結晶化ガラス等の基板4上にはNiP等から形成された下地層16が形成されている。下地層16上にはCrMo等から形成された中間層18が形成されている。
【0054】
中間層18上には面内方向に磁化されたFePt合金ナノパーティクル層20が形成されている。FePt合金ナノパーティクル20aは1nm〜3nmの平均直径を有し、実質的に均一な間隔で配置されている。
【0055】
FePt合金ナノパーティクル層20上にはカーボン保護膜12が形成されており、カーボン保護膜12上には潤滑剤14が塗布されている。
【0056】
図4及び図5に示した第1及び第2実施形態において、FePt合金ナノパーティクル層10,20をFe,Pt及びNi,Co,Cu,Ag,Mn,Pbからなる群から選択される元素を含んだ合金ナノパーティクル層で形成するようにしてもよい。この場合には、合金ナノパーティクルは2nm〜6nm、好ましくは2nm〜3nmの平均直径を有し、実質的に均一な間隔で配置されている。
【0057】
アニール時にナノパーティクルの粒径の肥大化が起こるのは、高温下で合金ナノパーティクル同士が接触した場合に、粒子を融合させて粒子の比表面積を下げ、それによって表面エネルギーを低下させる方が、ナノパーティクルの独立を維持するよりもエネルギー的に遥かに有利なためである。
【0058】
従って、ナノパーティクルの独立状態を維持するためには、ナノパーティクル同士の接触を妨げる手段が必要である。その手段の一例として、ナノパーティクルの分散液にアニール条件に耐え得る有機化合物を混合し、混合液を基板に塗布する方法を挙げることができる。
【0059】
分散液に均一に溶解した有機化合物は、塗布後にナノパーティクル間の空隙を均等に満たすことができ、空隙中の有機化合物は適切なアニール条件によってアモルファスカーボンに変化させられるため、高い耐久性を付与することができる。
【0060】
上記の目的に適う有機化合物として、カルボン酸と塩基性有機化合物としてのアミンの組み合わせを挙げることができる。カルボン酸とアミンは塩を形成することによって、お互いに強固に結びつくことができ、結果としてナノパーティクル同士の接触を妨げる効果を有している。
【0061】
特に、カルボン酸としては、金属微粒子の分散剤として優れたオレイン酸が好適であり、これと組み合わせる塩基性有機化合物としては、オレイン酸と分子の主鎖の長さが等しく化学的性質が類似したオレイルアミンが好適である。
【0062】
互いに親和性の高いオレイン酸とオレイルアミンとを組み合わせることにより、合金ナノパーティクルを安定に分散させつつ、ナノパーティクルの間隙における有機化合物の混合状態を均一にすることができる。
【0063】
但し、ナノパーティクル媒体の場合、FePt合金ナノパーティクルとカルボン酸及びアミンをヘキサン、ヘプタン、オクタン等の有機溶媒中に溶解して基板に塗布するのであるが、塗布直後に塩を形成しているカルボン酸及びアミンの割合は少ない。そのため、カルボン酸とアミンとの間に効果的に塩を形成するために、種々の方法を検討し、以下のものが有効であることが判明した。
【0064】
(1)混合液を基板に塗布後、N2ガス中で5日間以上置いてからアニールを行う。アニール温度は約400℃〜900℃、好ましくは500℃〜800℃の間である。また、アニール時間は約30分〜約2時間である。
【0065】
(2)混合液を基板に塗布後、残留する溶媒を完全に揮発させるために、真空中で1時間以上保持してからアニールを行う。
【0066】
(3)混合液を基板に塗布後、残留する溶媒を完全に揮発させるために、有機溶媒の沸点以上の温度において5〜60分間ベーク処理を施した後、アニールを行う。
【0067】
この他、FePt合金ナノパーティクルの粒子の融合を抑制する対策として以下の方法を挙げることができる。
【0068】
(1)ナノパーティクル、カルボン酸及びアミンとを含んだナノパーティクル層の厚さを80nm以下とし、膜厚を均一にする。好ましくは、膜厚を5nm〜20nmの範囲内とする。混合液塗布方法としては、スピンコート法やディップ法を用いることができる。
【0069】
(2)アニールを行う際、雰囲気を10-3Pa以下の真空とする。
【0070】
