JP2003163147A

JP2003163147A - 基板液処理装置

Info

Publication number: JP2003163147A
Application number: JP2001360174A
Authority: JP
Inventors: Hideki Nomoto; 秀樹野本; Kazuhiko Kenmori; 和彦権守; Yasuaki Ishizawa; 泰明石沢
Original assignee: Hitachi Electronics Engineering Co Ltd
Current assignee: Hitachi High Tech Corp
Priority date: 2001-11-27
Filing date: 2001-11-27
Publication date: 2003-06-06

Abstract

(57)【要約】（修正有）【課題】液処理チャンバ内で基板を高速回転させる間
に、ミストを含んだ空気が基板側に回り込むのを防止す
る。【解決手段】現像液が供給されている間は基板２０が
高速で回転することにより生じる液処理チャンバ３３Ａ
内で基板２０の配設位置近傍から下カップ３４の底壁３
４Ｂに向けて下降する旋回流を形成するために、下カッ
プ３４の底壁３４Ｂの上に排気ダクト５０を円周方向に
１８０°の位置関係となるように２箇所設け、これらの
排気ダクト５０の内部には排気管５１を接続し、上カッ
プ３５の上端部にはフィルタ付き吸気装置５３を装着す
る。排気ダクト５０は下カップ３４における底壁３４Ｂ
と、内周壁３４Ｃ及び外周壁３４Ａを一部の構成として
おり、さらに傾斜上板５４を含み、傾斜上板５４は開口
部５０Ａの位置から円周方向に１８０°の範囲でその間
に連続的に立ち下がる傾斜面としている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば液晶パネル
のＴＦＴ基板やカラーフィルタ、半導体ウエハ等の基板
を回転駆動する間に、その表面に処理液を供給して、回
転による遠心力の作用で処理液を塗布する基板液処理装
置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】例えば、液晶パネルのＴＦＴ基板を製造
する工程においては、現像液の塗布，エッチング液の塗
布，レジスト膜を剥離するための剥離液の供給等のウエ
ットプロセスにより所定のプロセス処理が行われ、また
これら各プロセス間には、洗浄工程及び乾燥工程が加わ
る。このような基板のウエット処理は、基板をスピンド
ルに装着して、それを回転させながら、処理液等を供給
することにより行うようにしたものは、特開平１１−３
３３３５７号公報等、従来から広く用いられている。こ
こで、洗浄工程では、例えば超音波加振した純水を洗浄
液として用い、この純水を基板に向けて噴射する、所謂
メガソニックシャワーにより行われるが、この洗浄液も
一種の処理液である。

【０００３】そこで、公知の基板処理装置の概略構成を
図７に示す。図中において、１は基板であって、この基
板１はモータ２ａにより回転駆動されるスピンドル２の
先端に設けた基板支持部材３上に所定の位置に位置決め
固定されている。４はスピンカップであり、このスピン
カップ４は下カップ４Ａと上カップ４Ｂとから構成さ
れ、いずれか一方のカップ、図７の構成では、上カップ
４Ｂは下カップ４Ａに対して接離可能となっている。上
下のカップ４Ａ，４Ｂが接続された状態でのスピンカッ
プ４の内部は液処理チャンバ５となっており、スピンド
ル２の基板支持部材３に装着した基板１の全体が覆われ
ることになる。基板１の上部位置には、図８に示したよ
うに、現像処理液等の噴射ノズル６が設けられる。噴射
ノズル６は、スピンカップ４の外部に位置しており、主
軸部７の先端に連結して設けた旋回アーム８の先端部分
に装着されており、処理液は下方に向けて噴射するよう
になっている。

【０００４】噴射ノズル６を退避させ、かつ上カップ４
Ｂを下カップ４Ａから分離させた状態で、移載用のハン
ドリング手段に基板１を保持させて、スピンドル２の先
端に設けた基板支持部材３に装着させる。その後に、主
軸部７を軸回りに所定角度回動させて、その旋回アーム
８を下カップ４Ａ内における基板１と対面する位置に変
位させる。この状態で上カップ４Ｂを下降させて、下カ
ップ４Ａに接合させるようにする。この時に、旋回アー
ム８を両カップ４Ａ，４Ｂ間を通過させるために、上カ
ップ４Ｂの下端部には切り欠き（図示せず）が形成され
ている。

