JP4005335B2

JP4005335B2 - 基板処理装置

Info

Publication number: JP4005335B2
Application number: JP2001336289A
Authority: JP
Inventors: 辰也星; 友喜近藤
Original assignee: Sumitomo Precision Products Co Ltd
Current assignee: Sumitomo Precision Products Co Ltd
Priority date: 2001-11-01
Filing date: 2001-11-01
Publication date: 2007-11-07
Anticipated expiration: 2021-11-01
Also published as: JP2003136024A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶パネルのＴＦＴ基板等の基板を回転駆動しつつ、処理液の塗布、洗浄、乾燥する、いわゆる回転式基板処理装置に係り、特に、基板の裏面を洗浄、乾燥する機構を有する回転式基板処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ＴＦＴ基板等のガラス基板の製造においては、レジストの塗布、エッチング液の塗布、レジストの剥離等の処理が繰り返し施されるが、作業効率の向上や設備の小規模化の観点から、この処理を実施する装置として回転式の基板処理装置が使用されている。
【０００３】
図１は、従来の回転式基板処理装置を示す模式図である。図１に示すように、従来の回転式基板処理装置は、長方形の基板１を受け台２の上に保持した状態で、モータ（図示せず）によって回転軸３を回転させながら、上方に設置したスプレーユニット（図示せず）によってエッチング液等の処理液を基板１の表面に供給する。基板１の表面に供給された処理液は、遠心力によって基板１の表面上を外方に向かって拡散する。このような作用により、処理液は、基板１の表面全体にほぼ均一な膜厚に塗布され、余分な処理液は、基板１のエッジ部分から外方に飛散する。
【０００４】
処理液の塗布が終了した後には、別のスプレーユニット（図示しない）によって、処理液の塗布と同様に、基板１を回転させた状態で、基板１の表面に純水等の洗浄液を吹きつけ、基板１の表面の洗浄を行い、さらに、基板１を高速で回転させて乾燥させる。
【０００５】
しかし、余分な処理液や洗浄液が基板の裏面に回り込んだり、または、ミスト状になった処理液が裏面に付着したりすると、ガラス基板の製品欠陥となる。このような事態に対応すべく、近年では、基板裏面の洗浄機構を有する回転式基板処理装置が主流となっている。
【０００６】
図２は、従来の基板裏面の洗浄機構を有する回転式基板処理装置の一例を示す模式図であり、（ａ）は当該装置の全体概略図を示し、（ｂ）は基板裏面の洗浄手段の拡大図を示す。図２に示すように、この基板処理装置では、基板１は、支持ピン５を介して、ロータ４にほぼ水平に支持されている。
【０００７】
このロータ４は、基板１の回転円の最大径（対角寸法）よりも若干大きな円板であって、回転駆動機構（図示しない）によって、高速回転し、基板１の表面に遠心力の作用を持たせるとともに、処理液や洗浄液を回収する際の液ガイドとしても機能する。このロータ４の中心部に、基板洗浄ノズル６が設置されている。この基板洗浄ノズル６は、ロータ４とは独立に、回転しない固定軸に設置されており、通常、その中心部に不活性ガス噴射手段７を有し、更にその周囲に複数の洗浄液噴射手段８を有する構造となっている。
【０００８】
