JP2003248916A - 磁気記録媒体用ナノ粒子並びにそれを用いた磁気記録媒体及び磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

磁気記録媒体用ナノ粒子並びにそれを用いた磁気記録媒体及び磁気記録媒体の製造方法

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JP2003248916A
JP2003248916A JP2002043879A JP2002043879A JP2003248916A JP 2003248916 A JP2003248916 A JP 2003248916A JP 2002043879 A JP2002043879 A JP 2002043879A JP 2002043879 A JP2002043879 A JP 2002043879A JP 2003248916 A JP2003248916 A JP 2003248916A
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magnetic
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Nobutaka Ihara
宣孝 井原
Hiroki Kodama
宏喜 児玉
Takuya Uzumaki
拓也 渦巻
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Fujitsu Ltd
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Fujitsu Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 従来における磁気記録媒体に比し、各種性能
を維持しつつ記録密度を向上させた磁気記録媒体、効率
的な該磁気記録媒体の製造方法、及びこれらに好適な磁
気記録媒体用ナノ粒子の提供。 【解決手段】 磁気記録媒体に用いられ、カーボンを生
成可能な有機化合物が表面に付着してなる磁気記録媒体
用ナノ粒子、数平均粒径が7nm以下である磁気記録媒
体用ナノ粒子、粒度分布(分布幅(σ)/粒子直径
(D))が0.1以下である磁気記録媒体用ナノ粒子で
ある。これらの磁気記録媒体用ナノ粒子を含む記録層を
有する磁気記録媒体である。これらの磁気記録媒体用ナ
ノ粒子を分散してなるナノ粒子分散液を磁場中で基板上
に塗布する塗布工程を含むことを特徴とする磁気記録媒
体の製造方法である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、高い記録密度を可
能とした磁気記録媒体、効率的な該磁気記録媒体の製造
方法、及びこれらに好適な磁気記録媒体用ナノ粒子に関
する。
【0002】
【従来の技術】近年、磁気記録媒体の記録密度を向上さ
せることによる大容量化が急速に進んでいる。一般に、
該磁気記録媒体における記録密度を向上させるために
は、該磁気記録媒体におけるノイズを低減することが必
須とされる。そのためには、該磁気記録媒体における記
録層に含まれる磁性体の結晶粒径を、微細化かつ均一化
することが要求される。ところで、従来においては、該
磁気記録媒体における記録密度を向上させるために、例
えば、特開昭61−63927号公報等では、垂直磁化
膜を形成可能な磁性塗料を円板表面に遠心塗布しなが
ら、垂直磁場及び水平磁場を組み合せて印加した後、垂
直磁場のみを印加することにより、垂直磁化磁気ディス
クを製造することが開示されている。しかし、近年、特
にIT産業等における技術の急速成長に伴い、従来の磁
気記録媒体に比し、より記録密度の高い磁気記録媒体の
提供が望まれているのが現状である。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記要望に
応え、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、
本発明は、従来における磁気記録媒体に比し、各種性能
を維持しつつ記録密度を向上させた磁気記録媒体、効率
的な該磁気記録媒体の製造方法、及びこれらに好適な磁