【０００５】上下のカップ４Ａ，４Ｂが接合され、その
内部に液処理チャンバ５が区画形成されると、モータ２
ａを作動させて、スピンドル２を回転駆動し、このスピ
ンドル２が設定されら回転数となった時に、噴射ノズル
６から処理液を噴射させる。この処理液は基板１の表面
に供給され、基板１が回転しているので、この基板１に
供給された処理液は遠心力の作用により基板１の表面に
沿って外方に向けて拡散する。その結果、処理液は基板
１の表面全体にわたってほぼ均一な膜厚に塗布され、余
剰の処理液は基板１の周辺から外方に向けて飛散する。

【０００６】基板１に供給された処理液は、この基板１
の周辺から飛散することになるが、飛散した液はスピン
カップ４の下カップ４Ａの外周壁に沿って流下して底壁
に溜る。スピンカップ４の底壁には排液管１０が開口し
ており、この排液管１０には吸引ポンプ１１が接続され
ている。従って、飛散液は排液管１０を介して排液タン
ク１２に回収される。また、処理液チャンバ５の内部に
は処理液のミストが発生するが、下カップ４Ａの側壁に
は円周方向に排気管１３が複数箇所接続されており、こ
れら各排気管１３には吸引ポンプ１４が接続されてい
る。従って、ミストを含む処理液チャンバ５内の空気は
排気管１３から流出することになる。このように、処理
液チャンバ５の内部から強制排気を行うと、この処理液
チャンバ５内は負圧になることから、上カップ４Ｂの上
面部に外気取り入れ口１５を形成している。

【０００７】ここで、基板１が回転すると、この基板１
の近傍位置では、その回転中心から外向きの空気の流れ
が形成される。液処理チャンバ５では、その上部位置に
外気取り入れ口１５が開口しているので、基板１の表面
側では、空気の流れは上部側から下降して、基板１の表
面に沿って外向きに流れる。一方、基板１の裏面側で
は、外向きの流れが形成されることによって、スピンド
ル２の近傍位置の圧力が低下することになる。その結
果、基板１の下方では、スピンドル２に向けた内向きの
空気流が形成されることになる。ここで、基板１の下方
の空気はミストを含んでいるので、処理液のミストが基
板１の裏面に付着してしまう。この点を考慮して、下カ
ップ４Ａの底壁には前述した内向きの空気流が形成され
るのを防止するために、スピンドル２の近傍位置に清浄
な空気を噴射する複数のノズル１６が設けられており、
このノズル１６から空気を噴射させることによって、ス
ピンドル２の近傍位置の圧力が低下するのを防止するよ
うにしている。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】ところで、前述したよ
うに、基板１が回転すると、液処理チャンバ５内に、そ
の回転中心から外向きの空気流が形成されるが、液処理
チャンバ５はスピンカップ４内の狭い空間であるから、
外向きに形成される空気流は主にスピンカップ４を構成
する上下のカップ４Ａ，４Ｂの外周壁に向けられる。排
気管１３は、従ってスピンドル２に装着した基板１の延
長位置に開口させるようにするが、排気管１３は全周に
及ぶものではないことから、必ずしも外周側に向けた空
気流を完全には排除できない。このために、排気管１３
が接続されていない部位では、処理液のミストを含んだ
空気の流れがスピンカップ４の壁面に当って、上方及び
下方というように、任意の方向に方向転換する。そし
て、このように方向転換した空気の流れは基板１の回転
中心の方向に逆流することになる。このために、前述し
たように、ノズル１６を設けただけでは、ミストを含ん
だ空気が基板１側に逆流するのを完全には防止できない
という点で、なお不満が残る。

【０００９】本発明は以上の点に鑑みてなされたもので
あって、その目的とするところは、液処理チャンバ内で
基板を高速回転させる間に、ミストを含んだ空気が基板
側に回り込むのをより確実に防止できるようにすること
にある。

