JP3943369B2 - 置換環式化合物 - Google Patents

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Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、薬学的組成物において活性成分として有用な新規な置換されたヘテロ環化合物を製造するための中間体として有用な置換環式化合物に関する。
【０００２】
特に、本発明は、タキキニン系を含めた病理学的現象、例えば、痛み（D.Regoli et al., Life Sciences, 1987, 40, 109-117）、アレルギーおよび炎症（J.E. Morlay et al., Life Sciences, 1987, 41, 527-544）、循環器系不全（J. Losay et al., 1977,サブスタンスＰ（Substance P）, Von Euler, I.S. and Pernow ed., 287-293, Raven Press, New York）、消化器系疾患（D. Regoli et al., Trends Pharmacol. Sci., 1985, 6, 481-484）、呼吸器系疾患（J. Mizrahi et al., Pharmacology, 1982, 25, 39-50）、神経学的疾患及び神経性神学的疾患（C.A. Maggi et al., J. Autonomic Pharmacol., 1993, 13, 23-93）（これらの例は制限を意味するものでもなく、排他的なものでもない。）における治療に使用するための新たな種類の置換されたヘテロ環化合物を製造するための中間体に関する。
【０００３】
【従来の技術】
近年、タキキニン及びこれらの受容体に対する多くの研究なされている。タキキニンは、中枢神経系及び抹消神経系の両方にくまなく分布している。タキキニン受容体が認められており、これらは３種類のタイプ、ＮＫ１、ＮＫ２、ＮＫ３に分類されている。サブスタンスＰ（ＳＰ）は、ＮＫ１受容体の内因性リガンドであり、ニューロキニンＡ（ＮＫＡ）はＮＫ２受容体の内因性リガンドであり、ニューロキニンＢ（ＮＫＢ）はＮＫ３受容体の内因性リガンドである。
【０００４】
ＮＫ１、ＮＫ２及びＭＫ３受容体は、異なった種で同定されている、C.A. Maggiらによる総説ではタキキニン受容体及びこれらの拮抗剤が考察されており、薬理学的研究の記載及び人の治療への応用が示されている（J. Autonomic Pharmacol., 1993, 13, 23-93）。
【０００５】
以下の非ペプチド化合物は、ＮＫ１受容体に特異的な拮抗剤の中に挙げられうる：ＣＰ−９６３４５（J. Med. Chem., 1992, 35, 2591-2600）、ＲＰ−６８６５１（Proc. Natl. Acad. Sci. USA. 1991, 88, 10208-10212）、ＳＲ１４０３３３（Curr. J. Pharmacol., 1993, 250, 403-413）。
【０００６】
ＮＫ２受容体に対しては、非ペプチドの選択的拮抗剤、ＳＲ４８９６８が詳細に説明されている（Life Sci., 1992, 50, PL101-PL106）。
【０００７】
ＮＫ３受容体に関する限り、幾つかの非ペプチド化合物が、ラット及びモルモットの脳のＮＫ３受容体に親和性を有すると説明されている（FASEB J. 1993, 7(4), A710-4104）。ラットのＮＫ３受容体に対して弱い特異性を有するペプチド拮抗剤、［Ｔｒｐ７，β−Ａｌａ８］ＮＫＡも開示されている（J. Autonomic Pharmacol., 1993, 13, 23-93）。
【０００８】
特許出願ＥＰ−Ａ−３３６２３０は、喘息の治療及び予防に有用なサブスタンスＰ及びニューロキニンＡ拮抗剤であるペプチド誘導体を開示する。
【０００９】
国際特許出願ＷＯ９０／０５５２５、ＷＯ９０／０５７２９、ＷＯ９１／０９８４４及びＷＯ９１／１８８９９並びに欧州特許出願ＥＰ−Ａ−０４３６３３４、ＥＰ−Ａ−０４２９４６６及びＥＰ−Ａ−０４３０７７１はサブスタンスＰ拮抗剤を開示する。
【００１０】
欧州特許出願ＥＰ−Ａ−０４７４５６１、ＥＰ−Ａ−５１２９０１、ＥＰ−Ａ−５１５２４０、ＥＰ−Ａ−５５９５３８及びＥＰ−Ａ−５９１０４０もニューロキニン受容体拮抗剤に関連する。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、ニューロキニン受容体拮抗剤として作用し得る新規な化合物を製造するために有用な中間体を提供することを課題とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
本発明は、下記Ｌがアミノメチル基である場合にエナンチオマーとして純粋な形態又はラセミの形態にある下式（XXXX）：
【化３】
Figure 0003943369
ｍは２又は３であり；
Ａｒ１は、無置換フェニル、もしくはハロゲン原子、ヒドロキシル、（Ｃ１−Ｃ４）−アルコキシ、（Ｃ１−Ｃ４）−アルキル、トリフルオロメチル及びメチレンジオキシから選択される置換基で一置換もしくは多置換されたフェニル（前記置換基は同一であるか又は異なっている。）；無置換チエニル、もしくはハロゲン原子で置換されたチエニル；無置換ベンゾチエニル、もしくはハロゲン原子で置換されたベンゾチエニル；無置換ナフチル、もしくはハロゲン原子で置換されたナフチル；無置換インドリル、又は（Ｃ１−Ｃ４）−アルキルもしくはベンジルでＮ−置換されたインドリル；無置換イミダゾリル、もしくはハロゲン原子で置換されたイミダゾリル；無置換ピリジル、もしくはハロゲン原子で置換されたピリジル；又はビフェニルであり；
Ｅは、水素又はＯ−保護基であり、
Ｌは、シアノ基又はアミノメチル基であり、
Ｄは、下記基：
【化４】
Figure 0003943369
（ここで、Ｇは水素又はＯ−保護基であり、Ｍは、水素又はＮ−保護基であり、Ｒ１は、水素または（Ｃ１−Ｃ４）−アルキルである。）である｝で示される化合物を提供する。
【００１３】
また、本発明は、下記Ｌがアミノメチル基である場合にエナンチオマーとして純粋な形態又はラセミの形態にある下式（XXXV）：
【化５】
Figure 0003943369
（但し、ｍ及びＡｒ１は、式（XXXX）について定義したとおりであり、Ｅは、水素又はＯ−保護基であり、Ｌはシアノ基又はアミノメチル基である。）で示される化合物を提供する。この化合物は、式（XXXX）において、Ｄが、−ＣＨ２ＯＨである化合物に相当する。
【００１４】
本発明は、また、下記Ｌがアミノメチル基である場合にエナンチオマーとして純粋な形態又はラセミの形態にある下式：
【化６】
Figure 0003943369
（但し、ｍ及びＡｒ１は、式（XXXX）について定義したとおりであり、Ｅは、水素又はＯ−保護基であり、Ｇは、水素又はＯ−保護基であり、Ｌは、シアノ基又はアミノメチル基である。）で示される化合物を提供する。この化合物は、式（XXXX）において、Ｄが、−Ｏ−Ｇである化合物に相当する。
【００１５】
さらに、本発明は、下記Ｌがアミノメチル基である場合にエナンチオマーとして純粋な形態又はラセミの形態にある下式（XXXXVII）：
【化７】
Figure 0003943369
（但し、ｍ、Ａｒ１及びＲ１は、式（XXXX）について定義したとおりであり、Ｅは、水素又はＯ−保護基であり、Ｍは、水素又はＮ−保護基であり、Ｌは、シアノ基又はアミノメチル基である。）で示される化合物を提供する。この化合物は、式（XXXX）において、Ｄが、−Ｎ（Ｍ）−Ｒ１である化合物に相当する。
【００１６】
【発明の実施の形態】
今回、新規な置換されたヘテロ環化合物は、ニューロキニン受容体拮抗剤であることが見いだされた。
【００１７】
その置換されたヘテロ環化合物（適切な場合には、これらの鉱酸又は有機酸との塩も含む）は、下式（Ｉ）で示される。
【００１８】
【化８】
Figure 0003943369
式（Ｉ）において、Ａは、以下の基：
Ａ１）−Ｏ−ＣＯ−
Ａ２）−ＣＨ２−Ｏ−ＣＯ−
Ａ３）−Ｏ−ＣＨ２−ＣＯ−
Ａ４）−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−
Ａ５）−Ｎ（Ｒ１）−ＣＯ−
Ａ６）−Ｎ（Ｒ１）−ＣＯ−ＣＯ−
Ａ７）−Ｎ（Ｒ１）−ＣＨ２−ＣＨ２−
Ａ８）−Ｏ−ＣＨ２−
（ここで、Ｒ１は、水素又は（Ｃ１−Ｃ４）−アルキルである）
から選ばれる二価の基である。ｍは２又は３である。Ａｒ１は、無置換フェニル、又はハロゲン原子、ヒドロキシル、（Ｃ１−Ｃ４）−アルコキシ、（Ｃ１−Ｃ４）−アルキル、トリフルオロメチル及びメチレンジオキシから選択される置換基で一置換もしくは多置換されたフェニル（前記置換基は同一であるか又は異なっている。）；無置換チエニル又はハロゲンで置換されたチエニル；無置換ベンゾチエニル又はハロゲン原子で置換されたベンゾチエニル；無置換ナフチル又はハロゲン原子で置換されたナフチル；無置換インドリル又は（Ｃ１−Ｃ４）−アルキルもしくはベンジルでＮ−置換されたインドリル；無置換イミダゾリル又はハロゲン原子で置換されたイミダゾリル；無置換ピリジル又はハロゲン原子で置換されたピリジル；又はビフェニルである。ＴはＣＨ２−Ｚ、−ＣＨ（Ｃ６Ｈ５）２及び−Ｃ（Ｃ６Ｈ５）３から選択される基であり；Ｔは、また、Ａが−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−、−Ｎ（Ｒ１）−ＣＨ２−ＣＨ２−及び−Ｏ−ＣＨ２−から選択される二価基である場合、−ＣＯ−Ｂ−Ｚ基であり得る（なお、Ｂは、直接の結合又はメチレンであり、Ｚは、任意に置換された単環、二環又は三環性芳香族もしくはヘテロ芳香族基である）。
【００１９】
式（Ｉ）において、Ａｍは、
ｉ）下式のＡｍ１基：
【化９】
Figure 0003943369
｛但し、Ｊ１は、（ｉ１）下記の基：
【化１０】
Figure 0003943369
（但し、Ａｒ２はピリジル、無置換フェニル、又はハロゲン原子、ヒドロキシル、（Ｃ１−Ｃ４）−アルコキシ、（Ｃ１−Ｃ４）−アルキル、トリフルオロメチル、ニトロ及びメチレンジオキシから選択される置換基で一置換もしくは多置換されたフェニル（前記置換基は同一であるか又は異なっている。）、チエニル、ピリミジル、又は無置換イミダゾリルもしくは（Ｃ１−Ｃ４）−アルキルで置換されたイミダゾリルであり；Ｒ２は水素、（Ｃ１−Ｃ７）−アルキル、ベンジル、ホルミル又は（Ｃ１−Ｃ７）−アルキルカルボニルである）であるか、又は（ｉ２）下記の基：
【化１１】
Figure 0003943369
（但し、Ａｒ２は先に定義したとおりであり；ｎは０又は１であり；Ｒ３は以下の基：
(1) 水素；
(2)（Ｃ１−Ｃ７）−アルキル；
(3) ホルミル；
(4)（Ｃ１−Ｃ７）−アルキルカルボニル
(5) シアノ；
(6) −（ＣＨ２）ｑ−ＯＨ；
(7) −（ＣＨ２）ｑ−Ｏ−（Ｃ１−Ｃ７）−アルキル；
(8) −（ＣＨ２）ｑ−ＯＣＨＯ；
(9) −（ＣＨ２）ｑ−ＯＣＯＲ１７；
(10) −（ＣＨ２）ｑ−ＯＣＯＮＨ−（Ｃ１−Ｃ７）−アルキル；
(11) −ＮＲ４Ｒ５；
(12) −（ＣＨ２）ｑ−ＮＲ６Ｃ（＝Ｗ１）Ｒ７；
(13) −（ＣＨ２）ｑ−ＮＲ６ＣＯＯＲ８；
(14) −（ＣＨ２）ｑ−ＮＲ６ＳＯ２Ｒ９；
(15) −（ＣＨ２）ｑ−ＮＲ６Ｃ（＝Ｗ１）ＮＲ１０Ｒ１１；
(16) −ＣＨ２−ＮＲ１２Ｒ１３；
(17) −ＣＨ２−ＣＨ２−ＮＲ１２Ｒ１３；
(18) −ＣＯＯＨ；
(19) （Ｃ１−Ｃ７）−アルコキシカルボニル；
(20) −Ｃ（＝Ｗ１）ＮＲ１０Ｒ１１；
(21) −ＣＨ２−ＣＯＯＨ；
(22) （Ｃ１−Ｃ７）−アルコキシカルボニルメチル；
(23) −ＣＨ２−Ｃ（＝Ｗ１）ＮＲ１０Ｒ１１；
(24) −Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２−ＯＲ１８；
(25) −ＮＲ６ＣＯＣＯＲ１９；
(26) −ＣＯ−ＮＲ２０−ＮＲ２１Ｒ２２；
(27)
【化１２】
Figure 0003943369
(28)
【化１３】
Figure 0003943369
から選ばれる基（ここで、ｑは０、１又は２である；Ｗ１は酸素原子又は硫黄原子である；Ｒ４及びＲ５は各々独立に、水素又は（Ｃ１−Ｃ７）−アルキルである；Ｒ５はまた（Ｃ３−Ｃ７）−シクロアルキルメチル、ベンジル又はフェニルであり、又はＲ４及びＲ５はこれらが結合している窒素原子と一緒になって、アゼチジン、ピロリジン、ピペリジン、モルホリン、チオモルホリン、パーヒドロアゼピン及びピペラジンであって、無置換であるかもしくは（Ｃ１−Ｃ４）−アルキルで４位が置換されたものから選択されるヘテロ環を形成する；Ｒ６は水素又は（Ｃ１−Ｃ７）−アルキルである；Ｒ７は水素；（Ｃ１−Ｃ７）−アルキル；ビニル；フェニル；ベンジル；ピリジル；無置換（Ｃ３−Ｃ７）−シクロアルキル又は１以上のメチルで置換された（Ｃ３−Ｃ７）−シクロアルキル；フリル；チエニル；ピロリル；又はイミダゾリルであり、又はＲ６及びＲ７は一緒になって−（ＣＨ２）ｐ−基となる；ｐは３又は４である；Ｒ８は（Ｃ１−Ｃ７）−アルキル又はフェニルである；Ｒ９は（Ｃ１−Ｃ７）−アルキル；遊離のアミノ又は１又は２の（Ｃ１−Ｃ７）−アルキルで置換されたアミノ；又は無置換フェニル、又はハロゲン原子、（Ｃ１−Ｃ７）−アルキル、トリフルオロメチル、ヒドロキシル、（Ｃ１−Ｃ７）−アルコキシ、カルボキシル、（Ｃ１−Ｃ７）−アルコキシカルボニル、（Ｃ１−Ｃ７）−アルキルカルボニルオキシ、シアノ、ニトロ及びアミノ（遊離であるか、もしくは１又は２の（Ｃ１−Ｃ７）−アルキルで置換されたもの。）から選択される置換基（前記置換基は同一であるか、又は異なっている。）で一置換もしくは多置換されたフェニルである；Ｒ１０及びＲ１１は各々独立に、水素又は（Ｃ１−Ｃ７）−アルキルである；Ｒ１１はまた、（Ｃ３−Ｃ７）−シクロアルキル、（Ｃ３−Ｃ７）−シクロアルキルメチル、ヒドロキシル、（Ｃ１−Ｃ４）−アルコキシ、ベンジル又はフェニルであり得、又はＲ１０及びＲ１１はこれらが結合している窒素原子と一緒になって、アゼチジン、ピロリジン、ピペリジン、モルホリン、チオモルホリン及びパーヒドロアゼピンから選択されるヘテロ環を形成する；Ｒ１２及びＲ１３は各々独立に、水素又は（Ｃ１−Ｃ７）−アルキルであり、Ｒ１３はまた、（Ｃ３−Ｃ７）−シクロアルキルメチル、又はベンジルであり得る；Ｒ１７は（Ｃ１−Ｃ７）−アルキル、（Ｃ３−Ｃ７）−シクロアルキルであって無置換であるか又は１以上のメチルで置換されたもの、フェニル又はピリジルである；Ｒ１８は水素、（Ｃ１−Ｃ７）−アルキル、ホルミル又は（Ｃ１−Ｃ７）−アルキルカルボニルである；Ｒ１９は（Ｃ１−Ｃ４）−アルコキシである；Ｒ２０は水素又は（Ｃ１−Ｃ７）−アルキルである；Ｒ２１及びＲ２２は各々独立に水素又は（Ｃ１−Ｃ７）−アルキルであり、あるいは、Ｒ２１及び２２はこれらが結合している窒素原子と一緒になってピロリジン、ピペリジン及びモルホリンから選択されるヘテロ環を形成する；Ｒ２３は水素又は（Ｃ１−Ｃ７）−アルキルである；Ｒ２４及びＲ２５は各々独立に、水素又は（Ｃ１−Ｃ７）−アルキルであり、Ｒ２５は、また、ホルミル又は（Ｃ１−Ｃ７）−アルキルカルボニルであり得る）であるか、又は、Ｒ３は、これが結合している炭素原子とピペリジン環の隣の炭素原子との間で二重結合を形成する）であるか、又は（ｉ３）下記の基：
【化１４】
Figure 0003943369
（但し、Ｒ３は先に定義したとおりである；Ｒ１４は（Ｃ１−Ｃ７）−アルキル又は（Ｃ３−Ｃ７）−シクロアルキルであり、Ｒ１４はまた、Ｒ３が水素である場合は、−ＣＯＮＲ１５Ｒ１６基であるか、又はＲ３が水素、シアノ、カルボキシル、（Ｃ１−Ｃ７）−アルコキシカルボニル又は−Ｃ（＝Ｗ１）ＮＲ１０Ｒ１１である場合は、−ＮＲ１５Ｒ１６基のいずれかであり得る；Ｒ１５及びＲ１６は各々独立に、（Ｃ１−Ｃ７）−アルキルであるか、又はＲ１５及びＲ１６は、これらが結合している窒素原子と一緒になって、アゼチジン、ピロリジン、ピペリジン、モルホリン、チオモルホリン、及びパーヒドロアゼピンから選択されるヘテロ環を形成する）である｝又は
ii）下式のＡｍ２基：
【化１５】
Figure 0003943369
｛但し、Ｊ２は、（ii１）下記の基：
【化１６】
Figure 0003943369
（但し、Ａｒ３は無置換フェニル、又はハロゲン原子、ヒドロキシル、（Ｃ１−Ｃ４）−アルコキシ、（Ｃ１−Ｃ４）−アルキル及びトリフルオロメチルから選択される置換基で一置換もしくは多置換されたフェニルである（前記置換基は同一であるか、又は異なっている。）；Ｒ２はＪ１について先に定義したとおりである）であるか、又は（ii２）下記の基：
【化１７】
Figure 0003943369
（但し、Ａｒ３は先に定義したとおりである；ｎは０又は１である；Ｑは（Ｃ１−Ｃ６）−アルキル又はベンジルである（前記置換基は、アキシャル位又はエカトリアル位にある。）；Ｘ−はアニオンである）である。｝、又は
iii）下式のＡｍ３基：
【化１８】
Figure 0003943369
（但し、Ａｒ２は先に定義したとおりである；ｎは０又は１である；及びＸ−はアニオンである）、又は
iv）下式のＡｍ４基：
【化１９】
Figure 0003943369
（但し、Ａｒ２は先に定義したとおりである；ｎは０又は１である；Ｘ−はアニオンである）である。
【００２０】
式（Ｉ）の化合物には、式（Ｉ）の化合物でＡｍがＡｍ２である場合、ラセミ体、光学的に純粋な異性体、及びアキシャル及びエカトリアル異性体が含まれる。
【００２１】
特に、Ｚ基は、無置換であるか、又は１以上の置換基を含有しうるフェニル基であり得る。
【００２２】
Ｚがフェニル基である場合、これは一置換であるか、又は特に２，４−位で二置換されうるが、例えば、２，３−、４，５−、３，４−又は３，５−位で二置換されてもよい。これはまた、特に２，４，６−位で三置換されうるが、例えば２，３，４−、２，３，５−、２，４，５−又は３，４，５−位で三置換されていてもよく、例えば２，３，４，５−位で四置換されていてもよく、また五置換されていてもよい。
【００２３】
Ｚ基はまた、二環性芳香族基、例えば１−又は２−ナフチル；又は１−、２−、３−、４−、５−、６−又は７−インドリルであって、１以上の結合が水素化されているものであり得る。前記基は、無置換であるか、又はアルキル、フェニル、シアノ、ヒドロキシアルキル、ヒドロキシル、オキソ、アルキルカルボニルアミノ、アルコキシカルボニル、チオアルキル、ハロゲン、アルコキシ又はトリフルオロメチル基（但し、アルキルはＣ１−Ｃ４である。）のような１以上の置換基を任意に含有することができる。
【００２４】
Ｚ基はまた、ピリジル、チアジアゾリル、インドリル、インダゾリル、イミダゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンゾトリアゾリル、ベンゾフラニル、ベンゾチエニル、ベンゾチアゾリル、ベンズイソチアゾリル、キノリル、イソキノリル、ベンズオキサゾリル、ベンズイソオキサゾリル、ベンズオキサジニル、ベンゾジオキシニル、イソオキサゾリル、ベンゾピラニル、チアゾリル、チエニル、フリル、ピラニル、クロメニル、イソベンゾフラニル、ピロリル、ピラゾリル、ピラジニル、ピリミジニル、ピリダジニル、インドリジニル、フタラジニル、キナゾリニル、アクリジニル、イソチアゾリル、イソクロマニル又はクロマニル基であり得、前記基は、無置換であるか、又はアルキル、フェニル、シアノ、ヒドロキシアルキル、ヒドロキシル、アルキルカルボニルアミノ、アルコキシカルボニル又はチオアルキル基（アルキルは、Ｃ１−Ｃ４である。）を任意に含有することができる。
【００２５】
特に、式（Ｉ）の化合物であって、
− Ｚが、Ｚ’であって、
−無置換フェニル、又はハロゲン原子；トリフルオロメチル；シアノ；ヒドロキシル；ニトロ；無置換フェニルもしくはハロゲン、トリフルオロメチル、（Ｃ１−Ｃ４）−アルキル、ヒドロキシルもしくは（Ｃ１−Ｃ４）−アルコキシで一置換もしくは多置換されたフェニル（前記置換基は同一であるか、又は異なっている。）；無置換アミノもしくは（Ｃ１−Ｃ４）−アルキルで一置換もしくは多置換されたアミノ；ベンジルアミノ；カルボキシル；（Ｃ１−Ｃ１０）−アルキル；無置換であるか、又はメチルで一置換もしくは多置換された（Ｃ３−Ｃ８）−シクロアルキル；（Ｃ１−Ｃ１０）−アルコキシ；無置換であるか、又はメチルで一置換もしくは多置換された（Ｃ３−Ｃ８）−シクロアルコキシ；メルカプト；（Ｃ１−Ｃ１０）−アルキルチオ；ホルミルオキシ；（Ｃ１−Ｃ６）−アルキルカルボニルオキシ；ホルミルアミノ；（Ｃ１−Ｃ６）−アルキルカルボニルアミノ；ベンゾイルアミノ；（Ｃ１−Ｃ４）−アルコキシカルボニル；（Ｃ３−Ｃ７）−シクロアルコキシカルボニル；（Ｃ３−Ｃ７）−シクロアルキルカルボニル；無置換であるか、（Ｃ１−Ｃ４）−アルキルで一置換もしくは二置換されたカルバモイル；無置換ウレイド、又は（Ｃ１−Ｃ４）−アルキルもしくは（Ｃ３−Ｃ７）−シクロアルキルで３−位が一置換又は二置換されたウレイド；及び（ピロリジン−１−イル）カルボニルアミノから選択される置換基（前記置換基は同じであるか又は異なっている。）で一置換又は多置換されたフェニル；
−無置換ナフチル、又はハロゲン、トリフルオロメチル、（Ｃ１−Ｃ４）−アルキル、ヒドロキシル又は（Ｃ１−Ｃ４）−アルコキシによって一置換又は多置換されたナフチル；
−ピリジル、チエニル、インドリル、キノリル、ベンゾチエニル又はイミダゾリルである
ものも好ましい。
【００２６】
四級アンモニウム塩以外の式（Ｉ）の化合物の塩を形成することが可能である。これらの塩には、ピクリン酸、蓚酸又は光学活性体、例えばマレイン酸もしくはカンファースルホン酸のような式（Ｉ）の化合物の適切な分離又は結晶化を可能にする鉱酸及び有機酸、及び塩酸塩、臭素酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、リン酸二水素塩、メタンスルホン酸塩、メチル硫酸鉛、マレイン酸塩、フマル酸塩、ナフタレン−２−スルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、グルコン酸塩、クエン酸塩、イセチオン酸塩、又はｐ−トルエンスルホン酸塩のような薬学的に許容しうる塩を形成する鉱酸及び有機酸が含まれる。
【００２７】
アニオンＸ−は、四級アンモニウムイオンを塩化するのに通常使用されるものであり、好ましくはクロライド、ブロマイド、アイオダイド、アセテート、ハイドロジェンスルフェート、メタンスルホネート、パラトルエンスルホネート及びベンゼンスルホネートイオンである。
【００２８】
薬学的に許容しうるアニオン、例えばクロライド、メタンスルホネート又はベンゼンスルホネートを使用することが好ましい。
【００２９】
本説明では、アルキル基又はアルコキシ基は直鎖であるか又は分岐されている。ハロゲン原子は、塩素、臭素、フッ素又はヨウ素原子を意味すると解される。
【００３０】
Ｚ基＝フェニルの置換基において、（Ｃ１−Ｃ１０）−アルキルは、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、ペンチルもしくはｎ−ペンチル、ヘキシルもしくはｎ−ヘキシル、ヘプチルもしくはｎ−ヘプチル、オクチルもしくはｎ−オクチル、ノニルもしくはｎ−ノニル、又はデシルもしくはｎ−デシルを意味すると解される。メチルで任意に置換された（Ｃ３−Ｃ８）−シクロアルキルは、例えばシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、１−、２−又は３−メチルシクロペンチル、シクロヘキシル、１−、２−、３−、又は４−メチルシクロヘキシル、シクロヘプチル、又はシクロオクチルを意味すると解される。（Ｃ１−Ｃ１０）−アルコキシは、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ−ブトキシ、イソブトキシ、sec−ブトキシ、tert−ブトキシ、ペントキシ、ヘキシロキシ、ヘプチロキシ、ノニロキシ又はデシロキシを意味すると解される。メチルで任意に置換された（Ｃ３−Ｃ８）−シクロアルコキシは、例えばシクロプロポキシ、シクロヘキシロキシ、１−、２−、３−又は４−メチルシクロヘキシロキシ、シクロヘプチロキシ又はシクロオクチロキシを意味すると解される。（Ｃ１−Ｃ１０）−アルキルチオは、例えばメチルチオ、エチルチオ、ｎ−プロピルチオ、イソプロピルチオ、ｎ−ブチルチオ、イソブチルチオ、sec−ブチルチオ、tert−ブチルチオ、ペンチルチオ、ヘキシルチオ、ヘプチルチオ、オクチルチオ、ノニルチオ又はデシルチオを意味すると解される。（Ｃ１−Ｃ６）−アルキルカルボニルオキシは、例えばアセトキシ、プロピオニルオキシ、ブチリルオキシ、バレリルオキシ、カプロイルオキシ又はヘプタノイルオキシを意味すると解される。（Ｃ１−Ｃ６）−アルキルカルボニルアミノは、例えばアセチルアミノ、プロピオニルアミノ、ブチリルアミノ、イソブチリルアミノ、バレリルアミノ、カプロイルアミノ又はヘプタノイルアミノを意味すると解される。（Ｃ１−Ｃ４）−アルコキシカルボニルは、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｎ−プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ｎ−ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニル、sec−ブトキシカルボニル、又はtert−ブトキシカルボニルを意味すると解される。また、（Ｃ３−Ｃ７）−シクロアルコキシカルボニルは、例えばシクロプロポキシカルボニル、シクロブトキシカルボニル、シクロペントキシカルボニル、シクロヘキシロキシカルボニル又はシクロヘプチロキシカルボニルを意味すると解される。
【００３１】
有利には、Ｚ基は、無置換フェニル、又はハロゲン原子、特に塩素、フッ素もしくはヨウ素原子、トリフルオロメチル、（Ｃ１−Ｃ４）−アルキル、ヒドロキシル又は（Ｃ１−Ｃ４）−アルコキシで一置換もしくは多置換されたフェニル；無置換ナフチル、又はハロゲン、トリフルオロメチル、（Ｃ１−Ｃ４）−アルキル、ヒドロキシル又は（Ｃ１−Ｃ４）−アルコキシで一置換もしくは多置換されたナフチル；ピリジル；チエニル；インドリル；キノリル；ベンゾチエニル；又はイミダゾリルである。
【００３２】
好ましい化合物は、式（Ｉ）の化合物、及び適切な場合には、これらの鉱酸又は有機酸との塩であって、
Ａは以下から選択される二価の基である；
Ａ１）−Ｏ−ＣＯ−
Ａ２）−ＣＨ２−Ｏ−ＣＯ−
Ａ３）−Ｏ−ＣＨ２−ＣＯ−
Ａ４）−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−
Ａ５）−Ｎ（Ｒ１）−ＣＯ−
Ａ６）−Ｎ（Ｒ１）−ＣＯ−ＣＯ−
Ａ７）−Ｎ（Ｒ１）−ＣＨ２−ＣＨ２−
（但し、Ｒ１は水素又は（Ｃ１−Ｃ４）−アルキルである）；
Ａｍは
ｉ）下式のＡｍ１基：
【化２０】
Figure 0003943369
｛但し、Ｊ１は、（ｉ１）下記の基：
【化２１】
Figure 0003943369
（但し、Ａｒ２はピリジル；無置換フェニル、又はハロゲン原子、ヒドロキシル、（Ｃ１−Ｃ４）−アルコキシ、（Ｃ１−Ｃ４）−アルキル、トリフルオロメチルから選択される置換基で一置換もしくは多置換されたフェニル（前記置換基は同一であるか又は異なっている。）である；Ｒ２は水素；（Ｃ１−Ｃ７）−アルキル；ベンジル；ホルミル；又は（Ｃ１−Ｃ７）−アルキルカルボニルである）であるか、又は（ｉ２）下記の基：
【化２２】
Figure 0003943369