気記録媒体用ナノ粒子、を提供することを課題とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
の手段としては、以下の通りである。即ち、 <1> 磁気記録媒体に用いられ、カーボンを生成可能
な有機化合物が表面に付着してなることを特徴とする磁
気記録媒体用ナノ粒子である。該磁気記録媒体用ナノ粒
子は、表面にカーボンを生成可能な有機化合物が付着し
ているので、磁気記録媒体における磁性層の形成に用い
られると、他の磁気記録媒体用ナノ粒子との分子間力
(粒子間引力、即ち、磁気双極子相互作用及びファンデ
ルワールス力の和)により容易に自己配列し、規則正し
く安定に配列可能である。 <2> 磁気記録媒体に用いられ、数平均粒径が7nm
以下であることを特徴とする磁気記録媒体用ナノ粒子で
ある。該磁気記録媒体用ナノ粒子は、数平均粒径が7n
m以下であるので、磁気記録媒体における記録層の形成
に用いられると、規則正しく安定に配列可能であり、該
記録層のノイズが効果的に低減される。 <3> 磁気記録媒体に用いられ、粒度分布(分布幅
(σ)/粒子直径(D))が0.1以下であることを特
徴とする磁気記録媒体用ナノ粒子である。該磁気記録媒
体用ナノ粒子は、粒度分布(分布幅(σ)/粒子直径
(D))が0.1以下であるので、磁気記録媒体におけ
る記録層の形成に用いられると、規則正しく安定に配列
可能であり、該記録層のノイズが効果的に低減される。 <4> 前記<1>から<3>のいずれかに記載の磁気
記録媒体用ナノ粒子を含む記録層を有することを特徴と
する磁気記録媒体である。該磁気記録媒体は、前記磁気
記録媒体用ナノ粒子を含む記録層を有するので、該記録
層のノイズが効果的に低減される。 <5> 基板を有してなり、磁気記録媒体用ナノ粒子の
磁化容易軸が該基板に対し垂直又は水平方向に配向され
た前記<4>に記載の磁気記録媒体であるので、該磁気
記録媒体は記録密度に優れる。 <6> 磁気記録媒体用ナノ粒子が、fct構造を有す
る前記<4>又は<5>に記載の磁気記録媒体であるの
で、該磁気記録媒体は記録密度に優れる。 <7> 磁気記録媒体用ナノ粒子が、面内配向した前記
<4>から<6>のいずれかに記載の磁気記録媒体であ
るので、該磁気記録媒体は記録密度に優れる。 <8> 前記<1>から<3>のいずれかに記載の磁気
記録媒体用ナノ粒子を分散してなるナノ粒子分散液を磁
場中で基板上に塗布する塗布工程を含むことを特徴とす
る磁気記録媒体の製造方法である。該磁気記録媒体の製
造方法では、前記塗布工程において、前記ナノ粒子分散
液中の磁気記録媒体用ナノ粒子が面内配向した状態で基
板上に塗布される。このため、ノイズが低く、記録密度
の高い磁気記録媒体を効率良く製造される。 <9> 塗布工程と同時に及びその後のいずれかにおい
て、磁場中でアニールするアニール工程を含む前記<8
>に記載の磁気記録媒体の製造方法である。このため、
ノイズが低く、記録密度の高い磁気記録媒体を効率良く
製造される。 <10> アニールが、H、N、He、Ne、K
r、Xe及びArの少なくともいずれかの混合ガス雰囲
気中で行われる前記<9>に記載の磁気記録媒体の製造
方法である。このため、ノイズが低く、記録密度の高い
磁気記録媒体を効率良く製造される。
【0005】
【発明の実施の形態】(磁気記録媒体)本発明の磁気記
録媒体は、記録層を有してなり、更に基板、必要に応じ
て適宜選択したその他の層を有してなる。
【0006】−記録層− 前記記録層は、以下に説明する本発明の磁気記録媒体用
ナノ粒子を含み、必要に応じてその他の成分等を含んで
なる。
【0007】−−磁気記録媒体用ナノ粒子−− 前記磁気記録媒体用ナノ粒子としては、以下の三態様が
挙げられる。第一の態様の磁気記録媒体用ナノ粒子は、
カーボンを生成可能な有機化合物が表面に付着してな
る。第二の態様の磁気記録媒体用ナノ粒子は、数平均粒
径が7nm以下である。第三の態様の磁気記録媒体用ナ
ノ粒子は、粒度分布(分布幅(σ)/粒子直径(D))
が0.1以下である。
【0008】前記第一の態様の磁気記録媒体用ナノ粒子
において、前記カーボンを生成可能な有機化合物として
は、該カーボンを生成可能である限り特に制限はなく、
目的に応じて適宜選択することができ、例えば、カーボ