【００１０】

【課題を解決するための手段】前述した目的を達成する
ために、本発明は、下カップと上カップとからなり、内
部に基板を収容する液処理チャンバが形成されるスピン
カップと、前記下カップの底部から前記液処理チャンバ
内に延在させ、先端に基板が水平状態に設置される基板
支持部材を設けたスピンドルと、処理液を噴射させる液
噴射ノズルとからなり、前記基板支持部材に基板を設置
して、前記スピンドルを回転駆動する間に、前記液噴射
ノズルから基板の表面に向けて処理液を噴射させる基板
液処理装置であって、前記下カップの底部に、その外周
壁から前記スピンドルを挿通させた内周壁に至るように
して、前記液処理チャンバ内に開口する排気口が円周方
向に一定の間隔を置いた位置に複数箇所形成され、かつ
これら各々の排気口から、次の排気口の形成部に至るま
での間が円周方向に向けて連続的に立ち下がる傾斜上板
を備えた排気ダクトと、前記各排気ダクト内に開口し、
これら各排気ダクト内に負圧吸引力を作用させる排気通
路とを備える構成としたことをその特徴とするものであ
る。

【００１１】スピンカップの内部における液処理チャン
バは狭い閉鎖空間であり、この液処理チャンバ内では基
板が高速回転することから、この基板の回転中心側から
外周側に向けて空気流が形成される。この空気流は放射
方向のものではなく、回転方向の成分を有する旋回流で
ある。そこで、スピンカップの底部において、その外周
壁と内周壁との間に上板を掛け渡すことにより排気口を
形成する。排気口は円周方向に等間隔で複数形成する。
上板は、それが形成する排気口から次に開口する排気口
に向けて斜め下方に連続的に立ち下がる傾斜上板とす
る。基板の回転時には、その回転中心、つまりスピンド
ルの配設位置から外向きに、しかも旋回するように空気
流が形成される。この空気流を下方に向けるために、各
排気ダクトの内部に負圧吸引力を作用させる。これによ
って、液処理チャンバの内部は、内側から外側方向に向
き、かつ下方に向くように旋回する空気流が形成され
る。この空気流は傾斜上板に沿うようにして流れて、確
実に排気口内に吸引される。つまり、液処理チャンバ内
において、処理液のミストを含む空気は全て排気口から
排出されるようになる。その結果、基板にミストが付着
するのを確実に防止できる。

【００１２】下カップの底壁は水平なものであっても良
く、また排気ダクトの奥に向かうに応じて斜め下方に傾
斜させても良い。排気口は下カップの内周壁から外周壁
に及ぶ幅寸法を有するものとするが、開口形状は半径方
向に真直ぐ向くようにしても良く、また斜め乃至湾曲す
る形状としても良い。傾斜上板の最も高い位置での高さ
は、スピンドルに設置される基板とは干渉せず、しかも
ハンドリング手段により基板をスピンドルに設置したり
取り出したりする際に邪魔にならない範囲で、できるだ
け基板の裏面に近い位置に配置するのが望ましい。

【００１３】傾斜上板は空気流をガイドするためのもの
であるから、スピンドルの回転方向は、この傾斜上板が
下方に向いて傾斜する方向と一致する方向にのみ回転さ
せるようにモータで一方向に回転させるように構成す
る。また、液処理チャンバ内において、基板の上部側は
下部側より高い圧力状態とする必要がある。そこで、上
カップの上部に外気を取り込むためのフィルタ付き吸気
部材を装着するのが望ましい。また、液処理チャンバ内
に強制的に吸気させることもできる。排気口は円周方向
に少なくとも２箇所形成する。２箇所設ける場合には、
各排気ダクトの傾斜上板はそれぞれ概略１８０°の円環
状の部材で形成する。また、排気口を３箇所設ける場合
には、それぞれほぼ１２０°の円環状部材とし、４箇所
設ける場合には概略９０°の円環状部材とする。基板回
転時に下降する空気の流れをさらに確実なものとするに
は、基板支持部材をスピンドルの回転軸線と直交する方
向に向けて放射状に延在させた複数の支持アームと、こ
れらの支持アームの先端部間を掛け渡す連結部材とから
構成し、これら各支持アームの少なくともスピンドルの
回転方向における前方の側面は内向きに傾斜させる。