（但し、Ａｒ２は先に定義したとおりである；ｎは０又は１である；Ｒ３は、水素；（Ｃ１−Ｃ７）−アルキル；ホルミル；（Ｃ１−Ｃ７）−アルキルカルボニル； シアノ；−（ＣＨ２）ｑ−ＯＨ基；（Ｃ１−Ｃ７）−アルキル−Ｏ−（ＣＨ２）ｑ−基；ＨＣＯＯ−（ＣＨ２）ｑ−基；（Ｃ１−Ｃ７）−アルキル−ＣＯＯ−（ＣＨ２）ｑ−基；（Ｃ１−Ｃ７）−アルキル−ＮＨＣＯＯ−（ＣＨ２）ｑ−基；−ＮＲ４Ｒ５基；−（ＣＨ２）ｑ−ＮＲ６ＣＯＲ７基；−（ＣＨ２）ｑ−ＮＲ６ＣＯＯＲ８基；−（ＣＨ２）ｑ−ＮＲ６ＳＯ２Ｒ９基；−（ＣＨ２）ｑ−ＮＲ６ＣＯＮＲ１０Ｒ１１基；−ＣＨ２−ＮＲ１２Ｒ１３基；−ＣＨ２−ＣＨ２−ＮＲ１２Ｒ１３基；カルボキシル；（Ｃ１−Ｃ７）−アルコキシカルボニル；−ＣＯＮＲ１０Ｒ１１基;カルボキシメチル；（Ｃ１−Ｃ７）−アルコキシカルボニルメチル；−ＣＨ２−ＣＯＮＲ１０Ｒ１１基;又は２−アミノチアゾール−４−イルであって、アミノが遊離であるか、又は１もしくは２の（Ｃ１−Ｃ７）−アルキルで置換されたものである（ここで、ｑは０、１又は２である；Ｒ４及びＲ５は各々独立に、水素又は（Ｃ１−Ｃ７）−アルキルである；Ｒ５はまた（Ｃ３−Ｃ７）−シクロアルキルメチル、ベンジル又はフェニルである；又はＲ４及びＲ５はこれらが結合している窒素原子と一緒になって、アゼチジン、ピロリジン、ピペリジン、モルホリン、チオモルホリン及びパーヒドロアゼピンから選択されるヘテロ環を形成する；Ｒ６は水素又は（Ｃ１−Ｃ４）−アルキルである；Ｒ７は水素；（Ｃ１−Ｃ７）−アルキル；ビニル；フェニル；ベンジル；ピリジル；無置換（Ｃ３−Ｃ７）−シクロアルキル又は１以上のメチルで置換された（Ｃ３−Ｃ７）−シクロアルキルであり、又は、Ｒ６及びＲ７は一緒になって−（ＣＨ２）ｐ−基となる；ｐは３又は４である；Ｒ８は（Ｃ１−Ｃ７）−アルキル又はフェニルである；Ｒ９は（Ｃ１−Ｃ７）−アルキル；遊離のアミノ又は１又は２の（Ｃ１−Ｃ７）−アルキルで置換されたアミノ；又は無置換フェニル、又はハロゲン原子、（Ｃ１−Ｃ７）−アルキル、トリフルオロメチル、ヒドロキシル、（Ｃ１−Ｃ７）−アルコキシ、カルボキシル、（Ｃ１−Ｃ７）−アルコキシカルボニル、（Ｃ１−Ｃ７）−アルキルカルボニルオキシ、シアノ、ニトロ及びアミノ（遊離であるか、もしくは１又は２の（Ｃ１−Ｃ７）−アルキルで置換されたもの。）から選択される置換基（前記置換基は同一であるか、又は異なっている。）で一置換もしくは多置換されたフェニルである；Ｒ１０及びＲ１１は各々独立に、水素又は（Ｃ１−Ｃ７）−アルキルであり、Ｒ１１はまた、（Ｃ３−Ｃ７）−シクロアルキル、（Ｃ３−Ｃ７）−シクロアルキルメチル、ヒドロキシル、（Ｃ１−Ｃ４）−アルコキシ、ベンジル又はフェニルであり得、又はＲ１０及びＲ１１はこれらが結合している窒素原子と一緒になって、アゼチジン、ピロリジン、ピペリジン、モルホリン、チオモルホリン及びパーヒドロアゼピンから選択されるヘテロ環を形成する；Ｒ１２及びＲ１３は各々独立に、水素又は（Ｃ１−Ｃ７）−アルキルである；Ｒ１３はまた、（Ｃ３−Ｃ７）−シクロアルキルメチル、又はベンジルであり得る）であるか、又は、Ｒ３は、これが結合している炭素原子とピペリジン環の隣の炭素原子との間で二重結合を形成する）であるか、又は（ｉ３）下記の基：
【化２３】
Figure 0003943369
（但し、Ｒ３は先に定義したとおりである；Ｒ１４は（Ｃ１−Ｃ７）−アルキル又は（Ｃ３−Ｃ７）−シクロアルキルである；Ｒ１４はまた、Ｒ３が水素である場合は、−ＣＯＮＲ１５Ｒ１６基であるか、又はＲ３がシアノ、カルボキシル、（Ｃ１−Ｃ７）−アルコキシカルボニル又は−ＣＯＮＲ１０Ｒ１１基である場合は、−ＮＲ１５Ｒ１６基のいずれかであり得る；Ｒ１５及びＲ１６は各々独立に、（Ｃ１−Ｃ７）−アルキルであるか；又はＲ１５及びＲ１６は、これらが結合している窒素原子と一緒になって、アゼチジン、ピロリジン、ピペリジン、モルホリン、チオモルホリン、及びパーヒドロアゼピンから選択されるヘテロ環を形成する）である｝、又は
ii）下式のＡｍ２基：
【化２４】
Figure 0003943369
｛但し、Ｊ２は（ii１）下記の基：
【化２５】
Figure 0003943369
（但し、Ａｒ３は無置換フェニル、又はハロゲン原子、ヒドロキシル、（Ｃ１−Ｃ７）−アルコキシ、（Ｃ１−Ｃ４）−アルキル及びトリフルオロメチルから選択される置換基（前記置換基は同一であるか、又は異なっている。）で一置換もしくは多置換されたフェニルである；Ｒ２はＪ１に対して先に定義したとおりである）であるか、又は（ii２）下記の基：
【化２６】
Figure 0003943369
（但し、Ａｒ３は先に定義したとおりである；ｎは０又は１である；Ｑは（Ｃ１−Ｃ６）−アルキル又はベンジルである（前記置換基は、アキシャル位又はエカトリアル位にある。）；Ｘ−はアニオンである）である｝、又は
iii）下式のＡｍ３基：
【化２７】
Figure 0003943369
（但し、Ａｒ２は先に定義したとおりである；ｎは０又は１である；Ｘ−はアニオンである）、又は
iv）下式のＡｍ４基：
【化２８】
Figure 0003943369
（但し、Ａｒ２は先に定義したとおりである；ｎは０又は１である；Ｘ−はアニオンである；
Ａｒ１は無置換フェニル、又はハロゲン原子、ヒドロキシル、（Ｃ１−Ｃ４）−アルコキシ、（Ｃ１−Ｃ４）−アルキル及びトリフルオロメチルから選択される置換基で一置換もしくは多置換されたフェニル（前記置換基は同一であるか又は異なっている。）；チエニル；ベンゾチエニル；ナフチル；又は無置換インドリル又は（Ｃ１−Ｃ４）−アルキルもしくはベンジルでＮ−置換されたインドリルである；
Ｔは−ＣＨ２−Ｚ、−ＣＨ（Ｃ６Ｈ５）２及び−Ｃ（Ｃ６Ｈ５）３から選択される基である；Ｔはまた、Ａが−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−及び−Ｎ（Ｒ１）−ＣＨ２−ＣＨ２−から選択される基である場合、−ＣＯ−Ｂ−Ｚ基であり得る；
Ｂは直接の結合又はメチレンである；及び
Ｚは
− 無置換フェニル、又はハロゲン原子；トリフルオロメチル；シアノ；ヒドロキシル；ニトロ；無置換フェニルもしくはハロゲン、トリフルオロメチル、（Ｃ１−Ｃ４）−アルキル、ヒドロキシルもしくは（Ｃ１−Ｃ４）−アルコキシで一置換もしくは多置換されたフェニル（前記置換基は同一であるか、又は異なっている。）；無置換アミノもしくは（Ｃ１−Ｃ４）−アルキルで一置換もしくは二置換されたアミノ；ベンジルアミノ；カルボキシル；（Ｃ１−Ｃ１０）−アルキル；無置換であるか、又はメチルで一置換もしくは多置換された（Ｃ３−Ｃ８）−シクロアルキル；無置換であるか、又はメチルで一置換もしくは多置換された（Ｃ３−Ｃ８）−シクロアルコキシ；メルカプト；（Ｃ１−Ｃ１０）−アルキルチオ；（Ｃ１−Ｃ６）−アルキルカルボニルオキシ；（Ｃ１−Ｃ６）−アルキルカルボニルアミノ；ベンゾイルアミノ；（Ｃ１−Ｃ４）−アルコキシカルボニル；（Ｃ３−Ｃ７）−シクロアルキルカルボニル；無置換であるか、（Ｃ１−Ｃ４）−アルキルで一置換もしくは二置換されたカルバモイル；無置換ウレイド、又は（Ｃ１−Ｃ４）−アルキルもしくは（Ｃ３−Ｃ７）−シクロアルキルで３−位が一置換又は二置換されたウレイド；及び（ピロリジン−１−イル）カルボニルアミノから選択される置換基（前記置換基は同じであるか又は異なっている。）で一置換又は多置換されたフェニル；
− 無置換ナフチル、又はハロゲン、トリフルオロメチル、（Ｃ１−Ｃ４）−アルキル、ヒドロキシル又は（Ｃ１−Ｃ４）−アルコキシによって一置換又は多置換されたナフチル；または
− ピリジル、チエニル、インドリル、キノリル、ベンゾチエニル又はイミダゾリルである
ものである。
【００３３】
また、好ましい化合物は、式（Ｉ）の化合物、及び適切な場合には、これらの鉱酸又は有機酸の塩であって、
− Ａは以下から選択される二価の基である；
Ａ１）−Ｏ−ＣＯ−
Ａ２）−ＣＨ２−Ｏ−ＣＯ−
Ａ３）−Ｏ−ＣＨ２−ＣＯ−
Ａ４）−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−
Ａ５）−Ｎ（Ｒ１）−ＣＯ−
Ａ６）−Ｎ（Ｒ１）−ＣＯ−ＣＯ−
Ａ７）−Ｎ（Ｒ１）−ＣＨ２−ＣＨ２−
（但し、Ｒ１は水素又は（Ｃ１−Ｃ４）−アルキルである）；
− ｍは２又は３である；
− Ａｒ１は無置換フェニル、又はハロゲン原子、ヒドロキシル、（Ｃ１−Ｃ４）−アルコキシ、（Ｃ１−Ｃ４）−アルキル、トリフルオロメチル及びメチレンジオキシから選択される置換基で一置換もしくは多置換されたフェニル（前記置換基は同一であるか又は異なっている。）；無置換チエニル又はハロゲンで置換されたチエニル；無置換ベンゾチエニル又はハロゲン原子で置換されたベンゾチエニル；無置換ナフチル又はハロゲン原子で置換されたナフチル；無置換インドリル又は（Ｃ１−Ｃ４）−アルキルもしくはベンジルでＮ−置換されたインドリル；無置換イミダゾリル又はハロゲン原子で置換されたイミダゾリル；無置換ピリジル又はハロゲン原子で置換されたピリジル；又はビフェニルである；
− ＴはＣＨ２−Ｚ、−ＣＨ（Ｃ６Ｈ５）２及び−Ｃ（Ｃ６Ｈ５）３から選択される基である；Ｔはまた、Ａが−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−及び−Ｎ（Ｒ１）−ＣＨ２−ＣＨ２−から選択される基である場合、−ＣＯ−Ｂ−Ｚ基であり得る；
− Ｂは直接の結合又はメチレンである；
− Ｚは任意に置換された単環、二環又は三環性芳香族もしくはヘテロ芳香族基である。
【００３４】
− Ａｍは
ｉ）下式のＡｍ１基：
【化２９】
Figure 0003943369
｛但し、Ｊ１は、（ｉ１）下記の基：
【化３０】
Figure 0003943369
（但し、Ａｒ２はピリジル；無置換フェニル、又はハロゲン原子、ヒドロキシル、（Ｃ１−Ｃ４）−アルコキシ、（Ｃ１−Ｃ４）−アルキル、トリフルオロメチル、ニトロ及びメチレンジオキシから選択される置換基で一置換もしくは多置換されたフェニル（前記置換基は同一であるか又は異なっている。）；チエニル；ピリミジル；又は無置換イミダゾリル又は（Ｃ１−Ｃ４）−アルキルで置換されたイミダゾリルである；Ｒ２は水素；（Ｃ１−Ｃ７）−アルキル；ベンジル；ホルミル；又は（Ｃ１−Ｃ７）−アルキルカルボニルである）であるか、又は
（ｉ２）下記の基：
【化３１】
Figure 0003943369
（但し、Ａｒ２は先に定義したとおりである；ｎは０又は１である；Ｒ３は以下の基：
(1) 水素；
(2)（Ｃ１−Ｃ７）−アルキル；
(3) ホルミル；
(4)（Ｃ１−Ｃ７）−アルキルカルボニル；
(5) シアノ；
(6) −（ＣＨ２）ｑ−ＯＨ；
(7) −（ＣＨ２）ｑ−Ｏ−（Ｃ１−Ｃ７）−アルキル；
(8) −（ＣＨ２）ｑ−ＯＣＨＯ；
(9) −（ＣＨ２）ｑ−ＯＣＯＲ１７；
(10) −（ＣＨ２）ｑ−ＯＣＯＮＨ−（Ｃ１−Ｃ７）−アルキル；
(11) −ＮＲ４Ｒ５；
(12) −（ＣＨ２）ｑ−ＮＲ６Ｃ（＝Ｗ１）Ｒ７；
(13) −（ＣＨ２）ｑ−ＮＲ６ＣＯＯＲ８；
(14) −（ＣＨ２）ｑ−ＮＲ６ＳＯ２Ｒ９；
(15) −（ＣＨ２）ｑ−ＮＲ６Ｃ（＝Ｗ１）ＮＲ１０Ｒ１１；
(16) −ＣＨ２−ＮＲ１２Ｒ１３；
(17) −ＣＨ２−ＣＨ２−ＮＲ１２Ｒ１３；
(18) −ＣＯＯＨ；
(19) （Ｃ１−Ｃ７）−アルコキシカルボニル；
(20) −Ｃ（＝Ｗ１）ＮＲ１０Ｒ１１;
(21) −ＣＨ２−ＣＯＯＨ；
(22) （Ｃ１−Ｃ７）−アルコキシカルボニルメチル；
(23) −ＣＨ２−Ｃ（＝Ｗ１）ＮＲ１０Ｒ１１;
(24) −Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２−ＯＲ１８；
(25) −ＮＲ６ＣＯＣＯＲ１９；
(26) −ＣＯ−ＮＲ２０−ＮＲ２１Ｒ２２；
(27)
【化３２】
Figure 0003943369
(28)
【化３３】
Figure 0003943369
から選択される基、又は、Ｒ３は、これが結合している炭素原子とピペリジン環の隣の炭素原子との間で二重結合を形成する；ｑは０、１又は２である；Ｗ１は酸素原子又は硫黄原子である；Ｒ４及びＲ５は各々独立に、水素又は（Ｃ１−Ｃ７）−アルキルである；Ｒ５はまた（Ｃ３−Ｃ７）−シクロアルキルメチル、ベンジル又はフェニルである；又はＲ４及びＲ５はこれらが結合している窒素原子と一緒になって、アゼチジン、ピロリジン、ピペリジン、モルホリン、チオモルホリン、パーヒドロアゼピン及びピペラジンであって、無置換であるかもしくは（Ｃ１−Ｃ４）−アルキルで４位が置換されたものから選択されるヘテロ環を形成する；Ｒ６は水素又は（Ｃ１−Ｃ７）−アルキルである；Ｒ７は水素；（Ｃ１−Ｃ７）−アルキル；ビニル；フェニル；ベンジル；ピリジル；無置換（Ｃ３−Ｃ７）−シクロアルキル又は１以上のメチルで置換された（Ｃ３−Ｃ７）−シクロアルキル；フリル；チエニル；ピロリル；又はイミダゾリルであり、又は、Ｒ６及びＲ７は一緒になって−（ＣＨ２）ｐ−基となるｐは３又は４である；Ｒ８は（Ｃ１−Ｃ７）−アルキル又はフェニルである；Ｒ９は（Ｃ１−Ｃ７）−アルキル；遊離のアミノ又は１又は２の（Ｃ１−Ｃ７）−アルキルで置換されたアミノ；又は無置換フェニル、又はハロゲン原子、（Ｃ１−Ｃ７）−アルキル、トリフルオロメチル、ヒドロキシル、（Ｃ１−Ｃ７）−アルコキシ、カルボキシル、（Ｃ１−Ｃ７）−アルコキシカルボニル、（Ｃ１−Ｃ７）−アルキルカルボニルオキシ、シアノ、ニトロ及びアミノ（遊離であるか、もしくは１又は２の（Ｃ１−Ｃ７）−アルキルで置換されたもの。）から選択される置換基（前記置換基は同一であるか、又は異なっている。）で一置換もしくは多置換されたフェニルである；Ｒ１０及びＲ１１は各々独立に、水素又は（Ｃ１−Ｃ７）−アルキルであり、Ｒ１１はまた、（Ｃ３−Ｃ７）−シクロアルキル、（Ｃ３−Ｃ７）−シクロアルキルメチル、ヒドロキシル、（Ｃ１−Ｃ４）−アルコキシ、ベンジル又はフェニルであり得、又はＲ１０及びＲ１１はこれらが結合している窒素原子と一緒になって、アゼチジン、ピロリジン、ピペリジン、モルホリン、チオモルホリン及びパーヒドロアゼピンから選択されるヘテロ環を形成する；Ｒ１２及びＲ１３は各々独立に、水素又は（Ｃ１−Ｃ７）−アルキルである；Ｒ１３はまた、（Ｃ３−Ｃ７）−シクロアルキルメチル、又はベンジルであり得る；Ｒ１７は（Ｃ１−Ｃ７）−アルキル；（Ｃ３−Ｃ７）−シクロアルキルであって、無置換であるか、又は１以上のメチルで置換されたもの；フェニル；又はピリジルである；Ｒ１８は水素；（Ｃ１−Ｃ７）−アルキル；ホルミル；又は（Ｃ１−Ｃ７）−アルキルカルボニルである；Ｒ１９は（Ｃ１−Ｃ４）−アルコキシである；
− Ｒ２０は水素又は（Ｃ１−Ｃ７）−アルキルである；Ｒ２１及びＲ２２は各々独立に水素又は（Ｃ１−Ｃ７）−アルキルであり、あるいはＲ２１及び２２はこれらが結合している窒素原子と一緒になってピロリジン、ピペリジン及びモルホリンから選択されるヘテロ環を形成する；Ｒ２３は水素又は（Ｃ１−Ｃ７）−アルキルである；Ｒ２４及びＲ２５は各々独立に、水素又は（Ｃ１−Ｃ７）−アルキルであり、Ｒ２５はまた、ホルミル又は（Ｃ１−Ｃ７）−アルキルカルボニルであり得る）であるか、又は（ｉ３）下記の基：
【化３４】
Figure 0003943369
（但し、Ｒ３は先に定義したとおりである；Ｒ１４は（Ｃ１−Ｃ７）−アルキル又は（Ｃ３−Ｃ７）−シクロアルキルである；Ｒ１４はまた、Ｒ３が水素である場合は、−ＣＯＮＲ１５Ｒ１６基であるか、又はＲ３がシアノ、カルボキシル、（Ｃ１−Ｃ７）−アルコキシカルボニル又は−Ｃ（＝Ｗ１）ＮＲ１０Ｒ１１である場合は、−ＮＲ１５Ｒ１６基のいずれかであり得る；Ｒ１５及びＲ１６は各々独立に、（Ｃ１−Ｃ７）−アルキルであるか；又はＲ１５及びＲ１６は、これらが結合している窒素原子と一緒になって、アゼチジン、ピロリジン、ピペリジン、モルホリン、チオモルホリン、及びパーヒドロアゼピンから選択されるヘテロ環を形成する）である｝、又は
ii）下式のＡｍ２基：
【化３５】
Figure 0003943369
｛但し、Ｊ２は（ii１）下記の基：
【化３６】
Figure 0003943369
（但し、Ａｒ３は無置換フェニル、又はハロゲン原子、ヒドロキシル、（Ｃ１−Ｃ４）−アルコキシ、（Ｃ１−Ｃ４）−アルキル及びトリフルオロメチルから選択される置換基で一置換もしくは多置換されたフェニルである（前記置換基は同一であるか、又は異なっている。）；Ｒ２はＪ１に対して先に定義したとおりである）であるか、又は（ii２）下記の基：
【化３７】
Figure 0003943369
（但し、Ａｒ３は先に定義したとおりである；ｎは０又は１である；Ｑは（Ｃ１−Ｃ６）−アルキル又はベンジルである（前記置換基は、アキシャル位又はエカトリアル位にある。）；Ｘ−はアニオンである）である｝、又は
iii）下式のＡｍ３基：
【化３８】
Figure 0003943369
（但し、Ａｒ２は先に定義したとおりである；ｎは０又は１である；Ｘ−はアニオンである）である｝、又は
iv）下式のＡｍ４基：
【化３９】
Figure 0003943369
（但し、Ａｒ２は先に定義したとおりである；ｎは０又は１である；Ｘ−はアニオンである）である
ものである。
【００３５】
好ましい他のグループの化合物は、下式の化合物よりなる。
【００３６】
【化４０】
Figure 0003943369
但し、
− Ａａは−Ｏ−ＣＯ−；−ＣＨ２−Ｏ−ＣＯ−；−Ｏ−ＣＨ２−ＣＯ−；−Ｎ（Ｒ１）−ＣＯ−；及び−Ｎ（Ｒ１）−ＣＯ−ＣＯ−（但し、Ｒ１は水素又は（Ｃ１−Ｃ４）−アルキルである。）から選択される二価基である。
【００３７】
− Ａｍａは、
下式のＡｍ２ａ基：
【化４１】
Figure 0003943369
又は下式のＡｍ３基
【化４２】
Figure 0003943369
である。
【００３８】
− ｎは０又は１である。
【００３９】
− Ｑは式（Ｉ）に対して先に定義したとおりであり、アキシャル位にある。
【００４０】
− Ｘ−は薬学的に許容しうるアニオンである。
【００４１】
− Ａｒ２及びＡｒ３は式（Ｉ）の化合物に対して先に定義したとおりである。
【００４２】
− Ａｒ１ａは無置換フェニル、又はハロゲン原子、ヒドロキシル、（Ｃ１−Ｃ４）−アルコキシ、（Ｃ１−Ｃ４）−アルキル及びトリフルオロメチルから選択される置換基で一置換もしくは多置換されたフェニル（前記置換基は同一であるか又は異なっている。）である。
【００４３】
− Ｚａは無置換フェニルもしくはハロゲン原子、トリフルオロメチル、（Ｃ１−Ｃ１０）−アルキル、（Ｃ１−Ｃ１０）−アルコキシ及びヒドロキシルで一置換もしくは多置換されたフェニル（前記置換基は同一であるか、又は異なっている。）である。
【００４４】
これらの化合物のうち、下式の化合物が特に好ましい。
【００４５】
【化４３】
Figure 0003943369
但し、
− Ａａ及びＡｍａは式（Ｉａ）の化合物に対して先に定義したとおりである。
【００４６】
− Ａｒ’１ａは３，４−ジクロロフェニル又は３，４−ジフルオロフェニルである。及び
− Ｚ’ａは３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル、３，５−ジメチルフェニル又は２，４−ビス（トリフルオロメチル）フェニルである。
【００４７】
好ましい他のグループの化合物は、下式の化合物及びこれらの鉱酸又は有機酸との塩よりなる。
【００４８】
【化４４】
Figure 0003943369
但し、
− Ａｂは−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−；−Ｎ（Ｒ１）−ＣＨ２−ＣＨ２−；又は−Ｏ−ＣＨ２−（但し、Ｒ１は水素又は（Ｃ１−Ｃ４）−アルキルである。）から選択される二価基である。
【００４９】
− Ａｍｂは、
＊ 下式のＡｍ２ｂ基であるか、
【化４５】
Figure 0003943369
＊ 又は下式のＡｍ３基であるか
【化４６】
Figure 0003943369
＊ 又は下式のＡｍ１ａ基である。
【００５０】
【化４７】
Figure 0003943369
− ｎは０又は１である。
【００５１】
− Ｑは式（Ｉ）の化合物に対して先に定義したとおりであり、アキシャル位にある。
【００５２】
− Ｘ−は薬学的に許容しうるアニオンである。
【００５３】
− Ａｒ２、Ａｒ３及びＲ３は式（Ｉ）の化合物に対して先に定義したとおりである。
【００５４】
− Ａｒ１ａ及びＺａは先に定義したとおりである。
【００５５】
これらの化合物のうち、以下の式の化合物、及びこれらの鉱酸又は有機酸との塩が特に好ましい。
【００５６】
【化４８】
Figure 0003943369
但し、
− Ａｍｂは式（Ｉｂ）に対して先に定義したとおりである。
【００５７】
− Ａ’ｂは−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−又は−Ｎ（Ｒ１）−ＣＨ２−ＣＨ２−から選択される二価基である。
【００５８】
− Ａｒ’１ａは式（Ｉ’ａ）の化合物に対して先に定義したとおりである。
【００５９】
− Ｚ”ａはハロゲン又は（Ｃ１−Ｃ１０）−アルコキシ基で３−位が置換されたフェニルである。
【００６０】
好ましい他のグループの化合物は、以下の式の化合物、及びこれらの鉱酸又は有機酸との塩よりなる。
【００６１】
【化４９】
Figure 0003943369
但し、
− Ａｃは−Ｏ−ＣＨ２−ＣＯ−；−ＣＨ２−Ｏ−ＣＯ−；及び−Ｏ−ＣＯ−から選択される二価基である。
【００６２】
− Ａｍｃは下式のＡｍ１ａ基である。
【００６３】
【化５０】
Figure 0003943369
− ｎは０又は１である。
【００６４】
− Ａｒ２及びＲ３は式（Ｉ）に対して先に定義したとおりである。及び
− Ａｒ１ａ及びＺａは先に定義したとおりである。
【００６５】
これらの化合物のうち、下式の化合物、及びこれらの鉱酸又は有機酸との塩が特に好ましい。
【００６６】
【化５１】
Figure 0003943369
但し、
− Ａｂ、Ａｍｃ及びＡｒ’１ａは先に定義したとおりである。
【００６７】
他の好ましい化合物群は、下式の化合物、及びこれらの鉱酸又は有機酸との塩よりなる。
【００６８】
【化５２】
Figure 0003943369
但し、
− Ａｂ、Ａｍｃ、Ａｒ１ａ及びＺａは先に定義したとおりである。
【００６９】
これらの化合物のうち、下式の化合物、及びこれらの鉱酸又は有機酸との塩が特に好ましい。
【００７０】
【化５３】
Figure 0003943369
但し、Ａ’ｂ、Ａｍｃ及びＡｒ’１ａは先に定義したとおりである。
【００７１】
上記式（Ｉａ）及び（Ｉ’ａ）の化合物のうち、
− Ａｒ２がピリジル；又は無置換フェニルもしくはハロゲン原子、ヒドロキシル、（Ｃ１−Ｃ４）−アルコキシ、（Ｃ１−Ｃ４）−アルキル及びトリフルオロメチルから選択される置換基（前記置換基は同じであるか、又は異なっている。）で一置換又は多置換されたフェニルである
化合物、及びこれらの鉱酸又は有機酸の塩が特に好ましい。
【００７２】
上記式（Ｉ’ｂ）、（Ｉｃ）、（Ｉ’ｃ）及び（Ｉ’ｄ）の化合物のうち、
− Ａｒ２がピリジル；又は無置換フェニルもしくはハロゲン原子、ヒドロキシル、（Ｃ１−Ｃ４）−アルコキシ、（Ｃ１−Ｃ４）−アルキル及びトリフルオロメチルから選択される置換基（前記置換基は同じであるか、又は異なっている。）で一置換又は多置換されたフェニルである；及び
− Ｒ３が水素；（Ｃ１−Ｃ７）−アルキル；ホルミル；（Ｃ１−Ｃ７）−アルキルカルボニル；シアノ；−（ＣＨ２）ｑ−ＯＨ基；（Ｃ１−Ｃ７）−アルキル−Ｏ−（ＣＨ２）ｑ−基；ＨＣＯＯ−（ＣＨ２）ｑ−基；（Ｃ１−Ｃ７）−アルキル−ＣＯＯ−（ＣＨ２）ｑ−基；（Ｃ１−Ｃ７）−アルキル−ＮＨＣＯＯ−（ＣＨ２）ｑ−基；−ＮＲ４Ｒ５基；−（ＣＨ２）ｑ−ＮＲ６ＣＯＲ７基；−（ＣＨ２）ｑ−ＮＲ６ＣＯＯＲ８基；−（ＣＨ２）ｑ−ＮＲ６ＳＯ２Ｒ９基；−（ＣＨ２）ｑ−ＮＲ６ＣＯＮＲ１０Ｒ１１基；−ＣＨ２−ＮＲ１２Ｒ１３基；−ＣＨ２−ＣＨ２−ＮＲ１２Ｒ１３基；カルボキシル；（Ｃ１−Ｃ７）−アルコキシカルボニル；−ＣＯＮＲ１０Ｒ１１基；カルボキシメチル；（Ｃ１−Ｃ７）−アルコキシカルボニルメチル；−ＣＨ２−ＣＯＮＲ１０Ｒ１１基；又は２−アミノチアゾール−４−イルであってアミノが遊離であるか、又は１もしくは２の（Ｃ１−Ｃ７）−アルキルで置換されたものである；
− 又はＲ３は、これが結合している炭素原子と、ピペリジン環の隣の炭素原子との間で二重結合を形成する；
− ｑは０、１又は２である
化合物、及びこれらの鉱酸又は有機酸との塩が特に好ましい。
【００７３】
式（Ｉｂ）及び（Ｉｄ）の化合物のうち、
− Ａｂが、二価基−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−又は−Ｎ（Ｒ１）−ＣＨ２−ＣＨ２−である；
− Ａｒ２が、ピリジル；又は無置換フェニルもしくはハロゲン原子、ヒドロキシル、（Ｃ１−Ｃ４）−アルコキシ、（Ｃ１−Ｃ４）−アルキル及びトリフルオロメチルから選択される置換基（前記置換基は同じであるか、又は異なっている。）で一置換又は多置換されたフェニルである；及び
− Ｒ３が水素；（Ｃ１−Ｃ７）−アルキル；ホルミル；（Ｃ１−Ｃ７）−アルキルカルボニル；シアノ；−（ＣＨ２）ｑ−ＯＨ基；（Ｃ１−Ｃ７）−アルキル−Ｏ−（ＣＨ２）ｑ−基；ＨＣＯＯ−（ＣＨ２）ｑ−基；（Ｃ１−Ｃ７）−アルキル−ＣＯＯ−（ＣＨ２）ｑ−基；（Ｃ１−Ｃ７）−アルキル−ＮＨＣＯＯ−（ＣＨ２）ｑ−基；−ＮＲ４Ｒ５基；−（ＣＨ２）ｑ−ＮＲ６ＣＯＲ７基；−（ＣＨ２）ｑ−ＮＲ６ＣＯＯＲ８基；−（ＣＨ２）ｑ−ＮＲ６ＳＯ２Ｒ９基；−（ＣＨ２）ｑ−ＮＲ６ＣＯＮＲ１０Ｒ１１基；−ＣＨ２−ＮＲ１２Ｒ１３基；−ＣＨ２−ＣＨ２−ＮＲ１２Ｒ１３基；カルボキシル；（Ｃ１−Ｃ７）−アルコキシカルボニル；−ＣＯＮＲ１０Ｒ１１基；カルボキシメチル；（Ｃ１−Ｃ７）−アルコキシカルボニルメチル；−ＣＨ２−ＣＯＮＲ１０Ｒ１１基；又は２−アミノチアゾール−４−イルであってアミノが遊離であるか、又は１もしくは２の（Ｃ１−Ｃ７）−アルキルで置換されたものである；
− 又はＲ３は、これが結合している炭素原子と、ピペリジン環の隣の炭素原子との間で二重結合を形成する；
− ｑは０、１又は２である
化合物、及びこれらの鉱酸又は有機酸との塩が特に好ましい。
【００７４】
他の好まし化合物群は、下式の化合物、及びこれらの鉱酸又は有機酸との塩よりなる。
【００７５】
【化５４】
Figure 0003943369
但し、
−Ａｂ、Ａｍｃ、Ａｒ１ａ及びＺａは先に定義したとおりである。
【００７６】
他の好ましい化合物群は、下式の化合物、及びこれらの鉱酸又は有機酸との塩よりなる。
【００７７】
【化５５】
Figure 0003943369
但し、
− Ａａ、Ａｍｃ、Ａｒ１ａ及びＺａは先に定義したとおりである。
【００７８】
光学的に純粋な形態の、４−ベンゾイル−２−（３，４−ジフルオロフェニル）−２−［２−［４−（Ｎ’，Ｎ’−ジメチルウレイド）−４−フェニルピペリジン−１−イル］エチル］モルホリン、好ましくは（＋）異性体、及びその鉱酸又は有機酸との塩が極めて好ましい。
【００７９】
薬学的に許容しうるアニオンを有する、光学的に純粋な形態の、５−（３，４−ジフルオロフェニル）−５−［２−［４−フェニル−１−アザニアビシクロ［２．２．２］オクタン−１−イル］エチル］−３−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンジル］オキサゾリジン−２−イル、特に（＋）異性体が極めて好ましい。
【００８０】
式（Ｉ）の化合物及びこれらの塩を製造する方法は、
１）下式の化合物：
【化５６】
Figure 0003943369
（但し、ｍ、Ａｒ１及びＡは式（Ｉ）に対して先に定義したとおりであり、Ｅは水素又はＯ−保護基である。）を、
Ａ）Ｔが−ＣＯ−Ｂ−Ｚである式（Ｉ）の化合物を製造することを意図する場合には、下式の酸の機能性誘導体：
ＨＯＣＯ−Ｂ−Ｚ （III）
（但し、Ｂ及びＺは式（Ｉ）に対して先に定義したとおりである。）と処理し、又は、
Ｂ）Ｔが−ＣＨ２−Ｚである式（Ｉ）の化合物を製造することを意図する場合には、下式のハロゲン化誘導体：
Ｈａｌ−ＣＨ２−Ｚ （IV）
（但し、Ｚは先に定義したとおりであり、Ｈａｌはハロゲン、好ましくは臭素又は塩素である。）と処理し、又は、
Ｃ）Ｔが−ＣＨ（Ｃ６Ｈ５）２である式（Ｉ）の化合物を製造することを意図する場合には、下式のハロゲン化誘導体：
Ｈａｌ−ＣＨ（Ｃ６Ｈ５）２ （Ｖ）
と処理し、又は、
Ｄ）Ｔが−Ｃ（Ｃ６Ｈ５）３である式（Ｉ）の化合物を製造することを意図する場合には、下式のハロゲン化誘導体：
Ｈａｌ−Ｃ（Ｃ６Ｈ５）３ （VI）
と処理して下式の化合物：
【化５７】
Figure 0003943369
を得ること、
２）酸又は塩基と反応させることによってＯ−保護基を任意に除去し、下式のアルコール：
【化５８】
Figure 0003943369
を得ること、
３）アルコール（VIII）を下式の化合物：
Ｙ−ＳＯ２−Ｃｌ （IX）
（但し、Ｙはメチル、フェニル、トリル又はトリフルオロメチル基である。）で処理し、下式の化合物：
【化５９】
Figure 0003943369
を得ること、
４）式（Ｘ）の化合物を、
下式：
【化６０】
Figure 0003943369
｛但し、Ｊ’１は、下記の基：