また、FePt合金ナノパーティクルの移動を物理的に抑制する方法も一定の効果が確認された。その例として以下の方法を挙げることができる。
【0071】
(1)FePt合金ナノパーティクル、カルボン酸及びアミンとを含んだ混合液を基板に塗布してナノパーティクル層を形成後、このナノパーティクル層上にスパッタ法や蒸着法によりカーボン保護膜を成膜する。
【0072】
(2)FePt合金ナノパーティクルと基板との親和性を高めるために、基板上にカーボン下地層を形成し、このカーボン下地層上にFePt合金ナノパーティクル、カルボン酸及びアミンとを含んだ混合液を塗布する。
【0073】
また、FePt合金ナノパーティクルと、カルボン酸及びアミンを含んだ有機化合物との比率を種々変更して検討した結果、アニール後のFePt合金ナノパーティクルを含有するナノパーティクル層中において、ナノパーティクルを構成する金属原子数と、ナノパーティクル間の空隙を満たしている炭素原子数の合計に対する炭素原子数の割合が、50原子%以上である場合に、FePtナノパーティクル同士の融合を抑制する効果が大きいことが判明した。
【0074】
磁気特性上ナノパーティクル層中のFePtナノパーティクルの密度は一定以上あることが必要なため、炭素原子数の割合は、50原子%以上85%未満の範囲にあることが好ましい。
【0075】
実施例4
磁性金属には、ヘキサン中にFePt合金ナノパーティクル、カルボン酸及びアミンから成る有機混合物を分散させたコート液を用いた。有機溶媒としてヘキサンに変わりヘプタン又はオクタンを使用してもよい。ナノパーティクル層の基板上への成膜は図6に示すようなスピンコート装置を用いて行った。
【0076】
図6はスピンコート装置の開放時の概略構成図を示しており、ディスク基板24を保持して回転させるディスク基板回転機構26が挿通された密閉用カップ28と、コート液用シリンジ30及びヘキサン用シリンジ32を挿通した密閉用プレート34によって基本構造が構成される。
【0077】
密閉用カップ28の低部には、密閉用カップ28を上下動させて密閉用プレート34に接触させて密閉空間を形成する、カップ上下動機構36が設けられている。なお、密閉用カップ28と密閉用プレート34との接触部の一方には、Oリング等の気密封止手段が設けられている。
【0078】
密閉用カップ28には配管を介して密閉空間を真空に排気するオイルフリーポンプ38が接続されている。密閉用カップ28内には、密閉空間の真空度を測定するピラニゲージ40と、導入した溶媒であるヘキサンの蒸気圧を測定するヘキサン蒸気圧センサ42が配置されている。
【0079】
コート液用シリンジ30には、コート液の滴下量を制御するコントローラ31が設けられている。更に、コート液用シリンジ30には気密構造を保ったままで基板24の半径方向にコート液用シリンジ30を直線的に移動させる機構が設けられている。
【0080】
ヘキサン用シリンジ32には、ヘキサンの導入量を制御するマスフローコントローラ33が設けられていると共に、ヘキサン用シリンジ32の下方にはホットプレート44が配置されている。滴下されたヘキサンはホットプレート44によって加熱されることによって気化し、密閉空間をヘキサン雰囲気で満たすことになる。
【0081】
また、密閉用プレート34には複数のガス導入管46と接続する複数のコンダクタンスバルブ48が設けられており、各ガス導入管46にはN2ガスの流量を制御するためのマスフローコントローラ47が設けられている。
【0082】
図7はスピンコート装置の密閉状態における概略構成図を示しており、カップ上下動機構36によって密閉用カップ28を上方に移動させて、密閉用カップ28を密閉用プレート34に当接させることにより、密閉成膜室50を形成することができる。
【0083】
以上説明したスピンコート装置に、外径65mm、内径20mmのドーナツ状のシリコン基板からなるディスク基板24を真空吸引によりディスク基板回転機構26に固定した後、ディスク基板24を300rPmで回転させた。
【0084】
次に、ディスク基板24周辺を密閉構造とするために、カップ上下動機構26を駆動して密閉用カップ28を上方に移動させて、図7に示すように密閉用カップ28を密閉用プレート34に当接させて密閉成膜室50を形成した。