【００１４】

【発明の実施の形態】まず、図１に本発明の処理装置の
全体構成を示す。ここで、以下においては、処理される
基板の一例としては、液晶パネルを構成するＴＦＴ基板
であり、この基板に現像液の塗布等のプロセス処理を行
うものとして説明する。ただし、液晶パネルのカラーフ
ィルタや、その他の基板である半導体ウエハ等の基板を
製造する際にエッチング液，レジスト剥離液その他必要
な種々の液処理を行うためにも用することができる。

【００１５】まず、図１乃至図３において、２０は基板
であって、この基板２０は図３からも明らかなように、
長方形の薄いガラス基板から構成され、その表面に液処
理の一例として、例えば現像液の塗布が行われる。２１
はスピンドルであって、このスピンドル２１は回転軸２
２を有し、この回転軸２２は基台２３に立した中空軸２
４に軸受２５で回転自在に支持されている。回転軸２２
の上端部には基板支持部材２６が設けられている。この
基板支持部材２６は、回転軸２２から、その回転中心軸
と直交する方向に延在させた複数の支持アーム２６Ａ
と、これら各支持アーム２６Ａの先端部を結ぶように円
環状に形成した連結板２６Ｂとを含むものであり、各支
持アーム２６Ａにはそれぞれ複数の支持杆２７が立設さ
れており、これらの支持杆２７の先端は球面形状となっ
ている。また、連結板２６Ｂ（または基板支持部材２６
の先端部分）には、それぞれ一対からなる位置決め杆２
８が立設されている。基板２０は、複数の支持杆２７上
に実質的に点接触状態で載置されて水平度を出すことが
でき、また４つの角隅部は各一対からなる位置決め杆２
８により回転時に位置がずれないように規制される。

【００１６】回転軸２２は基台２３の下方位置に延在さ
れて、その端部にプーリ２９が連結して設けられてい
る。基台２３の下部位置にはモータ３０が設けられ、こ
のモータ３０の出力軸には駆動プーリ３１が連結されて
おり、駆動プーリ３１と回転軸２２のプーリ２９との間
には伝達ベルト３２が巻回して設けられている。従っ
て、モータ３０により回転軸２２を回転駆動すると、基
板支持部材２６に載置した基板２０が回転する。

【００１７】基板２０の液処理は高速回転駆動する間に
処理液としての現像液をこの基板２０に供給して、遠心
力の作用で基板２０の表面に沿って処理液を全面に拡散
させるようにして行なわれる。そのために、余剰の処理
液は基板２０のエッジからほぼ水平な方向に飛散するこ
とから、基板２０の液処理は閉鎖した空間内で行うよう
にする。このために、スピンカップ３３が設けられる。
スピンカップ３３は、下カップ３４と上カップ３５とか
ら構成される。上カップ３５は固定的に保持され、下カ
ップ３４は上カップ３５に近接・離間する方向に移動可
能となっており、下カップ３４が上カップ３５に接合さ
れると、スピンカップ３３内部は実質的に閉塞された液
処理チャンバ３３Ａが形成されることになる。

【００１８】下カップ３４は、外周壁３４Ａと底壁３４
Ｂとから構成され、さらにスピンドル２１の回転軸２２
を通過させるために、上方に向けて円環状の立ち上がり
部からなる内周壁３４Ｃを有するものである。下カップ
３４は上端部が開口しており、また上カップ３５は釣鐘
状となって下端部が開口している。

【００１９】次に、基板２０に現像液を供給する手段と
しては、水平方向に所定の角度だけ回動可能であり、か
つ上下動も可能なスイングアーム３６の先端に噴射ノズ
ル３７を設けたもので成される。スイングアーム３６は
作動軸３８の先端に連結して設けられている。スイング
アーム３６に連結されている作動軸３８はスピンカップ
３３の外に配置されており、この作動軸３８を所定角度
往復回動させることによって、スイングアーム３６をス
ピンカップ３３の外に位置する状態と、このスピンカッ
プ３３の内部において、噴射ノズル３７を基板支持部材
２６に設置した基板２０の概略回転中心位置と対面する
状態とに変位させるようにしている。そして、スイング
アーム３６をスピンカップ３３内に臨んだ状態で、スピ
ンカップ３３の内部をほぼ閉鎖状態に保持するために、
例えば下カップ３４の上端部にはスイングアーム３６を
挿通させるための切り欠き３９が形成されている。