【化６１】
Figure 0003943369
（但し、Ａｒ２は式（Ｉ）に対して定義したとおりであり、Ｒ’２は式（Ｉ）に対して定義したＲ２であるか、又はＲ２の前駆体である）、又は下記の基：
【化６２】
Figure 0003943369
（但し、Ａｒ２及びｎは式（Ｉ）に対して定義したとおりであり、Ｒ’３は式（Ｉ）に対して定義したＲ３であるか、又はＲ３の前駆体であり、Ｒ’３がヒドロキシル又はアミノである場合、これらの基は保護されうると解される。）、又は下記の基：
【化６３】
Figure 0003943369
（但し、Ｒ１４は（Ｉ）に対して定義したとおりであり、Ｒ’３は先に定義したとおりである。）である｝で示される環状二級アミンと反応させるか、又は、下式：
【化６４】
Figure 0003943369
（但し、Ｊ２及びＱは（Ｉ）に対して定義したとおりである。）で示される三級アミンと反応させるか、又は、
下式：
【化６５】
Figure 0003943369
（但し、Ａｒ２及びｎは（Ｉ）に対して定義したとおりである。）で示される環状三級アミンと反応させるか、又は
下式の化合物：
【化６６】
Figure 0003943369
（但し、Ａｒ２及びｎは（Ｉ）に対して先に定義したとおりである。）と反応させること、及び
５）− 式（XI）の環状二級アミンを使用する場合には、Ｒ’３で表されるヒドロキシル基又はアミノ基の脱保護、又は適切であれば、Ｒ’２のＲ２への、もしくはＲ’３のＲ３への任意の変換の後、得られた生成物をこれらの塩に任意に変換すること、
− 又は、式（XII）の三級アミン、式（XIII）の環状三級アミン又は式（XIV）の化合物を使用する場合には、スルホネート、及び適切であれば、スルホン酸塩の形態の得られた生成物を単離するか、又は得られたアニオン、及び適切であれば、他の薬学的に許容しうるアニオンとの酸の塩、及び適切であれば薬学的に許容しうる鉱酸又は有機酸との他の塩を任意に交換すること、
を具備する。
【００８１】
本方法の１つの変形では、ＡｍがＡｍ１基である場合、
１’）上記式（VIII）の化合物を酸化し、下式の化合物を得る。
【００８２】
【化６７】
Figure 0003943369
（但し、ｍ、Ａｒ１、Ａ及びＴは式（Ｉ）の化合物に対して定義したとおりである。）
２’）式（XXXVIII）の化合物を酸の存在下で、先に定義した式（XI）の化合物と反応させ、次に中間体として形成されたイミニウム塩を還元剤で還元する。及び
３’）ヒドロキシル基又はアミノ基の脱保護、又は適切な場合には、Ｒ’２のＲ２への、もしくはＲ’３のＲ３への任意の変換の後、得られた生成物をこれらの塩に任意に変換する。
【００８３】
エナンチオマーとして純粋な形態又はラセミの形態の下式の化合物は、新規であり、本発明の一部を形成する。
【００８４】
【化６８】
Figure 0003943369
エナンチオマーとして純粋な形態又はラセミの形態の下式の化合物は、新規であり、本発明の一部を形成する。
【００８５】
【化６９】
Figure 0003943369
Ｅが水素である式（II）及び（VII）の化合物が特に好ましい。
【００８６】
エナンチオマーとして純粋な形態又はラセミの形態の下式の化合物は、新規であり、本発明の一部を形成する。
【００８７】
【化７０】
Figure 0003943369
エナンチオマーとして純粋な形態又はラセミの形態の下式の化合物は、新規であり、本発明の一部を形成する。
【００８８】
【化７１】
Figure 0003943369
式（II）、（VII）、（Ｘ）及び（XXXVIII）において、ｍ及びＥ、Ａ、Ａｒ１、Ｔ及びＹは先に定義したとおりである。
【００８９】
その他の特徴に従えば、本発明は、エナンチオマーとして純粋な形態又はラセミの形態の下式の化合物を提供する。
【００９０】
【化７２】
Figure 0003943369
但し、
− ｍ、Ａｒ１及びＡは式（Ｉ）の化合物に対して定義したとおりである。
【００９１】
− ＲＩは２つの水素原子であり、ＲIIは、
− −Ｏ−Ｅ（但し、Ｅは水素原子又はＯ−保護基である。）、
− 又は−Ｏ−ＳＯ２−Ｙ（但し、Ｙはメチル、フェニル、トリル又はトリフルオロメチル基である。）
− 又は、このほかには、ＲＩは酸素原子であり、ＲIIは水素原子である。及び− Ｔ’は式（Ｉ）の化合物に対して定義したＴである。Ｔ’はまた、ＲＩが２つの水素であり、ＲIIが同時に−Ｏ−Ｅ−基である場合は水素であり得る。
【００９２】
従って、ＥがＯ−保護基である場合、これは、例えばテトラヒドロピラン−２−イル、ベンゾイル又は（Ｃ１−Ｃ４）−アルキルカルボニルのような当業者に周知の従来のＯ−保護基から選択される。
【００９３】
Ｒ３がヒドロキシルである式（Ｉ）の化合物を得るのに使用されうるＯ−保護基は、Ｅに対して先に定義した当業者に周知の従来のＯ−保護基である。
【００９４】
Ｒ３がアミノである式（Ｉ）の化合物を得るのに使用されうるＮ−保護基は、例えば、トリチル、メトキシトリチル、tert−ブトキシカルボニル又はベンジルオキシカルボニル基のような当業者に周知の従来のＮ−保護基である。
【００９５】
特に、使用されるＯ−保護基がアシル基である場合、得られる式（Ｉ）の化合物はＲ３がアセトキシである最終生成物を表す。或いは、使用されるＮ−保護基がtert−ブトキシカルボニル基である場合、得られる式（Ｉ）の化合物は、Ｒ３がtert−ブトキシカルボニルアミノである最終生成物を表す。
【００９６】
ステップ１）において、使用される（III）の機能性誘導体は、酸自身であるか、又はそのほかには、アミンと反応する機能性誘導体の１つ、例えば無水物、混合酸無水物、酸塩化物又はパラニトロフェニルエステルのような活性エステルである。
【００９７】
式（III）の酸自身を使用する場合、反応を、ペプチド化学で使用される、１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド又はベンゾトリアゾール−１−イルオキシトリス（ジメチルアミノ）ホスホニウムヘキサフルオロホスフェートのようなカップリング剤の存在下、トリエチルアミン又はＮ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミンのような塩基の存在下、ジクロロメタン又はＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドのような不活性溶媒中、０℃から室温の間の温度で行う。
【００９８】
酸塩化物を使用する場合、反応を、ジクロロメタン又はベンゼンのような不活性溶媒中、トリエチルアミン又はＮ−メチルモルホリンのような塩基の存在下、−６０℃から室温の間の温度で行う。
【００９９】
式（IV）、（Ｖ）又は（VI）のハロゲン化誘導体を使用する場合、反応を、テトラヒドロフラン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド又はジメチルスルホキシドのような不活性溶媒中、カリウムtert−ブチレート、水素化ナトリウム又はリチウムジイソプロピルアミドのような塩基の存在下、０℃から８０℃の間の温度で行う。
【０１００】
得られた式（VII）の化合物をステップ２）において、適切であれば当業者に公知の方法で脱保護する。例えば、Ｅがテトラヒドロピラン−２−イル基である場合、エーテルもしくはメタノール又はこれらの溶媒の混合物のような溶媒中、塩酸を用いて、又はメタノールのような溶媒中、ピリジニウムｐ−トルエンスルホネートを用いて、又はメタノールのような溶媒中、アンバーリスト（Amberlyst）（登録商標）樹脂を用いて酸加水分解によって脱保護を行う。反応は、室温から溶媒の還流温度の間の温度で行われる。Ｅがベンゾイル基又は（Ｃ１−Ｃ４）−アルキルカルボニル基である場合、脱保護を、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム又は水酸化リチウムのようなアルカリ金属水酸化物を用いるアルカリ媒体中において、水、メタノール、エタノール又はジオキサン又はこれらの溶媒の混合物中、０℃から溶媒の還流温度の間の温度で加水分解することにより行われる。
【０１０１】
ステップ３）において、式（VIII）のアルコールと式（IX）のスルホニルクロライドとの反応を、トリエチルアミン、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン又はＮ−メチルモルホリンのような塩基の存在下、ジクロロメタン、ベンゼン又はトルエンのような不活性溶媒中、−２０℃から溶媒の還流温度の温度で行う。
【０１０２】
得られた式（Ｘ）の化合物を、ステップ４）において異なった手順で式（XI）、（XII）、（XIII）又は（XIV）の化合物と反応させる。
【０１０３】
式（Ｘ）の化合物を式（XI）の化合物と反応させる場合、反応を、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、アセトニトリル、塩化メチレン、トルエン又はイソプロパノールのような不活性溶媒中、塩基の存在下、又は非存在下で行う。塩基を使用する場合、これは、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン及びＮ−メチルモルホリンのような有機塩基、又は炭酸カリウム、炭酸ナトリウム及び重炭酸ナトリウムのようなアルカリ金属炭酸塩又は重炭酸塩から選択される。塩基の非存在下では、反応を過剰の式（XI）の化合物を用い、ヨウ化カリウム又はヨウ化ナトリウムのようなアルカリ金属アイオダイドの存在下で行う。式（Ｘ）の化合物の−Ａ−が二価基、−Ｏ−ＣＯ−又は−ＣＨ２−Ｏ−ＣＯ−である場合、反応を室温から８０℃の間の温度で行う。式（Ｘ）の化合物の−Ａ−が二価基、−Ｏ−ＣＨ２−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−、−Ｎ（Ｒ１）−ＣＯ−ＣＯ−、−Ｎ（Ｒ１）−ＣＨ２−ＣＨ２−、−Ｎ（Ｒ１）−ＣＯ−又は−Ｏ−ＣＨ２−である場合、反応を室温から１００℃の間の温度で行う。
【０１０４】
式（Ｘ）の化合物を式（XII）又は（XIII）と反応させる場合、反応をアセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド又はＮ，Ｎ−ジメチルフェニルアセトアミドのような極性非プロトン性溶媒中、テトラヒドロフラン、ジオキサン又はメチルtert−ブチルエーテルのようなエーテル中、又はメチルエチルケトンのようなケトン中で行う。式（Ｘ）の化合物の−Ａ−が二価基、−Ｏ−ＣＯ−又は−ＣＨ２−Ｏ−ＣＯ−である場合、反応を室温から６０℃の間の温度で行う。式（Ｘ）の化合物の−Ａ−が二価基、−Ｏ−ＣＨ２−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−、−Ｎ（Ｒ１）−ＣＯ−ＣＯ−、−Ｎ（Ｒ１）−ＣＨ２−ＣＨ２−、−Ｎ（Ｒ１）−ＣＯ−又は−Ｏ−ＣＨ２−である場合、反応を室温から１００℃の間の温度で行う。
【０１０５】
式（Ｘ）の化合物を式（XIV）と反応させる場合、反応をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド又はＮ，Ｎ−ジメチルフェニルアセトアミドのような極性非プロトン性溶媒中、テトラヒドロフラン、ジオキサン又はメチル tert−ブチルエーテルのようなエーテル中、又はメチルエチルケトンのようなケトン中で行う。反応を室温から１００℃の間の温度で行う。
【０１０６】
本方法の変形のステップ１’）において、式（VIII）のアルコールを式（XXXVIII）のアルデヒドに酸化する。酸化反応を、例えば塩化オキサリル、ジメチルスルホキシド及びトリエチルアミンを用い、ジクロロメタンのような溶媒中、−７８℃から室温の間の温度で行う。
【０１０７】
次に、ステップ２’）において、式（XI）の化合物を、酢酸のような酸の存在下、メタノールのようなアルコール性溶媒中で式（XXXVIII）のアルデヒドと反応させ、中間体のイミンを現場（in situ）で形成する。これを、例えばナトリウムシアノボロハイドライドを用いて化学的に、又は水素と、パラジウム−炭又はラネー（登録商標）ニッケルのような触媒を用いて触媒的に還元する。
【０１０８】
本発明に従った式（Ｉ）の化合物は、最終的には、ヒドロキシル基又はアミノ基を脱保護した後、又は適切であればＲ’２をＲ２に、及びＲ’３をＲ３に任意に変換した後に得ることができる。
【０１０９】
得られた式（Ｉ）の生成物を、
− ＡｍがＡｍ１である場合は、従来の技術で遊離の塩基又は塩の形態で単離するか、
− 又はＡｍがＡｍ２、Ａｍ３又はＡｍ４である場合には、スルホネートアニオンの形態（ＹＳＯ３ −）で単離するか、又はこのほかには、得られた四級塩のスルホネートアニオンを他の薬学的に許容しうるアニオンに任意に交換する。
【０１１０】
ＡｍがＡｍ１である式（Ｉ）の化合物を遊離の塩基の形態で得る場合、有機溶媒中で選択された酸と処理することによって塩化を行う。例えば、ジエチルエーテルのようなエーテル、プロパン−２−オールのようなアルコール、アセトン、又はジクロロメタンに溶解された遊離の塩基を同じ溶媒中の選択された酸の溶液で処理し、対応する塩を得る。これを従来の方法で単離する。
【０１１１】
例えば、塩酸塩、臭素酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、リン酸二水素塩、メタンスルホン酸塩、蓚酸塩、マレイン酸塩、フマル酸塩、ナフタレン−２−スルホン酸塩及びベンゼンスルホン酸塩をこの方法で製造する。
【０１１２】
反応が完結したとき、ＡｍがＡｍ１である式（Ｉ）の化合物を、これらの塩の形態、例えば塩酸塩又は蓚酸塩で単離する。この場合、必要であれば、遊離の塩基は、前記塩基を水酸化ナトリウム又はトリエチルアミンのようなミネラルベース（mineral base）又は有機塩基で、又はナトリウムもしくはカリウム炭酸塩もしくは重炭酸塩のようなアルカリ金属炭酸塩もしくは重炭酸塩で中和することによって製造されうる。
【０１１３】
式（XII）、（XIII）又は（XIV）の化合物と、式（Ｘ）の化合物との反応から最初に製造されるスルホネートアニオンＹＳＯ３ −は、現場で、又はＡｍがＡｍ２、Ａｍ３又はＡｍ４である式（Ｉ）の化合物（但し、Ｘ−はイオンＹＳＯ３ −である。）の単離の後、従来の方法、例えば、Ｘ−が塩化物イオンである場合、飽和塩化ナトリウム溶液、又は塩酸溶液を用いて溶液中で交換することによって、又はイオン交換樹脂、例えばアンバーライトＩＲＡ６８（登録商標）又はデュオライトＡ３７５（登録商標）を通して化合物（Ｉ）を溶出してアニオンを交換することによって他のアニオンＸ−で交換される。
【０１１４】
反応が完結したとき、ＡｍがＡｍ２である式（Ｉ）の化合物がアキシャル及びエカトリアル異性体の混合物の形態で得られる。この異性体は、通常の方法、例えばクロマトグラフィー又は再結晶によって分離されうる。
【０１１５】
式（II）の化合物は異なった手順で製造される。
【０１１６】
−Ａ−が二価基、−ＣＨ２−Ｏ−ＣＯ−であり、Ｅが水素又はＯ−保護基である式（II）の化合物は以下のスキーム１に従って製造される。ここで、ｍ及びＡｒ１は式（Ｉ）の化合物に対して定義したとおりであり、ＰｒはＥに対して先に定義したＯ−保護基である。
【０１１７】
スキーム１
【化７３】
Figure 0003943369
スキーム１のステップａ１において、式（XV）の化合物を、特許出願ＥＰ−Ａ−０４２８４３４及びＥＰ−Ａ−０４７４５６１に開示され方法によって式（XVI）の化合物と反応させる。
【０１１８】
得られた化合物（XVII）を、ステップｂ１において、１，８−アザビシクロ［５．４．０］−ウンデカ−７−エンのような塩基の存在下、１，２−ジメトキシエタンのような溶媒中、室温から溶媒の還流温度の間の温度でホルムアルデヒド水溶液と反応させる。
【０１１９】
ステップｃ１において、式（XVIII）のニトリル誘導体を還元し、式（XIX）の一級アミンを得る。この還元は、アルコール、例えばエタノールのような不活性溶媒をそれ自身で、又はアンモニア水溶液と混合して、ラネー（登録商標）ニッケル、酸化白金又はパラジウム−炭のような触媒の存在下において水素によって行われるか、又はトルエン、ヘキサン、石油エーテル、キシレン又はテトラヒドロフランのような溶媒中、水素化リチウムアルミニウム、水素化ジイソプロピルアルミニウム、ボランのＴＨＦ溶液のような還元剤によって行われる。この反応は０℃から７０℃の間の温度で行われる。
【０１２０】
ステップｄ１において、化合物（XIX）を、トルエン中においてホスゲンのような炭酸の反応性誘導体と、又はトリエチルアミン、Ｎ，Ｎ，−ジイソプロピルエチルアミン又はＮ−メチルモルホリンのような塩基の存在下、ジクロロメタン又は１，２−ジクロロエタンのような塩素化溶媒、又はテトラヒドロフランのようなエーテル溶媒中、１，１’−カルボニルジイミダゾールと、−７０℃から室温の間の温度で反応させ、ＥがＯ−保護基である意図した式（II）のの化合物を得る。
【０１２１】
上記の方法を用いて、Ｏ−保護基を加水分解（ステップｅ１）で除去し、Ｅが水素である式（II）の化合物を得る。
【０１２２】
−Ａ−が二価基、−Ｏ−ＣＨ２−ＣＯ−であり、Ｅが水素又はＯ−保護基である式（II）の化合物を、以下のスキーム２に従って製造する。但し、ｍ及びＡｒ１は式（Ｉ）に対して定義したとおりである。Ｐｒ１及びＰｒ２はＥに対して先に定義したＯ−保護基Ｐｒである。より特別には、Ｐｒ１は酸媒体中で加水分解しうるＯ−保護基であり、Ｐｒ２は塩基性媒体中で加水分解しうるＯ−保護基である。
【０１２３】
スキーム２
【化７４】
Figure 0003943369
スキーム２（続き）
【化７５】
Figure 0003943369
スキーム２のステップａ２において、式（XX）のアルデヒドからの式（XXI）のシアノヒドリンの合成は、例えば、Organic Syntheses; Wiley, New York, 1932; Collect. vol. 1, p.336に開示された方法、又は水溶液中でメタ重亜硫酸ナトリウム及びシアン化カリウムを作用させるこの方法を修飾することによって当業者に周知の方法で行われる。
【０１２４】
ステップｂ２において、式（XXI）の化合物のヒドロキシル基を、当業者に周知の方法で保護する。
【０１２５】
得られた式（XXII）の化合物を、ステップｃ２において、リチウムジイソプロピルアミド、カリウム tert−ブチレート又は水酸化ナトリウムのような強塩基で処理し、カルバニオンを得、これを式Ｈａｌ−（ＣＨ２）ｍ−Ｏ−Ｐｒ２（但しＨａｌはハロゲン、好ましくは臭素又は塩素である。）の化合物と反応させ、式（XXIII）の化合物を得る。反応は、エーテル（たとえばテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル又は１，２−ジメトキシエタン）、アミド（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）又は芳香族炭化水素（例えばトルエン又はキシレン）のような不活性溶媒中、−７０℃から＋６０℃の間の温度で行われる。
【０１２６】
式（XXIII）のニトリル誘導体を、上記方法によってステップｄ２で還元し、式（XXIV）の一級アミンを得る。
【０１２７】
ステップｅ２では、式（XXIV）の化合物を、三級アミン（例えば、トリエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン又はピリジン）のような塩基の存在下で式Ｈａｌ−ＣＯ−ＣＨ２−Ｈａｌ（但し、Ｈａｌはハロゲン、特に塩素又は臭素である。）の化合物と反応させ、式（XXV）の化合物を得る。反応は、塩素化溶媒（例えば、ジクロロメタン、ジクロロエタン又はクロロホルム）、エーテル（例えば、テトラヒドロフラン又はジオキサン）又はアミド（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）のような不活性溶媒中、−７０℃から室温の間の温度で行われる。
【０１２８】
ステップｆ２では、Ｏ−保護基Ｐｒ１を、上記の方法を用いて、酸加水分解によって式（XXV）の化合物から除去する。
【０１２９】
このほかには、Ｏ−保護基Ｐｒ１を、ステップｊ２で、酸加水分解によって式（XXIV）の化合物から除去し、この後、得られた化合物（XXVII）を、ステップｅ２で先に説明した方法により式Ｈａｌ−ＣＯ−ＣＨ２−Ｈａｌの化合物とステップｋ２で反応させる。
【０１３０】
得られた式（XXVI）の化合物を塩基の存在下で環化し、意図した式（II）の化合物を得る。Ｅが保護基Ｐｒ２である式（II）の化合物を得ることを望む場合は、アルカリ金属炭酸塩（例えば、炭酸カリウム）、アルカリ金属水素化物（例えば水素化ナトリウム）又はカリウムtert−ブチレートのような塩基を、芳香族炭化水素（例えばキシレン又はトルエン）、アミド（例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）又はエーテル（例えばテトラヒドロフラン）のような不活性溶媒中、−３０℃から溶媒の還流温度の間の温度で使用する（ステップｇ２）。Ｅが水素である式（II）の化合物を得ることを望む場合は、アルカリ金属水酸化物（例えば水酸化ナトリウム又は水酸化カリウム）の濃水溶液のような塩基を、アルコール（例えばプロパン−２−オール）又はアミド（例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）又はこれらの溶媒の混合物のような溶媒中、室温から溶媒の還流温度の間の温度で使用する（ステップｈ２）。
【０１３１】
−Ａ−が二価基、−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−であり、Ｅが水素又はＯ−保護基である式（II）の化合物は、以下のスキーム３に従って製造される。但し、ｍ及びＡｒ１は、式（Ｉ）の化合物に対して定義したとおりであり、Ｐｒ１及びＰｒ２は上記スキーム２で定義したとおりである。
【０１３２】
スキーム３
【化７６】
Figure 0003943369
スキーム３のステップａ３で、−Ａ−が二価基、−Ｏ−ＣＨ２−ＣＯ−であり、Ｅが水素又はＯ−保護基である、スキーム２に従って得られた式（II）の化合物を還元する。還元は、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン又はトルエンのような不活性溶媒中、室温から溶媒の還流温度の間の温度で、水素化アルミニウムリチウム、水素化ジイソブチルアルミニウム、水素化ホウ素ナトリウム又はＴＨＦ中のボランのような還元剤によって行われる。
【０１３３】
−Ａ−が二価基、−Ｏ−ＣＯ−であり、Ｅが水素又はＯ−保護基である式（Ｉ）の化合物を、以下のスキーム４に従って製造する。但し、ｍ及びＡｒ１は、式（Ｉ）に対して定義したとおりであり、Ｐｒ１及びＰｒ２は上記スキーム２で定義したとおりである。
【０１３４】
スキーム４
【化７７】
Figure 0003943369
スキーム４のステップａ４において、スキーム２のステップｄ２得られた式（XXIV）の化合物の保護基Ｐｒ１を上記の方法を用いて酸加水分解する。得られた式（XXVII）の化合物を、ステップｂ４で、１，１’−カルボニルジイミダゾール、トルエン中のホスゲン、又はクロロ蟻酸ｐ−ニトロフェニルのような炭酸の活性誘導体と、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン又はＮ−メチルモルホリンのような塩基の存在下で反応させ、ＥがＯ−保護基である所望の式（II）の化合物を得る。反応は、塩素化溶媒（例えば、１，２−ジクロロエタン又はジクロロメタン）、テトラヒドロフランのようなエーテル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドのようなアミド、又はトルエンのような芳香族溶媒のような不活性溶媒中、−６０℃から室温の間の温度で行われる。
【０１３５】
上記の方法を用いて、Ｏ−保護基Ｐｒ２を塩基加水分解で除去し（ステップｃ４）、Ｅが水素である式（II）の化合物を得る。
【０１３６】
−Ａ−が二価基、−Ｎ（Ｒ１）−ＣＯ−ＣＯ−であり、Ｅが水素又はＯ−保護基である式（II）の化合物は、以下のスキーム５に従って製造される。但し、ｍ、Ａｍ１及びＲ１は式（Ｉ）に対して先に定義したとおりであり、Ｐｒ１は先に定義したとおりである。
【０１３７】
スキーム５
【化７８】
Figure 0003943369
スキーム５（続き）
【化７９】
Figure 0003943369
スキーム５のステップａ５で、式（XXVIII）のα−アミノニトリル化合物を、Tetrahedron Letters, 1984, 25(41), 4583-4586に開示された方法によって、式Ｈ２Ｎ−Ｒ１のアミンを用いて式（XX）のアルデヒドから製造される。
【０１３８】
式（XXVIII）の化合物のアミノ基は、例えば当業者に公知の方法を用いて、tert−ブトキシカルボニル（Ｂｏｃ）又はベンジルオキシカルボニルのようなＮ−保護基によって、ステップｂ５で保護される。tert−ブトキシカルボニル基を上記スキーム５で例示した。
【０１３９】
得られた式（XXIX）の化合物をステップｃ５において強塩基で処理し、カルバニオンを形成する。これを式Ｈａｌ−（ＣＨ２）ｍ−Ｏ−Ｐｒ１の化合物と反応させ、式（XXX）の化合物を得る。反応は、スキーム２のステップｃ２で説明した方法によって行う。
【０１４０】
式（XXX）のニトリル誘導体を、上記の方法でステップｄ５において還元し、式（XXXI）の一級アミンを得る。
【０１４１】
ステップｅ５において、Ｏ−保護基及びＮ−保護基を、例えばアルコール（例えばメタノール）、エーテル（例えばジエチルエーテル、ジオキサン又はテトラヒドロフラン）又は塩素化溶媒（例えばジクロロメタン）のような溶媒中、０℃から溶媒の還流温度の間の温度で、塩酸又はトリフルオロ酢酸で酸加水分解することによって式（XXXI）の化合物から除去する。
【０１４２】
ステップｆ５において、所望の式（II）の化合物を、R. Granger, H. Orzalesi及びY. Robbinによって、Trav. Soc. Pharm. Montpellier, 1965, 25, Fasc. 4, 313-317に開示された方法を適用して、又は変形し、エタノールのようなアルコール性溶媒、又はトルエンのような芳香族溶媒、又はこれらの溶媒の混合物中、室温から反応溶媒の還流温度の間の温度で、式（XXXII）の化合物をシュウ酸ジエチルと反応させることによって製造する。
【０１４３】
適切な場合には、ＥがＯ−保護基Ｐｒ１である式（II）の化合物を、当業者に公知の方法でステップｇ５において製造する。
【０１４４】
−Ａ−が二価基、−Ｎ（Ｒ１）−ＣＨ２−ＣＨ２−であり、Ｅが水素又はＯ−保護基である式（II）の化合物を、以下のスキーム６に従って製造する。但し、ｍ、Ｒ１及びＡｒ１は式（Ｉ）の化合物に対して定義したとおりであり、Ｐｒ１はＥに対して先に定義したＯ−保護基である。
【０１４５】
スキーム６
【化８０】
Figure 0003943369
スキーム６のステップａ６において、スキーム５のステップｇ５で得た、−Ａ−が二価基、−Ｎ（Ｒ１）−ＣＯ−ＣＯ−であり、ＥがＯ−保護基である式（II）の化合物を還元する。還元は、エーテル（例えば、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン又はジエチルエーテル）のようなエーテル、トルエンのような芳香族溶媒のような不活性溶媒中、室温から溶媒の還流温度の間の温度で、水素化リチウムアルミニウムのような還元剤によって行われる。
【０１４６】
適切であれば、Ｏ−保護基は上記の方法を用いて酸加水分解によってステップｂ６で除去され、Ｅが水素である式（II）の化合物を得る。
【０１４７】
−Ａ−が二価基、−Ｎ（Ｒ１）−ＣＯ−であり、Ｅが水素又はＯ−保護基である式（II）の化合物を以下のスキーム７に従って製造する。但し、ｍ、Ｒ１及びＡｒ１は式（Ｉ）の化合物に対して定義したとおりであり、Ｐｒ１は上記スキーム２で定義したとおりである。
【０１４８】
スキーム７
【化８１】
Figure 0003943369
ステップａ７で、スキーム５のステップｅで得た式（XXXII）の化合物のヒドロキシルを当業者に公知の方法で保護する。
【０１４９】