ンそのもののほか、オレイン酸、オレイルアミン、ヘキ
サン酸、ヘキシルアミン、等が挙げられる。これらは、
1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよ
く、また、これらの中でも、アニール処理時に前記カー
ボンを生成可能なものが好ましい。
【0009】前記磁気記録媒体用ナノ粒子の数平均粒径
としては、前記第二の態様の磁気記録媒体用ナノ粒子の
場合、7nm以下であることが必要であり、6.5nm
以下が好ましく、6nm以下がより好ましく、前記第一
の態様及び前記第三の態様の磁気記録媒体用ナノ粒子の
場合、7nm以下が好ましく、6.5nm以下がより好
ましく、6nm以下が特に好ましい。前記磁気記録媒体
用ナノ粒子の数平均粒径が、7nmを超えると、該磁気
記録媒体用ナノ粒子を用いた磁気記録媒体における記録
密度が十分でないことがある。
【0010】前記磁気記録媒体用ナノ粒子の粒度分布
(分布幅(σ)/粒径(D))としては、前記第三の態
様の磁気記録媒体用ナノ粒子の場合、0.1以下である
ことが必要であり、0.09以下が好ましく、0.08
以下がより好ましく、前記第一の態様及び前記第二の態
様の磁気記録媒体用ナノ粒子の場合、0.1以下が好ま
しく、0.09以下がより好ましく、0.08以下が特
に好ましい。前記磁気記録媒体用ナノ粒子の粒度分布
(分布幅(σ)/粒径(D))が、0.1を超えると、
該磁気記録媒体用ナノ粒子の均一性が劣り、該磁気記録
媒体用ナノ粒子を用いた磁気記録媒体における記録密度
が十分でないことがある。
【0011】前記磁気記録媒体用ナノ粒子は、磁性体で
磁化を有しており、該磁気記録媒体用ナノ粒子として
は、特に制限はなく、1種単独の元素を含んでいてもよ
いし、2種以上の元素を含んでいてもよく、公知の組成
のものの中から適宜選択することができるが、d−ブロ
ック元素及びf−ブロック元素(遷移元素)から選択さ
れる少なくとも1種の元素を含んでいるのが好ましい。
前記d−ブロック元素としては、例えば、Co、Fe、
Ni、Mn、Pt、Pd等が好適に挙げられる。前記f
−ブロック元素としては、例えば、Sm、Nd、Pr等
が好適に挙げられる。
【0012】前記磁気記録媒体用ナノ粒子が2種以上の
元素を含んでいる場合、該磁気記録媒体用ナノ粒子は合
金となるが、該合金としては、二元合金、三元合金、四
元合金等のいずれであってもよく、また、該合金は、d
−ブロック元素及びf−ブロック元素(遷移元素)から
選択される少なくとも1種の元素のみを含んでいてもよ
いし、これらの元素と他の金属元素、非金属元素(B、
N等)、半金属元素等とを含んでいてもよく、また、該
合金の組織状態としては、金属間化合物であってもよい
し、混合物であってもよい。
【0013】前記磁気記録媒体用ナノ粒子の製造方法と
しては、特に制限はなく、公知の方法の中から適宜選択
することができるが、ポリオール法、熱プラズマ法、な
どが好適に挙げられ、これらの中でもポリオール法が特
に好適に挙げられる。
【0014】前記ポリオール法によると、前記カーボン
を生成可能な有機化合物を前記磁気記録媒体用ナノ粒子
の表面に効率良く付着させることができ、自己配列によ
り規則正しく安定に配列可能であり、かつ均一で微細な
粒径の磁気記録媒体用ナノ粒子を効率良く製造できる点
で有利である。
【0015】前記ポリオール法は、Science 2
87,1989(2000).や特開2000−540
12号公報等においてSunらにより開示されている化
学合成方法である。該ポリオール法においては、例え
ば、前記磁気記録媒体用ナノ粒子としてFePtナノ粒
子を製造する場合には、Pt錯体及び還元剤を含む成分
を溶媒中に溶解させた後、これにFe錯体及び安定剤
(オレイン酸、オレイルアミン等)を加え、還流・撹拌
しながら加熱することにより金属前駆体溶液を作製した
後、得られた金属前駆体溶液を加熱・撹拌し、FePt
ナノ粒子を成長させる。
【0016】前記FePtナノ粒子の成長は、前記安定
剤の影響により、ナノ粒子径制御及び粒間制御が行われ
る。即ち具体的には、前記安定剤としてのオレイルアミ
ンにより、前記FePtナノ粒子の成長が抑制され、前
記安定剤としてのオレイン酸により前記FePtナノ粒