【００２０】下カップ３４を昇降させるために、この下
カップ３４の外面にロッド４０が連結されており、この
ロッド４０は基台２３を貫通して下方に延在され、その
端部には作動板４１が連結されている。従って、この作
動板４１に図示しない昇降駆動手段を接続し、この昇降
駆動手段を作動させて、ロッド４０を上昇・下降させる
ことにより、下カップ３４は、図１に示したように、上
カップ３５の下方に位置する状態と、図２に示したよう
に、上カップ３５と接合された状態とに変位可能となっ
ている。

【００２１】以上のように構成することによって、まず
スイングアーム３６をスピンカップ３３から離脱させ、
かつ下カップ３４を下降させることによって、基板支持
部材２６の周囲を開放し、適宜のハンドリング手段によ
って、基板２０を基板支持部材２６の所定の位置に設置
する。これが図１の状態である。この状態から、スイン
グアーム３６を回動させて、このスイングアーム３６の
先端に装着した噴射ノズル３７を基板２０のほぼ回転中
心位置に対面させる。その後に、下カップ３４を上昇さ
せて、上カップ３５と接合させた図２の状態にする。こ
れによって、スピンカップ３３の内部に液処理チャンバ
３３Ａが形成される。

【００２２】以上により基板２０の液処理の開始条件が
整ったことになる。そこで、モータ３０を作動させて、
回転軸２２を駆動することにより基板２０を回転駆動す
る。基板２０が所定の速度で回転し出すと、噴射ノズル
３７から処理液、本実施の形態では現像液を噴射させ
る。噴射ノズル３７から噴射された現像液は基板２０の
回転中心近傍に供給されることになり、この基板２０の
回転により現像液は遠心力の作用で周辺部に向けて流れ
るようにして、その全面にわたって均等に塗り広められ
る。そして、所定量の現像液が基板２０に供給される
と、噴射ノズル３７からの現像液の噴射を停止し、その
後にモータ３０の回転を停止する。これによって、基板
２０への現像液の塗布工程が終了することになり、基板
２０は次の工程に移行し、新たな基板２０が搬入され
る。

【００２３】ところで、基板２０に供給された現像液
は、基板２０のエッジで振り切られるようにして飛散す
ることになる。このようにして飛散した現像液はスピン
カップ３３の内面、具体的には下カップ３４の外周壁３
４Ａに当り、この外周面３４Ａに沿って流下することに
なる。また、現像液の飛散時や下カップ３４の外周壁３
４Ａ等との衝突時等において、現像液が霧化することに
よりミストが発生する。従って、下カップ３４の底壁３
４Ｂには余剰の現像液が溜まるが、この余剰の現像液を
外部に排出する手段が下カップ３４に接続されている。
また、液処理チャンバ３３Ａ内で発生したミストが基板
２０に再付着すると、基板２０が汚損されて品質の低下
を来すので、このような事態が発生しないようにするた
めに、ミストを含む空気を速やかに液処理チャンバ３３
Ａから排出するようにしている。

【００２４】ここで、液処理チャンバ３３Ａの内部にミ
ストが発生するのは基板２０に対して現像液が供給され
ている時である。現像液が供給されている間は基板２０
が高速で回転している。そして、液処理チャンバ３３Ａ
の内部は基板２０の回転によって空気の流れが生じてい
る。この空気の流れの方向は、基板２０の回転中心から
外向きに旋回する流れであり、最終的にはスピンカップ
３３の内面に沿って回転する流れとなる。また、液処理
チャンバ３３Ａの内部は水平に配置した基板２０により
上下に区画形成されている。従って、通常は、基板２０
の上側と下側とではほぼ独立した空気の流れが形成され
ることになる。

【００２５】以上の点を勘案して、液処理チャンバ３３
Ａ内全体に下降する流れを形成させる。基板２０は下カ
ップ３４の外周壁３４Ａと対面しているが、その間には
所定の隙間が存在している。従って、基板２０の上下に
差圧を生じさせ、上部側が高圧で、下部側が低圧となる
ようにする。これによって、液処理チャンバ３３Ａ内、
特に基板２０の配設位置近傍から下カップ３４の底壁３
４Ｂに向けて下降する旋回流が形成されることになる。
そして、この底壁３４Ｂで旋回しながら下降する空気を
吸引することによって、ミストを含んだ空気を確実に液
処理チャンバ３３Ａから排出でき、もって基板２０に現
像液のミストが再付着するおそれがなくなる。