図３は、従来の基板洗浄ノズルによる基板裏面への洗浄液の噴射状態を示す模式図である。図３に示すように、基板洗浄ノズル６の中心部に設置された不活性ガス噴射手段７は、基板１裏面の回転中心部にＮ２等の不活性ガスを吹き付けるためのものであり、これにより、遠心力が小さい基板の回転中心部における乾燥を促進させて、基板全体をむらなく乾燥できる。一方、不活性ガス噴射手段７の周囲に設置された複数の洗浄液噴射手段８は、基板裏面に純水等の洗浄液を吹き付けるためのものである。この洗浄液噴射手段８は、純水等を洗浄液として基板裏面に吹き付け、これによって基板裏面の洗浄を行うためのものである。このような基板裏面の洗浄機構によって、余剰な処理液等が基板裏面に付着することによるガラス基板の欠陥は、一応、解消されていた。
【０００９】
しかし、最近、ガラス基板の大型化の要請が強くなってきており、従来の基板裏面の洗浄機構では対処しきれない事態が生じてきた。即ち、上記の図３に示した洗浄機構では、精々、幅６００ｍｍ、長さ７２０ｍｍの基板の洗浄を対象とされていたため、基板裏面にむらなく洗浄液を塗布することで、基板裏面に付着した余剰処理液等を取り除くことができた。従って、洗浄液は、同じ傾斜角度を有する複数の洗浄液噴射手段から広角に拡散するように噴射されるような機構となっていた。しかし、このような機構では、最近、主流となってきている幅７３０ｍｍ、長さ９２０ｍｍという寸法またはこれより大きい寸法の基板洗浄を行う場合には、基板の回転中心部付近への洗浄液の塗布を重視すれば、基板の回転外周部付近への洗浄液の塗布が困難となり、逆に、基板の回転外周部付近への洗浄液の塗布を重視すれば、基板の回転中心部付近への洗浄液の塗布が困難となる。
【００１０】
これに対応すべく、洗浄液噴射手段の拡散角度をあまりに広角にして洗浄液を噴射しても、基板裏面における単位面積当たりの洗浄液の圧力が弱すぎて、十分な洗浄が行えない。このように、ガラス基板の大型化に伴って、従来の小型のガラス基板の裏面洗浄においては、全く考慮する必要がなかった問題が発生するようになった。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、ＴＦＴ基板等のガラス基板裏面の洗浄を欠陥を発生させることなく、確実に行える回転式基板処理装置を提供することを目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
本発明は、下記の基板処理装置を要旨とする。
【００１３】
即ち、基板を処理槽内でほぼ水平に支持して回転させるロータと、このロータによって回転する基板の裏面に洗浄液および不活性ガスを吹き付けるべく回転中心部に固定された基板洗浄ノズルと、この基板洗浄ノズルを回転中心部に固定する固定軸とを有する基板処理装置であって、上記の基板洗浄ノズルが、その中心部に不活性ガス噴射手段を有し、不活性ガス噴射手段の周囲に、それぞれ傾斜角度を変化させた複数の洗浄液噴射手段を有し、上記の固定軸が、ロータと基板洗浄ノズルとの隙間から、基板洗浄ノズル外の気体を吸引する機構を有し、該機構は、前記固定軸内の吸入用気体流動管から吸入された気体がロータの下側を外周側から中心側へ流動し、前記固定軸内の放出用気体流動管を経て放出される第１経路と、ロータと基板洗浄ノズルとの隙間から前記固定軸内の放出用気体流動管に至る第２経路とを有し、第１経路における吸入用気体流動管からの気体吸入量を、第１経路及び第２経路で共用される放出用気体流動管からの気体放出量より少なく設定することにより、第２経路においてロータと基板洗浄ノズルとの隙間から気体を吸引する構成であることを特徴とする基板処理装置である。
本発明の基板処理装置は、好ましくは、前記ロータの下側で前記固定軸に固定されて前記基板洗浄ノズルを支持するノズルホルダを有する。この場合、前記第１経路は、気体が前記固定軸内の吸入用気体流動管から前記ノズルホルダの下側を中心側から外周側へ流動し、前記ノズルホルダとその上側のロータとの間を外周側から中心側へ流動し、前記固定軸内の放出用気体流動管に至る構成が好ましい。
【００１４】