子の表面が覆われ、有機化合物が表面に付着したFeP
tナノ粒子が得られる。このため、前記ポリオール法に
おいては、前記安定剤の種類により、得られるFePt
ナノ粒子の粒径が決まり、前記安定剤の種類(該安定剤
におけるアルキル鎖長)によってFePtナノ粒子間の
幅(粒間)も決まる。例えば、前記安定剤として、オレ
イルアミン及びオレイン酸を用いた場合には、得られる
FePtナノ粒子の数平均粒径は6nmとなり、Fe
50Pt ナノ粒子で粒間が4nmとなる。また、前
記安定剤として、ヘキシルアミン及びヘキサン酸を用い
た場合には、得られるFePtナノ粒子の数平均粒径は
6nmとなり、Fe50Pt50ナノ粒子ので粒間が1
nmとなる。
【0017】前記磁気記録媒体用ナノ粒子は、前記カー
ボンを生成可能な有機化合物、即ち前記安定剤が表面に
付着していることから、安定性が高く空気中でも容易に
取り扱うことが可能であり、また、ヘキサン等の所定溶
媒に容易に再分散可能であるので、これを所定溶媒中に
再分散させた後、別の所定溶媒を入れて沈殿させ、この
沈殿を遠心分離し上清を除去することにより、合成副産
物や未反応試薬を除去し、効率的に精製することができ
る。
【0018】前記記録層に含まれた前記磁気記録媒体用
ナノ粒子は、3次元ランダムに配向しているが、その磁
化容易軸が、該記録層(該記録層を有する前記磁気記録
媒体)の面に対し、垂直方向及び水平方向のいずれかに
配向しているのが好ましい。該磁気記録媒体用ナノ粒子
がこのように面内配向している場合、該磁気記録媒体用
ナノ粒子を用いた前記磁気記録媒体の記録密度を向上さ
せることができる点で有利である。
【0019】−−その他の成分−− 前記その他の成分としては、本発明の効果を害さない範
囲内で適宜選択することができ、例えば、一般に磁気記
録媒体の記録層に含まれる公知の磁性粒子等が挙げられ
る。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上
を併用してもよい。
【0020】前記記録層の厚みとしては、特に制限はな
く、目的に応じて適宜選択することができるが、5〜1
00nm程度が好ましく、5〜50nmがより好まし
い。
【0021】−基板− 前記基板としては、その形状、構造、大きさ、材質等に
ついて特に制限はなく、目的に応じて適宜選択すること
ができるが、例えば、前記形状としては、前記磁気記録
媒体がハードディスク等の磁気ディスクである場合に
は、円板状であり、また、前記材質としては、アルミニ
ウム、ガラス、シリコン、石英、シリコン表面に熱酸化
膜を形成してなるSiO/Si、等が挙げられる。
【0022】−その他の層− 前記その他の層としては、特に制限はなく、目的に応じ
て適宜選択することができ、例えば、前記記録層及び前
記基板の間に設けられるシード層、前記記録層を保護す
る保護層、等が挙げられる。
【0023】前記シード層としては、特に制限はなく、
目的に応じて適宜選択することができ、例えば、Cr、
Co等を含む非磁性シード層、等が挙げられる。
【0024】前記保護層としては、特に制限はなく、目
的に応じて適宜選択することができ、例えば、DLC
(ダイヤモンドライクカーボン)を含む層、等が挙げら
れる。該保護層は、例えば、前記記録層上に、プラズマ
CVD法によりDLCを堆積させて形成することがで
き、更に表面に潤滑油をディッピング等により塗布して
もよい。
【0025】上述の本発明の磁気記録媒体は、従来にお
ける磁気記録媒体に比し、各種性能を維持しつつ優れた
記録密度を有するので、各種記録分野において好適に使
用することができ、ハードディスク等の磁気ディスク等
の磁気記録媒体として特に好適に使用することができ
る。本発明の磁気記録媒体は、適宜選択した方法により
製造することができるが、以下に説明する本発明の磁気
記録媒体の製造方法により好適に製造することができ
る。
【0026】(磁気記録媒体の製造方法)本発明の磁気
記録媒体の製造方法は、前記本発明の磁気記録媒体用ナ
ノ粒子を分散してなるナノ粒子分散液を磁場中で上述の
基板上に塗布する塗布工程を少なくとも含み、必要に応
じて該塗布工程と同時に及びその後のいずれかにおいて
磁場中でアニールするアニール工程を更に含み、また、
目的に応じて適宜選択したその他の工程を含む。