【００２６】このために、下カップ３４の底壁３４Ｂの
上に排気ダクト５０を設けている。排気ダクト５０は、
図４に斜視図で示し、また図５で展開図として示したよ
うに、円環状となった底壁３４Ｂにおいて円周方向に１
８０°の位置関係となるように２箇所設けられる。そし
て、これらの排気ダクト５０の内部には排気管５１が接
続されている。さらに、排気管５１には吸引ポンプ５２
を接続し、少なくとも基板２０を回転させている間は、
この吸引ポンプ５２により排気ダクト５０内の空気を下
部側に吸引する。これに対して、上カップ３５の上端部
にはフィルタ付き吸気装置５３を装着し、常に上部側か
ら外気を取り込むようにする。また、このフィルタ付き
吸気装置５３に強制送気手段を設けるようにしても良
い。なお、下カップ３４は昇降可能となっているので、
排気管５１は固定側に対して昇降可能な可動側の配管が
下カップ３４に接続されている。なお、この排気管は蛇
腹管等により構成しても良い。

【００２７】以上により、液処理チャンバ３３Ａの内部
は上部側が高圧で、下部側は低圧となり、全体として空
気を下降させる状況が形成される。しかも、この空気の
流れは、図２，図４及び図５に矢印で示したように、上
方から下方に向けて旋回する流れになる。この旋回する
空気流のほぼ延長方向に排気ダクト５０を設けることに
よって、液処理チャンバ３３Ａ内に発生するミストを含
んだ空気を円滑かつ確実に排出できるようにする。

【００２８】即ち、排気ダクト５０は、下カップ３４に
おける底壁３４Ｂと、内周壁３４Ｃ及び外周壁３４Ａを
一部の構成としており、さらに傾斜上板５４を含むもの
である。この排気ダクト５０の液処理チャンバ３３Ａ内
への開口部５０Ａは下カップ３４の内周壁３４Ｃから外
周壁３４Ａまでの幅を有するものであるが、さらに下カ
ップ３４を上カップ３５と接合させた時に、この下カッ
プ３４の底壁３４Ｂから基板支持部材２６の下部に近接
する位置までの高さを有する（図５に仮想線で示したラ
イン）。つまり、傾斜上板５４は開口部５０Ａの位置で
は最も高い位置となっている。傾斜上板５４は、この開
口部５０Ａの位置から円周方向に１８０°の範囲に及ぶ
もの、即ち一方の開口部５０Ａから他方の開口部５０Ａ
の位置にまで及ぶものであり、その間に連続的に立ち下
がる傾斜面となり、その終端部は底壁３４Ｂに接合され
ている。そして、排気管５１は傾斜上板５４で覆われた
部位において、その終端部近傍位置に開口している。

【００２９】排気ダクト５０を以上のように構成し、ス
ピンドル２１の回転方向を排気ダクト５０における傾斜
上板５４の立ち下がり方向とすることにより、液処理チ
ャンバ３３Ａ内に生じる旋回しかつ下降する空気流は確
実に排気ダクト５０の開口部５０Ａ内に流入し、吸引ポ
ンプ５２により吸引力が作用している排気管５１に吸い
込まれるようにして排出される。従って、液処理チャン
バ３３Ａの内部で空気の流れの乱れが生じたり、空気が
滞留したりすることがなくなる。その結果、基板２０を
高速回転させる間に発生する現像液のミストは直ちに排
出され、かつフィルタ付き吸気装置５３から清浄な空気
が常時取り込まれることから、基板２０にミストが付着
して汚損されるおそれはない。

【００３０】また、基板２０から余剰の現像液が振り切
られて、下カップ３４の外周壁３４Ａに衝突し、この外
周壁３４Ａに沿って流下し、この余剰の現像液は排気ダ
クト５０の傾斜上板５４の傾斜に沿って流れることにな
る。従って、この余剰の現像液もミストを含んだ空気と
共に排気管５１から排出される。