なお、上記の洗浄液噴射手段のうち、不活性ガス噴射手段の直近部に設置された２つの洗浄液噴射手段の傾斜角度が、不活性ガス噴射手段の傾斜角度と同じであるのが望ましい。また、上記の噴射手段は、孔で構成されているのが望ましい。さらに、上記の基板洗浄ノズルは、その上面部が複数の曲率半径を有する曲面から構成されているのが望ましい。
【００１５】
【発明の実施の形態】
まず、本発明の基板処理装置において、回転する基板裏面に洗浄液および不活性ガスを吹き付ける基板洗浄ノズルの実施形態を説明する。以下の説明において、請求項１〜４に記載されるそれぞれの基板洗浄ノズルを「第１の基板洗浄ノズル」〜「第４の基板洗浄ノズル」と表記し、合わせて、本発明の基板洗浄ノズルと表記する。
【００１６】
なお、本発明の基板処理装置は、基板洗浄ノズルの形状に特徴を有するとともに、基板洗浄ノズルを固定する固定軸が、ロータと基板洗浄ノズルとの隙間から気体を吸引する機構を有することをも特徴とするが、この機構については後述する。
【００１７】
図４は、本発明の基板洗浄ノズル上面部の配置の一例を模式的に表した平面図である。図４に示すとおり、第１の基板洗浄ノズルは、その中心部に不活性ガス噴射手段７を有するとともに、その周囲にそれぞれ傾斜角度を変化させた複数の洗浄液噴射手段８を有する。洗浄液噴射手段８の傾斜角度は、例えば、図４に示すように、不活性ガス噴射手段７を中心として対角に位置するものが同一の角度となるように設定してもよく、また、全てが異なる角度となるように設定してもよい。第１の基板洗浄ノズルは、このような構成を有するので、大型の基板の裏面洗浄においては、基板裏面の全体に、ほぼ均一の圧力で、且つ、むらなく洗浄液を吹き付けることができる。なお、不活性ガス噴射手段から噴射される不活性ガスの流量は、５０〜７０Ｌ／ｍｉｎであればよく、洗浄液噴射手段から噴射される洗浄液の流量は、合計で７Ｌ／ｍｉｎであればよい。また、ノズルの上端部と基板裏面との距離は１０〜２５ｍｍの範囲であればよい。
【００１８】
本発明における洗浄液噴射手段の個数は、特に限定しないが、例えば、幅７３０ｍｍ、長さ９２０ｍｍといった大型の基板裏面を洗浄する場合には、６個以上設置するのが望ましいが、この個数があまりに多いと、それぞれの洗浄液噴射手段から噴射される洗浄液の圧力が不十分となるため、その上限は、２０個とするのが望ましい。また、洗浄液噴射手段の傾斜角度は、例えば、図４に示した例のように、０°、９．５°、１６°および１８°の４パターンで構成されていてもよく、基板裏面の全面に洗浄液が噴射させるため、０〜２２°の範囲で、且つ４パターン以上に設定すればよい。
【００１９】
それぞれの洗浄液噴射手段の設置位置は、不活性ガス噴射手段から１０ｍｍ以上離れた位置であればよく、また、互いの洗浄液の噴射を妨げない程度に、相互に離れている必要がある。特に、不活性ガス噴射手段を中心とした複数の同心円を想定し、それぞれの同心円上に複数の洗浄液噴射手段を等間隔で配置するのが望ましい。また、洗浄液噴射手段から噴射される洗浄液の拡散角度は、基板裏面の全面に洗浄液が噴射されるとともに、洗浄液に所定の圧力を持たせるため、０〜２°程度が望ましい。
【００２０】
なお、「傾斜角度」とは、各噴射手段から噴射される不活性ガスまたは洗浄液が噴出される方向の軸とガラス基板に垂直な方向の軸とがなす角度をいう。たとえば、洗浄液噴出手段による洗浄液の噴出方向がガラス基板の垂直方向と同一の場合には、これを０°とする。
【００２１】
第２の基板洗浄ノズルは、上記の構成要件に加え、洗浄液噴射手段のうち、不活性ガス噴射手段の直近部に設置された２つの洗浄液噴射手段の傾斜角度が、不活性ガス噴射手段の傾斜角度と同じであることを特徴とする基板洗浄ノズルである。このような構成を有する基板洗浄ノズルであれば、洗浄液が不活性ガスの流れに沿って、基板裏面の回転中心部に一文字状に噴射されることになるため、この部分の洗浄を確実に行うことができる。
【００２２】