【0027】−塗布工程− 前記塗布工程は、前記本発明の磁気記録媒体用ナノ粒子
を分散してなるナノ粒子分散液を磁場中で上述の基板上
に塗布する工程である。
【0028】前記塗布工程において、前記磁気記録媒体
用ナノ粒子は、表面に有機化合物が付着しているため、
前記ナノ粒子分散液を上述の基板上に塗布した後、該ナ
ノ粒子分散液中に含まれる溶媒を飛ばしていく過程にお
いて、粒子間引力(磁気双極子相互作用とファン・デル
・ワールス力との和)によって自己組織化し、多層テラ
ス状の超格子構造となる。また、前記磁気記録媒体用ナ
ノ粒子は、磁性体であり磁化を有しており、前記ナノ粒
子分散液中で自由に動くことができる。このため、前記
基板上に前記ナノ粒子分散液を塗布する際、該基板に対
し垂直方向の磁場を印加すると、磁化容易軸が該基板の
厚み方向に対し垂直方面に配向した、記録密度の高い磁
気記録媒体を効率的に製造することができる。また、前
記基板上に前記ナノ粒子分散液を塗布する際、該基板に
対し水平方向の磁場を印加すると、磁化容易軸が基板の
水平方向(画内方向)に配向した、記録密度の高い磁気
記録媒体を効率的に製造することができる。
【0029】前記ナノ粒子分散液の塗布方法としては、
特に制限はなく目的に応じて、適宜選択することがで
き、例えば、スピンコート法、ディップ法、等が挙げら
れる。
【0030】ここで、前記塗布工程を図面を参照しなが
ら説明する。図1は、磁気ディスク用の円板状の基板に
対し垂直方向の磁場を印加しつつ、スピンコート法によ
り該基板上にナノ粒子分散液を塗布している状態を示す
概略説明図である。図1に示す場合、磁石のS極及びN
極を用い、これらを基板に対し上下方向に配置すること
により、該基板に対し垂直方向であって、かつ磁束方向
が該垂直方向である磁場が印加されている。この状態
で、該基板上に前記ナノ粒子分散液を滴下してスピンコ
ートすると、該基板上に形成される記録層においては、
前記磁気記録媒体用ナノ粒子の磁化容易軸が、該基板に
対し垂直方向に配向する。
【0031】図2及び図3は、基板に対し水平方向の磁
場を印加しつつ、スピンコート法により該基板上にナノ
粒子分散液を塗布している状態を示す概略説明図であ
る。図2に示す場合、磁石のS極及びN極を用い、これ
らを基板に対し水平にかつ該基板上に近接して配置する
ことにより、該基板に対し水平方向(即ち面内方向)で
あって、かつ磁束方向が該基板の半径方向である磁場が
印加されている。この状態で、該基板上に前記ナノ粒子
分散液を滴下してスピンコートすると、該基板上に形成
される記録層においては、前記磁気記録媒体用ナノ粒子
の磁化容易軸が、該基板に対し水平方向(面内方向)で
あって、かつ該基板の半径方向に配向する。また、図3
に示す場合、磁石のS極及びN極を用い、これらを基板
に対し水平にかつ該基板上に所定距離を保って該基板を
挟むようにして対向配置することにより、該基板に対し
水平方向(即ち面内方向)であって、かつ磁束方向が該
基板の半径方向と略直行方向(円周方向)である磁場が
印加されている。この状態で、該基板上に前記ナノ粒子
分散液を滴下してスピンコートすると、該基板上に形成
される記録層においては、前記磁気記録媒体用ナノ粒子
の磁化容易軸が、該基板に対し水平方向(面内方向)で
あって、かつ該基板の半径方向と略直行方向(円周方
向)に配向する。
【0032】図4は、基板に対し垂直方向の磁場を印加
しつつ、ディップ法により該基板上にナノ粒子分散液を
塗布している状態を示す概略説明図である。図4に示す
場合、電磁石を用い、これらをナノ粒子分散液を収容し
た容器に対し、これを挟むようにして、かつ該ナノ粒子
分散液の液面よりも上方にその一部が位置するようにし
て対向配置することにより、該対向方向であって、かつ
磁束方向が該対向方向である磁場が印加されている。こ
の状態で、前記基板を、その基板面が前記電磁石の対向
方向に対し略直交方向になるようにして該ナノ粒子分散
液中に浸漬した後、該基板を上方に引き上げると、該基
板上に記録層が形成され、該記録層においては、前記磁
気記録媒体用ナノ粒子の磁化容易軸が、該基板に対し垂
直方向に配向する。
【0033】前記塗布工程において印加する磁場の強さ
としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択する
ことができるが、10kOe以上が好ましく、15kO
e以上がより好ましい。前記磁場の強さが、10kOe
未満であると、前記磁気記録媒体用ナノ粒子の磁化容易
軸の配向が十分でないことがある。
【0034】−アニール工程− 前記アニール工程は、前記塗布工程と同時に及びその後
のいずれかにおいて、磁場中でアニールする工程であ
る。前記アニール工程において、前記磁気記録媒体用ナ
ノ粒子、例えばFePt、CoPt等の合金、が規則化
され、該磁気記録媒体用ナノ粒子における磁化容易軸の
配向がより一層強められる。
【0035】前記アニール工程において印加される磁場
の強さとしては、前記塗布工程における場合と同様であ
る。前記アニール工程において印加される磁場の方向と
しては、前記塗布工程における方向と同方向であるのが
好ましい。
【0036】前記アニールは、H、N、He、N
e、Kr、Xe及びArの少なくともいずれかの混合ガ
ス雰囲気中で行われるのが好ましい。前記アニールの方
法としては、特に制限はなく、公知のアニール処理方法
の中から適宜選択することができるが、例えば、前記磁
気記録媒体用ナノ粒子がFePtナノ粒子である場合、
前記塗布工程により磁場中で前記ナノ粒子分散液を塗布
した後、N雰囲気下、300〜600℃にて30分間
保持する方法、等が挙げられる。
【0037】前記アニールを行うことにより、磁性粒径
が微細かつ均一で、磁化容易軸が強く垂直方向及び水平
配向のいずれかに配向した前記磁気記録媒体用ナノ粒子
を含む高性能な磁気記録媒体が得られる。
【0038】ここで、前記アニール工程を経て得られた
前記磁気記録媒体における前記記録層の基板面に水平な
断面における前記磁気記録媒体用ナノ粒子の配向状態を
図面を参照しながら説明する。図5に示すように、前記
磁気記録媒体用ナノ粒子は、その磁化容易軸が磁化方向
に配向されており、その表面には、前記アニール工程に
おける前記アニールによって生成した非磁性体カーボン
が付着しているため、該非磁性体カーボンにより一定の
粒間で規則正しく自己配列されている。
【0039】前記アニールは、例えば、真空中、窒素
中、アルゴン−窒素中等で、ランプヒータ、PBNヒー
タ等の加熱装置などを用いて行うことができ、具体的に
は、図6に示すように、磁気ディスク用の円板状の基板
の上下に、ヒータを配置することによって行うことがで
きる。図6の場合、前記塗布工程においては、電磁石及
び超電動磁石を用い、これらを前記基板に対し上下方向
に配置することにより、該基板に対し垂直方向であっ
て、かつ磁束方向が該垂直方向である磁場が印加されて
いる。この状態で、前記アニールを行うと、該基板上に
形成される記録層においては、前記磁気記録媒体用ナノ
粒子は、その磁化容易軸が該基板に対し垂直方向に高い
配向率で配向した状態で、一定の粒間で規則正しく自己
配列する。
【0040】また、前記アニールは、上述の図2に示す
ような前記塗布工程の場合には、図7に示すように、上
述の図3に示すような前記塗布工程の場合には、図8に
示すように、それぞれ、前記基板の上方にヒータ等の加
熱装置を配置することにより行うことができる。このア
ニールにより、該基板上に形成される記録層において、
前記磁気記録媒体用ナノ粒子は、その磁化容易軸が、よ
り高い配向率で該基板に対し水平方向(面内方向)に、
かつ該基板の半径方向(図7の場合)又は円周方向(図
8の場合)に高い配向率で配向し、規則正しく自己配列
する。
【0041】前記アニールを行うと、例えば、前記磁気
記録媒体用ナノ粒子がFePtナノ粒子である場合、該
アニールを行う前の該FePtナノ粒子における不規則
相は、fcc構造であり<100>が磁化容易軸であ
る。前記塗布工程により、例えば、前記基板に対し垂直
方向に磁場を印加して前記ナノ粒子分散液を塗布する
と、該基板に対し垂直方向に磁化容易軸<100>を揃
えることができる。その後、前記アニール工程におい
て、該基板に対し垂直方向に印加した磁場中で前記アニ
ールを行うと、該基板に対し垂直方向に磁化容易軸を配
向させたままの状態で該FePtナノ粒子を規則合金化
させることができ、該FePtナノ粒子をfct構造に
することができる。