【0085】
密閉成膜室50内にヘキサン用シリンジ32からヘキサンを100mL導入し、ホットプレート44を約80℃に加熱することによりヘキサンを気化させて、密閉成膜室50内を予めヘキサン雰囲気とした。
【0086】
次に、溶媒のヘキサンにFePtナノパーティクルとカルボン酸及びアミンを含んだ有機混合物を分散させた200μLのコート液を、コート液用シリンジ30から5秒間で滴下した。
【0087】
コート液の滴下は、図8に示すようにディスク基板24を60rpmのゆっくりした回転数で回転させた状態で、コート液用シリンジ30を図8において矢印で示すラジアル方向に0.5cm/秒の速度で移動させながら滴下した。これにより、コート液52はディスク基板24に対し渦巻状態で滴下されることになる。
【0088】
次いで、ディスク基板24を1000rpmで10秒間回転させることにより、コート液52をディスク基板24の表面全面に広げた。このスピンコート工程においては、密閉成膜室50内はヘキサン蒸気で満たされているので、コート液52中のヘキサンが揮発することはない。
【0089】
次に、基板表面の残存ヘキサンを乾燥させるために、ディスク基板24を300rpmで回転させてた状態で、密閉成膜室50内にガス導入管46及びコンダクタンスバルブ48を介してN2ガスを10sccmの流量で120秒間導入して、コート液52中のヘキサンを蒸発させた。
【0090】
このとき、複数のガス導入管46を概略均一に面内分布させているので、ディスク基板24の表面全面にN2ガスが均一に当たり、基板全面においてゆっくりと均一にヘキサンの蒸発が生じるので、FePt合金ナノパーティクルが整然と均一な厚さで整列したナノパーティクル膜を成膜することができる。本実施例では、約20nmの膜厚を有するナノパーティクル膜を成膜することができた。
【0091】
次に、成膜した基板をN2ガスフローをしているデシケータに移し、室温で安置した。図9(A)〜図9(C)に経過時間に応じたアニール後の表面状態を示す。
【0092】
図9(A)はアニール前の表面状態を、図9(B)は成膜後17日たってからアニールした状態を、図9(C)は成膜後59日たってからアニールした状態をそれぞれ示している。
【0093】
アニール条件は、550℃、1×104Paで30分間保持してアニールを行った。ナノパーティクルの組成はFe53Pt47である。図9(B)に示す17日後にアニールを行ったナノパーティクルは、粒子が肥大化して凝集しているのに対して、図9(C)に示す59日後にアニールを行ったナノパーティクルは、粒子の肥大化及び凝集が起きていないことが分かる。
【0094】
成膜した基板をN2ガス下で17日安置した時点と、59日安置した時点でそれぞれ反射FT−IRスペクトルを観察したところ、図10及び図11に示すスペクトルが得られた。
【0095】
図10及び図11を比較すると明らかなように、17日目の時点では観測されなかった2100cm-1付近と2800cm-1付近の幅広の吸収が59日目の時点では観測され、これに対応する形で2400cm-1にも幅広の吸収が現れている。
【0096】
これらはアミンから生じる陽イオンのN−H結合の変角運動に対応することから、膜中のカルボン酸とアミンとが塩を形成したことが確認された。また、59日後にアニールした試料に対してラザフォード後方散乱による分析を行ったところ、膜中の金属原子数と炭素原子数の合計に対する、炭素原子数の割合は71原子%であった。
【0097】
ナノパーティクルに対するオレイン酸とオレイルアミンの合計の比率を種々変更して同種の実験を行ったところ、ナノパーティクルが良好な独立状態を保っている試料における膜中の炭素原子の割合は56原子%以上であり、炭素原子の割合が51原子%であった試料でも、47原子%であった試料と比較すると遥かに粒子の融合が少なかった。
【0098】
実施例5
FePt合金ナノパーティクル層の成膜は実施例4と同様な条件で行った。次に、スパッタ法によりナノパーティクル層上に5nmの膜厚のカーボン保護膜を成膜した。
【0099】
即ち、試料をチャンバーにセットし、成膜室内を10-5Paまで排気した後、Arを0.5Paまで導入し、400WでDC放電し5nmの膜厚にカーボン保護膜を成膜した。