なお、「不活性ガス噴射手段の直近部に設置された２つの洗浄液噴射手段の傾斜角度が、不活性ガスの傾斜角度と同じ」とは、例えば、図４に示すように、洗浄液噴射手段のうちの２つ（図中の８ａおよび８ｂ）が傾斜角度が０°であることをいう。ただし、この傾斜角度は、洗浄液が基板裏面の回転中心部に一文字状に噴射されるように設定すればよいので、必ずしも０°である必要はなく、不活性ガス噴射手段の傾斜角度と実質的に同一の角度であればよい。
【００２３】
第３の基板洗浄ノズルは、上記の構成要件に加え、その噴射手段が孔で構成されていることを特徴とする基板洗浄ノズルである。以下この理由を説明する。
【００２４】
基板の裏面洗浄中には、噴射された洗浄液が基板裏面から跳ね返って浮遊し、前記の図３中に点線の円で示したイ部などに、水滴として残存する場合がある。通常、このような浮遊した洗浄液の水滴がロータ４の上に付着した場合には、ロータ４は回転しているので、その遠心力によって水滴は排除されるが、基板洗浄ノズル６は、固定軸に設置されているため、水滴が付着しても排除されず、残存する。この水滴がミスト状でそれぞれの水滴の粒径が小さい場合には、特に問題とはならないが、長時間の使用などにより、粒径の大きな水滴が基板洗浄ノズル６に残存すると問題となる。
【００２５】
即ち、このような水滴は、基板洗浄ノズル６上から、高速で回っているロータ４上に滑り落ち、ロータ４上で破砕され、これが拡散して再び基板裏面に付着する場合があり、このような洗浄液の水滴が再付着すると、基板裏面にすじ状の汚れを残し、製品としてのガラス基板に重大な欠陥を残すこととなる。
【００２６】
本発明者らの検討によれば、上記の図３に示したような従来の基板洗浄ノズルの場合に、その上面に水滴が付着しやすい理由は、上記の水滴が基板洗浄ノズル上の不活性ガス噴射手段や洗浄液噴射手段等の突起部周辺に定着することが多いからである。
【００２７】
一方、従来の基板洗浄ノズルの場合、図３に示すように、各噴射手段について一つずつヘッドを用意して、それぞれのヘッドをねじ込み、更に、ヘッドから噴射される洗浄液の角度を調整する必要があったため、基板洗浄ノズルの製造、および、この設置または段取り替えに長時間を要し、また、基板洗浄ノズルを構成する部材が多くなり、製造コストの高騰を招くという問題があった。
【００２８】
図５は、第３の基板洗浄ノズル上面部の配置の一例を模式的に表した平面図である。図５に示すように、第３の基板洗浄ノズル６は、その不活性ガス噴射手段７および洗浄液噴射手段８のいずれもが孔で構成されている。このような構成にすることにより、その上面に一切突起部が存在しないため、基板洗浄ノズル６の上面に洗浄液の水滴が付着しにくくなる。また、第３の基板洗浄ノズルは、各噴射手段に付きヘッド等の部材を一切必要としないので、製造コストの低減および製造時間等の短縮をすることができる。
【００２９】
ここで、図５に示した例では、不活性ガス噴射手段７の直近部に、これと同じ傾斜角度を有する２つの洗浄液噴射手段８と、その外周部に、それぞれの傾斜角度が異なる６つの洗浄液噴射手段８とが設置されている。このように、第３の基板洗浄ノズルにおいても、不活性ガス噴射手段の直近部に設置された２つの洗浄液噴射手段の傾斜角度が不活性ガス噴射手段の傾斜角度と実質的に同一の角度であるのが望ましいのは、前述のとおりである。また、その他の洗浄液噴射手段についても、個数、傾斜角度等の条件は、前述した範囲内にあればよい。特に、外周部にある６つの洗浄液噴射手段のそれぞれの傾斜角度は、１２°、１４°、１６°、１８°、２０°および２２°（それぞれの傾斜角度は±０．２５°の誤差を許容する）であり、且つ、ランダムに設定されているのが望ましい。
【００３０】
なお、「洗浄液噴射手段のそれぞれの傾斜角度がランダムに設定されている」とは、隣り合う洗浄液噴射手段の傾斜角度が順番に大きくなるような構成ではないことをいう。たとえば、上記の６つの洗浄液噴射手段のそれぞれの傾斜角度を、時計回りの順番にみたときに、１２°→１４°→１６°→１８°→２０°→２２°のような配置ではなく、２２°→１８°→１４°→１２°→１６°→２０°のように配置されていることをいう。