【0042】
【実施例】以下、本発明の実施例について説明するが、
本発明はこの実施例に何ら限定されるものではない。以
下の実施例は、本発明の磁気記録媒体用ナノ粒子を用い
た本発明の磁気記録媒体を、本発明の磁気記録媒体の製
造方法により製造する実施例である。
【0043】(1)金属前駆体溶液の調製 まず、前記磁気記録媒体用ナノ粒子としてのFePtナ
ノ粒子を前記ポリオール法により作製する。図9に示す
ように、Pt錯体(アセチルアセトナト白金Pt(C
;197mg、0.5mmol)、及び還
元剤(1,2−ヘキサデカンジオール;390mg、
1.5mmol)を、N雰囲気中、100℃の条件下
で、溶媒(ジオクチルエーテル;20ml)に溶解させ
た後、これに、Fe錯体(ペンタカルボニル鉄Fe(C
O);0.13ml、1mmol)、及び安定剤(オ
レイン酸;0.16ml、0.5mmol、オレイルア
ミン:0.17ml、0.5mmol)を加え、還流・
撹拌しながら、297℃まで加熱し、金属前駆体溶液を
調製した。
【0044】(2)磁気記録媒体用ナノ粒子の製造 次に、得られた金属前駆体溶液を、297℃で30分間
攪拌し、FePtナノ粒子を成長させた。 (3)磁気記録媒体用ナノ粒子の精製 次に、得られたFePtナノ粒子を、ヘキサン中に再分
散させた後、エタノールを入れて該FePtナノ粒子を
沈殿させ、遠心分離し、上清を除去することにより、合
成副産物や未反応の試薬を除去し、FePtナノ粒子を
精製した。
【0045】(4)塗布工程 次に、該FePtナノ粒子をヘキサン中に再分散させた
ナノ粒子分散液を、上述の図2に示すようにして、スピ
ンコート法により10kOeの磁場中で、ディスク状の
基板上に塗布し、溶媒を飛ばして成膜することにより記
録層を形成した。 (5)アニール工程 次に、該記録層に対し、図7に示すようにして、300
〜650℃で30分間熱処理を行い、アニールを行い、
磁気記録媒体を製造した。
【0046】ここで、本発明の好ましい態様を付記する
と、以下の通りである。 (付記1) 磁気記録媒体に用いられ、カーボンを生成
可能な有機化合物が表面に付着してなることを特徴とす
る磁気記録媒体用ナノ粒子。 (付記2) カーボンが表面に付着してなる付記1に記
載の磁気記録媒体用ナノ粒子。 (付記3) 数平均粒径が7nm以下である付記1又は
2に記載の磁気記録媒体用ナノ粒子。 (付記4) 粒度分布(分布幅(σ)/粒子直径
(D))が0.1以下である付記1から3のいずれかに
記載の磁気記録媒体用ナノ粒子。 (付記5) d−ブロック元素及びf−ブロック元素か
ら選択される少なくとも1種の元素を含有してなる付記
1から4のいずれかに記載の磁気記録媒体用ナノ粒子。 (付記6) d−ブロック元素及びf−ブロック元素
が、Co、Fe、Ni、Mn、Sm、Nd、Pr、Pt
及びPdである付記5に記載の磁気記録媒体用ナノ粒
子。 (付記7) ポリオール法により製造される付記1から
6のいずれかに記載の磁気記録媒体用ナノ粒子。 (付記8) 磁気記録媒体に用いられ、数平均粒径が7
nm以下であることを特徴とする磁気記録媒体用ナノ粒
子。 (付記9) 磁気記録媒体に用いられ、粒度分布(分布
幅(σ)/粒子直径(D))が0.1以下であることを
特徴とする磁気記録媒体用ナノ粒子。 (付記10) 付記1から9のいずれかに記載の磁気記
録媒体用ナノ粒子を含む記録層を有することを特徴とす
る磁気記録媒体。 (付記11) 基板を有してなり、磁気記録媒体用ナノ
粒子の磁化容易軸が該基板に対し垂直又は水平方向に配
向された付記10に記載の磁気記録媒体。 (付記12) 磁気記録媒体用ナノ粒子が、fct構造
を有する付記10又は11に記載の磁気記録媒体。 (付記13) 磁気記録媒体用ナノ粒子が、面内配向し
た付記10から12のいずれかに記載の磁気記録媒体。 (付記14) 付記1から9のいずれかに記載の磁気記
録媒体用ナノ粒子を分散してなるナノ粒子分散液を磁場
中で基板上に塗布する塗布工程を含むことを特徴とする
磁気記録媒体の製造方法。 (付記15) 塗布工程と同時に及びその後のいずれか
において、磁場中でアニールするアニール工程を含む付
記14に記載の磁気記録媒体の製造方法。 (付記16) アニールが、H、N、He、Ne、