ステップｂ７で、得られた式（XXXIII）の化合物を、１，１’−カルボニルジイミダゾール、トルエン中のホスゲン、又はクロロ蟻酸ｐ−ニトロフェニルのような炭酸の反応性誘導体と、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン又はＮ−メチルモルホリンのような塩基の存在下で反応させ、ＥがＯ−保護基である所望の式（II）の化合物を得る。反応は、塩素化溶媒（例えば、１，２−ジクロロエタン又はジクロロメタン）、エーテル（例えば、テトラヒドロフラン）、アミド（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、又は芳香族溶媒（例えばトルエン）のような不活性溶媒中、−６０℃から６０℃の間の温度で行われる。
【０１５０】
適切であれば、Ｅが水素の化合物である式（II）の化合物を、ステップｃ７において、当業者に公知の方法で製造する。
【０１５１】
−Ａ−が二価基、−Ｏ−ＣＨ２−であり、Ｅが水素又はＯ−保護基である式（II）の化合物は、下記のスキーム８に従って製造される。但し、ｍ及びＡｒ１は式（Ｉ）の化合物に対して定義したとおりであり、Ｐｒ２は上記スキーム２で定義したとおりである。
【０１５２】
スキーム８
【化８２】
Figure 0003943369
スキーム８のステップａ８で、式（XXVII）の化合物を、テトラヒドロフランのような不活性溶媒中、室温から溶媒の還流温度の間の温度でホルムアルデヒド水溶液と反応させ、ＥがＯ−保護基である所望の式（II）の化合物を得る。
【０１５３】
上記方法を用いて、Ｏ−保護基Ｐｒ２を塩基性加水分解（ステップｂ８）で除去し、Ｅが水素である式（II）の化合物を得る。
【０１５４】
式（XVIII）、（XIX）、（XXIII）、（XXIV）、（XXVII）、（XXXI）、（XXX）、（XXXII）及び（XXXIII）の化合物、及び以下で定義する式（XXXIV）の化合物は新規な生成物であり、式（Ｉ）の化合物を製造するための鍵中間体を構成する。
【０１５５】
このように、Ｌがアミノメチル基である場合、エナンチオマーとして純粋な形態又はラセミの形態での下式の化合物は新規であり、本発明の一部を形成する。
【０１５６】
【化８３】
Figure 0003943369
但し、
− ｍ及びＡｒ１は式（Ｉ）の化合物に対して定義したとおりである。
【０１５７】
− Ｅは式（II）の化合物に対して定義したとおりである。
【０１５８】
− Ｌはシアノ基又はアミノメチル基である。
【０１５９】
Ｌがアミノメチル基である場合、エナンチオマーとして純粋な形態又はラセミの形態での下式の化合物は新規であり、本発明の一部を形成する。
【０１６０】
【化８４】
Figure 0003943369
但し、
− ｍ、Ａｒ１、Ｅ及びＬは先に定義したとおりである。
【０１６１】
− Ｇ水素又はＯ−保護基である。
【０１６２】
Ｌがアミノメチル基である場合、エナンチオマーとして純粋な形態又はラセミの形態での下式の化合物は新規であり、本発明の一部を形成する。
【０１６３】
【化８５】
Figure 0003943369
但し、
− ｍ、Ａｒ１、Ｅ及びＬは先に定義したとおりである。
【０１６４】
− Ｒ１は式（Ｉ）の化合物に対して定義したとおりである。
【０１６５】
− Ｍは水素又はＮ−保護基である。
【０１６６】
式（XXXV）、（XXXVI）及び（XXXVIII）の化合物は、上記の方法で得られる。特に、脱保護された化合物（Ｅ＝Ｇ＝Ｍ＝Ｈ）は、当業者に公知の方法によってＯ−保護基又はＮ−保護基を除去した後に得られる。
【０１６７】
従って、その他の特徴に従えば、本発明は、Ｌがアミノメチル基である場合、エナンチオマーとして純粋な形態又はラセミの形態での下式の化合物に関する。
【０１６８】
【化８６】
Figure 0003943369
但し、
− ｍ及びＡｒ１は式（Ｉ）に対して定義したとおりである。
【０１６９】
− Ｅは水素又はＯ−保護基である。
【０１７０】
− Ｌはシアノ基又はアミノメチル基である。
【０１７１】
− Ｄは下記から選択される基である。
【０１７２】
【化８７】
Figure 0003943369
− Ｇは水素又はＯ−保護基である。
【０１７３】
− Ｍは水素又はＮ−保護基である。
【０１７４】
− Ｒ１は式（Ｉ）の化合物に対して定義したとおりである。
【０１７５】
式（XI）のピペリジンは、公知であるか、又はＥＰ−Ａ−０４２８４３４、ＥＰ−Ａ−０４７４５６１、ＥＰ−Ａ−０５１２９０１及びＥＰ−Ａ−０５１５２４０に開示されたような公知の方法で製造される。
【０１７６】
式（XI）のピペリジンは、以下の刊行物に開示された方法のような、当業者に周知の方法によっても製造されうる。
【０１７７】
J. Heterocyclic Chem., 1986, 23, 73-75
J. Chem. Soc., 1950, 1469
J. Chem. Soc., 1945, 917
J. Pharmaceutical Sci., 1972, 61, 1316-1317
J. Org. Chem., 1957, 22, 1484-1489
Chem. Ber., 1975, 108, 3475-3482
式（XI）の化合物は一般に、ピペリジン窒素上を保護した形態で製造される。式（XI）の実際の化合物は脱保護ステップの後得られる。
【０１７８】
より特別には、例えば、Ｊ’１が下記の基：
【化８８】
Figure 0003943369
（Ａｒ２はピリド−２−イル基であり、ｎはゼロであり、Ｒ’３はヒドロキシルである。）である式（XI）の化合物を製造するには、２−ブロモピリジンを、１−ベンジルピペリド−４−オンと、ブチルリチウムのような塩基の存在下で反応させる。予想した４−ヒドロキシ−４−（ピリド−２−イル）ピペリジンを、Ｎ−保護基を除去した後に得る。
【０１７９】
Ｒ’３が−ＮＲ４Ｒ５基（但し、Ｒ４及びＲ５は各々水素である。）である式（XI）の化合物を製造するには、Ｒ’３がアセトアミド基である式（XI）の化合物を酸媒体中で加水分解する。
【０１８０】
Ｒ’３が−ＮＲ４Ｒ５基（但し、Ｒ４及びＲ５はこれらが結合している窒素原子と一緒になってヘテロ環を形成する。）である式（XI）の化合物は、Bruylants'反応を適用して、又は該反応を変形して製造される（Bull. Soc. Chim. Belges, 1924, 33, 467及びTetrahedron Letters, 1988, 29 (52), 6827-6830）。
【０１８１】
Ｒ’３が−ＣＨ２−ＮＲ１２Ｒ１３基（但し、Ｒ４及びＲ５は各々水素である。）である式（XI）の化合物を製造するには、Ｒ’３がシアノである式（XI）の化合物を還元する。この還元は当業者に周知の方法によって行われる。
【０１８２】
Ｒ’３が−ＣＨ２−ＣＨ２−ＮＲ１２Ｒ１３基（但し、Ｒ４及びＲ５は各々水素である。）である式（XI）の化合物は、J. Med. Chem., 1989, 32, 391-396に開示された方法を適用して、又は該方法を変更して、Ｒ’３が−ＣＨ２−ＣＨ２−ＯＨ基である式（XI）の化合物から製造される。
【０１８３】
Ｒ’３が−ＮＲ４Ｒ５基（但し、Ｒ４は水素であり、Ｒ５は（Ｃ１−Ｃ７）−アルキル又は、それぞれ、（Ｃ３−Ｃ７）−シクロアルキルメチル又はベンジルである。）である式（XI）の化合物は、Ｒ’３が−（ＣＨ２）ｑ−ＮＲ６ＣＯＲ７基（但し、ｑはゼロであり、Ｒ６が水素であり、Ｒ７が水素又は（Ｃ１−Ｃ６）−アルキル又は、それぞれ、（Ｃ３−Ｃ７）−シクロアルキル又はフェニルである。）である式（XI）の化合物を還元することによって製造されうる。反応は、テトラヒドロフランのような溶媒中、溶媒の還流温度で、水素化アルミニウムリチウムのような還元剤によって行われる。
【０１８４】
同様な反応によって、Ｒ’３が−ＮＲ４Ｒ５基（但し、Ｒ４は（Ｃ１−Ｃ７）−アルキルであり、Ｒ５は（Ｃ１−Ｃ７）−アルキル又は、それぞれ、（Ｃ３−Ｃ７）−シクロアルキルメチル又はベンジルである。）である式（XI）の化合物は、Ｒ’３が−（ＣＨ２）ｑ−ＮＲ６ＣＯＲ７基（但し、ｑはゼロであり、Ｒ６が（Ｃ１−Ｃ７）−アルキルであり、Ｒ７が水素又は（Ｃ１−Ｃ６）−アルキル又は、それぞれ、（Ｃ３−Ｃ７）−シクロアルキル又はフェニルである。）である式（XI）の化合物から製造されうる。
【０１８５】
同様に、Ｒ’３が−ＣＨ２−ＮＲ１２Ｒ１３基又は、それぞれ、−ＣＨ２−ＣＨ２−ＮＲ１２Ｒ１３基（但し、Ｒ１２は水素又は（Ｃ１−Ｃ７）−アルキルであり、Ｒ１３は（Ｃ１−Ｃ７）−アルキル、（Ｃ３−Ｃ７）−シクロアルキルメチル又はベンジルである。）である式（XI）の化合物は、Ｒ’３が−（ＣＨ２）ｑ−ＮＲ６ＣＯＲ７基（但し、ｑはそれぞれ１又は２であり、Ｒ６が水素又は（Ｃ１−Ｃ７）−アルキルであり、Ｒ７が水素又は（Ｃ１−Ｃ６）−アルキル、（Ｃ３−Ｃ７）−シクロアルキル又はフェニルである。）である式（XI）の化合物から製造されうる。
【０１８６】
Ｒ’３が−（ＣＨ２）ｑ−ＮＲ６ＣＯＲ７基（但し、Ｒ６及びＲ７は一緒になって、−（ＣＨ２）３−又は−（ＣＨ２）４−基である式（XI）の化合物は、J. Med. Chem., 1985, 28, 46-50に開示された方法を適用して、又は該方法を変更して製造される。
【０１８７】
Ｒ’３が−（ＣＨ２）ｑ−ＮＲ６Ｃ（＝Ｗ１）Ｒ７基（但し、Ｗ１は酸素原子であり、ｑは０、１又は２であり、Ｒ６は水素又は（Ｃ１−Ｃ７）−アルキルであり、Ｒ７は水素又は、それぞれ、（Ｃ１−Ｃ７）−アルキル、フェニル、ベンジル、ピリジル、任意に置換された（Ｃ３−Ｃ７）−シクロアルキル、フリル、チエニル、ピロリル又はイミダゾリルである。）である式（XI）の化合物は、無水酢酸中で蟻酸を、又は、それぞれ、適切な無水物（Ｒ７ＣＯ）２Ｏ又は適切な酸塩化物（Ｒ７ＣＯＣｌ）を、トリエチルアミンのような塩基の存在下で、Ｒ’３が−ＮＲＨ６、−ＣＨ２−ＮＨＲ６又は−ＣＨ２−ＣＨ２−ＮＨＲ６でるあ式（XI）の化合物と反応させることによって得られる。
【０１８８】
同様に、Ｒ’３が−（ＣＨ２）ｑ−ＮＲ６Ｃ（＝Ｗ１）Ｒ７基（但し、ｑ、Ｒ６、及びＷ１は先に定義したとおりであり、Ｒ７はビニル基である。）である式（XI）の化合物が、アクリロイルクロライドとの反応で製造されうることは、当業者には明かである。
【０１８９】
同様に、Ｒ’３が−（ＣＨ２）ｑ−ＮＲ６ＣＯＯＲ８基である式（XI）の化合物は、Ｒ’３が−ＮＨＲ６、−ＣＨ２−ＮＨＲ６又は−ＣＨ２−ＣＨ２−ＮＨＲ６基である式（XI）の化合物を、トリエチルアミンのような塩基の存在下、式ＣｌＣＯＯＲ８のクロロ蟻酸エステルと反応させることによって製造される。
【０１９０】
Ｒ’３が−（ＣＨ２）ｑ−ＮＲ６ＳＯ２Ｒ９基である式（XI）の化合物は、Ｒ’３が−ＮＨＲ６、−ＣＨ２−ＮＨＲ６又は−ＣＨ２−ＣＨ２−ＮＨＲ６基である式（XI）の化合物を、トリエチルアミンのような塩基の存在下、式ＣｌＳＯ２Ｒ９のスルホニルクロライドと反応させることによって製造される。
【０１９１】
Ｒ’３が−（ＣＨ２）ｑ−ＮＲ６Ｃ（＝Ｗ１）ＮＲ１０Ｒ１１基（但し、Ｒ１０は水素であり、Ｗ１は酸素原子である。）である式（XI）の化合物は、Ｒ’３が−ＮＨＲ６、−ＣＨ２−ＮＨＲ６又は−ＣＨ２−ＣＨ２−ＮＨＲ６基である式（XI）の化合物を、トリエチルアミンのような塩基の存在下、式Ｒ１１Ｎ＝Ｃ＝Ｏのイソシアネートと反応させることによって製造される。
【０１９２】
Ｒ’３が−（ＣＨ２）ｑ−ＮＲ６Ｃ（＝Ｗ１）ＮＲ１０Ｒ１１基（但し、Ｒ１０は（Ｃ１−Ｃ７）−アルキルであり、Ｗ１は酸素原子である。）である式（XI）の化合物は、Ｒ’３が−ＮＨＲ６、−ＣＨ２−ＮＨＲ６又は−ＣＨ２−ＣＨ２−ＮＨＲ６基である式（XI）の化合物を、トリエチルアミンのような塩基の存在下、式ＣｌＣＯＮＲ１０Ｒ１１のカルバモイルクロライドと反応させることによって製造される。
【０１９３】
Ｒ’３が−（ＣＨ２）ｑ−ＮＲ６ＣＯＮＲ１０Ｒ１１基である式（XI）の化合物は、化合物ＨＮＲ１０Ｒ１１を、Ｒ’３が−（ＣＨ２）ｑ−ＮＲ６ＣＯＯＲ８基（但し、Ｒ８はフェニルである。）である式（XI）の化合物と反応させることによっても製造されうる。
【０１９４】
Ｒ’３が−（ＣＨ２）ｑ−ＮＲ６ＣＯＯＲ８基（ｑ＝０であり、Ｒ６が水素である。）式(XI）の化合物は、Ｒ８ＯＨをＲ’３がイソシアナト基、−Ｎ＝Ｃ＝Ｏである式（XI）の化合物と反応させることによっても製造することができる。
【０１９５】
Ｒ’３が−（ＣＨ２）ｑ−ＮＲ６ＣＯＮＲ１０Ｒ１１基（但し、ｑ＝０であり、Ｒ６は水素である。）である式（XI）の化合物は、化合物ＨＮＲ１０Ｒ１１を、Ｒ’３がイソシアナト基である式（XI）の化合物と反応させることによっても製造されうる。
【０１９６】
Ｒ’３がイソシアナト基である式（XI）の化合物は、Organic Synthesis, 51, 48-52に開示された方法によってＲ’３がカルボキシルである式（XI）の化合物から製造される。
【０１９７】
Ｒ’３が−（ＣＨ２）ｑ−ＮＲ６Ｃ（＝Ｗ１）ＮＲ１０Ｒ１１基（但し、Ｗ１は硫黄原子である。）である式（XI）の化合物は、ピペリジン窒素が保護され、Ｗ１が酸素原子である対応する式（XI）の化合物から、五硫化リン又はLawesson's試薬、２，４−ビス（４−メトキシフェニル）−１，３−ジチア−２，４−ジホスフェタン−２，４−ジスルフィドと反応させ、次いでピペリジン窒素を脱保護することによって得られる。
【０１９８】
Ｒ’３が−（ＣＨ２）ｑ−ＮＲ６Ｃ（＝Ｗ１）ＮＲ１０Ｒ１１基（但し、Ｗ１は硫黄原子である。）である式（XI）の化合物は、ピペリジン窒素が保護され、Ｒ’３が−（ＣＨ２）ｑ−ＮＲ６ＣＯＮＲ１０Ｒ１１基である式（XI）の化合物を、五硫化リン又はLawesson's試薬と反応させることによって得られる。
【０１９９】
Ｒ’３が−（ＣＨ２）ｑ−ＯＨ基であり、ｑがそれぞれ１又は２である式（XI）の化合物は、Ｒ’３がそれぞれメトキシカルボニル又はメトキシカルボニルメチルである式（XI）の化合物を、Chem. Ber., 1975, 108, 3475-3482に開示された方法で反応させることによって製造される。
【０２００】
Ｒ’３が−（ＣＨ２）ｑ−ＯＣＯＲ１７基である式（XI）の化合物は、酸塩化物を、Ｒ’３が−（ＣＨ２）ｑ−ＯＨ基である式（XI）の化合物と、トリエチルアミンのような塩基の存在下で反応させることによって得られる。Ｒ’３がＨＣＯＯ−（ＣＨ２）ｑ基である式（XI）の化合物は蟻酸との反応で得られる。
【０２０１】
Ｒ’３が（Ｃ１−Ｃ７）−アルキル−ＮＨＣＯＯ−（ＣＨ２）ｑ−基である式（XI）の化合物は、カルバモイルクロライド、（Ｃ１−Ｃ７）−アルキル−ＮＨＣＯＣｌを、Ｒ’３が−（ＣＨ２）ｑ−ＯＨ基である式（XI）の化合物と反応させることによって得られる。
【０２０２】
同様の化合物は、イソシアネート、（Ｃ１−Ｃ７）−アルキル−Ｎ＝Ｃ＝Ｏを、Ｒ’３が−（ＣＨ２）ｑ−ＯＨ基である式（XI）の化合物と反応させることによって製造される。
【０２０３】
Ｒ’３がカルボキシルである式（XI）の化合物は、Ｒ’３がシアノである式（XI）の化合物を当業者に公知の方法で加水分解することによって製造されうる。
【０２０４】
Ｒ’３がカルボキシメチルである式（XI）の化合物は、Chem. Ber., 1975, 108, 3475-3482に開示された方法で製造されうる。
【０２０５】
Ｒ’３がそれぞれ（Ｃ１−Ｃ７）−アルコキシカルボニル又は（Ｃ１−Ｃ７）−アルコキシカルボニルメチルである式（XI）の化合物は、当業者に周知の方法を用いてエステル化反応によってＲ’３がそれぞれカルボキシル又はカルボキシルメチルである式（XI）の化合物から製造されうる。
【０２０６】
Ｊ’１が下式：
【化８９】
Figure 0003943369
（但し、Ａｒ２は任意に置換されたフェニル基である、ｎは１であり、Ｒ’３は（Ｃ１−Ｃ７）−アルコキシカルボニルである。）である式（XI）の化合物を製造するには、保護された４−（Ｃ１−Ｃ７）−アルコキシカルボニルピペリジンを、水素化ナトリウム、tert−ブチレート又はジイソプロピルアミドのような塩基の存在下において、テトラヒドロフラン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド又はジメチルスルホキシドのような溶媒中、−７８℃から室温の間の温度で、任意に置換されたハロゲン化ベンジルと反応させる。所望の式（XI）の化合物は、脱保護のステップの後に得られる。
【０２０７】
Ｒ’３がそれぞれ−ＣＯＮＲ１０Ｒ１１基又は−ＣＨ２−ＣＯＮＲ１０Ｒ１１基である式（XI）の化合物を製造するには、Ｒ’３がそれぞれカルボキシル又はカルボキシメチルである式（XI）の化合物を、当業者に周知の方法で式ＨＮＲ１０Ｒ１１の化合物と反応させる。
【０２０８】
上記の方法を使用して、Ｒ’３が−Ｃ（＝Ｗ１）ＮＲ１０Ｒ１１基又は−ＣＨ２−Ｃ（＝Ｗ１）ＮＲ１０Ｒ１１基（但し、Ｗ１は硫黄原子である。）である式（XI）の化合物が、対応する式（XI）の化合物（但し、Ｗ１は酸素原子である。）から製造される。
【０２０９】
Ｒ’３が下記の基：
【化９０】
Figure 0003943369
（但し、Ｒ２４及びＲ２５は各々独立に水素又は（Ｃ１−Ｃ７）−アルキルである。）である式（XI）の化合物を製造するには、Ｒ’３が下記の基：
【化９１】
Figure 0003943369
（但し、Ｈａｌはハロゲン原子、好ましくは臭素である。）である式（XI）の化合物をチオ尿素（アミノ基の１つが遊離であるか、１又は２の（Ｃ１−Ｃ７）−アルキルで置換されたもの。）と反応させる。
【０２１０】
Ｒ’３が下記の基：
【化９２】
Figure 0003943369
（但し、Ｒ２５はホルミル又は、それぞれ、（Ｃ１−Ｃ７）−アルキルカルボニルである。）である式（XI）の化合物は、トリエチルアミンのような塩基の存在下、無水酢酸中で蟻酸を、又は、それぞれ、酸塩化物、（Ｃ１−Ｃ７）−アルキル−ＣＯＣｌを、ピペリジン窒素が保護され、Ｒ２５が水素である式（XI）の上記化合物と反応させることによって製造される。所望の化合物は脱保護ステップの後に得られる。
【０２１１】
Ｒ’３が下記の基：
【化９３】
Figure 0003943369
（但し、Ｈａｌは臭素原子である。）である式（XI）の化合物は、従来の方法により、Ｒ’３が−ＣＯ−ＣＨ２−Ｒ２３基である式（XI）の化合物を臭素化することによって得られる。
【０２１２】
Ｊ’１が下記の基：
【化９４】
Figure 0003943369
（但し、Ｒ１４は−ＣＯＮＲ１５Ｒ１６であり、Ｒ’３は水素である。）である式（XI）の化合物は、保護された４−カルボキシピペリジンを、当業者に周知の方法で式ＨＮＲ１５Ｒ１６の化合物と反応させることによって製造される。所望の式（XI）の化合物は脱保護ステップの後に得られる。
【０２１３】
Ｊ’１が下記の基：
【化９５】
Figure 0003943369
（但し、Ｒ１４は−ＮＲ１５Ｒ１６であり、Ｒ’３はシアノである。）である式（XI）の化合物を製造するには、１−ベンジルピペリド−４−オンを、シアン化ナトリウムの存在下、式ＨＮＲ１５Ｒ１６の化合物と反応させることによりStrecker反応を行う。所望の式（XI）の化合物は、脱保護ステップの後に得られる。
【０２１４】
Ｒ’３が−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−ＯＲ１８基（但しＲ１８は水素である。）である式（XI）の化合物は、Ｒ’３がベンゾイルオキシである式（XI）の化合物を、硫酸のような酸の存在下でエチレングリコールと反応させることによって製造される。
【０２１５】
Ｒ’３が−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−ＯＲ１８基（但しＲ１８は（Ｃ１−Ｃ７）−アルキルである。）である式（XI）の化合物は、２−（Ｃ１−Ｃ７）−アルコキシエタノールを用いて同様の反応によって製造される。
【０２１６】
Ｒ’３が−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−ＯＲ１８基（但しＲ１８はホルミルである。）である式（XI）の化合物は、Ｒ’３が−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−ＯＨ基である式（XI）の化合物を、蟻酸と反応させることによって製造される。Ｒ’３が−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−ＯＲ１８基（但しＲ１８は（Ｃ１−Ｃ７）−アルキルカルボニルである。）である式（XI）の化合物は、トリエチルアミンのような塩基の存在下でＣ２−Ｃ８酸塩化物と反応させることによって製造される。
【０２１７】
Ｒ’３が−ＮＲ６ＣＯＣＯＲ１９基（但し、Ｒ１９は（Ｃ１−Ｃ４）−アルコキシである。）である式（XI）の化合物は、式−ＣＯＣＯＲ１９の化合物をＲ’３が−ＮＨＲ６である式（XI）の化合物と反応させることによって製造される。
【０２１８】
Ｒ’３が−ＣＯ−ＮＲ２０−ＮＲ２１Ｒ２２基である式（XI）の化合物は、化合物ＮＨＲ２０−ＮＲ２１Ｒ２２を、Ｒ’３がクロロホルミルである式（XI）の化合物と反応させることによって製造される。
【０２１９】
Ｒ’３が下記の基：
【化９６】
Figure 0003943369
である式（XI）の化合物は、Ｒ’３がカルバゾイル基（−ＣＯＮＨ−ＮＨ２）である式（XI）の保護された化合物を、J. Org. Chem., 1961, 26, 88-95に開示された方法によって臭化シアンと反応させることによって製造されうる。Ｒ’３がカルバゾイル基である式（XI）の化合物は、Ｒ’３がクロロホルミルである式（XI）の化合物（この化合物自身は、Ｒ’３がカルボキシルである式（XI）の化合物と塩化チオニルを反応させることによって得られる。）をヒドラジンと反応させることによって得ることができる。
【０２２０】
式（XII）のピペリジンは、公知の方法によって製造される。
【０２２１】
式（XIII）のキヌクリジンは、T. Perrine, J. Org. Chem., 1957, 22, 1494-1489に開示されたような公知の方法によって製造される。
【０２２２】
式（XIV）のピリジンは公知であるか、又は公知の方法で調製される。
【０２２３】
下式の本発明に従った化合物のエナンチオマー、及び適切な場合にはこれらのこう酸又は有機酸との塩は新規化合物であり、これらは本発明の一部を構成する。
【０２２４】
【化９７】
Figure 0003943369
但し、
− 「＊」は、この表示を有する炭素原子が決定された（＋）又は（−）の絶対配置を有することを示す。及び
− Ａｍ、ｍ、Ａｒ１、Ａ及びＴは式（Ｉ）の化合物に対して定義したとおりである。
【０２２５】
式（Ｉ）の化合物のラセミ混合物の分割は、式（Ｉ＊）のエナンチオマーを単離することを可能にする。
【０２２６】
しかし、式（II）の化合物、又は式（II）の化合物の調製に有用な中間体からラセミ混合物を分割することが好ましい。
【０２２７】
従って、−Ａ−が二価基、−ＣＨ２−Ｏ−ＣＯ−である式（Ｉ）の化合物のエナンチオマー（Ｉ＊）を製造することを望む場合、下式の中間体のラセミ混合物（この化合物は、先に示した方法で式（XIX）の化合物からＯ−保護基Ｐｒを除去することによって得られる。）を分割する。
【０２２８】
【化９８】
Figure 0003943369
但し、ｍ及びＡｒ１は式（Ｉ）の化合物に対して定義したとおりである。
【０２２９】
−Ａ−が二価基、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＨ２−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−、又は−Ｏ−ＣＨ２−である式（Ｉ）の化合物のエナンチオマー（Ｉ＊）を製造することを望む場合、下式の中間体のラセミ混合物を分割する。
【０２３０】
【化９９】
Figure 0003943369
但し、ｍ及びＡｒ１は式（Ｉ）の化合物に対して定義したとおりであり、Ｐｒ２は上記スキーム２で定義したとおりである。
【０２３１】
−Ａ−が二価基、−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−である式（Ｉ）の化合物のエナンチオマー（Ｉ＊）を製造することを望む場合、下式の中間体のラセミ混合物を分割することもできる。
【０２３２】
【化１００】
Figure 0003943369
但し、ｍ及びＡｒ１は式（Ｉ）の化合物に対して定義したとおりである。
【０２３３】
−Ａ−が二価基、−Ｎ（Ｒ１）−Ｏ−、−Ｎ（Ｒ１）−ＣＯ−ＣＯ−又は−Ｎ（Ｒ１）−ＣＨ２−ＣＨ２−である式（Ｉ）の化合物のエナンチオマー（Ｉ＊）を製造することを望む場合、下式の中間体のラセミ混合物を分割する。
【０２３４】
【化１０１】
Figure 0003943369
但し、ｍ、Ａｒ１及びＲ１は式（Ｉ）の化合物に対して定義したとおりである。
【０２３５】
ラセミ化合物の分割を、式（XXXIV）、（XXVII）、（XXXII）又は（II）［−Ａ−＝−ＯＣＨ２−ＣＨ２−及びＥ＝Ｈ］で行う場合、これは光学活性な酸、例えば（＋）又は（−）酒石酸との塩を形成することを含む公知の方法で行われる。次に、ジアステレオ異性体を結晶化又はクロマトグラフィーのような従来の方法で分離し、この後、光学的に純粋なエナンチオマーを加水分解により得る。
【０２３６】
上記式（Ｉ）の化合物には、１以上の水素、炭素又はヨウ素原子がこれらの放射性同位元素、例えばトリチウム、炭素−１４又はヨウ素−１２５で置換される。このような標識化合物は、研究、代謝もしくは薬動力学的研究及び受容体リガンドとして生化学的試験に有用である。
【０２３７】
タキキニン受容体に対する化合物の親和性は、放射性リガンドを用いる幾つかの生化学的試験によって、in vitroで評価した。
【０２３８】
１）［１２５Ｉ］ＢＨ−ＳＰ（ボルトン−ハンターズ試薬（Bolton-Hunter's reagent）を用いてヨウ素−１２５で標識されたサブスタンスＰ）の、ヒトリンパ芽球のＮＫ１受容体への結合。
【０２３９】
２）［１２５Ｉ］Ｈｉｓ−ＮＫＡの、ラット十二指腸又は膀胱のＮＫ２受容体への結合。
【０２４０】
３）［１２５Ｉ］Ｈｉｓ［ＭｅＰｈｅ７］ＮＫＢの、ラット大脳皮質、モルモット大脳皮質及びアレチネズミ大脳皮質のＮＫ２受容体への結合、及びＣＨＯ細胞によって発現されるヒトＮＫ３クローン受容体への結合（Buell et al., FEBS Letters, 1992, 299, 90-95）。
【０２４１】
試験は、X. Emonds-Alt et al.（Eur. J. Pharmacol., 1993, 250, 403-423）に従って行った。
【０２４２】
本発明に従った化合物は、１０−８Ｍ以下の阻害定数Ｋｉで上記タキキニン受容体に対して親和性を有する。
【０２４３】
特に、本発明の化合物は、薬学的組成物の活性成分であり、その毒性は医薬としてこれらを使用するのに適している。
【０２４４】
本発明の化合物は一般に、投与量単位で投与される。前記投与量単位は、好ましくは活性成分が薬学的賦形剤と混合された薬学的組成物として処方される。
【０２４５】
従って、その他の特徴に従えば、本発明は、式（Ｉ）の化合物またはこれらの薬学的に許容しうる塩が活性成分として存在する薬学的組成物に関する。
【０２４６】
上記式（Ｉ）の化合物及びこれらの薬学的に許容しうる塩は、一日に、治療される動物の体重１キログラムあたり、０．０１から１００mgの投与量、好ましくは一日に０．１から５０mg/kgの投与量で使用されうる。ヒトでは、投与量は、治療される患者の年齢、治療のタイプ、即ち予防又は治療に依存して、好ましくは一日あたり０．５から４０００mg、より好ましくは２．５から１０００mgまで変化しうる。
【０２４７】
経口、舌下、吸入、皮下、筋肉内、静脈内、経皮、局所又は直腸投与のための本発明の薬学的組成物において、従来の薬学的担体と混合された単位投与形態で動物およびヒトに投与されうる。適切な単位投与形態には、経口摂取される錠剤、ゼラチンカプセル、粉末、顆粒及び溶液もしくは懸濁液のような経口形態、舌下及びバッカル（Buccal）投与の形態、エアロゾル、移植、皮下、筋肉内、静脈内、鼻腔内又は眼内投与の形態、及び直腸投与の形態が含まれる。
【０２４８】