【００３１】
図６は、本発明の基板洗浄ノズルによる基板裏面への洗浄液の噴射状態の一例を示す模式図である。図６に示すように、基板洗浄ノズル６から噴射された洗浄液は、回転している基板の裏面に、楕円形に塗布される。即ち、このような構成を有する基板洗浄ノズルであれば、隣り合う洗浄液噴射手段から噴射される洗浄液が基板裏面に到達する際に、相互に重なり合った状態で塗布できる。
【００３２】
これは、隣り合う洗浄液噴射手段から噴射される洗浄液が基板裏面に到達する際に、相互に重なり合わない状態で塗布されると、基板裏面に塗布された洗浄液が基板の回転による遠心力を受けて、基板裏面を伝って外方に排出される際に、むらが発生して基板裏面にすじ状の汚れを残すからである。
【００３３】
第４の基板洗浄ノズルは、上記の構成要件に加え、その上面部が複数の曲率半径を有する曲面から構成されていることを特徴とする基板洗浄ノズルである。以下、この理由を説明する。
【００３４】
図７は、本発明の基板洗浄ノズルの一例を模式的に表した断面図である。図６に示すように、第４の基板洗浄ノズルは、その上面部が複数の曲率半径を有する曲面から構成されている。このような構成を有する基板洗浄ノズルであれば、技術的な根拠は定かではないが、ミスト状の洗浄液が当該基板洗浄ノズルの上面部に付着しにくく、また、仮に付着しても、その水滴が大きくなる前に上面部を滑り落ちていくため、前述したような、基板裏面に再付着するという事態が発生しない。
【００３５】
ここで、構成される曲面の数および曲率半径は、特に限定しないが、不活性ガス噴射手段を含む部分が平面であり、その外周部に曲率半径４０ｍｍ（許容誤差：±５ｍｍ）の曲面、１２ｍｍ（許容誤差：±２．５ｍｍ）の曲面および２．５ｍｍ（許容誤差：±１ｍｍ）の曲面で構成されているのが望ましい。
【００３６】
なお、第４の基板洗浄ノズルは、特に、第３の基板洗浄ノズルの構成をも有するのが望ましい。これは、上述した第３の基板洗浄ノズルの作用効果と第４の基板洗浄ノズルの作用効果がともに発揮されるというだけでなく、基板洗浄ノズルの径を４０ｍｍ以下と小さくできるという複合効果を有するからである。
【００３７】
従来のような噴射手段としてヘッドの使用を前提とした基板洗浄ノズルでは、洗浄ノズルの上面部にヘッドを取り付けるための、ねじ加工をする必要があり、その径を小さくするのには限界があった。しかし、その径が４０ｍｍ以下である小さな基板洗浄ノズルであれば、浮遊した洗浄液が付着しにくくなるため、上述した基板裏面への再付着という問題が発生しにくくなる。
【００３８】
次に、基板洗浄ノズルを固定する固定軸について説明する。本発明の基板処理装置は、上記の第１〜第４の基板洗浄ノズルを特徴とするとともに、基板洗浄ノズルを固定する固定軸が、ロータと基板洗浄ノズルとの隙間から気体を吸引する機構を有することをも特徴とする。
【００３９】
図８および図９は、本発明の固定軸の主たる構成部材を示す断面であり、図８は各構成部材の分断図であり、図９はこれらの構成部材を組み立て状態を示す図である。図８に示すように、本発明の基板処理装置における固定部は、たとえば、同心管１１に液漏れストッパ１０、ノズルホルダ９、ロータ４、基板洗浄ノズル６の順で組み立てられる。また、図９に示すとおり、同心管１１は、その中心部に不活性ガス流動管１２が配置され、不活性ガス流動管１２の外側に同心円状に洗浄液流動管１３が配置され、更に、洗浄液流動管１３の外側に同心円状に気体流動管１４が配置されている。
【００４０】