【0100】
カーボンを成膜した試料(カーボンキャップあり)とカーボンを成膜していない試料(カーボンキャップなし)を透過電子顕微鏡(TEM)で電子線を照射しながら観察した。電子線は約2nmのビーム径に絞り込んである。
【0101】
図12(A)はカーボンキャップありでアニール前のTEM写真であり、図12(B)は電子線により1時間アニールした後のTEM写真である。一方、図13(A)はカーボンキャップなしの試料のアニール前のTEM写真であり、図13(B)は電子線で1時間アニールした後のTEM写真である。
【0102】
図13(B)に示すように、カーボンキャップなしの試料では電子線によりナノパーティクルがアニールされ、肥大化して凝集していることが分かる。一方、カーボンキャップありの試料では、図12(B)に示すようにナノパーティクルの凝集が起こっていないことが分かる。
【0103】
本実施例では、ナノパーティクル層上にカーボンキャップを形成した実施例であるが、基板上にカーボン下地層を形成し、カーボン下地層上にナノパーティクル層を形成しても同様の効果が期待できる。
【0104】
実施例6
FePt合金ナノパーティクル層の成膜は実施例4と同様な条件で行った。この試料を薄膜試料とする。次に5×10mmの熱酸化膜Si基板にFePtコート液を20μL滴下し、ゆっくり乾燥させて膜厚150nmの厚膜試料を作成した。
【0105】
薄膜厚膜二つの試料を同時に熱処理炉に入れ、真空中で700℃まで加熱し、30分間保持してアニールを行った。図14(A)に薄膜表面のTEM写真を、図14(B)に厚膜表面のTEM写真を示す。
【0106】
図14(B)に示す厚膜では、ナノパーティクルが凝集して肥大化してしまっているのに対し、図14(A)に示す薄膜では、ナノパーティクルの凝集が起きていないことが分かる。
【0107】
膜厚を変化させた種々の試料を作成し、同様の実験を行ったところ、膜厚が80nm以下である場合に、ナノパーティクルの凝集が見られなくなることが判明した。好ましくは、ナノパーティクル層の膜厚は5nm〜20nmの範囲内である。
【0108】
実施例7
FePt合金ナノパーティクル層の成膜は上述した実施例4と同様な条件で行った。本実施例においては、高保磁力を得ながらナノパーティクルの凝集が抑えられていることを説明する。
【0109】
薄膜試料を600℃,650℃,700℃,750℃,800℃,850℃,900℃で真空中で30分間のアニールを行った。図15にアニール温度と保磁力に関係を示す。薄膜試料は、保磁力が約850℃で飽和し、6kエルステッド(Oe)の保磁力を示している。
【0110】
800℃でアニ−ルした薄膜の表面状態を図16に示す。図16から明らかなように、ナノパーティクルが凝集していないことが分かる。凝集のない試料の保磁力は、凝集してしまっている試料の保磁力と比べると半分以下であるが、これはナノパーティクルが小さいが故の熱揺らぎの現象の結果である。薄膜の場合は、粒径が小さいために熱揺らぎの影響を受け、保磁力の温度変化が急峻である。
【0111】
実施例8
FePt合金ナノパーティクル層の成膜は上述した実施例4と同様な条件で行った。次に、オレイン酸とオレイルアミンを結合させて塩とすることを促進させるために、N2ガス中において200℃で5〜60分間のベーク処理を行った。図17(A)にベーク後の表面状態を示す。
【0112】
更に、800℃で30分間の真空中アニ−ルを行った。アニ−ル後の表面状態を図17(B)に示す。上述したベーク処理で塩が形成されているため、800℃のアニ−ルでもナノパーティクルが凝集せずに孤立していることが分かる。
【0113】
図18を参照すると、上述したFePt合金ナノパーティクル層を記録層に採用した本発明第3実施形態に係る垂直磁気記録媒体の構成図が示されている。第1及び第2実施形態の記録媒体と実質的に同一構成部分については同一符号を付してある。
【0114】
基板4上には軟磁性層6の配向制御層5が形成されており、配向制御層5上に軟磁性層6が形成されている。軟磁性層6上には中間層8が形成されており、中間層8上にナノパーティクル磁性層54が形成されている。