錠剤の形態で固体組成物が調製される場合、主要活性成分は、シリカ、ゼラチン、澱粉、ラクトース、ステアリン酸マグネシウム、タルク、アラビアゴム等のような薬学的ビヒクル（vehicle）と混合される。錠剤は、蔗糖、種々のポリマー又は他の適切な物質でコーティングされうるか、さもなければこれらは、活性を延長させるか又は遅らせるように、及び予め決められた量の活性成分を連続的に放出するように処理されうる。
【０２４９】
ゼラチンカプセルの形態での製剤は、活性成分をグリコール又はグリセロールエステルのような希釈剤と混合し、得られたこの混合物を軟質又は硬質ゼラチンカプセルに詰めることによって得られる。
【０２５０】
シロップ又はエリキシルの形態での製剤は、活性成分と共に甘味料（好ましくはカロリーフリーである。）、防腐剤としてのメチルパラベン及びプロピルパラベン、香味剤及び適切な着色剤を含有する。
【０２５１】
水に分散可能な顆粒又は粉末は、分散剤又は湿潤剤と、又はポリビニルピロリドンのような懸濁剤と、並びに甘味料又は味覚矯正剤と混合された活性成分を含有する。
【０２５２】
直腸投与は、坐薬を用いて行われる。これは、直腸温度で溶解するバインダー、例えばカカオ脂又はポリエチレングリコールを用いて調製される。
【０２５３】
非経口、鼻腔内又は眼内投与は、水性懸濁液、等張の塩水又は無菌で注射可能な溶液であって、薬理学的に許容しうる分散剤及び／又は湿潤剤、例えばプロピレングリコール又はブチレングリコールを含有するものを用いて行われる。
【０２５４】
吸入による投与は、ソルビタントリオレイン酸エステル又はオレイン酸、並びにトリクロロフルオロメタン、ジクロロフルオロメタン、ジクロロテトラフルオロエタン又は他の生物学的に適合しうる噴射ガスを含有するエアロゾルを用いて行われる。また、これには、活性成分を粉末の形態で、それ自身又は賦形剤と共に含有する系を使用することもできる。
【０２５５】
活性成分はまた、マイクロカプセルとして、適切であれば１以上の担体又は添加剤と共に処方されうる。
【０２５６】
各投与量単位では、式（Ｉ）の活性成分は、予定した日用量に適した量で存在する。一般に、各投与量単位は、一回の投与量及び意図したタイプの投与、例えば錠剤、ゼラチンカプセル等、セシェイ（sachets）、アンプル、シロップ等、及びドロップに従って適切に調節される。従って、このような投与量単位には、０．５から１０００mgの活性成分、好ましくは２．５から２５０mgの活性成分が含有され、１日に１回から４回投与される。
【０２５７】
上記組成物はまた、他の活性剤、例えば気管支拡張剤、咳止め、抗ヒスタミン剤、抗炎症剤、制吐剤及び化学療法剤のようなものを含有しうる。
【０２５８】
その他の特徴に従えば、本発明は、過剰なタキキニンに付随する生理学的症状、及び、呼吸器系、消化器系、泌尿器系、免疫系、循環器系及び中枢神経系の全てのニューロキニン依存性の病理学的症状並びに痛み及び片頭痛の治療に向けられた医薬の製造のための式（Ｉ）の化合物の使用に関する。
【０２５９】
制限を意味しない例は、
− 例えば、片頭痛、癌及びアンギナ患者が経験する痛み、及び骨関節炎及びリュウマチ性関節炎のような慢性の炎症過程に付随した急性及び慢性の痛み、
− 神経性炎症、慢性炎症性疾患、例えば閉塞性慢性呼吸器疾患、喘息、アレルギー、鼻炎、咳、気管支炎、例えば花粉及びダニに対する過敏症、リュウマチ性関節炎、骨関節炎、乾癬、潰瘍性大腸炎、クローン病、腸の炎症（過敏性結腸）、前立腺炎、神経性膀胱、失禁、膀胱炎、尿道炎及び腎炎、眼性疾患、例えば結膜炎及び硝子体網膜症、及び皮膚疾患、例えば接触性皮膚炎、アトピー性皮膚炎、蕁麻疹、湿疹、かゆみ及びやけど、特に日焼けのような炎症、
− 多重硬化症又は筋萎縮性側索硬化症のような小細胞肺癌及び髄鞘破壊、
− 不安、不眠症、感情の疾患、鬱病、精神病、精神***症、躁病、痴呆、癲癇、パーキンソン症、アルツハイマー症、薬物依存症、アルコール中毒、ダウン症候群及びハンチントン舞踏病、並びに神経退縮性疾患及びストレスに関連した身体的疾患のような神経精神学的又は神経学的なタイプの中枢神経系疾患、
− 悪心、何れかの原因による嘔吐、過敏症結腸、胃及び十二指腸潰瘍、食道潰瘍、下痢及び分泌過多のような消化器系の疾患、
− 高血圧、片頭痛の血管の側面、浮腫、血栓症、狭心症、血管痙攣、血管拡張による循環器系疾患、レイノー症、繊維症及びコラーゲン症のような循環器系の疾患、及び
− 心拍数及びリズム障害、特に痛み又はストレスによって引き起こされるもの。
【０２６０】
本発明はまた、上記投与量で前記愁訴を治療する方法を含む。
【０２６１】
【実施例】
以下の略称を以下の調製例及び例で使用した。
【０２６２】
Ｍｅ、ＯＭｅ：メチル、メトキシ
Ｅｔ、ＯＥｔ：エチル、エトキシ
ＥｔＯＨ：エタノール
ＭｅＯＨ：メタノール
エーテル：ジエチルエーテル
イソエーテル：ジイソプロピルエーテル
ＤＭＦ：ジメチルホルムアミド
ＤＭＳＯ：ジメチルスルホキシド
ＤＣＭ：ジクロロメタン
ＴＨＦ：テトラヒドロフラン
ＡｃＯＥｔ：酢酸エチル
Ｎａ２ＣＯ３：炭酸ナトリウム
ＮａＨＣＯ３：炭酸水素ナトリウム
ＮａＣｌ：食塩
Ｎａ２ＳＯ４：硫酸ナトリウム
ＭｇＳＯ４：硫酸マグネシウム
ＮａＯＨ：水酸化ナトリウム
ＨＣｌ：塩酸
ＴＦＡ：トリフルオロ酢酸
ＫＣＮ：シアン化カリウム
Ｎａ２Ｓ２Ｏ５：メタ重亜硫酸ナトリウム
ＤＢＵ：１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エン
ＮＨ４Ｃｌ：塩化アンモニウム
Ｍ．ｐ．：融点
ＲＴ：室温
シリカＨ：シリカゲル６０Ｈ、メルク（DARMSTADT）によって購入される。
【０２６３】
ＮＭＲ：核磁気共鳴
δ：化学シフト
ｓ：一重線
ｂｓ：幅広の一重線
ｄ：二重線
ｔ：三重線
ｑ：四重線
ｍ：多重線
ｕ：解析されないシグナル。
【０２６４】
調製例
調製例１．１： ５−（３，４−ジクロロフェニル）−５−［２−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）エチル］テトラヒドロ−２Ｈ−１，３−オキサジン−２−オン
Ａ）２−（３，４−ジクロロフェニル）−４−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）ブタンニトリル
１７．７５ｇの水素化ナトリウム（８０％油中懸濁物）の７５０mlＴＨＦ懸濁物を氷浴で冷却し、１００ｇの３，４−ジクロロフェニルアセトニトリルの２５０mlＴＨＦ溶液を滴下し、反応混合物をＲＴで２時間撹拌した。これを−２０℃に冷却し、１１２．３６ｇの１−ブロモ−２−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）エタンの１２０mlＴＨＦ溶液を滴下し、反応混合物をＲＴで２時間撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣を水に取り、エーテルで抽出し、有機層をｐＨ４のバッファー溶液で２回、ｐＨ７のバッファー溶液、及び飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣を、溶出液としてトルエン、次いでトルエン／ＡｃＯＥｔ混合物（１００／３；ｖ／ｖ）を用いたシリカゲルクロマトグラフィーにかけ、１１３．５ｇの所望の生成物を得た。これをこのまま使用した。
【０２６５】
Ｂ）２−（３，４−ジクロロフェニル）−２−（ヒドロキシメチル）−４−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）ブタンニトリル
１２．５６ｇの先のステップで得られた化合物、９．６ｇの３７％ホルムアルデヒド水溶液及び０．３ｇのＤＢＵの、２５ml１，２−ジメトキシエタン中の混合物を１時間還流した。反応混合物を減圧下に濃縮し、残渣をエーテルで抽出し、有機層を水で２回、ｐＨ４のバッファー溶液で２回、水で２回、飽和ＮａＣｌ溶液で２回洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、１７ｇの所望の生成物を得た。これをそのまま使用した。
【０２６６】
Ｃ）２−（３，４−ジクロロフェニル）−２−（ヒドロキシメチル）−４−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）ブチルアミン
１７ｇの先のステップで得られた化合物及び６ｇのラネー（登録商標）ニッケルの、３００mlのＥｔＯＨ及び４０mlの２０％アンモニア水溶液中の混合物を５時間４０℃、大気圧下で水素化した。触媒を濾過して除き、濾液を減圧下に濃縮した。残渣をＤＣＭに取り、有機層を水及び飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、１６．５ｇの所望の生成物を油状物の形態で得た。これをそのまま使用した。
【０２６７】
Ｄ）５−（３，４−ジクロロフェニル）−５−［２−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）エチル］テトラヒドロ−２Ｈ−１，３−オキサジン−２−オン２４．６ｇの２０％ホスゲントルエン溶液を１５０mlのＤＣＭで希釈し、これを７０℃に冷却し、１６．５ｇの先のステップで得られた化合物及び５．７ｇのトリエチルアミンの１００mlＤＣＭ溶液を滴下し、反応混合物を、温度をＲＴにあげながら撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣を水／ＡｃＯＥｔ混合物に取り、相の間で結晶化する生成物をしぼり、第一目の所望の生成物を回収した。濾液をデカンテーションした後、有機層を水、ｐＨ４のバッファー溶液、及び飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣をＡｃＯＥｔに取り、生成した結晶性の生成物をしぼり、第二回目の回収で生成物を得た。全体で４．５ｇの所望の生成物を得た。
【０２６８】
調製例１．２： ５−（３，４−ジクロロフェニル）−５−［３−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）プロピル］テトラヒドロ−２Ｈ−１，３−オキサジン−２−オン
Ａ）２−（３，４−ジクロロフェニル）−５−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）ペンタンニトリル
５０．８ｇの３，４−ジクロロフェニルアセトニトリルの２５０mlＴＨＦ溶液を、１２ｇの水素化ナトリウム（５５％油中懸濁物）の１７５mlＴＨＦ懸濁物に２０℃以下の温度で滴下し、反応混合物をＲＴで２時間撹拌した。これを−２０℃に冷却し、６２．５ｇの１−ブロモ−３−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）プロパンの６０mlＴＨＦ溶液を滴下し、反応混合物を、温度をＲＴにあげながら撹拌した。これを３１ｇの塩化アンモニウムの１．４リットル水溶液にあけ、エーテルで抽出し、合わせた有機層を飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣を、溶出液としてトルエン、次いでトルエン／ＡｃＯＥｔ混合物（９５／５；ｖ／ｖ）を用いてシリカゲルクロマトグラフィーにかけ、６４ｇの所望の生成物を得た。これをそのまま使用した。
【０２６９】
Ｂ）２−（３，４−ジクロロフェニル）−２−（ヒドロキシメチル）−５−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）ペンタンニトリル
１５ｇの先のステップで得られた化合物、１１．２ｇの３７％ホルムアルデヒ水溶液及び０．３５ｇのＤＢＵの、３０ml１，２−ジメトキシエタン中の混合物を１時間還流した。反応混合物を減圧下に濃縮し、残渣をエーテルで抽出し、有機層を水、ｐＨ４のバッファー溶液で２回、水で２回、飽和ＮａＣｌ溶液で２回洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣を溶出液としてトルエン、次いでトルエン／ＡｃＯＥｔ混合物（８０／２０；ｖ／ｖ）を用いてシリカゲルクロマトグラフィーにかけ、１５．５ｇの所望の生成物を得た。これをそのまま使用した。
【０２７０】
Ｃ）２−（３，４−ジクロロフェニル）−２−（ヒドロキシメチル）−５−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）ペンチルアミン
１５．５ｇの先のステップで得られた化合物及び５ｇのラネー（登録商標）ニッケルの、２００mlＥｔＯＨ及び４０mlの２０％アンモニア水溶液中の混合物を５時間３０℃、大気圧下で水素化した。触媒を濾過して除き、濾液を減圧下に濃縮した。残渣をＤＣＭに取り、有機層を水及び飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、１４．９ｇの所望の生成物を油状物の形態で得た。これをそのまま使用した。
【０２７１】
Ｄ）５−（３，４−ジクロロフェニル）−５−［３−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）プロピル］テトラヒドロ−２Ｈ−１，３−オキサジン−２−オン
２１．４ｇの２０％ホスゲントルエン溶液を１２０mlのＤＣＭで希釈し、これを７０℃に冷却し、１４．９ｇの先のステップで得られた化合物及び４．９８ｇのトリエチルアミンの８０mlＤＣＭ溶液を滴下し、反応混合物を、温度をＲＴにあげながら撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣を水に取り、エーテルで抽出し、有機層を水及び飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、１２．５ｇの所望の生成物を得た。これをそのまま使用した。
【０２７２】
調製例１．３： ６−（３，４−ジクロロフェニル）−６−［２−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）エチル］モルホリン−３−オン
Ａ）２−（３，４−ジクロロフェニル）−２−ヒドロキシアセトニトリル
７０ｇの３，４−ジクロロベンズアルデヒド及び９０ｇのＮａ２Ｓ２Ｏ５の、３００ｍｌの水中混合物をＲＴで一夜攪拌した。反応混合物を０℃に冷却し、５２ｇのＫＣＮの１００ml水溶液を滴下し、反応混合物を、温度をＲＴにあげながら撹拌した。これをエーテルで抽出し、有機層を水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、７６ｇの所望の生成物を得た。これをそのまま使用した。
【０２７３】
Ｂ）２−（３，４−ジクロロフェニル）−２−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）アセトニトリル
７６ｇの先のステップで得られた化合物、及び０．２５ｇのｐ−トルエンスルホン酸一水和物のの３００mlＤＣＭ溶液を０℃に冷却し、３９ｇの３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピランの５０mlＤＣＭ溶液を滴下し、反応混合物を、温度をＲＴに上げながら撹拌した。これを飽和ＮａＨＣＯ３溶液及び水で洗浄し、有機層をＮａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、ペンタンから０℃で結晶化した後、３３ｇの所望の生成物を得た。ｍ．ｐ．＝６１℃
Ｃ）４−（ベンゾイルオキシ）−２−（３，４−ジクロロフェニル）−２−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）ブタンニトリル
５６mlのリチウムジイソプロピルアミドの２ＭＴＨＦ溶液を−６０℃に冷却し、３２ｇの先のステップで得られた化合物の５0ｍｌＴＨＦ溶液を滴下し、混合物を１時間−６０℃で撹拌した。次に、２５．４ｇの安息香酸２−ブロモエチルの５０mlＴＨＦ溶液を−６０℃で滴下し、反応混合物を、温度をＲＴにあげながら撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣をエーテルに取り、有機層を水、及びｐＨ４のバッファー溶液で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートした除いた。残渣を、溶出液としてトルエン／ＡｃＯＥｔ混合物（１００／５；ｖ／ｖ）を用いてシリカゲルクロマトグラフィーにかけ、３４ｇの所望の生成物を得た。これをそのまま使用した。
【０２７４】
Ｄ）４−（ベンゾイルオキシ）−２−（３，４−ジクロロフェニル）−２−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）ブチルアミン
３４ｇの先のステップで得た化合物及びラネー（登録商標）ニッケルの４００mlＥｔＯＨ及び４０mlの濃アンモニア溶液の混合物をＲＴ、大気圧下で水素化した。触媒を濾過して除き、濾液を減圧下に濃縮した。残渣を水に取り、エーテルで抽出し、有機層を飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣を、溶出液としてＤＣＭ／ＭｅＯＨ混合物（１００／１；ｖ／ｖから１００／３；ｖ／ｖ）のグラジェントを用いてシリカＨでクロマトグラフィーにかけ、１６ｇの所望の生成物を得た。これをそのまま使用した。
【０２７５】
Ｅ）Ｎ−（２−ブロモアセチル）−４−（ベンゾイルオキシ）−２−（３，４−ジクロロフェニル）−２−ヒドロキシブチルアミン
１６ｇの先のステップで得られた化合物及び４．８ｇのトリエチルアミンの１００mlＤＣＭ溶液を−６０℃に冷却し、５．６８ｇのブロモアセチルクロライドの２０mlＤＣＭ溶液を滴下し、反応混合物を３０分撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣をエーテルで抽出し、有機層を水及びｐＨ４のバッファー溶液で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。得られた生成物を最小量のＭｅＯＨに溶解し、ＨＣｌガスを飽和させたエーテル溶液を加えてｐＨ１に酸性化し、溶媒を減圧下でエバポレートして除いた。残渣を水に取り、ＡｃＯＥｔで抽出し、有機層を飽和ＮａＨＣＯ３溶液及び水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き１６ｇの所望の生成物を得た。これをそのまま使用した。
【０２７６】
Ｆ）６−（３，４−ジクロロフェニル）−６−（２−ヒドロキシエチル）モルホリン−３−オン
１６ｇの先のステップで得られた化合物、５０mlのプロパン−２−オール、１５mlの１０ＮＮａＯＨ溶液及び１０mlのＤＭＦ混合物を４時間撹拌した。反応混合物を減圧下に濃縮し、残渣をＡｃＯＥｔで抽出し、有機層を水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣を、溶出液としてＤＣＭ／ＭｅＯＨ混合物（１００／３；ｖ／ｖから１００／５；ｖ／ｖ）のグラジェントを用いてシリカＨでクロマトグラフィーにかけ、６．１ｇの所望の生成物を得た。
【０２７７】
ＤＭＳＯ−Ｄ6中、２００ＭＨｚでのプロトンＮＭＲ
δ： 2.05ppm: mt: 2H
3.0-4.4ppm: u: 6H
4.5ppm: t: 1H
7.3-8.3ppm: u: 4H。
【０２７８】
Ｇ）６−（３，４−ジクロロフェニル）−６−［２−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）エチル］モルホリン−３−オン
１．７ｇの先のステップで得られた化合物及び０．００３ｇのｐ−トルエンスルホン酸一水和物の５０mlＤＣＭ溶液を０℃に冷却し、０．５８８ｇの３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピランの１０mlＤＣＭ溶液を滴下し、反応混合物をＲＴで１時間撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣をエーテルで抽出し、有機層を飽和ＮａＨＣＯ３溶液、及び水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣を、溶出液としてＤＣＭ／ＭｅＯＨ混合物（１００／２；ｖ／ｖ）を用いてシリカＨでクロマトグラフィーにかけ、１．８ｇの所望の生成物を得た。これをそのまま使用した。
【０２７９】
調製例１．４： ６−［２−（ベンゾイルオキシ）エチル］−６−（３，４−ジクロロフェニル）−モルホリン−３−オン
４．８ｇの調製例１．３のステップＥで得られた化合物及びＫ２ＣＯ３の１００mlキシレン中の混合物を１３０℃で一夜加熱した。ＲＴまで冷却した後、反応混合物を濾過し、濾液を減圧下に濃縮した。残渣をエーテルで抽出し、有機層をｐＨ２のバッファー溶液及び水で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣を、溶出液としてＤＣＭ／ＭｅＯＨ混合物（１００／１；ｖ／ｖ）を用いてシリカＨでクロマトグラフィーにかけ、１．４ｇの所望の生成物を得た。
【０２８０】
ＤＭＳＯ−Ｄ6中、２００ＭＨｚでのプロトンＮＭＲ
δ： 2.45ppm: mt: 2H
3.75ppm: AB系: 2H
3.9-4.5ppm: u: 4H
7.4-7.9ppm: u: 8H
8.25ppm: bs: 1H。
【０２８１】
この化合物は、下記の三段階の方法に従って得ることができる。
【０２８２】
Ａ’）４−（ベンゾイルオキシ）−２−（３，４−ジクロロフェニル）−２−ヒドロキシブチルアミン塩酸塩
この化合物は調製例１．７のステップＡで説明される。
【０２８３】
Ｂ’）Ｎ−（２−クロロアセチル）−４−（ベンゾイルオキシ）−２−（３，４−ジクロロフェニル）−２−ヒドロキシブチルアミン
２０ｇの先のステップで得られた化合物及び１０．３ｇのトリエチルアミンの１００mlＤＣＭ溶液を０℃に冷却し、５．８ｇの塩化クロロアセチルを滴下し、反応混合物を３０分撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣をＡｃＯＥｔで抽出し、有機層を水、ｐＨ２のバッファー溶液、及び水で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、２２ｇの所望の生成物を得た。これをそのまま使用した。
【０２８４】
Ｃ’）６−［２−（ベンゾイルオキシ）エチル］−６−（３，４−ジクロロフェニル）モルホリン−３−オン
２２ｇの先のステップで得られた化合物の６００mlＴＨＦ溶液を−１０℃に冷却し、１１．４２ｇのカリウムｔ−ブチレートを加え、反応混合物を、溶解が完了するまで撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣をＡｃＯＥｔで抽出し、有機層をｐＨ２のバッファー溶液及び水で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、１２．８ｇの所望の生成物をエーテルから結晶化した後に得た。
【０２８５】
調製例１．５： ２−（３，４−ジクロロフェニル）−２−（２−ヒドロキシエチル）モルホリン
１．６ｇの水素化アルミニウムリチウムのＴＨＦ懸濁液を６０℃に加熱し、４ｇの調製例１．３のステップＦで得た化合物の２０mlＴＨＦ溶液を滴下し、反応混合物を還流下で３０分撹拌した。冷却した後、１．５mlの水、１．５mlの４ＮＮａＯＨ、次いで４．５mlの水を加えた。ミネラル塩をセライト（登録商標）で濾過して除き濾液をデカンテーションし、有機層を減圧下にエバポレートした。残渣をエーテルに取り、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、３．６ｇの所望の生成物を得た。
【０２８６】
調製例１．６： ２−（３，４−ジクロロフェニル）−２−（３−ヒドロキシプロピル）モルホリン
Ａ）５−（ベンゾイルオキシ）−２−（３，４−ジクロロフェニル）−２−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）ペンタンニトリル
４７mlのリチウムジイソプロピルアミドの１．５ＭＴＨＦ溶液を−６０℃に冷却し、１９．３ｇの調製例１．３のステップＢで得られた化合物の１００mlＴＨＦ溶液を滴下し、混合物を−６０℃で３０分撹拌した。次いで、１７ｇの安息香酸３−ブロモプロピルを−６０℃で滴下し、反応混合物を、温度をＲＴにあげながら撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣をエーテルで抽出し。有機層を水及び飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、ヘキサンで結晶化した後、２１ｇの所望の生成物を得た。
【０２８７】
Ｂ）５−（ベンゾイルオキシ）−２−（３，４−ジクロロフェニル）−２−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）ペンチルアミン
先のステップで得られた２０ｇの化合物及び７ｇのラネー（登録商標）ニッケルの３００mlＭｅＯＨ中の混合物をＲＴ、大気圧下で水素化した。触媒を濾過して除き、濾液を減圧下に濃縮した。残渣を水に取り、エーテルで抽出し、有機層を水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、２０ｇの所望の生成物を得た。これをそのまま使用した。
【０２８８】
Ｃ）Ｎ−（２−クロロアセチル）−５−（ベンゾイルオキシ）−２−（３，４−ジクロロフェニル）−２−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）ペンチルアミン
９ｇの先のステップで得た化合物、２．４ｇのトリエチルアミンの１００mlＤＣＭ溶液を０℃に冷却し、２．２３ｇの塩化クロロアセチルの２０mlＤＣＭ溶液を滴下し、反応混合物を３０分撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣をエーテルで抽出し、有機層を水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、９．５ｇの所望の生成物を得た。これをそのまま使用した。
【０２８９】
Ｄ）Ｎ−（２−クロロアセチル）−５−（ベンゾイルオキシ）−２−（３，４−ジクロロフェニル）−２−ヒドロキシペンチルアミン
ＨＣｌガスを飽和させたエーテル溶液を、９ｇの先のステップで得た化合物の５０mlＤＣＭ及び５０mlＭｅＯＨ溶液に、ｐＨが１になるまで加え、混合物を３０分ＲＴで撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣をエーテルで抽出し、有機層を水、及び飽和ＮａＨＣＯ３溶液で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣を、溶出液としてＤＣＭ／ＭｅＯＨ混合物（１００／３；ｖ／ｖ）を用いてシリカＨでクロマトグラフィーにかけ、４．７ｇの所望の生成物を得た。これをそのまま使用した。
【０２９０】
Ｅ）６−（３，４−ジクロロフェニル）−６−（３−ヒドロキシプロピル）モルホリン−３−オン
２．９５ｇの先のステップで得られた化合物、４０mlのプロパン−２−オール及び３mlの１０ＮＮａＯＨ溶液の混合物をＲＴで２時間撹拌した。反応混合物を減圧下に濃縮し、残渣をＤＣＭで抽出し、有機層を水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートした除いた。残渣を、溶出液としてＤＣＭ／ＭｅＯＨ混合物（１００／２；ｖ／ｖから１００／５；ｖ／ｖ）を用いてシリカＨでクロマトグラフィーにかけ、０．５ｇの所望の生成物を得た。Ｍ．ｐ．＝１３０〜１３２℃
Ｆ）２−（３，４−ジクロロフェニル）−２−（３−ヒドロキシプロピル）モルホリン
０．８２ｇの水素化アルミニウムリチウムの１０mlＴＨＦ懸濁液を６０℃に加熱し、２ｇの先のステップで得られた化合物の２０mlＴＨＦ溶液を滴下し、混合物を還流下で３０分撹拌した。冷却後、１mlの水、１mlの４ＮＮａＯＨ、次いで３mlの水を加えた。ミネラル塩をセライト（登録商標）で濾過して除き、濾液をデカンテーションし、有機層を減圧下でエバポレートした。残渣をエーテルに取り、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、２ｇの所望の生成物を得た。
【０２９１】
ＤＭＳＯ−Ｄ6中、２００ＭＨｚでのプロトンＮＭＲ