なお、図８および図９において点線で示した部分は回転体であり、本発明ではこの全ての点線部分をロータ４と呼ぶこととし、このロータ４は、一つの部材で構成されていてもよく、複数の部材で構成されていてもよい。例えば、図８では、ロータ４として示される部材は、実際には洗浄液等が装置内部に侵入するのを防ぐための防水カバーであるが、この防水カバーも回転体に取り付けられてロータ４と同調して回転する部材である。従って、本発明においては、このような防水カバーも含めた回転体をロータ４と呼ぶこととする。
【００４１】
不活性ガス流動管１２は、ノズルホルダ９の上端部に設けられた孔および基板洗浄ノズル６の上端部に設けられた不活性ガス噴射手段７を貫通している。ノズルホルダ９の上端部と基板洗浄ノズル６との間、および、不活性ガス流動管１２の外側とノズルホルダ９の内側との間には、図示しないゴムパッキンがはめ込まれているので、不活性ガスが後述するノズルホルダ９と基板洗浄ノズル６との間の空間部に侵入することはなく、逆に、洗浄液が不活性ガス噴射手段７から不活性ガスとともに噴射されることはない。
【００４２】
洗浄液流動管１３の上端部は、ノズルホルダ９の上端付近に水平方向に設けられた孔に対応する位置に設置されており、洗浄液は、洗浄液流動管１３内を上昇して、このノズルホルダ９に設けられた孔を通過し、ノズルホルダ９と基板洗浄ノズル６との間の空間部にバッファとして保持され、その後、基板洗浄ノズル６の上面部に設けられた各洗浄液噴射手段８から、所定の圧力で噴射される。洗浄液流動管１３の外側とノズルホルダ９の内側との間には、図示しないゴムパッキンがはめ込まれているため、洗浄液が後述する気体流動管へ吸い込まれることはない。
【００４３】
気体流動管１４は、図９に示されるように、２つの同心管によって構成されている。これらの同心管のうち、外側に位置する気体流動管１４では、その下端部から気体が吸入され、内側に位置する気体流動管１４では、その下端部から気体が放出される構成となっている。従って、吸入された気体は、図９の矢印で示すように装置内部の空間を流れて、ロータ４の下部とノズルホルダ９との隙間を通り、基板洗浄ノズル６の下端部に設けられた気体孔およびノズルホルダ９の雄ねじ下部のくびれた部分に設けられた気体孔を流れて、気体放出側の気体流動管１４の上端部に流れ込み、この管内を下方に向かって流れて、気体放出口から放出される。
【００４４】
この際、ロータ４と基板洗浄ノズル６との隙間から気体を吸引する機構を固定軸に持たせるためには、気体流動管１４の気体吸入口から吸入される気体の流量を気体放出口から放出される気体の流量よりも少ない量に設定する必要がある。例えば、気体吸入口から吸入される気体の流量を２Ｌ／ｍｉｎ程度（圧力：０．１ＭＰａ）とし、気体放出口から放出される気体の流量を３Ｌ／ｍｉｎ程度（圧力：０．１ＭＰａ）とするのが望ましい。
【００４５】
図１０は、上記の図９中に示すロ部の拡大図である。図１０に示すとおり、本発明の基板処理装置においては、基板洗浄ノズル６とロータ４との隙間に気体を吸引する機構、即ち、気体が図中の矢印で示す流れに沿って、吸引される機構となっている。このような機構により、基板洗浄ノズル６の上面部に付着し、その端部に流れ落ちた水滴は、図中の矢印で示す気体の流れに沿って、基板洗浄ノズル６とロータ４の隙間に吸引され、更に、基板洗浄ノズルの下端部に設置された気体孔およびノズルホルダ９に設置された気体孔を通り抜け、気体流動管１４を下向きに流れて、気体放出口から気体とともに放出される。
【００４６】
従って、本発明の基板処理装置では、基板洗浄ノズルの上面部に付着し、流れ落ちた水滴が、高速回転しているロータ上に落下することがなく、前述した基板裏面への洗浄液の再付着という事態が生じない。
【００４７】
なお、上記の図９に示した液漏れストッパ１０は、基板洗浄ノズル６とロータ４との隙間に吸引された水滴が基板洗浄ノズル６の下端に設置された気体孔に到達した際に、ロータ４とノズルホルダ９との隙間を軸中心から外側に向かって通り、装置内部の空間に入り込むのを防ぐ役割をする。
【００４８】
【発明の効果】