Kr、Xe及びArの少なくともいずれかの混合ガス雰
囲気中で行われる付記14に記載の磁気記録媒体の製造
方法。
【0047】
【発明の効果】本発明によれば、従来における磁気記録
媒体に比し、各種性能を維持しつつ記録密度を向上させ
た磁気記録媒体、効率的な該磁気記録媒体の製造方法、
及びこれらに好適な磁気記録媒体用ナノ粒子、を提供す
ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は、磁気ディスク用の円板状の基板に対し
垂直方向の磁場を印加しつつ、スピンコート法により該
基板上にナノ粒子分散液を塗布している状態を示す概略
説明図である。
【図2】図2は、基板に対し水平方向の磁場を印加しつ
つ、スピンコート法により該基板上にナノ粒子分散液を
塗布している状態を示す概略説明図である。
【図3】図3は、基板に対し水平方向の磁場を印加しつ
つ、スピンコート法により該基板上にナノ粒子分散液を
塗布している状態を示す概略説明図である。
【図4】図4は、基板に垂直方向の磁場を印加しつつ、
ディップ法により該基板上にナノ粒子分散液を塗布して
いるところを説明する概略図である。
【図5】図5は、第二の工程を経て得られた磁気記録媒
体における記録層の概略断面図である。
【図6】図6は、第二の工程において、基板に垂直方向
の磁場を印加しつつ、アニール処理しているところを説
明する概略図である。
【図7】図7は、第二の工程において、基板の水平方向
に磁場を印加しつつ、アニール処理しているところ説明
する概略図である。
【図8】図8は、第二の工程において、基板の水平方向
に磁場を印加しつつ、アニール処理しているところ説明
する概略図である。
【図9】図9は、本発明の磁気記録媒体の製造例を説明
するための図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 渦巻 拓也 神奈川県川崎市中原区上小田中4丁目1番 1号 富士通株式会社内 Fターム(参考) 5D006 BA02 BA04 BA05 BA07 BA08 BA19 EA05 5D112 AA05 BB01 BB02 BB05 BB06 BB12 CC06 DD03 DD04 GB02

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 磁気記録媒体に用いられ、カーボンを生
    成可能な有機化合物が表面に付着してなることを特徴と
    する磁気記録媒体用ナノ粒子。
  2. 【請求項2】 磁気記録媒体に用いられ、数平均粒径が
    7nm以下であることを特徴とする磁気記録媒体用ナノ
    粒子。
  3. 【請求項3】 磁気記録媒体に用いられ、粒度分布(分
    布幅(σ)/粒子直径(D))が0.1以下であること
    を特徴とする磁気記録媒体用ナノ粒子。
  4. 【請求項4】 請求項1から3のいずれかに記載の磁気
    記録媒体用ナノ粒子を含む記録層を有することを特徴と
    する磁気記録媒体。
  5. 【請求項5】 基板を有してなり、磁気記録媒体用ナノ
    粒子の磁化容易軸が該基板に対し垂直又は水平方向に配
    向された請求項4に記載の磁気記録媒体。
  6. 【請求項6】 磁気記録媒体用ナノ粒子が、fct構造
    を有する請求項4又は5に記載の磁気記録媒体。
  7. 【請求項7】 磁気記録媒体用ナノ粒子が、面内配向し
    た請求項4から6のいずれかに記載の磁気記録媒体。
  8. 【請求項8】 請求項1から3のいずれかに記載の磁気
    記録媒体用ナノ粒子を分散してなるナノ粒子分散液を磁
    場中で基板上に塗布する塗布工程を含むことを特徴とす
    る磁気記録媒体の製造方法。
  9. 【請求項9】 塗布工程と同時に及びその後のいずれか
    において、磁場中でアニールするアニール工程を含む請
    求項8に記載の磁気記録媒体の製造方法。
  10. 【請求項10】 アニールが、H、N、He、N
    e、Kr、Xe及びArの少なくともいずれかの混合ガ
    ス雰囲気中で行われる請求項9に記載の磁気記録媒体の
    製造方法。
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