δ： 0.8-2.2ppm: u: 4H
2.5-3.7ppm: u: 8H
4.3ppm: t: 1H
7.2-7.7ppm: u: 3H。
【０２９２】
調製例１．７： ５−［２−（ベンゾイルオキシ）エチル］−５−（３，４−ジクロロフェニル）オキサゾリジン−２−オン
Ａ）４−（ベンゾイルオキシ）−２−（３，４−ジクロロフェニル）−２−ヒドロキシブチルアミン塩酸塩
ＨＣｌガスを飽和させたエーテル容器を、１２ｇの調製例１．３のステップＤで得られた化合物の５０mlのＭｅＯＨ溶液に、ｐＨが１になるまでＲＴで加え、反応混合物をＲＴで１時間撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣をＤＣＭに取り、生成した沈殿をしぼり、エーテルで洗浄して、３．４ｇの所望の生成物を、プロパン−２−オールから再結晶した後に得た。Ｍ．ｐ．＝２００〜２０４℃。
【０２９３】
Ｂ）５−［２−（ベンゾイルオキシ）エチル］−５−（３，４−ジクロロフェニル）オキサゾリジン−２−オン
１．４ｇの１，１’−カルボニルジイミダゾールを、３ｇの先のステップで得られた化合物及び０．８５ｇのトリエチルアミンの３０ml１，２−ジクロロエタン溶液にＲＴで加え、反応混合物をＲＴで３０分撹拌し、次いで、２時間５０℃で加熱した。これを減圧下で濃縮し、残渣を水に取り、ＤＣＭで抽出し、有機層をｐＨ２のバッファー溶液及び水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、３ｇの所望の化合物を得た。
【０２９４】
ＤＭＳＯ−Ｄ6中、２００ＭＨｚでのプロトンＮＭＲ
δ： 2.6ppm: mt: 2H
3.75ppm: AB系: 2H
4.35ppm: mt: 2H
7.4-7.8ppm: u: 8H
7.9ppm: s: 1H。
【０２９５】
調製例１．８： ６−（３，４−ジクロロフェニル）−１−メチル−６−［２−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）エチル］ピペラジン−２，３−ジオン
Ａ）２−（３，４−ジクロロフェニル）−２−（メチルアミノ）アセトニトリル塩酸塩
１０ｇのジクロロベンズアルデヒド及び９．５ｇのシアノトリメチルシランの混合物を氷浴で冷却し、１０mgのヨウ化亜鉛を加え、混合物をＲＴで３０分撹拌した。次いで、２０mlの３３％のメチルアミンＥｔＯＨ溶液を加え、混合物を４０℃で２時間加熱した。溶媒を減圧下に濃縮し、残渣をエーテルで抽出し、有機層をＭｇＳＯ４で乾燥し、濾過した。ＨＣｌガスを飽和させたエーテル溶液を、ｐＨが１になるまで濾液に加え、次いで、生成物が沈殿するまでアセトンを加えた。生成した沈殿をしぼり、エーテルで洗浄し、乾燥して１２．８ｇの所望の生成物を得た。Ｍ．ｐ．＝１７２℃
Ｂ）２−（tert−ブトキシカルボニル−Ｎ−メチルアミノ）−２−（３．４−ジクロロフェニル）アセトニトリル
濃ＮａＯＨ溶液を、１２．８ｇの先のステップで得られた化合物の水性懸濁液に、ｐＨが１３になるまで加え、混合物をエーテルで抽出し、有機層をＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下でエバポレートして除いた。残渣を２０mlの１，４−ジオキサンに取り、１２．５ｇのジ−tert−ブチルジカーボネートを加え、反応混合物を６０℃で２時間加熱した。これを減圧下に濃縮し、残渣をエーテルで抽出し、有機層をｐＨ２のバッファー溶液、飽和食塩水及び１０％Ｎａ２ＣＯ３溶液で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣を、ヘプタン、次いでヘプタン／ＡｃＯＥｔ混合物（９６／４；ｖ／ｖ）を溶出液に用いてシリカのクロマトグラフィーにかけ１２．７ｇの所望の生成物を得た。これをそのまま使用した。
【０２９６】
Ｃ）２−（tert−ブトキシカルボニル−Ｎ−メチルアミノ）−２−（３，４−ジクロロフェニル）−４−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）ブタンニトリル
１１．１ｇの先のステップで得られた化合物の６０mlＤＭＦ溶液を、１．５ｇの水素化ナトリウム（６０％油中分散物）の５０mlＤＭＦ懸濁液に温度を２５℃に維持しながら加え、混合物をＲＴで１時間撹拌した。次に、８．１ｇの１−ブロモ−２−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）エタンの２０mlＤＭＦ溶液を加え、反応混合物を６０℃で４時間加熱した。ＲＴに冷却した後、これを氷とｐＨ２のバッファー溶液の混合物にあけ、エーテルで抽出し、有機層を水で２回洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣を、ヘプタン、次いでヘプタン／ＡｃＯＥｔ混合物（７５／２５；ｖ／ｖ）を溶出液に用いてシリカのクロマトグラフィーにかけ１３．２ｇの所望の生成物を得た。これをそのまま使用した。
【０２９７】
Ｄ）２−（tert−ブトキシカルボニル−Ｎ−メチルアミノ）−２−（３，４−ジクロロフェニル）−４−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）ブチルアミン
１３．２ｇの先のステップで得られた化合物及び４ｇのラネー（登録商標）ニッケルの１５０mlのＥｔＯＨと５０mlの２０％アンモニア水溶液の混合物を大気圧下３０℃で水素化した。５時間後、触媒を濾過して除き、濾液を減圧下に濃縮した。残渣をエーテルで抽出し、有機層を水で２回洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、１２．６ｇの所望の生成物を得た。これをそのまま使用した。
【０２９８】
Ｅ）２−（３，４−ジクロロフェニル）−４−ヒドロキシ−２−（メチルアミノ）ブチルアミン 塩酸塩
４．６ｇの先のステップで得られた化合物及び１０mlの濃塩酸溶液の４０mlＭｅＯＨ中の混合物を１時間７０℃で加熱した。次に、溶媒を減圧下に濃縮し、残渣をアセトンに取り、生成した沈殿をしぼり、エーテルで洗浄し、乾燥して２．７９ｇの所望の生成物を得た。Ｍ．ｐ．＝２４０℃（分解）。
【０２９９】
Ｆ）６−（３，４−ジクロロフェニル）−６−（２−ヒドロキシエチル）−１−メチルピペラジ−２，３−ジオン
濃ＮａＯＨ溶液を、５．３ｇの先のステップで得た化合物の水性懸濁液にｐＨが１３になるまで加え、混合物をエーテルで抽出し、有機層をＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。得られた生成物（４ｇ）を５０mlのＥｔＯＨに取り、２．５７ｇの蓚酸ジエチルを加え、反応混合物をＲＴで１時間撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣を６０mlのトルエンに取り、７０時間還流した。これを減圧下に濃縮し、ＤＣＭから結晶化した後、２．８ｇの所望の生成物を得た。Ｍ．ｐ．＝２６０℃。
【０３００】
Ｇ）６−（３，４−ジクロロフェニル）−１−メチル−６−［２−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）エチル］ピペラジン−２，３−ジオン
０．１ｇのｐ−トルエンスルホン酸、次いで１．２６mlの３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピランを、２．８ｇの先のステップで得られた化合物のＤＣＭ懸濁液に加え、反応混合物をＲＴで一夜撹拌した。これを１０％Ｎａ２ＣＯ３溶液及び水で洗浄し、有機層をＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣を、ＡｃＯＥｔ、次いでＡｃＯＥｔ／ＭｅＯＨ混合物（９３／７；ｖ／ｖ）を溶出液に用いてシリカのクロマトグラフィーにかけ、３．１ｇの所望の生成物を得た。これをそのまま使用した。
【０３０１】
調製例１．９： ２−（３，４−ジクロロフェニル）−１−メチル−２−［２−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）エチル］ピペラジン
２ｇの調製例１．８で得られた化合物の２０mlＴＨＦ溶液を、１．２ｇの水素化アルミニウムリチウムの２０mlＴＨＦ懸濁液に加え、混合物を１時間還流した。冷却した後、５mlの水を加え、ミネラル塩を濾過して除き、濾液を減圧下に濃縮し、残渣をエーテルに取り、有機層をＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、１．９ｇの所望の生成物を油状物の形態で得た。
【０３０２】
調製例１．１０： ６−［２−（ベンゾイルオキシ）エチル］−６−（３，４−ジフルオロフェニル）モルホリン−３−オン
Ａ）２−（３，４−ジフルオロフェニル）−２−ヒドロキシアセトニトリル
８０．２ｇのＮａ２Ｓ２Ｏ５の２５０ml水溶液を５０℃に加熱し、５０ｇの３，４−ジフルオロベンズアルデヒドを加え、反応混合物を１時間５０℃で撹拌し、一夜ＲＴに放置した。これを０℃に冷却し、７７．７ｇのＫＣＮの１００ml水溶液を加え、混合物を、温度をＲＴにあげながら撹拌し、次いで撹拌を１時間ＲＴで続けた。反応混合物をエーテルで抽出し、有機層を水で乾燥し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして４８ｇの所望の生成物を得た。これをそのまま使用した。
【０３０３】
Ｂ）２−（３，４−ジフルオロフェニル）−２−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）アセトニトリル
４８ｇの先のステップで得られた化合物及び０．２ｇのｐ−トルエンスルホン酸一水和物の５００mlＤＣＭ溶液を０℃に冷却し、２８．６ｇの３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピランの５０mlＤＣＭ溶液を滴下し、混合物を、温度をＲＴにあげながら撹拌し、次いで撹拌をＲＴで一夜継続した。反応混合物を減圧下に濃縮し、残渣をＤＣＭで抽出し、有機層を１０％Ｎａ２ＣＯ３溶液及び水で洗浄しＮａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣を、溶出液としてトルエン／ＡｃＯＥｔ混合物（１００／１５；ｖ／ｖ）を使用してシリカのクロマトグラフィーにかけ、４３ｇの所望の生成物を得た。これをそのまま使用した。
【０３０４】
Ｃ）４−（ベンゾイルオキシ）−２−（３，４−ジフルオロフェニル）−２−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）ブタンニトリル
１３３mlの、リチウムジイソプロピルアミドの１．５ＭＴＨＦ溶液を−６０℃に冷却し、４３ｇの先のステップで得た化合物の２５０mlＴＨＦ溶液を滴下し、混合物を−６０℃で３０分撹拌した。次に、４５．８ｇの安息香酸２−ブロモエチルの１００mlのＴＨＦ溶液を−６０℃で滴下し、反応混合物を、温度をＲＴにあげながら撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣をエーテルで抽出し、有機層を水及びｐＨ４のバッファー溶液で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣を、溶出液としてトルエン／ＡｃＯＥｔ混合物（１００／５；ｖ／ｖ）を使用してシリカのクロマトグラフィーにかけ、４７ｇの所望の生成物を得た。これをそのまま使用した。
【０３０５】
Ｄ）４−（ベンゾイルオキシ）−２−（３，４−ジフルオロフェニル）−２−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）ブチルアミン
４７ｇの先のステップで得た化合物及び１０ｇのラネー（登録商標）ニッケルの４００mlＥｔＯＨ混合物を大気圧下ＲＴで水素化した。触媒を濾過して除き、濾液を減圧下に濃縮した。残渣を水に取り、エーテルで抽出し、有機層を水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして４５ｇの所望の生成物を得た。これをそのまま使用した。
【０３０６】
Ｅ）４−（ベンゾイルオキシ）−２−（３，４−ジフルオロフェニル）−２−ヒドロキシブチルアミン 塩酸塩
ＨＣｌガスを飽和させたエーテル溶液を、４５ｇの先のステップで得た化合物の２５０mlＭｅＯＨ溶液に、ＲＴでｐＨが１になるまで加え、反応混合物をＲＴＲで３０分撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣をエーテルに取り、生成した沈殿をしぼり、エーテルで洗浄し、１５ｇの所望の生成物をプロパン−２−オールから再結晶した後に得た。Ｍ．ｐ．＝２０２〜２０４℃。
【０３０７】
Ｆ）Ｎ−（２−クロロアセチル）−４−（ベンゾイルオキシ）−２−（３，４−ジフルオロフェニル）−２−ヒドロキシブチルアミン
１２．２ｇの先のステップで得た化合物及び７．８８ｇのトリエチルアミンの１００mlＤＣＭ溶液を０℃に冷却し、３．８５ｇの塩化クロロアセチルの１００mlＤＣＭ溶液を滴下し、反応混合物を３０分撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣をエーテル／ＡｃＯＥｔ混合物（５０／５０；ｖ／ｖ）で抽出し、優位層を水、ｐＨ４のバッファー溶液及び水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして１３．５ｇの所望の生成物を得た。これをそのまま使用した。
【０３０８】
Ｇ）６−［２−（ベンゾイルオキシ）エチル］−６−（３，４−ジフルオロフェニル）モルホリン−３−オン
１３．５ｇの先のステップで得た化合物及び２０．７ｇのＫ２ＣＯ３の１００mlトルエン混合物を一夜還流した。反応混合物を減圧下に濃縮し、残渣をエーテルに取り、混合物を濾過した。濾液を水、ｐＨ２のバッファー溶液、及び水で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣を、ＤＣＭ／ＭｅＯＨ混合物（１００／１；ｖ／ｖ）を溶出液に用い、シリカＨのクロマトグラフィーにかけ、４．９ｇの所望の生成物を得た。
【０３０９】
DMSO-D6中、２００ＭＨｚでのプロトンＮＭＲ
δ： 2.35ppm: mt: 2H
3.65ppm: AB系: 2H
3.8-4.35ppm: u: 4H
7.1-7.8ppm: u: 8H
8.2ppm: s: 1H。
【０３１０】
調製例１．１１
２−（３，４−ジフルオロフェニル）−２−（２−ヒドロキシエチル）モルホリン
１．８ｇの水素化アルミニウムリチウムの２０mlＴＨＦ懸濁液を、２．８ｇの調製例１．１０で得た化合物の２０mlＴＨＦ溶液にＲＴで滴下し、次に混合物を５時間還流した。冷却後、２mlの水、２mlの４ＮＮａＯＨ、次いで６mlの水を加得た。ミネラル塩を濾過して除き、濾液を減圧下に濃縮した。残渣をＤＣＭに溶解し、ＨＣｌガスを飽和させたエーテル溶液を加えてｐＨ１まで酸性にし、水で抽出し、水層をエーテルで洗浄し、濃ＮａＯＨ溶液を加えてｐＨ８までアルカリ性にし、ＤＣＭで抽出し、有機層を水で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、０．７７ｇの所望の生成物を得た。これを例２７、ステップＡにそのまま使用した。
【０３１１】
調製例１．１２
５−［２−（ベンゾイルオキシ）エチル］−５−（３，４−ジフルオロフェニル）オキサゾリジン−２−オン
１ｇの１，１’−カルボニルジイミダゾールを、２．１ｇの、調製例１．１０のステップＥで得た化合物及び０．６３ｇのトリエチルアミンの５０ml１，２−ジクロロエタン溶液にＲＴで加え、反応混合物を１時間ＲＴで撹拌し、２時間５０℃で加熱した。これを減圧下に濃縮し、残渣をＤＣＭで抽出し、有機層を水、ｐＨ２のバッファー溶液及び水で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして１．５ｇの所望の生成物を得た。
【０３１２】
調製例１．１３
５−（３，４−ジクロロフェニル）−１−メチル−５−［２−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）エチル］イミダゾリジン−２−オン
Ａ）２−（３，４−ジクロロフェニル）−２−（メチルアミノ）−４−テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）ブチルアミン
３．４ｇの調製例１．８のステップＥで得た化合物、０．０５ｇのｐ−トルエンスルホン酸一水和物及び２．１mlの３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピランの３０mlＤＭＦ混合物を６０℃で４５分間加熱した。反応混合物を氷にあけ、濃ＮａＯＨを加えてアルカリ性にし、エーテルで抽出し、有機層を水で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、４．３ｇの所望の生成物を得た。これをそのまま使用した。
【０３１３】
Ｂ）５−（３，４−ジクロロフェニル）−１−メチル−５−［２−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）エチル］イミダゾリジン−２−オン
１．６ｇの１，１’−カルボニルジイミダゾールを、３．２ｇの先のステップで得た化合物の１００ml１，２−ジクロロエタン溶液に加え、反応混合物をＲＴで３０分撹拌した。次にこれを２時間６０℃で加熱し、減圧下に濃縮した。残渣をＡｃＯＥｔで抽出し、有機層をｐＨ２のバッファー溶液、飽和ＮａＣｌ溶液及び１０％Ｎａ２ＣＯ３溶液で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣をＤＣＭ、次いでＤＣＭ／ＭｅＯＨ混合物（９８／２；ｖ／ｖ）を溶出液として用いてシリカＨでクロマトグラフィーにかけ、２．４ｇの所望の生成物を油状物の形態で得た。
【０３１４】
調製例１．１４
６−［３−（ベンゾイルオキシ）プロピル］−６−（３，４−ジクロロフェニル）モルホリン−３−オン
７．５ｇの、調製例１．６のステップＤで得た化合物、９．３ｇのＫ２ＣＯ３及び３．７５ｇのヨウ化ナトリウムの１００mlメチルエチルケトン混合物を一夜還流した。冷却した後、反応混合物を減圧下に濃縮し、残渣をエーテルに取り、ミネラル塩を濾過して除き、濾液をｐＨ２のバッファー溶液及び水で洗浄し、有機層をＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣を、溶出液としてＤＣＭ、次いでＤＣＭ／ＭｅＯＨ混合物（９９／１；ｖ／ｖから９８／２；ｖ／ｖ）のグラジェントを用いてシリカＨのクロマトグラフィーにかけ、１．３ｇの所望の生成物を得た。
【０３１５】
DMSO-D6中、２００ＭＨｚでのプロトンＮＭＲ
δ： 1.1-2.3ppm: u: 4H
3.65ppm: AB系: 2H
3.8-4.4ppm: u: 4H
7.2-8.05ppm: u: 8H
8.2ppm: s: 1H。
【０３１６】
調製例１．１５
６−［２−（ベンゾイルオキシ）エチル］−６−（３，４−ジフルオロフェニル）モルホリン−３−オン （−）異性体
Ａ）４−（ベンゾイルオキシ）−２−（３，４−ジフルオロフェニル）−２−ヒドロキシブチルアミン，（＋）異性体
４１ｇのＬ−（＋）酒石酸の１２０mlＭｅＯＨ溶液を還流温度に加熱し、次いで８１．４ｇの、調製例１．１０のステップＥで遊離の塩基の形態で得た化合物の２００mlＭｅＯＨ溶液を一度にすべて加え、温度をＲＴに戻しながら混合物を４８時間結晶化させた。生成した結晶をしぼり、エーテルで洗浄して４２．５ｇの酒石酸塩を得た。
【０３１７】
［α］Ｄ ２０＝＋３６．２°（ｃ＝１；ＤＭＦ）。
【０３１８】
得られた塩を１４５０mlの７０°ＥｔＯＨから再結晶し、結晶が生成した後、３５ｇの酒石酸塩をしぼり、エーテルで洗浄した。
【０３１９】
［α］Ｄ ２０＝＋３８．９°（ｃ＝１；ＤＭＦ）。
【０３２０】
得られた塩を２０００mlのＡｃＯＥｔに取り、４０mlの１０％Ｎａ２ＣＯ３溶液を加え、次いで撹拌とデカンテーションの後に、有機層を水で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートし、イソエーテル／ペンタン混合物から結晶化した後に所望の生成物を得た。Ｍ．ｐ．＝１００．５〜１００．６°
［α］Ｄ ２０＝＋４２．５°（ｃ＝１；ＭｅＯＨ）。
【０３２１】
Ｂ）Ｎ−（２−クロロアセチル）−４−（ベンゾイルオキシ）−２−（３，４−ジフルオロフェニル）−２−ヒドロキシブチルアミン，（＋）異性体
２３．５ｇの先のステップで得た化合物及び８．１ｇのトリエチルアミンの３００mlＤＣＭ溶液を０℃に冷却し、８．３ｇの塩化クロロアセチルの５０mlＤＣＭ溶液を滴下し、反応混合物を０℃で３０分撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣をＡｃＯＥｔ／エーテル混合物（５０／５０；ｖ／ｖ）で抽出し、有機層をｐＨ２のバッファー溶液で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、２４．８ｇの所望の生成物を、イソエーテル／ペンタン混合物から結晶化した後に得た。
【０３２２】
［α］Ｄ ２０＝＋２６．１°（ｃ＝１；ＭｅＯＨ）。
【０３２３】
Ｃ）６−［２−（ベンゾイルオキシ）エチル］−６−（３，４−ジフルオロフェニル）モルホリン−３−オン，（−）異性体
２３．６ｇの先のステップで得られた化合物の７５０mlＴＨＦ溶液を０℃に冷却し、１３．７ｇのカリウムtert−ブチレートを加え、反応混合物を１５分撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣をＡｃＯＥｔに取り、有機層をｐＨ２のバッファー溶液及び水で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣をＤＣＭ／ＭｅＯＨ混合物（１００／１；ｖ／ｖから１００／１．５；ｖ／ｖ）を用いてシリカＨのクロマトグラフィーにかけ、１４．５ｇの所望の生成物をヘプタンから結晶化した後、所望の生成物を得た。
【０３２４】
［α］Ｄ ２０＝−７．１°（ｃ＝１；ＭｅＯＨ）。
【０３２５】
調製例１．１６
６−［２−（ベンゾイルオキシ）エチル］−６−（３，４−ジフルオロフェニル）モルホリン−３−オン，（＋）異性体
Ａ）４−（ベンゾイルオキシ）−２−（３，４−ジフルオロフェニル）−２−ヒドロキシブチルアミン，（−）異性体
調製例１．１５のステップＡで調製した酒石酸塩を結晶化し、次いで再結晶してから得られた、しぼり取り、洗浄した母液を減圧下に濃縮した。残渣を１０％Ｎａ２ＣＯ３溶液で処理し、ＡｃＯＥｔで抽出し、有機層をＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートし、４９ｇのアミノアルコールを異性体の混合物の形態で得た。このアミノアルコールを１２０mlのＭｅＯＨに溶解し、この溶液を、２４．１ｇのＤ−（−）−酒石酸の７３０mlＭｅＯＨ還流溶液に一度にすべて加えた。この混合物を、温度をＲＴに戻しながら４８時間結晶化させた。生成した結晶をしぼり、エーテルで洗浄し４０．７ｇの酒石酸塩を得た。
【０３２６】
得られた塩を１４４５mlの７０°ＥｔＯＨから再結晶し、生成した結晶をしぼり、エーテルで洗浄した後、３５ｇの酒石酸塩を得た。得られた塩を２０００mlのＡｃＯＥｔに取り、１０％Ｎａ２ＣＯ３溶液を加え、次いで撹拌とデカンテーションをした後、有機層を水で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、２７ｇの所望の生成物を得た。Ｍ．ｐ．＝１０２℃
［α］Ｄ ２０＝−４０．５°（Ｃ＝１；ＭｅＯＨ）。
【０３２７】
Ｂ）Ｎ−（２−クロロアセチル）−４−（ベンゾイルオキシ）−２−（３，４−ジフルオロフェニル）−２−ヒドロキシブチルアミン，（−）異性体
２７ｇの先のステップで得られた化合物及び１３mlのトリエチルアミンの５００mlＤＣＭ溶液を−３０℃に冷却し、５．８ｇの塩化クロロアセチルを滴下し、反応混合物を１５分撹拌した。次にこれを水、１ＮＨＣｌ溶液及び１０Ｎａ２ＣＯ３で洗浄し、有機層をＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートしてイソエーテル／ペンタン混合物から結晶化した後、２８．６ｇの所望の化合物を得た。Ｍ．ｐ．＝６３℃
［α］Ｄ ２０＝−３１．５°（ｃ＝１；ＭｅＯＨ）。
【０３２８】
Ｃ）６−［２−（ベンゾイルオキシ）エチル］−６−（３，４−ジフルオロフェニル）モルホリン−３−オン，（＋）異性体
２８．５ｇの先のステップで得られた化合物の２５０mlＴＨＦ溶液を−３０℃に冷却し、１８．５ｇのカリウムtert−ブチレートを一度にすべて加え、反応混合物を４５分撹拌した。これを１００mlのｐＨ２のバッファー溶液にあけ、エーテルで抽出した。有機層をＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒をエバポレートして除き、エーテル／イソエーテル混合物から結晶化した後に、２０．５ｇの所望の生成物を得た。Ｍ．ｐ．＝９２℃
［α］Ｄ ２０＝＋８．２°（ｃ＝１；ＭｅＯＨ）。
【０３２９】
調製例１．１７
２−［２−（ベンゾイルオキシ）エチル］−２−（３，４−ジフルオロフェニル）モルホリン，（−）異性体
１２ｇの調製例１．１５で得た化合物（（−）異性体）の７５mlＴＨＦ溶液を、１００mlのボランの１ＭＴＨＦ溶液にＲＴで滴下し、反応混合物を３０分ＲＴで撹拌した。次に、これを３時間還流し、４０mlのボランの１ＭＴＨＦ溶液を加え、３０分間流を続けた。８０mlの沸騰ＭｅＯＨを加え、３０分間還流を続けた。反応混合物を氷浴で冷却し、ＨＣｌガスを飽和させたエーテル溶液３０mlを加え、反応混合物をＲＴで一夜撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣を１０％Ｎａ２ＣＯ３溶液に取り、エーテルで抽出し、有機層を水及び飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒をエバポレートして除き、１１．２ｇの所望の生成物を油状物の形態で得た。
【０３３０】
調製例１．１８
２−［２（ベンゾイルオキシ）エチル］−２−（３，４−ジフルオロフェニル）モルホリン，（＋）異性体
１９．９ｇの調製例１．１６で得た化合物（（＋）異性体）及び３００mlの、ボランの１ＭＴＨＦ溶液の混合物を６０℃で２時間加熱した。６０mlの沸騰したＭｅＯＨを加え、還流を３０分続けた。反応混合物を１０度に冷却し、５０mlの、ＨＣｌガスを飽和させたエーテル溶液を加え、反応混合物をＲＴで一夜放置した。これを減圧下に濃縮し、残渣を３００mlの１０％Ｎａ２ＣＯ３に取り、３００mlのエーテルを加え、混合物を３０分撹拌した。デカンテーションした後、有機層をＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き２０ｇの所望の生成物を油状物の形態で得た。
【０３３１】
調製例１．１９
２−［２−（ベンゾイルオキシ）エチル］−２−（３，４−ジクロロフェニル）モルホリン
６ｇの調製例１．４で得た化合物の３０mlＴＨＦ溶液を、ボランの１ＭＴＨＦ溶液７６mlにＲＴで加え、次いで混合物を４時間還流した。３０mlのＭｅＯＨを滴下し、３０分還流を続けた。反応混合物を０℃に冷却し、３０mlの、ＨＣｌガスを飽和させたエーテル溶液を加え、反応混合物をＲＴで一夜撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣を１０％Ｎａ２ＣＯ３溶液に取り、エーテルで抽出し、有機層を１０％Ｎａ２ＣＯ３溶液及び水で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き５ｇの所望の生成物を得た。
【０３３２】
調製例１．２０
５−［２（ベンゾイルオキシ）エチル］−２−（３，４−ジフルオロフェニル）オキサゾリジン−２−オン，（−）異性体