【0115】
ナノパーティクル磁性層54は2nm〜10nmの平均直径を有するFePt合金ナノパーティクル54aと、ナノパーティクル54a間の空隙を満たしたアモルファスカーボンとを含んでいる。FePt合金ナノパーティクル54aは実質的に均一な間隔で配置されている。ナノパーティクル磁性層54は垂直方向に磁化されている。
【0116】
ナノパーティクル磁性層54上にはカーボン保護膜12が形成されており、カーボン保護膜12上には潤滑剤14が塗布されている。
【0117】
図19はFePt合金ナノパーティクル層を記録層として採用した本発明第4実施形態に係る面内磁気記録媒体の構成図を示している。上述した第1乃至第3実施形態と実質的に同一構成部分ついては同一符号を付してある。
【0118】
基板4上にはNiP等から形成された下地層16が形成されており、下地層16上には中間層18が形成されている。中間層18上にはナノパーティクル磁性層56が形成されている。
【0119】
ナノパーティクル磁性層56は、2nm〜10nmの平均直径を有するFePt合金ナノパーティクル56aと、ナノパーティクル56a間の空隙を満たしたアモルファスカーボンとを含んでいる。FePt合金ナノパーティクル56aは実質的に均一な間隔で配置されている。ナノパーティクル磁性層56は面内方向に磁化されている。
【0120】
ナノパーティクル磁性層56上にはカーボン保護膜12が形成されており、カーボン保護膜12上には潤滑剤14が塗布されている。
【0121】
図20を参照すると、磁性ナノパーティクル層を記録層として採用した、本発明第5実施形態に係る垂直磁気記録媒体の構成図が示されている。上述した第1乃至第4実施形態と同一構成部分については同一符号が付されている。
【0122】
基板4上にはFeTaC等から形成された軟磁性層6が形成されており、軟磁性層6上にはカーボン中間層8´が形成されている。軟磁性層6の膜厚は200nm、カーボン中間層8´の膜厚は5nmであり、共にスパッタ法で成膜した。カーボン中間層8´の膜厚は1nm〜10nmの範囲内が好ましい。
【0123】
カーボン中間層8´上には磁性ナノパーティクル層58が形成されている。磁性ナノパーティクル層58は上述した各実施形態と同様に化学合成法により形成した。磁性ナノパーティクル層58は粒径分散が10%以下で互いに孤立した複数のナノパーティクル58aを含んでいる。
【0124】
磁性ナノパーティクル層58の各磁性ナノパーティクル58aは、2nm〜10nmの平均粒径を有し、粒子間隔は0.2nm〜5nmの範囲内である。磁性ナノパーティクル58aはFe,Pt,Ni,Co,Cu,Ag,Mn,Pbからなる群から選択される二つ以上の元素を含んでいる。好ましくは、FePtナノパーティクルから構成される。
【0125】
磁性ナノパーティクル層58は更に、磁性ナノパーティクル58a間の空隙を満たすカルボン酸、スルホン酸、スルフィン酸、ホスホン酸及びアミンからなる群から選択される安定化配位子(安定剤)を含んでいる。
【0126】
磁性ナノパーティクル層58上にはカーボン保護膜12がスパッタ法で成膜されている。カーボン保護膜12は1nm〜5nmの膜厚を有しており、本実施形態では5nmの膜厚とした。
【0127】
このように磁性ナノパーティクル層58をカーボン中間層8´とカーボン保護膜12で挟んだ試料をアニ−ルチャンバーに入れ、3×10-5Paに真空引きした後、800℃まで10分で上昇させて、800℃で30分間保持してから室温まで冷却して試料を取り出した。その後、カーボン保護膜12上に潤滑剤14を塗布した。
【0128】
図21(A)にアニ−ル前のナノパーティクル層のTEM像を示す。図21(B)にアニ−ル後のナノパーティクルのTEM像を示す。また、比較のために図22に中間層8´及びカーボン保護膜12を有しない媒体のアニ−ル後のナノパーティクル層のTEM像を示す。
【0129】
図21(B)から明らかなようにカーボン中間層8´とカーボン保護膜12がある場合は、アニ−ルしてもナノパーティクルの融解は見られないが、図22に示したカーボン中間層とカーボン保護膜がない場合には、ナノパーティクルが融解して巨大化している。
【0130】