本発明の基板洗浄装置によれば、基板裏面のほぼ全面に同等の圧力で洗浄液を噴射することができるので、大型のガラス基板であっても、その裏面の洗浄を欠陥を発生させることなく、確実に行うことができる。また、固定軸に設置された基板洗浄ノズルの上面部に付着、残存する洗浄液の水滴を最小限に抑えることができるとともに、製造コストの低減、段取り替え時間の短縮等を図ることができる。さらに、仮に、基板洗浄ノズルの上面部に洗浄液の水滴が付着し、これが基板洗浄ノズルの端部から流れ落ちても、基板洗浄ノズルとロータとの間から気体とともに吸引されるので、洗浄液が基板裏面に再付着するという事態が生じない。
【図面の簡単な説明】
【図１】従来の回転式基板処理装置を示す模式図である。
【図２】従来の基板裏面の洗浄機構を有する回転式基板処理装置の一例を示す模式図であり、（ａ）は当該装置の全体概略図を示し、（ｂ）は基板裏面の洗浄手段の拡大図を示す。
【図３】従来の基板洗浄ノズルによる基板裏面への洗浄液の噴射状態を示す模式図である。
【図４】本発明の基板洗浄ノズル上面部の配置の一例を模式的に表した平面図である。
【図５】第３の基板洗浄ノズル上面部の配置の一例を模式的に表した平面図である。
【図６】第３の基板洗浄ノズルによる基板裏面への洗浄液の噴射状態の一例を示す模式図である。
【図７】第４の基板洗浄ノズルの一例を模式的に表した断面図である。
【図８】本発明の固定軸の主たる構成部材の断面を示す分断図である。
【図９】本発明の固定軸の主たる構成部材の組み立て状態を示す断面図である。
【図１０】図９中に示すロ部の拡大図である。
【符号の説明】
１基板
２受け台
３回転軸
４ロータ
５支持ピン
６基板洗浄ノズル
７不活性ガス噴射手段
８洗浄液噴射手段
９ノズルホルダ
１０液漏れストッパ
１１同心管
１２不活性ガス流動管
１３洗浄液流動管
１４気体流動管

Claims

基板を処理槽内でほぼ水平に支持して回転させるロータと、このロータによって回転する基板の裏面に洗浄液および不活性ガスを吹き付けるべく回転中心部に固定された基板洗浄ノズルと、この基板洗浄ノズルを回転中心部に固定する固定軸とを有する基板処理装置であって、上記の基板洗浄ノズルが、その中心部に不活性ガス噴射手段を有し、不活性ガス噴射手段の周囲に、それぞれ傾斜角度を変化させた複数の洗浄液噴射手段を有し、上記の固定軸が、ロータと基板洗浄ノズルとの隙間から、基板洗浄ノズル外の気体を吸引する機構を有し、該機構は、前記固定軸内の吸入用気体流動管から吸入された気体がロータの下側を外周側から中心側へ流動し、前記固定軸内の放出用気体流動管を経て放出される第１経路と、ロータと基板洗浄ノズルとの隙間から前記固定軸内の放出用気体流動管に至る第２経路とを有し、第１経路における吸入用気体流動管からの気体吸入量を、第１経路及び第２経路で共用される放出用気体流動管からの気体放出量より少なく設定することにより、第２経路においてロータと基板洗浄ノズルとの隙間から気体を吸引する構成であることを特徴とする基板処理装置。
上記の洗浄液噴射手段のうち、不活性ガス噴射手段の直近部に設置された２つの洗浄液噴射手段の傾斜角度が、不活性ガス噴射手段の傾斜角度と同じであることを特徴とする請求項１に記載の基板処理装置。
上記のいずれの噴射手段も孔で構成されていることを特徴とする請求項１または２のいずれかに記載の基板処理装置。
上記の基板洗浄ノズル上面部が複数の曲率半径を有する曲面から構成されることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の基板処理装置。
前記ロータの下側で前記固定軸に固定されて前記基板洗浄ノズルを支持するノズルホルダを有し、前記第１経路は、気体が前記固定軸内の吸入用気体流動管から前記ノズルホルダの下側を中心側から外周側へ流動し、前記ノズルホルダとその上側のロータとの間を外周側から中心側へ流動し、前記固定軸内の放出用気体流動管に至る構成であることを特徴とする請求項１に記載の基板処理装置。