４ｇの調製例１．１６で得た化合物（（−）異性体）及び２．２ｇの１，１’−カルボニルジイミダソールの４０ｍｌＤＣＭ混合物をＲＴで３０分撹拌し、次いで１時間還流した。ＲＴに冷却した後、反応混合物を１ＮＨＣｌ溶液で１回洗浄し、有機層をＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、イソエーテルから結晶化した後、４．１８ｇの所望の生成物を得た。Ｍ．ｐ．＝１４７℃
［α］Ｄ ２０＝−６２．２°（ｃ＝１；ＤＭＦ）。
【０３３３】
調製例１．２１
２−［２−（ベンゾイルオキシ）エチル］−２−（３，４−ジフルオロフェニル）モルホリン
４８ｇの調製例１．１０で得た化合物を、ボランの１ＭＴＨＦ溶液７００mlに一部ずつＲＴで加え、次に６０℃で２時間加熱した。１５０mlのＭｅＯＨを滴下し、加熱を３０分継続した。反応混合物を１０℃に冷却し、ＨＣｌを飽和したエーテル溶液１２０mlを加え、反応混合物をＲＴで一夜放置した。これを減圧下に濃縮し、残渣を６００mlの飽和Ｎａ２ＣＯ３溶液及び５００mlのエーテルに取り、この混合物を１時間ＲＴで撹拌した。デカンテーションした後、有機層を水で乾燥し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣を４００mlのプロパン−２−オールに取り、１５ｇの蟻酸を加え、混合物を３０分撹拌し、生成した沈殿をしぼった。これを４００mlの１０％Ｎａ２ＣＯ３溶液に取り、エーテルで抽出し、有機層をＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、２２ｇの所望の生成物を油状物の形態で得た。
【０３３４】
調製例１．２２
５−［２−（ベンゾイルオキシ）エチル］−２−（３，４−ジクロロフェニル）オキサゾリジン
４ｇの３７％ホルムアルデヒド水溶液を、９ｇの調製例１．７のステップＡで得た化合物（遊離の塩基の形態）の１００mlＴＨＦ溶液に加え、次にこの混合物を３０分還流し、一夜ＲＴで撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣をエーテルで抽出し、有機層を水で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、９ｇの所望の生成物を得た。
【０３３５】
DMSO-D6中、２００ＭＨｚでのプロトンＮＭＲ
δ： 2.4ppm: mt: 2H; 3.2ppm: mt: 2H; 3.8-5.0ppm: u: 4H; 7.0-8.0ppm: u: 8H。
【０３３６】
調製例１．２３
この化合物を、調製例１．１５のステップＡで得た化合物（（＋）異性体）から調製例１．２０に開示した手順により調製した。
【０３３７】
［α］Ｄ ２０＝＋６１°（ｃ＝１；ＤＭＦ）。
【０３３８】
調製例２．１
４−フェニル−４−（ピロリジン−１−イルカルボニル）ピペリジン半水和物Ａ）１−tert−ブトキシカルボニル−４−カルボキシ−４−フェニルピペリジン３０mlの水及び３２．９ｇのＫ２ＣＯ３を、３０ｇの４−カルボキシ−４−フェニルピペリジンｐ−トルエンスルホネート及び３００mlのジオキサンの混合物に加え、次に得られた混合物を６０℃に加熱し、１．８２ｇのジ−tert−ブチルジカーボネートを滴下した。次に反応混合物を、６０℃で２時間、還流温度で３０分加熱した。ＲＴに冷却した後、これを減圧下に濃縮し、残渣をＤＣＭで抽出し、有機層をｐＨ２のバッファー溶液で洗浄し、２ＮＨＣｌを添加して、ｐＨ４に酸性化し、ｐＨ２のバッファー溶液、水及び飽和ＮａＣｌ水溶液で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き２３．７ｇの所望の生成物を得た。
【０３３９】
Ｂ）１−tert−ブトキシカルボニル−４−（ピロリジン−１−イルカルボニル）−４−フェニルピペリジン
９．２９ｇのトリエチルアミン、次いで３．２７ｇのピロリジンを、１４ｇの先のステップで得た化合物の２００mlＤＣＭ溶液に加えた。この混合物を氷浴で冷却し、２２．４ｇのＢＯＰを加え、反応混合物を、温度をＲＴに戻しながら撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣をＤＣＭで抽出し、有機層を水、１０％Ｎａ２ＣＯ３溶液で３回、水及び飽和ＮａＣｌ水溶液で３回洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、１６．４ｇの所望の生成物を得た。
【０３４０】
Ｃ）４−フェニル−４−（ピロリジン−１−イルカルボニル）ピペリジン半水和物
濃ＨＣｌ溶液を、１６．４ｇの先のステップで得られた化合物の２００mlＭｅＯＨ溶液に、ｐＨが１になるまで加え、反応混合物をＲＴで５時間撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣をアセトンに取り、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、白色の固体を得た。これをプロパン−２−オールから再結晶した。得られた生成物を１０％ＮａＯＨ溶液に取り、ＤＣＭで抽出し、有機層を１０％ＮａＯＨ及び飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、７ｇの所望の生成物をエーテルから結晶化した後に得た。Ｍ．ｐ．＝１２６℃。
【０３４１】
調製例２．２
４−（Ｎ’，Ｎ’−ジメチルウレイド）−４−フェニルピペリジンｐ−トルエンスルホネート 半水和物
Ａ）４−アセトアミド−１−ベンジル−４−フェニルピペリジン
この化合物を、ＥＰ−Ａ−４７４５６１に開示された方法によってアセトニトリルと１−ベンジル−４−ヒドロキシ−４−フェニルピペリジンを反応させることによって調製した。
【０３４２】
Ｂ）４−アミノ−１−ベンジル−４−フェニルピペリジン 二塩酸塩
３０ｇの先のステップで得た化合物と濃ＨＣｌ溶液５８mlの水１３５ml中の混合物を、４８時間還流した。反応混合物を減圧下に濃縮し、残渣をＥｔＯＨ／トルエン混合物に取り、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣を５０mlのＭｅＯＨに溶解し、２５０mlのアセトンを加え、結晶化し、３０．５ｇの所望の生成物を、しぼり、乾燥させた後に得た。
【０３４３】
Ｃ）１−ベンジル−４−（Ｎ’，Ｎ’−ジメチルウレイド）−４−フェニルピペリジン
１．９ｇのＮ，Ｎ−ジメチルカルバモイルクロライドの１０ml１，２−ジクロロエタン溶液を、６ｇの先のステップで得た化合物及び７．１４ｇのトリエチルアミンの５０ml１，２−ジクロロエタン溶液にＲＴで滴下し、混合物を８時間還流した。Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルクロライドを更に数滴加え、還流を３時間継続した。反応混合物を減圧下に濃縮し、残渣をＤＣＭで抽出し、有機層を水、１０％ＮａＯＨ溶液、水及び飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣をＤＣＭ／ＭｅＯＨ混合物（９９／１；ｖ／ｖから９６／４；ｖ／ｖ）を溶出液に用い、シリカでクロマトグラフィーにかけ、１．８ｇ所望の生成物を得た。
【０３４４】
Ｄ）４−（Ｎ’，Ｎ’−ジメチルウレイド）−４−フェニルピペリジン ｐ−トルエンスルホネート半水和物
１．８ｇの先のステップで得た化合物、１．１１ｇのｐ−トルエンスルホン酸一水和物、及び０．２ｇの１０％パラジウム−炭の９５°ＥｔＯＨ１５０ml混合物を４０℃、大気圧下で水素化した。触媒をセライト（登録商標）で濾過して除き、濾液を減圧下にエバポレートして除いた。残渣をアセトンに取り、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。得られた生成物を２５mlのアセトンに溶解し、この溶液を２００mlのエーテルにゆっくり加え、生じた結晶性生成物をしぼり、１．８６ｇの所望の生成物を得た。Ｍ．ｐ．＝１２０〜１２２℃。
【０３４５】
調製例２．３
４−（アセチル−Ｎ−メチルアミノ）−４−フェニルピペリジン ｐ−トルエンスルホネート
Ａ）１−ベンジル−４−（ホルミルアミノ）−４−フェニルピペリジン
１１０mlの無水酢酸を、４８．９ｇの調製例２．２のステップＢで得た化合物及び２５ｇの蟻酸ナトリウムの３４０ml蟻酸溶液に滴下し、反応混合物をＲＴで一夜撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣を水に取り、濃ＮａＯＨ溶液を加えてアルカリ性にし、ＤＣＭで抽出し、有機層をＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、３８．８ｇの所望の生成物を、イソエーテル／ペンタン混合物から結晶化した後に得た。Ｍ．ｐ．＝１４０℃。
【０３４６】
Ｂ）１−ベンジル−４−（メチルアミノ）−４−フェニルピペリジン
３８．８ｇの先のステップで得た化合物の４００mlＴＨＦ溶液を、１２．５ｇの水素化アルミニウムリチウムの１００mlＴＨＦ懸濁液にゆっくり加え、混合物を３時間還流した。冷却後、５mlの濃ＮａＯＨの４５ml水溶液を反応混合物に加え、ミネラル塩を濾過して除き、濾液を減圧下にエバポレートして除き、３８ｇの所望の生成物を得た。
【０３４７】
Ｃ）４−（アセチル−Ｎ−メチルアミノ）−１−ベンジル−４−フェニルピペリジン
３０ｇの先のステップで得た化合物及び１６．５ｇのトリエチルアミンの３００mlＤＣＭ溶液を０〜５℃に冷却し、８mlの塩化アセチルを滴下し、反応混合物をＲＴで３０分撹拌した。これを水で２回、及び２ＮＮａＯＨ溶液で洗浄し、有機層をＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、３１．６ｇの所望の生成物を、イソエーテル／ペンタン混合物から結晶化して得た。Ｍ．ｐ．＝１０４℃。
【０３４８】
Ｄ）４−（アセチル−Ｎ−メチルアミノ）−４−フェニルピペリジン ｐ−トルエンスルホネート
５ｇの先のステップで得た化合物、２．９ｇのｐ−トルエンスルホン酸一水和物、０．５ｇの１０％パラジウム−炭、及び８０mlのＥｔＯＨの混合物を３時間２５℃、大気圧下で水素化した。触媒を濾去し、濾液を点圧下に濃縮して、アセトンから結晶化した後、所望の生成物５．７ｇを得た。Ｍ．ｐ．＝１６５℃。
【０３４９】
調製例２．４
４−（エトキシカルボニルアミノ）−４−フェニルピペリジントリフルオロアセテート
Ａ）１−tert−ブトキシカルボニル−４−イソシアナト−４−フェニルピペリジン
２５ｇの調製例２．１のステップＡで得た化合物及び１０．３５ｇのトリエチルアミンの１００mlアセトン溶液を０〜５℃に冷却し、８．７ｇのクロロ蟻酸メチルの３０mlアセトン溶液を５℃以下の温度で滴下し、この混合物を５℃で３０分撹拌した。次に、１０．６６ｇのナトリウムアジドの３０ml水溶液を５℃以下の温度で滴下し、反応混合物を５℃で３０分撹拌した。これを５００mlの氷水にあけ、トルエンで４回抽出し、有機層をｐＨ２のバッファー溶液で２回、及び飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、濾過した。濾液を９０℃で１時間加熱し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、１８．９ｇの所望の生成物を油状物の形態で得た。
【０３５０】
Ｂ）１−tert−ブトキシカルボニル−４−（エトキシカルボニルアミノ）−４−フェニルピペリジン
６．２８ｇの先のステップで得た１００mlのＥｔＯＨ溶液を５時間３０分還流した。２滴のトリエチルアミンを加え、次いで混合物をＲＴで一夜撹拌し、減圧下に濃縮して７．２５ｇの所望の生成物を得た。
【０３５１】
Ｃ）４−（エトキシカルボニルアミノ）−４−フェニルピペリジン トリフルオロアセテート
７．２５ｇの先のステップで得られた化合物の２０mlＴＦＡ溶液をＲＴで３０分撹拌し、次いで減圧下に濃縮した。残渣をアセトンに取り、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、６．０２ｇの所望の生成物を、アセトン／エーテル混合物から結晶化した後に得た。Ｍ．ｐ．＝１７３℃。
【０３５２】
調製例２．５
４−ベンジルキノクリジン
Ａ）１，４−ジベンジル−４−シアノピペリジン
１５ｇの４−シアノピペリジンの２５０ｍｌＴＨＦ溶液を−５０℃に冷却し、リチウムジイソプロピルアミドの１．５Ｍシクロヘキサン溶液１９０mlを滴下し、混合物を−５０℃で３０分撹拌した。次に、３４mlの臭化ベンジルを加え、混合物を、温度をＲＴに上げながら３時間撹拌した。反応混合物を氷／濃ＨＣｌ混合物にあけ、エーテルを加え、生成した沈殿をしぼり、水で洗浄した。沈殿を水に取り、濃ＮａＯＨ溶液を加えてｐＨ１２までアルカリ性にし、エーテルで抽出し、有機層をＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、ペンタンから結晶化した後に３１．７ｇの所望の生成物を得た。Ｍ．ｐ．＝９２℃。
【０３５３】
Ｂ）４−アセチル−１，４−ジベンジルピペリジン塩酸塩
メチルリチウムの１．６Ｍエーテル溶液５５mlを、２０ｇの先のステップで得られた化合物の４００mlエーテル溶液に加え、反応混合物をＲＴで３時間撹拌した。これを氷水にあけ、有機層をデカンテーションし、次いでＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣を４００mlの水及び４０mlの濃ＨＣｌに取り、２時間還流した。ＲＴで一夜後、生成した結晶をしぼり、アセトン、次いでエーテルで洗浄し、乾燥して１７．６ｇの所望の生成物を得た。Ｍ．ｐ．＝２４６℃。
【０３５４】
Ｃ）１，４−ジベンジル−４−（２−ブロモアセチル）ピペリジン 臭素酸塩１．６mlの臭素を、１０ｇの先のステップで得た化合物の４０ml酢酸溶液に加え、反応混合物をＲＴで一夜撹拌した。５０mlのエーテルを加え、生成した結晶をしぼり、アセトン／エーテル混合物、次いでエーテルで洗浄し、１２．５ｇの所望の生成物を得た。Ｍ．ｐ．＝２０５℃。
【０３５５】
Ｄ）１，４−ジベンジル−３−オキソキヌクリジニウムブロマイド
濃ＮａＯＨ溶液、を１２．５ｇの先のステップで得た化合物の水性懸濁物に、ｐＨが１２になるまで加え、混合物をエーテルで抽出し、有機層をＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣をアセトンに取り、ＲＴで２時間撹拌した。沈殿をしぼり、エーテルで洗浄し、乾燥して１０．０８ｇの所望の生成物を得た。Ｍ．ｐ．＝２３４℃。
【０３５６】
Ｅ）４−ベンジル−３−オキソキヌクリジン
１０ｇの先のステップで得た化合物及び１ｇの１０％パラジウム−炭の２００mlＭｅＯＨ混合物をＲＴ、大気圧下で水素化した。触媒を濾去し、濾液を減圧下にエバポレートして除いた。残渣を、水に溶解し、濃ＮａＯＨ溶液を加えてｐＨ１２までアルカリ性にし、生成した沈殿をしぼり、水で洗浄し、乾燥して５ｇの所望の生成物を得た。Ｍ．ｐ．＝１１１℃。
【０３５７】
Ｆ）４−ベンジルキヌクリジン
５ｇの先のステップで得た化合物、２．５ｇのヒドラジン水和物及び４．３ｇのＫＯＨの２５mlエチレングリコール混合物を１７５℃で２時間加熱した。反応混合物を氷水にあけ、エーテルで抽出し、有機層を水で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣をアセトンに溶解し、塩酸を飽和させたエーテル溶液を加え、ｐＨ１に酸性化し、生成した沈殿をしぼり、アセトン／エーテル混合物（５０／５０；ｖ／ｖ）、次いでエーテルで洗浄した。沈殿を水に溶解し、濃ＮａＯＨ溶液を添加し、ｐＨ１２までアルカリ性にし、エーテルで抽出し、抽出物をＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、１．８ｇの所望の生成物を得た。Ｍ．ｐ．＝４８℃。
【０３５８】
調製例２．６
４−フェニル−４−（ピロリジン−１−イルカルボニルアミノ）−ピペリジンベンゼンスルホネート
Ａ）１−（ベンジルオキシカルボニル）−４−カルボキシ−４−フェニルピペリジン
３７．７ｇの４−カルボキシ−４−フェニルピペリジン ｐ−トルエンスルホネート、５３．３ｇの３０％ＮａＯＨ水溶液及び２５０mlの水の混合物を５℃に冷却した。１８ｇのクロロ蟻酸ベンジルの６０mlのアセトン溶液を５℃で迅速に加え、温度をＲＴにあげながら反応混合物を一夜撹拌した。これをエーテルで２回洗浄し、デカンテーションした後、水層を濃ＨＣｌ、次いで２ＮＨＣｌを添加してｐＨ１に酸性化した。生成した沈殿をしぼり、乾燥し、エーテルに取り、再度しぼり、３０．６ｇの所望の生成物を得た。Ｍ．ｐ．＝１４２〜１４４℃。
【０３５９】
Ｂ）１−（ベンジルオキシカルボニル）−４−フェニル−４−（ピロリジン−１−イルカルボニルアミノ）ピペリジン
３３．９ｇの先のステップで得られた化合物及び４７．６ｇの塩化チオニルの２００ml１，２−ジクロロエタン混合物を１時間還流した。反応混合物を減圧下に濃縮し、残渣をアセトンに取り、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣を２００mlのアセトンに溶解し、５℃に冷却し、１３ｇのナトリウムアジドの５０ml水溶液を滴下し、混合物を１時間撹拌した。１００mlのアセトンをＲＴで減圧下にエバポレートして除き、飽和ＮａＨＣＯ３溶液を残った溶液に加え、混合物をトルエンで抽出し、有機層を水及び飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥して溶媒を５０％の容量までエバポレートして除いた。残りのトルエン溶液を３０分還流し、次いで減圧下に濃縮した。残渣を２００mlのエーエルに取り、７．１ｇのピロリジンの２０mlエーテル溶液を滴下し、混合物を５分撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣をＤＣＭで抽出し、有機層を２ＮＨＣｌ溶液、５％ＮａＨＣＯ３溶液及び飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣を４０mlの熱ＡｃＯＥｔに溶解し、２００mlのエーテルを加え、生成した結晶性生成物をしぼり、３１．４ｇの所望の生成物を得た。
【０３６０】
Ｃ）４−フェニル−４−（ピロリジン−１−イルカルボニルアミノ）ピペリジン ベンゼンスルホネート
２９ｇの先のステップで得た化合物、１１．２７ｇのベンゼンスルホン酸、２ｇの１０％パラジウム−炭及び２５０mlのＥｔＯＨの混合物を４０℃、大気圧で水素化した。触媒をセライト上で濾去し、濾液を減圧下に濃縮した。残渣をＥｔＯＨ／アセトン混合物から結晶化し、２９．４ｇの所望の生成物を得た。Ｍ．ｐ．＝１８５℃。
【０３６１】
調製例２．７
４−［２−（ジメチルアミノ）チアゾール−４−イル］−４−フェニルピペリジン ｐ−トルエンスルホネート
Ａ）１，１−ジメチルチオ尿素
１０．６７ｇのカリウムチオシアネートの１００mlのアセトン溶液を氷欲で冷却し、１２．０６ｇのピバロイルクロライドの３０mlアセトン溶液を滴下し、反応混合物を、温度をＲＴにあげながら、３０分撹拌した。これを−１０℃に冷却し、１７．９mlのジメチルアミンの５．６ＮＭｅＯＨを滴下し、温度をＲＴにあげながら混合物を撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣をエーテルで抽出し、有機層を水で２回及び飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた得られた生成物を５０mlの濃ＨＣｌ溶液に取り、１時間還流した。ＲＴに冷却した後、反応混合物をエーテルで２回洗浄し、水層を、３０％ＮａＯＨ溶液でｐＨ９までアルカリ性にし、ＤＣＭで抽出し、有機層を５％ＮａＯＨ溶液及び飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣をエーテルに取り、生成した沈殿をしぼり、６．７ｇの所望の生成物を得た。
【０３６２】
Ｂ）４−（２−ブロモアセチル）−４−フェニルピペリジン 臭素酸塩
７．９ｇの臭素を、１４ｇの４−アセチル−４−フェニルピペリジン臭素酸塩の２００mlＤＣＭ懸濁液にＲＴで迅速に加え、反応混合物をＲＴで一夜撹拌した。これを２００mlのエーテルを加えて希釈し、生成した沈殿をしぼり、エーテルで洗浄して１６．７ｇの所望の生成物を減圧下に乾燥した後に得た。
【０３６３】
Ｃ）４−［２−（ジメチルアミノ）チアゾール−４−イル］−４−フェニルピペリジン ｐ−トルエンスルホネート
７．２６ｇのステップＢ）で得た化合物及び２．０８ｇのステップＡ）で得た化合物の１５０mlＥｔＯＨ混合物を１時間３０分還流した。ＲＴに冷却した後、混合物を減圧下に濃縮し、残渣を水に取り、１０％ＮａＯＨ溶液を添加し、ｐＨ１０までアルカリ性にし、ＤＣＭで抽出し、有機層を１０％ＮａＯＨ溶液及び飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。得られた生成物をアセトンに溶解し、３．３１ｇのｐ−トルエンスルホン酸一水和物の１０mlアセトン溶液を滴下し、生成した結晶性の生成物をしぼり、６．１ｇの所望の生成物を得た。Ｍ．ｐ．＝１６４℃。
【０３６４】
調製例２．８ｇ
４−（モルホリン−４−イルカルボニルアミノ）−４−フェニルピペリジン ｐ−トルエンスルホネート一水和物
Ａ）１−tert−ブトキシカルボニル−４−（モルホリン−４−イルカルボニルアミノ）−４−フェニルピペリジン
１．７４ｇのモルホリンの１０mlアセトン溶液を、６ｇの調製例２．４のステップＡで得た化合物の１００mlアセトン溶液にＲＴで滴下した。反応混合物を減圧下に濃縮し、残渣をＡｃＯＥｔで抽出し、有機層をｐＨ２のバッファー溶液及び飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、７．１ｇの所望の生成物を得た。
【０３６５】
Ｂ）４−（モルホリン−４−イルカルボニルアミノ）−４−フェニルピペリジン ｐ−トルエンスルホネート一水和物
１５mlの濃ＨＣｌ溶液を７．１ｇの先のステップで得た化合物の１００mlＭｅＯＨ溶液に加え、反応混合物をＲＴで一夜撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣を水に取り、濃ＮａＯＨ溶液を加えてｐＨ１０までアルカリ性にし、ＤＣＭで３回抽出し、あわせた有機層を飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。得られた生成物をアセトンに溶解し、３．４６ｇのｐ−トルエンスルホン酸一水和物の１０mlアセトン溶液を滴下し、混合物を減圧下に濃縮した。残渣をエーテルに取り、生成した沈殿をしぼり、７ｇの所望の生成物を得た。Ｍ．ｐ．＝９３℃。
【０３６６】
調製例２．９
４−フェニル−４−（ピロリジン−１−イルアミノカルボニル）ピペリジン ベンゼンスルホネート
Ａ）１−（ベンゾイルオキシカルボニル）−４−フェニル−４−（ピロリジン−１−イルアミノカルボニル）ピペリジン ベンゼンスルホネート
１１．５４ｇの調製例２．６のステップＡで得た化合物及び１００mlの１，２−ジクロロエタンの混合物を還流温度に加熱し、次いで１６．１８ｇの塩化チオニルを加え、反応混合物反応混合物を１時間還流し、ＲＴで一夜撹拌した。小れっを減圧下に濃縮し、残渣を１００mlのＤＣＭに溶解し、５℃に冷却し、１０．３ｇのトリエチルアミン、次いで５ｇの１−アミノピロリジン塩酸塩を順次加えた。１時間撹拌した後、反応混合物を減圧下に濃縮し、残渣をＡｃＯＥｔで抽出し、有機層を水及び飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。得られた生成物をアセトンに溶解し、エーテルを沈殿が生じるまで加え、生成した沈殿をしぼった。沈殿をＥｔＯＨに溶解し、２．６１ｇのベンゼンスルホン酸を加え、生成した沈殿をしぼり、９．３４ｇの所望の生成物を得た。
【０３６７】
Ｂ）４−フェニル−４−（ピロリジン−１−イルアミノカルボニル）ピペリジン ベンゼンスルホネート
９．３４ｇの先のステップで得た生成物、１ｇの５％パラジウム−炭、及び２００mlのＥｔＯＨの混合物を４０℃、大気圧下で３時間水素化した。結晶を濾去し、濾液を減圧下に濃縮し、６．１３ｇの所望の生成物を、ＥｔＯＨ／アセトン混合物から結晶化した後に得た。
【０３６８】
調製例２．１０
４−ベンジル−４−（ピロリジン−１−イルカルボニルアミノ）ピペリジン ｐ−トルエンスルホネート
Ａ）４−シアノピペリジン
２５ｇのイソニペコタミン（又はピペリジン−４−カルボキサミド）を、７０mlのＰＯＣｌ３にに少量ずつ加え、反応混合物を４時間還流した。これを減圧下に濃縮し、残渣を氷に取り、濃ＮａＯＨ溶液を加えたｐＨ１３までアルカリ性にし、ＤＣＭ、次いでエーテルで４回抽出し、合わせた有機層をＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。得られた油状物を減圧下に蒸留し、６．４ｇの所望の生成物を得た。２４００Ｐａ下でＢ．ｐ．＝１０８〜１１０℃。
【０３６９】
Ｂ）４−シアノ−１，４−ジベンジルピペリジン
１５ｇの先のステップで得た化合物の２５０mlＴＨＦ溶液を−５０℃に冷却し、１９０mlの、リチウムジイソプロピルアミドの１．５Ｍシクロヘキサン溶液を滴下し、混合物を−５０℃で３０分撹拌した。次に、３４mlの臭化ベンジルを加え、温度をＲＴにあげながら、反応混合物を撹拌した。ＲＴで３時間後、これを氷と濃ＨＣｌの混合物にあけ、エーテルを加え、生成した沈殿をしぼり、水で洗浄した。沈殿を水に取り、濃ＮａＯＨ溶液を加えてｐＨ１３までアルカリ性にし、エーテルで抽出し、有機層をＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、３１．７ｇの所望の生成物をペンタンから結晶化した後に得た。Ｍ．ｐ．＝９２℃。
【０３７０】
Ｃ）１，４−ジベンジル−４−カルボキシピペリジン
６ｇの先のステップで得た化合物を２５mlの水、２５mlの濃Ｈ２ＳＯ４及び２５mlのＡｃＯＨの溶液に加え、反応混合物を１４０℃で５時間加熱した。冷却後、これを氷にあけ、ｐＨを、濃ＮａＯＨ溶液を加えて６．５にし、混合物を結晶が生成するまで撹拌した。結晶性の生成物をしぼり、水で洗浄した。生成物をＭｅＯＨに取り、しぼり、エーテルで洗浄して３ｇの所望の生成物を得た。Ｍ．ｐ．＝２６２℃。
【０３７１】
Ｄ）１，４−ジベンジル−４−イソシアナトピペリジン
２ｇの先のステップで得られた化合物及び１．６ｇの五塩化リンの４０mlクロロホルム混合物を６０℃で１時間加熱した。反応混合物を減圧下に濃縮し、残渣を４０mlのアセトンに取り、２ｇのナトリウムアジドの５ml水溶液を加え、混合物をＲＴで３０分撹拌した。これをＲＴで減圧下の濃縮し、残渣をエーテルに取り、有機層を飽和Ｎａ２ＣＯ３溶液及び水で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣を４０mlのトルエンに取り、１時間還流した。これを減圧下に濃縮し、２ｇの所望の生成物を油状物の形態で得た。
【０３７２】
Ｅ）１，４−ジベンジル−４−（ピロリジン−１−イルカルボニルアミノ）ピペリジン
１．５mlのピペリジンを、５ｇの先のステップで得た化合物５０mlＤＣＭ溶液にＲＴで加え、反応混合物を２時間ＲＴで撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣をペンタンに取り、生成した沈殿をしぼり、ペンタンで洗浄して乾燥した後に４．５ｇの所望の生成物を得た。Ｍ．ｐ．＝１２６℃。
【０３７３】
Ｆ）４−ベンジル−４−（ピロリジン−１−イルカルボニルアミノ）ピペリジン ｐ−トルエンスルホネート
４．２ｇの先のステップで得た化合物、２．１ｇのｐ−トルエンスルホン酸一水和物、０．４ｇの１０％パラジウム−炭及び５０mlのＥｔＯＨ混合物を４８時間、ＲＴ、大気圧下で水素化した。触媒をセライト（登録商標）で濾去し、濾液を減圧下に濃縮した。残渣をエーテルに取り、生成した沈殿をしぼり、４．９９ｇの所望の生成物を得た。Ｍ．ｐ．＞１８０℃。
【０３７４】
調製例２．１１
４−（メトキシカルボニルアミノ）−４−フェニルピペリジン ｐ−トルエンスルホネート