表2にアニ−ル前後の平均粒径D、粒径の標準偏差σ及び粒径分散σ/Dを示す。
【0131】
【表2】
Figure 0004164338
【0132】
アニ−ル後に粒径分散が若干大きくなっているが、平均粒径Dはアニ−ル前後で変わらない。これは、カーボン中間層8´とカーボン保護膜12によりナノパーティクルの移動が抑制されたため、ナノパーティクルの融解が防止されたと考えられる。
【0133】
次に、カーボン中間層8´だけの効果を調べるため、カーボン中間層8´とカーボン保護膜12のない媒体と、5nmの膜厚のカーボン中間層8´を有し、カーボン保護膜のない媒体を作成した。
【0134】
これらの媒体試料をアニ−ルチャンバーに入れ、3×10-5Paまで真空引きした後、800℃まで10分間で上昇させ、800℃で30分間保持してから室温まで冷却して媒体試料を取り出した。表3にカーボン中間層がある場合とない場合の平均粒径D、粒径の標準偏差σ及び粒径分散σ/Dを示す。
【0135】
【表3】
Figure 0004164338
【0136】
この実験では、効果を強調するため安定化配位子の量を通常の半分としたため、ナノパーティクルの巨大化が顕著になっている。
【0137】
カーボン中間層のある媒体の方が平均粒径が小さく、ナノパーティクルの融解が抑制されていることが分かる。これは、安定化配位子のハイドロカーボンとカーボン中間層の結合が大きいこと、及びアニ−ルによりハイドロカーボンが炭化しカーボン中間層8´と強く結びつくため、ナノパーティクルの移動が抑制され、その結果ナノパーティクルの融解が抑制されたと考えられる。
【0138】
本発明は以下の付記を含むものである。
【0139】
(付記1) 直径の平均値が1nm〜3nmの範囲内にあることを特徴とするFePt合金ナノパーティクル。
【0140】
(付記2) Fe,Pt及びNi,Co,Cu,Ag,Mn,Pbからなる群から選択される元素を含み、
直径の平均値が2nm〜6nmの範囲内にあることを特徴とする合金ナノパーティクル。
【0141】
(付記3) 合金ナノパーティクルの製造方法であって、
不活性ガス雰囲気中で炭素数が2〜20である炭化水素、アルコール、エーテル、エステルからなる群から選択された有機溶媒中に金属塩、還元剤、安定化配位子、及び有機鉄錯体を加えて反応液を得るステップと、
該反応液を所定温度に加熱しながら攪拌するステップとを具備し、
前記安定化配位子の量によって合金ナノパーティクルの粒径を制御することを特徴とする合金ナノパーティクルの製造方法。
【0142】
(付記4) 前記安定化配位子は、カルボン酸、スルホン酸、スルフィン酸、ホスホン酸、及びアミンからなる群から選択される付記3記載の合金ナノパーティクルの製造方法。
【0143】
(付記5) 前記所定温度は220℃〜260℃の範囲内である付記3記載の合金ナノパーティクルの製造方法。
【0144】
(付記6) 前記有機鉄錯体はFe(CO)5,Fe2(CO)9及びFe3(CO)12からなる群から選択される付記3記載の合金ナノパーティクルの製造方法。
【0145】
(付記7) 前記金属塩はビスアセチルアセトナト白金、ビスベンゾニトリル白金二塩化物、臭化白金(II)、塩化白金(II)及びヨウ化白金(II)からなる群から選択される付記3記載の合金ナノパーティクルの製造方法。
【0146】
(付記8) 磁気記録媒体であって、
基板と、
前記基板上に実質的に均一な間隔に配置され、1nm〜3nmの平均直径を有するFePt合金ナノパーティクル層と、
前記FePt合金ナノパーティクル層上に形成された保護膜と、
を具備したことを特徴とする磁気記録媒体。
【0147】
(付記9) 磁気記録媒体であって、
基板と、
前記基板上に実質的に均一な間隔に配置され、2nm〜6nmの平均直径を有するFe,Pt及びNi.Co,Cu,Ag,Mn,Pbからなら群から選択される元素からなる合金ナノパーティクル層と、
前記合金ナノパーティクル層上に形成された保護膜と、
を具備したことを特徴とする磁気記録媒体。
【0148】
(付記10) 磁気記録媒体であって、
基板と、
前記基板上に実質的に均一な間隔で配置され、2nm〜10nmの平均直径を有するFePt合金ナノパーティクルと、該FePt合金ナノパーティクル間の空隙を満たしたカーボン相とを含んだナノパーティクル磁性層と、