【００３１】前述したように、基板２０に現像液を塗布
する際には、液処理チャンバ３３Ａ内では下降する空気
の流れを形成する必要があるが、この流れを助長するた
めに基板支持部材２６の支持アーム２６Ａを利用するこ
とができる。即ち、図６に示したように、支持アーム２
６Ａの断面形状をほぼ台形を逆にした形状とする。支持
アーム２６Ａをこのような形状とすることによって、基
板支持部材２６が回転すると、支持アーム２６Ａの回転
方向前方の傾斜面Ｓに沿った下向きの流れが形成される
ことになる。従って、基板２０の裏面側における回転中
心部分の圧力低下を抑制することができ、旋回する下降
流をより促進させることができる。

【００３２】

【発明の効果】本発明は以上のように構成したので、液
処理チャンバ内で基板を高速回転させる間に、ミストを
含んだ空気が基板側に回り込むのを確実に防止できる等
の効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の一形態を示す基板液処理装置の
概略構成図である。

【図２】下カップを上カップに接続し、液処理チャンバ
が形成された状態を示す図１と同様の構成図である。

【図３】基板支持部材の平面図である。

【図４】排気ダクトの構成説明図である。

【図５】排気ダクトの展開図である。

【図６】基板支持部材を構成する支持アームの断面図で
ある。

【図７】従来技術による基板液処理装置の概略構成図で
ある。

【図８】図７の基板液処理装置に用いられる噴射ノズル
を含む処理液供給手段の構成説明図である。

【符号の説明】

２０基板２１スピンドル２６基板支持部材２６Ａ支持アーム２６Ｂ連結部材３３スピンカップ３３Ａ液処理チャンバ３４下カップ３４Ａ外周壁３４Ｂ底壁３４Ｃ内周壁３５上カップ３７噴射ノズル５０排気ダクト５０Ａ開口部５１排気管５２吸引ポンプ５３フィルタ付き吸気装置５４傾斜上板

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者石沢泰明東京都渋谷区東３丁目16番３号日立電子エンジニアリング株式会社内Ｆターム(参考） 4F042 AA02 AA07 AA10 EB05 EB08 EB17 EB24 5F043 CC16 EE03 EE07 EE08 EE09 EE25 EE37 5F046 LA07 MA10

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】下カップと上カップとからなり、内部に
基板を収容する液処理チャンバが形成されるスピンカッ
プと、前記下カップの底部から前記液処理チャンバ内に
延在させ、先端に基板が水平状態に設置される基板支持
部材を設けたスピンドルと、処理液を噴射させる液噴射
ノズルとからなり、前記基板支持部材に基板を設置し
て、前記スピンドルを回転駆動する間に、前記液噴射ノ
ズルから基板の表面に向けて処理液を噴射させる基板液
処理装置において、前記下カップの底部に、その外周壁から前記スピンドル
を挿通させた内周壁に至るようにして、前記液処理チャ
ンバ内に開口する排気口が円周方向に一定の間隔を置い
た位置に複数箇所形成され、かつこれら各々の排気口か
ら、次の排気口の形成部に至るまでの間が円周方向に向
けて連続的に立ち下がる傾斜上板を備えた排気ダクト
と、前記各排気ダクト内に開口し、これら各排気ダクト内に
負圧吸引力を作用させる排気通路とを備える構成とした
ことを特徴とする基板液処理装置。
【請求項２】前記スピンドルは、前記排気ダクトの傾
斜上板が下方に向いて傾斜する方向と一致する方向にの
み回転させるモータに接続する構成としたことを特徴と
する請求項１記載の基板液処理装置。
【請求項３】前記上カップには、外気を取り込むため
のフィルタ付き吸気部材を装着する構成としたことを特
徴とする請求項１記載の基板液処理装置。
【請求項４】前記排気口は、円周方向に２箇所形成さ
れ、前記各排気ダクトの傾斜上板はそれぞれ概略１８０
°の円環状部材で形成したことを特徴とする請求項１記
載の基板液処理装置。
【請求項５】前記基板支持部材は、前記スピンドルの
回転軸線と直交する方向に向けて放射状に延在させた複
数の支持アームと、これらの支持アームの先端部間を掛
け渡す連結部材とから構成し、前記各支持アームの少な
くとも前記スピンドルの回転方向前方の側面は内向きに
傾斜させる構成としたことを特徴とする請求項１記載の
基板液処理装置。