JP5222110B2 - 基板処理装置 - Google Patents
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Description
1A…開口部
3…冷却ガス吐出ノズル(処理部)
8…可動部
31…ノズル駆動機構(処理部)
64…冷却流体供給部
71…二重配管
71A、71B…冷却ガス供給管部
81…円環プレート(保持部材)
82…ベローズ(連結部材)
85…弾性部材(可動部)
W…基板
Claims (4)
- 処理チャンバと、
前記処理チャンバに対して移動自在に設けられた可動部と、
前記可動部を貫通して前記処理チャンバ外部から前記処理チャンバ内部に延設され、前記可動部に保持された配管と、
前記処理チャンバ外部側の前記配管端部に接続されて前記配管に冷却流体を供給する冷却流体供給部と、
前記処理チャンバ内部で、前記配管を介して前記処理チャンバ内部に供給される冷却流体によって基板を処理する処理部と
を備え、
前記処理チャンバは、前記配管の外形よりも大きな内径を有して、前記配管が挿通される開口部を有し、
前記可動部は、
前記処理チャンバの外側に設けられて前記配管を保持する保持部材と、
一端が前記保持部材に取り付けられるとともに他端が前記処理チャンバに取り付けられて、前記保持部材を前記処理チャンバに対して変位自在に連結する連結部材と
を有し、
前記保持部材と前記連結部材で前記開口部が塞がれるように前記処理チャンバに取り付けられて、前記処理チャンバ内部の雰囲気が前記開口部から流出するのを防止することを特徴とする基板処理装置。 - 前記配管は二重配管であり、
前記保持部材に固定されたパネルマウントユニオンによって、前記二重配管の外管が相互に接続されている請求項1に記載の基板処理装置。 - 前記可動部は前記処理チャンバに対して前記処理部の反対側に設けられている請求項1または2に記載の基板処理装置。
- 前記処理部は、前記処理チャンバ内部側の前記配管端部に接続されて前記基板表面に向けて前記冷却流体を吐出するノズルと、前記基板表面に対し前記ノズルを旋回移動させるノズル駆動機構とを有する請求項1ないし3のいずれか一項に記載の基板処理装置。
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