前記ナノパーティクル磁性層上に形成された保護膜とを具備し、
前記FePt合金ナノパーティクルを構成する金属原子数と前記カーボン相に含まれる炭素原子数の合計に対する炭素原子数の割合が、50原子%以上85原子%未満であることを特徴とする磁気記録媒体。
【0149】
(付記11) 磁気記録媒体の製造方法であって、
ヘキサン、ヘプタン及びオクタンからなる群から選択された溶媒中にFePt合金ナノパーティクルと、カルボン酸とアミンとを含んだ有機混合物を分散させてコート液を得、
前記コート液を基板上に塗布し、
前記コート液を乾燥することにより、FePt合金ナノパーティクルと該FePt合金ナノパーティクル間の空隙を満たした前記有機混合物からなる磁性ナノパーティクル層を前記基板上に形成し、
前記カルボン酸と前記アミンとの間に塩を形成させ、
前記磁性ナノパーティクル層をアニールする、
ことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【0150】
(付記12) 前記カルボン酸と前記アミンとの間に塩を形成させるステップは、前記磁性ナノパーティクル層をN2ガス中で5日間以上保持するステップからなることを特徴とする付記11記載の磁気記録媒体の製造方法。
【0151】
(付記13) 前記カルボン酸と前記アミンとの間に塩を形成させるステップは、前記溶媒の沸点温度以上の温度で前記磁性ナノパーティクル層に5〜60分間のベーク処理を施すステップから構成されることを特徴とする付記11記載の磁気記録媒体の製造方法。
【0152】
(付記14) 前記カルボン酸と前記アミンとの間に塩を形成させるステップは、前記磁性ナノパーティクル層を真空中で1時間以上保持するステップから構成されることを特徴とする付記11記載の磁気記録媒体の製造方法。
【0153】
(付記15) 磁気記録媒体の製造方法であって、
ヘキサン、ヘプタン及びオクタンからなる群から選択された溶媒中にFePt合金ナノパーティクルと、カルボン酸及びアミンを含んだ有機混合物を分散させてコート液を得、
前記コート液を基板上に塗布し、
前記コート液を乾燥して、FePt合金ナノパーティクルと該FePt合金ナノパーティクル間の空隙を満たす前記有機混合物からなる磁性ナノパーティクル層を前記基板上に形成し、
前記磁性ナノパーティクル層上にカーボンキャップを形成し、
前記磁性ナノパーティクル層をアニールする、
ことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【0154】
(付記16) 磁気記録媒体の製造方法であって、
ヘキサン、ヘプタン及びオクタンからなる群から選択された溶媒中にFePt合金ナノパーティクルと、カルボン酸及びアミンを含んだ有機混合物を分散させてコート液を得、
基板上にカーボン下地層を形成し、
該カーボン下地層上に前記コート液を塗布し、
該コート液を乾燥して、FePt合金ナノパーティクルと該FePt合金ナノパーティクル間の空隙を満たす有機混合物からなる磁性ナノパーティクル層を前記カーボン下地層上に形成し、
前記磁性ナノパーティクル層をアニールする、
ことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【0155】
(付記17) 磁気記録媒体であって、
基板と、
該基板上に形成されたカーボン層と、
該カーボン層上に形成された平均粒径が2nm〜10nmの範囲内で粒子間隔が0.2nm〜5nmの範囲内の磁性ナノパーティクル層と、
該磁性ナノパーティクル層上に形成されたカーボン保護膜とを具備し、
前記磁性ナノパーティクル層は粒径分散が10%以下で互いに孤立した複数のナノパーティクルからなることを特徴とする磁気記録媒体。
【0156】
(付記18) 前記磁性ナノパーティクルはFe,Pt,Ni,Co,Cu,Ag,Mn,Pbからなる群から選択される二つ以上の元素を含んでいる付記17記載の磁気記録媒体。
【0157】
(付記19) 前記磁性ナノパーティクル層は磁性ナノパーティクルと、磁性ナノパーティクル間の空隙を満たすカルボン酸、スルホン酸、スルフィン酸、ホスホン酸及びアミンからなる群から選択される安定化配位子とを含んでいる付記18記載の磁気記録媒体。
【0158】
(付記20) 前記カーボン層の膜厚は1nm〜10nmの範囲内であり、前記カーボン保護膜の膜厚は1nm〜5nmの範囲内である付記17記載の磁気記録媒体。
【0159】
【発明の効果】
本発明によれば、ナノパーティクルの粒径制御が可能となり、磁気記録媒体の低ノイズ化を実現できる。
【0160】
また、ナノパーティクルの凝集及び肥大化を防止しながら高保磁力を得ることができる。その結果、超高密度磁気記録媒体の作成が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1(A)〜図1(C)は安定化配位子の使用量と粒径との関係を示すグラフである。
【図2】図2(A)〜図2(C)は安定化配位子の使用量と粒径との関係を示すグラフである。
【図3】安定化配位子の使用量と粒径との関係を示すグラフである。
【図4】本発明第1実施形態に係る垂直磁気記録媒体の断面構成図である。
【図5】本発明第2実施形態に係る面内磁気記録媒体の断面構成図である。
【図6】スピンコート装置の概略構成図である。
【図7】密閉状態のスピンコート装置の概略構成図である。
【図8】スピンコート法の説明図である。
【図9】図9(A)はアニール前のナノパーティクル層の表面状態を、図9(B)は成膜後17日目にアニ−ルしたナノパーティクル層の表面状態を、図9(C)は成膜後59日目にアニ−ルしたナノパーティクル層の表面状態をそれぞれ示している。
【図10】成膜後17日目の反射FT−IRスペクトルを示す図である。
【図11】成膜後59日目の反射FT−IRスペクトルを示す図である。
【図12】図12(A)はカーボンキャップ有りの媒体のアニ−ル前のナノパーティクル層の表面状態を、図12(B)は電子線で1時間アニ−ルした後のナノパーティクル層の表面状態をそれぞれ示している。
【図13】図13(A)はカーボンキャップなしの媒体のアニ−ル前のナノパーティクル層の表面状態を、図13(B)は電子線で1時間アニ−ルした後のナノパーティクル層の表面状態をそれぞれ示している・
【図14】図14(A)はアニ−ル後の薄膜の表面状態を、図14(B)はアニ−ル後の厚膜の表面状態をそれぞれ示している。
【図15】保磁力Hcのアニ−ル温度依存性を示す図である。
【図16】800℃でアニ−ルした薄膜の表面状態を示している。
【図17】図17(A)はベーク後のナノパーティクル層の表面状態を、図17(B)はアニ−ル後のナノパーティクル層の表面状態をそれぞれ示している。
【図18】本発明第3実施形態に係る垂直磁気記録媒体の断面構成図である。
【図19】本発明第4実施形態に係る面内磁気記録媒体の断面構成図である。
【図20】本発明第5実施形態に係る垂直磁気記録媒体の断面構成図である。
【図21】図21(A)はアニ−ル前のナノパーティクル層のTEM像であり、図21(B)はアニ−ル後のナノパーティクル層のTEM層である。
【図22】カーボン中間層とカーボン保護膜を有さない媒体のTEM像である。
【符号の説明】
4 基板
6 軟磁性層
8 中間層
10 ナノパーティクル層
12 カーボン保護膜
14 潤滑剤
16 下地層
18 中間層
20 ナノパーティクル層
24 ディスク基板
26 ディスク基板回転機構
28 密閉用カップ
30 コート液用シリンジ
32 ヘキサン用シリンジ
34 密閉用プレート
36 カップ上下動機構
38 オイルフリーポンプ
46 ガス導入管

Claims (1)

  1. 合金ナノパーティクルの製造方法であって、
    不活性ガス雰囲気中で炭素数が2〜20である炭化水素、アルコール、エーテル、エステルからなる群から選択された有機溶媒中に金属塩、還元剤、安定化配位子、及び有機鉄錯体を加えて反応液を得るステップと、
    該反応液を所定温度に加熱しながら攪拌するステップとを具備し、
    前記安定化配位子の量に従って合金ナノパーティクルの粒径を増減するように制御することを特徴とする合金ナノパーティクルの製造方法。
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