６．０５ｇの調製例２．４のステップＡで得た化合物の１０mlＭｅＯＨ溶液を５時間還流した。１滴のトリエチルアミンを加え、混合物をＲＴで一夜撹拌した。濃ＨＣｌ溶液をｐＨが１になるまで加え、反応混合物を１０％ＮａＯＨ溶液に取り、ＤＣＭで抽出し、有機層を１０％ＮａＯＨ溶液及び飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。得られた生成物をアセトンに溶解し、３．５７ｇのｐ−トルエンスルホン酸一水和物の１０mlアセトン溶液を滴下し、混合物を減圧下に濃縮した。得られた生成物をエーテルに取り、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、７．１７ｇの所望の生成物を得た。Ｍ．ｐ．＝１５９℃。
【０３７５】
調製例２．１２
４−（２−アミノ−１，３，４−オキサジアゾール−５−イル）−４−フェニルピペリジン ｐ−トルエンスルホネート半水和物
Ａ）１−（ベンジルオキシカルボニル）−４−（クロロホルミル）−４−フェニルピペリジン
１７．１ｇの調製例２．６のステップＡで得た化合物及び２４ｇの塩化チオニルの１５０ml１，２−ジクロロエタン混合物を１時間還流した。これを減圧下に濃縮し、残渣をクロロホルムに取り、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣をエーテル／ペンタン混合物に取り、ようばいを再度減圧下にエバポレートして除き、２０ｇの所望の生成物をゴム状物として得た。これをそのまま使用した。
【０３７６】
Ｂ）１−（ベンジルオキシカルボニル）−４−カルバゾイル−４−フェニルピペリジン
１６ｇヒドラジン一水和物の４０mlＥｔＯＨ溶液を−５０℃に冷却し、１１．４４ｇの先のステップで得た化合物の２０ml１，２−ジメトキシエタン溶液を滴下し、温度をＲＴにあげながら混合物を撹拌した。これを減圧化に濃縮し、残渣を水に取り、有機層を水及び飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣をＥｔＯＨ／ベンゼン混合物に取り、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、１１．２ｇの所望の生成物をゴム状物として得た。これをそのまま使用した。
【０３７７】
Ｃ）４−（２−アミノ−１，３，４−オキサジアゾール−５−イル）−１−（ベンジルオキシカルボニル）−４−フェニルピペリジン
３．３９ｇの臭化シアンの１０mlＥｔＯＨ溶液を、１１．２ｇの先のステップで得た化合物の６０mlＥｔＯＨ溶液にＲＴで加え、反応混合物を１時間還流した。これをＥｔＯＨ５０mlまで濃縮し、次に反応混合物の容積が４００mlになるまで水を滴下した。生成した結晶性の生成物をしぼり、水で洗浄し、次いでＤＣＭ、ＡｃＯＥｔ及びエーテルで洗浄して８ｇの所望の生成物を得た。
【０３７８】
Ｄ）４−（２−アミノ−１，３，４−オキサジアゾール−５−イル）−４−フェニルピペリジン ｐ−トルエンスルホネート半水和物
７．８５ｇの先のステップで得た化合物、３．９５ｇのｐ−トルエンスルホン酸一水和物、０．８ｇの１０％パラジウム−炭、３５０mlの９５°ＥｔＯＨ及び１０mlの水の混合物を５０℃、大気圧下で水素化した。３時間後、触媒をセライト（登録商標）で濾去し、濾液を減圧下で濃縮した。残渣をアセトンに取り、生じた結晶性の生成物をしぼり、アセトン、次いでエーテルで洗浄し、７．６５ｇの所望の生成物を得た。Ｍ．ｐ．＝１８３〜１８５℃。
【０３７９】
調製例２．１３
４−［（アセチル−Ｎ−メチルアミノ）メチル］−４−フェニルピペリジン ｐ−トルエンスルホネート
Ａ）４−（アミノメチル）−１−ベンジル−４−フェニルピペリジン
２．８ｇの水素化アルミニウムリチウムの５０mlＴＨＦ懸濁液を０℃に冷却し、２０ｇの１−ベンジル−４−シアノ−４−フェニルピペリジンの５０mlＴＨＦ溶液を滴下した。反応混合物を１時間ＲＴで撹拌し、次いで４０℃で１時間加熱した。これを氷浴で冷却し、３mlの水、３mlの４ＮＮａＯＨ溶液及び１２mlの水を順次加えた。ミネラル塩を濾去し、濾液を減圧下にエバポレートして除いた。残渣をＤＣＭ／ＭｅＯＨ混合物（１００／３；ｖ／ｖから１００／１０；ｖ／ｖ）を溶出液に用い、シリカＨでクロマトグラフィーにかけ、１１ｇの所望の生成物を得た。
【０３８０】
Ｂ）１−ベンジル−４−［（Ｎ−ホルミルアミノ）メチル］−４−フェニルピペリジン
２５ｇの無水酢酸を、１１ｇの先のステップで得た化合物の７６ml蟻酸混合物にＲＴで滴下し、次いで反応混合物を５時間撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣を水に取り、濃ＮａＯＨを添加してｐＨ１４までアルカリ性にし、エーテルで抽出し、抽出物を水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、１２ｇの所望の生成物を得た。
【０３８１】
Ｃ）１−ベンジル−４−［（Ｎ−メチルアミノ）メチル］−４−フェニルピペリジン
３．９ｇの水素化アルミニウムリチウムの５０mlＴＨＦ懸濁液を４０℃に加熱し、１２ｇの先のステップで得た化合物の５０mlＴＨＦ溶液を滴下し、次いで混合物を３時間還流した。氷浴で冷却した後、４mlの水、４mlの４ＮＮａＯＨ溶液、及び１２mlの水を順次添加した。ミネラル塩を濾去し、濾液を減圧下に濃縮した。残渣をエーテルで抽出し、抽出物をＮａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、１０ｇの所望の生成物を得た。
【０３８２】
Ｄ）４−［（アセチル−Ｎ−メチルアミノ）メチル］−１−ベンジル−４−フェニルピペリジン
０．８６３ｇの塩化アセチルを、３．３ｇの先のステップで得た化合物及び１．４ｇのトリエチルアミンの５０mlＤＣＭ溶液に加え、反応混合物をＲＴで２時間撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣を水に取り、エーテルで抽出し、抽出物を水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣を、ＤＣＭ／ＭｅＯＨ混合物（１００／３；ｖ／ｖ）を溶出液に用い、シリカＨでクロマトグラフィーにかけ、２．４ｇの所望の生成物を得た。
【０３８３】
Ｅ）４−［（アセチル−Ｎ−メチルアミノ）メチル］−４−フェニルピペリジン ｐ−トルエンスルホネート
２．３ｇの先のステップで得た化合物、１．２ｇのｐ−トルエンスルホン酸一水和物、０．２３ｇの１０％パラジウム−炭、及び１００mlのＭｅＯＨの混合物をＲＴ、大気圧下で水素化した。触媒を濾去し、濾液を減圧下にエバポレートし、エーテルで粉末化し、しぼった後２．７ｇの所望の生成物を得た。
【０３８４】
調製例２．１４
４−［（エトキシカルボニル−Ｎ−メチルアミノ）メチル］−４−フェニルピペリジン ｐ−トルエンスルホネート
Ａ）１−ベンジル−４−［（エトキシカルボニル−Ｎ−ホルミルアミノ）メチル］−４−フェニルピペリジン
０．８５ｇのクロロ蟻酸エチルの１０mlＤＣＭ溶液を、２．３ｇの調製例２．１３のステップＣで得た化合物及び１．０３ｇのトリエチルアミンの５０mlＤＣＭ溶液にＲＴで滴下し、反応混合物をＲＴで３０分撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣を水に取り、エーテルで抽出し、有機層を水及び飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣をＤＣＭ／ＭｅＯＨ混合物（１００／３；ｖ／ｖ）を溶出液に用い、シリカＨでクロマトグラフィーにかけ、２．３ｇの所望の生成物を得た。
【０３８５】
Ｂ）４−［（エトキシカルボニル−Ｎ−メチルアミノ）メチル］−４−フェニルピペリジン ｐ−トルエンスルホネート
２．３ｇの先のステップで得た化合物、１．１９ｇのｐ−トルエンスルホン酸一水和物、０．７ｇの５％パラジウム−炭及び５０mlのＤＣＭ混合物を４０℃、大気圧下で水素化した。触媒をセライト（登録商標）で濾去し、濾液を減圧下に濃縮し、２．７ｇの所望の生成物を得た。
【０３８６】
調製例２．２５
４−［（Ｎ’，Ｎ’−ジメチル−Ｎ−メチルウレイド）メチル］−４−フェニルピペリジン ｐ−トルエンスルホネート
Ａ）１−ベンジル−４−［（Ｎ’，Ｎ’−ジメチル−Ｎ−メチルウレイド）メチル］−４−フェニルピペリジン
０．９２ｇのＮ，Ｎ−ジメチルカルバモイルクロライド、の２０mlＤＣＭ溶液を、２．５ｇの調製例２．１３のステップＣで得た化合物及び１．１１ｇのトリエチルアミンの５０mlＤＣＭ溶液にＲＴで滴下し、次に反応混合物を３時間還流した。これを減圧下に濃縮し、残渣を水に取り、エーテルで抽出し、有機層を水及び飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣を、ＤＣＭ／ＭｅＯＨ混合物（１００／３；ｖ／ｖ）を溶出液に用い、シリカＨでクロマトグラフィーにかけ、２．９２ｇの所望の生成物を得た。
【０３８７】
Ｂ）４−［（Ｎ’，Ｎ’−ジメチル−Ｎ−メチルウレイド）メチル］−４−フェニルピペリジン ｐ−トルエンスルホネート
２．９２ｇの先のステップで得た化合物、１．５２ｇのｐ−トルエンスルホン酸一水和物、０．３ｇの１０％パラジウム−炭及び５０mlのＭｅＯＨ混合物を４０℃、大気圧で水素化した。触媒をセライト（登録商標）で濾去し、濾液を減圧下に濃縮し、残渣をペンタン／イソエーテル混合物から粉末化し、次いでしぼった後、２．６ｇの所望の生成物を得た。
【０３８８】
調製例２．１６
４−カルバモイル−４−（ピペリド−１−イル）ピペリジン 二塩酸塩
Ａ）１−ベンジル−４−シアノ−４−（ピペリド−１−イル）ピペリジン
５．３ｇのシアン化ナトリウムの２０ml水溶液を、１８．９ｇの１−ベンジルピペリド−４−オン及び１２．１６ｇのピペリジン塩酸塩の２５mlＭｅＯＨ、及び水２５mlの溶液にＲＴで滴下し、混合物をＲＴで４８時間撹拌した。生成した沈殿をしぼり、水で洗浄し、減圧下に乾燥して２７ｇの所望の生成物を得た。
【０３８９】
Ｂ）１−ベンジル−４−カルバモイル−４−（ピペリド−１−イル）ピペリジン
１０ｇの先のステップで得た化合物を５０mlの９５％硫酸に加え、反応混合物を４５分１００℃に加熱した。ＲＴに冷却した後、これを１００ｇの氷にあけ、２５０mlのＤＣＭを冷却しながら加え、有機層をデカンテーションし、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。得られた固体生成物を、３００mlのアセトニトリル／トルエン混合物（６５／３５；ｖ／ｖ）から再結晶し、９．７ｇの所望の生成物を得た。Ｍ．ｐ．＝１５０〜１６０℃。
【０３９０】
Ｃ）４−カルバモイル−４−（ピペリド−１−イル）ピペリジン 二塩酸塩
１０ｇの蟻酸アンモニウム及び２．５ｇの５％パラジウム−炭を、９．７ｇの先のステップで得た化合物の２００mlＭｅＯＨ溶液に加え、混合物を２時間ＲＴで撹拌した。これをセライト（登録商標）で濾過し、濾液を減圧下にエバポレートした。残渣を２ＮＨＣｌ溶液に溶解し、４０％ＮａＯＨ溶液を加え、ｐＨ１３までアルカリ性にし、クロロホルムで抽出し、有機層をＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートした。得られた生成物をＭｅＯＨ／ＤＣＭ混合物に溶解し、塩酸を飽和させたエーテル溶液を加えてｐＨ１に酸性化し、減圧下にエバポレートして５ｇの所望の生成物を得た。Ｍ．ｐ．＝１８５℃。
【０３９１】
調製例２．１７
４−フェニル−４−ウレイドピペリジン ベンゼンスルホネート
Ａ）１−（ベンゾイルオキシカルボニル）−４−イソシアナト−４−フェニルピペリジン
５０．８９ｇの調製例２．６のステップＡで得た化合物及び７１．４ｇの塩化チオニルの４００ml１，２−ジクロロエタン混合物を１時間還流した。反応混合物を減圧下に濃縮し、残渣をアセトンに取り、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣を２００mlのアセトンに溶解し、５℃の冷却し、１９．５ｇのナトリウムアジドの５０ml水溶液を滴下し、混合物を２時間ＲＴで撹拌した。アセトンを減圧下、ＲＴでエバポレートして除き、飽和ＮａＨＣＯ３溶液を残った溶液に加え、混合物をトルエンで抽出し、有機層を水及び飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、５０％の容積まで溶媒をエバポレートして除いた。残ったトルエン溶液を１時間還流し、次いで減圧下に濃縮して５４ｇの所望の生成物をオレンジ色の油状物（これは結晶化した。）として得た。
【０３９２】
Ｂ）１−（ベンジルオキシカルボニル）−４−フェニル−４−ウレイドピペリジン
過剰のアンモニアガスを、２９ｇの先のステップで得た化合物の３００mlエーテル及び３００mlＤＣＭ溶液にＲＴでバブリングし、次いで反応混合物をＲＴで一夜撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣を熱アセトンに取り。温度をＲＴまで急冷した。生成物が結晶化したら直ちに、エーテル／ＡｃＯＥｔ混合物を加え、次に、生成した結晶をしぼり、２６．４ｇの所望の生成物を得た。
【０３９３】
Ｃ）４−フェニル−４−ウレイドピペリジン ベンゼンスルホネート
２５ｇの先のステップで得た化合物、１１．２ｇのベンゼンスルホン酸、３ｇの５％パラジウム−炭及び３００mlのＥｔＯＨ混合物を４０℃、大気圧下で水素化した。反応混合物を、水及びＭｅＯＨを加えて希釈し、触媒をセライト（登録商標）で濾去し、濾液を減圧下に濃縮し、２６．４５ｇの所望の生成物をアセトンから結晶化した後に得た。Ｍ．ｐ．＝２３５℃。
【０３９４】
調製例２．１８
４−（Ｎ’−メチルウレイド）−４−フェニルピペリジン ベンゼンスルホネート
Ａ）１−（ベンジルオキシカルボニル）−４−（Ｎ’−メチルウレイド）−４−フェニルピペリジン
２５ｇの調製例２．１７のステップＡで得た化合物の３００mlエーテル溶液を５℃に冷却し、過剰のメチルアミンガスをバブリングした。反応混合物を１５０mlのＤＣＭを加えて希釈し、ＲＴで一夜撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣を熱ＡｃＯＥｔに取り、温度をＲＴに戻した。沈殿が生成するまでエーテルを加え、生成した沈殿をしぼり、２４ｇの所望の生成物を得た。
【０３９５】
Ｂ）４−（Ｎ’−メチルウレイド）−４−フェニルピペリジン ベンゼンスルホネート
２３ｇの先のステップで得た化合物、９．９ｇのベンゼンスルホン酸、３ｇの５％パラジウム−炭及び９５°ＥｔＯＨ３００mlの混合物を４０℃、大気圧下で水素化した。触媒をセライト（登録商標）で濾去し、濾液を減圧下に濃縮した。残渣をアセトンに取り、生成した沈殿をしぼり、２２．３６ｇの所望の生成物を得た。Ｍ．ｐ．＝２２７℃。
【０３９６】
調製例２．１９
４−（３，３−ジメチルカルバゾイル）−４−フェニルピペリジン ｐ−トルエンスルホネート
Ａ）１−（ベンジルオキシカルボニル）−４−（３，３−ジメチルカルバゾイル）−４−フェニルピペリジン ｐ−トルエンスルホネート
７．１５ｇの調製例２．１２のステップＡで得た化合物の６０mlＤＣＭ溶液を５℃に冷却し、１．４４ｇの１，１−ジメチルヒドラジン及び４．０４ｇのトリエチルアミンの２０mlＤＣＭ溶液を滴下し、反応混合物をＲＴで一夜撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣を水に取り、ＡｃＯＥｔで抽出し、有機層を飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。得られた生成物を１００mlのアセトンに溶解し、３．５９ｇのｐ−トルエンスルホン酸一水和物の１０mlアセトン溶液を迅速に加え、混合物を減圧下に濃縮した。残渣をエーテル／ＤＣＭ混合物に取り、生成した沈殿をしぼり、９．６５ｇの所望の生成物を得た。
【０３９７】
Ｂ）４−（３，３−ジメチルカルバゾイル）−４−フェニルピペリジン ｐ−トルエンスルホネート
９．５ｇの先のステップで得た化合物及び０．９ｇの１０％パラジウム−炭の１００ml９５°ＥｔＯＨ混合物を３０℃、大気圧下で水素化した。触媒をセライト（登録商標）で濾去し、濾液を減圧下に濃縮した。残渣を１００mlのアセトンに取り、生成した結晶性の生成物をしぼり、エーテルで洗浄して７ｇの所望の生成物を得た。Ｍ．ｐ．＝２１０〜２１２℃。
【０３９８】
調製例２．２０
４−［（エチルアミノカルボニルオキシ）メチル］−４−フェニルピペリジン塩酸塩
Ａ）４−メトキシカルボニル−４−フェニルピペリジン ｐ−トルエンスルホネート
１ｇのｐ−トルエンスルホン酸一水和物を、１０ｇの４−カルボキシ−４−フェニルピペリジン ｐ−トルエンスルホネートの３００mlＭｅＯＨ溶液に加え、反応混合物を３日間還流した。これを減圧下に濃縮し、残渣をアセトンに取り、エーテルを沈殿が生成するまで加えた。９．３４ｇの所望の生成物を、生成した沈殿をしぼった後に得た。
【０３９９】
Ｂ）４−ヒドロキシメチル−４−フェニルピペリジン
１．１６ｇの水素化アルミニウムリチウムの５０mlＴＨＦ懸濁液を−２０℃に冷却し、４ｇの先のステップで得た化合物を加え、温度をＲＴに戻しながら混合物を一夜撹拌した。これを２．５mlの１０％ＮａＯＨ溶液及び２．５mlの水で加水分解した。混合物をエーテルで希釈し、ミネラル塩を濾去し、濾液を減圧下にエバポレートして除き、１．８ｇの所望の生成物を得た。
【０４００】
Ｃ）１−tert−ブトキシカルボニル−４−（ヒドロキシメチル）−４−フェニルピペリジン
２６．０５ｇのジ−tert−ブチルジカーボネートを、２２．８ｇの先のステップで得た化合物の２５０ml１，２−ジメトキシエタン溶液に加え、反応混合物を２時間還流した。これを減圧下に濃縮し、残渣をＤＣＭに取り、有機層をｐＨ２のバッファー溶液及び飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、１７．８６ｇの所望の生成物をエーテルから結晶化した後得た。Ｍ．ｐ．＝１３４℃。
【０４０１】
Ｄ）１−tert−ブトキシカルボニル−４−［（エチルアミノカルボニルオキシ）メチル］−４−フェニルピペリジン
２．９１ｇの先のステップで得た化合物、２．４ｇのエチルイソシアネート及び２滴のトリエチルアミンの３０mlのトルエン混合物をＲＴで撹拌した。次に、反応混合物を１００℃で２４時間加熱し、減圧下に濃縮した。残渣をエーテルに取り。有機層をｐＨ２のバッファー溶液及び飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄しＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、３．８５ｇの所望の生成物を油状物の形態で得た。
【０４０２】
Ｅ）４−［（エチルアミノカルボニルオキシ）メチル］−４−フェニルピペリジン 塩酸塩
１０mlの濃塩酸を、３．８５ｇの先のステップで得た化合物の５０mlのＭｅＯＨ溶液に加え、混合物を６０℃で２時間加熱した。これを減圧下に濃縮し、残渣をアセトンに取り、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、２．６ｇの所望の生成物を、ＡｃＯＥｔ／エーテル混合物から結晶化した後に得た。Ｍ．ｐ．＝２４０〜２４２℃。
【０４０３】
調製例２．２１： ４−（アセトキシメチル）−４−フェニルピペリジン
０．７８５ｇの塩化アセチルを、調製例２．２０のステップＣで得た化合物及び１．３１ｇのトリエチルアミンの５０mlＤＣＭ溶液にＲＴで加え、混合物をＲＴで３０分撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣を水に取り、ＡｃＯＥｔで抽出し、有機層を水で２回、及び飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。油状の残渣を２０mlのトリフルオロ酢酸に取り、混合物をＲＴで１０分撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣を水に取り、水層を、濃ＮａＯＨ溶液を加えてｐＨ１１までアルカリ性にし、ＤＣＭで抽出し、有機層を水で５回、及び飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、１．６ｇの所望の生成物を得た。
【０４０４】
調製例２．２２： ４−ベンジル−４−［（エトキシカルボニル−Ｎ−メチルアミノ）メチル］ピペリジン ベンゼンスルホネート
Ａ）１−ベンジル−４−カルバモイルピペリジン
８５．５ｇの臭化ベンジルを、５．８２ｇのイソニペコタミン及び６９ｇのＫ２ＣＯ３の２７５mlＤＭＦ混合物にＲＴで滴下し、反応混合物を５０℃で２時間撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣を水に取り、ＤＣＭで抽出した。有機層を水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、３００ｍｌの水から結晶化し、減圧下に乾燥した後、６２ｇの所望の生成物を得た。
【０４０５】
Ｂ）１−ベンジル−４−シアノピペリジン
６２ｇの先のステップで得た化合物及び２００mlのＰＯＣｌ３の混合物を２時間還流した。これを減圧下に濃縮し、残渣を水に取り、濃ＮａＯＨ溶液を加えたｐＨ１３までアルカリ性にし、ＤＣＭで抽出し、有機層を水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。得られた油状物を減圧下に蒸留し、５２ｇの所望の生成物を得た。１０Ｐａ下でＢ．ｐ．＝１２０℃。
【０４０６】
Ｃ）１，４−ジベンジル−４−シアノピペリジン
２００mlのリチウムジイソプロピルアミドの１．５Ｍシクロヘキサン溶液を１００mlのＴＨＦに溶解し、−５０℃に冷却し、５２ｇの先のステップで得た化合物の１００mlＴＨＦ溶液を滴下し、混合物を−５０℃で３０分撹拌した。次に、５１．３ｇの臭化ベンジルの１００mlＴＨＦ溶液を−３０℃から−２５℃の間の温度で滴下し、温度をＲＴにあげながら混合物を撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣を水に取り、エーテルで抽出し、有機層を水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、ペンタンから結晶化した後に、６４ｇの所望の生成物を得た。
【０４０７】
Ｄ）４−（アミノメチル）−１，４−ジベンジルピペリジン
１４．５ｇの先のステップで得られた化合物の５０mlＴＨＦ溶液を、１．９５ｇの水素化アルミニウムリチウムの５０mlＴＨＦ懸濁液にＲＴで滴下し、次に混合物を６時間還流した。ＲＴに冷却した後、２mlの水、２mlの４ＮＮａＯＨ溶液、及び６mlの水を加えた。ミネラル塩をセライト（登録商標）で濾去し、濾液をデカンテーションし、有機層をＮａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、１４．７ｇの所望の生成物を得た。
【０４０８】
Ｅ）１，４−ジベンジル−４−［（ホルミルアミノ）メチル］ピペリジン
４２mlの無水酢酸を、１４．７ｇの先のステップで得た化合物の１２６ml蟻酸溶液にＲＴで滴下し、混合物を３時間ＲＴで撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣を水に取り、濃ＮａＯＨ溶液を加えてｐＨ１３までアルカリ性にし、ＡｃＯＥｔで抽出し、有機層を水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、１４．５ｇの所望の生成物を得た。
【０４０９】
Ｆ）１，４−ジベンジル−４−［（メチルアミノ）メチル］ピペリジン
１４．５ｇの先のステップで得た化合物の１００mlＴＨＦ溶液を、５ｇの水素化アルミニウムリチウムの１００mlＴＨＦ懸濁液に４０℃で滴下し、次に混合物を４時間還流した。ＲＴに冷却した後、５mlの水、５mlのＮａＯＨ溶液、及び１５mlの水を加えた。ミネラル塩をセライト（登録商標）で濾去し、濾液をデカンテーションし、有機層をＮａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下に濃縮して１２．８ｇの所望の生成物を得た。
【０４１０】
Ｇ）１，４−ジベンジル−４−［（エトキシカルボニル−Ｎ−メチルアミノ）メチル］ピペリジン
１．２６ｇのクロロ蟻酸メチルを、３ｇの先のステップで得た化合物及び１．１８ｇのトリエチルアミンの５０ml１，２−ジクロロエタン溶液にＲＴで滴下し、混合物をＲＴで１時間撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣を水に取り、エーテルで抽出し、有機層をＮａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣をＤＣＭ／ＭｅＯＨ混合物（１００／３；ｖ／ｖ）を溶出液として用い、シリカＨでクロマトグラフィーにかけ、１．６ｇの所望の生成物を得た。
【０４１１】
Ｈ）４−ベンジル−４−［（エトキシカルボニル−Ｎ−メチルアミノ）メチル］ピペリジン ベンゼンスルホネート
１．６ｇの先のステップで得た化合物、０．６６ｇのベンゼンスルホン酸、０．２ｇの１０％パラジウム−炭及び３０mlのＭｅＯＨ混合物を２７℃、大気圧下で水素化した。触媒をセライト（登録商標）で濾去し、濾液を減圧下に濃縮して、１．４４ｇの所望の生成物を得た。
【０４１２】
調製例２．２３： ４−ベンジル−４−［（メタンスルホニル−Ｎ−メチルアミノ）メチル］ピペリジン ベンゼンスルホネート
Ａ）１，４−ジベンジル−４−［（メタンスルホニル−Ｎ−メチルアミノ）メチル］ピペリジン
１．２６ｇのメタンスルホニルクロライドをｍ、３．２ｇの調製例２．２２のステップＦで得た化合物及び１．２６ｇのトリエチルアミンの５０ml１，２−ジクロロエタン溶液にＲＴで滴下し、混合物をＲＴで１時間撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣を水に取り、ＡｃＯＥｔで抽出し、有機層をＮａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き３．８ｇの所望の生成物を得た。
【０４１３】
Ｂ）４−ベンジル−４−［（メタンスルホニル−Ｎ−メチルアミノ）メチル］ピペリジン ベンゼンスルホネート
３．８ｇの先のステップで得た化合物、１．５８ｇのベンゼンスルホン酸、０．８ｇの１０％パラジウム−炭及び３０mlのＭｅＯＨ混合物をＲＴ、大気圧下で水素化した。触媒をセライト（登録商標）で濾去し、濾液を減圧下に濃縮し、４．６ｇの所望の生成物を、ＤＣＭ／エーテル混合物から結晶化した後に得た。
【０４１４】
調製例２．２４： ４−ベンジル−４−［（Ｎ’，Ｎ’−ジメチル−Ｎ−メチルウレイド）メチル］ピペリジン塩酸塩
Ａ）１，４−ジベンジル−４−［（Ｎ’，Ｎ’−ジメチル−Ｎ−メチルウレイド）メチル］ピペリジン
１．１２ｇのＮ，Ｎ−ジメチルカルバモイルクロライドを、３．２ｇの調製例２．２２のステップＦで得た化合物及び１．２ｇのトリエチルアミンの４０ml１，２−ジクロロエタン溶液にＲＴで滴下し、混合物を４時間還流した。これを減圧下に濃縮し、残渣を水に取り、エーテルで抽出し、有機層をＮａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、３．６ｇの所望の生成物を得た。
【０４１５】
Ｂ）４−ベンジル−４−［（Ｎ’，Ｎ’−ジメチル−Ｎ−メチルウレイド）メチル］ピペリジン塩酸塩
３．６ｇの先のステップで得た化合物、３．１ｇの蟻酸アンモニウム及び０．８ｇの５％パラジウム−炭の５０mlＭｅＯＨ混合物を１時間３０分撹拌した。触媒を濾去し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣をＤＣＭに溶解し、塩酸を飽和させたエーテル溶液をｐＨが１になるまで加え、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、３．２ｇの所望の生成物を得た。
【０４１６】
調製例２．２５： ４−カルバモイル−４−（モルホリン−４−イル）ピペリジン
Ａ）１−ベンジル−４−シアノ−４−（モルホリン−４−イル）ピペリジン
２．５mlのモルホリン、次いで５．１ｇのＮａ２Ｓ２Ｏ５を、５ｇの１−ベンジルピペリド−４−オン及び１．９ｇのシアン化カリウムの５０mlＥｔＯＨ／水混合物（５０／５０；ｖ／ｖ）に加え、混合物を６０℃で２時間加熱した。更に２．５mlのモルホリンを加え、反応混合物をＲＴで一夜撹拌した。水を加え、生成した結晶性の生成物をしぼり、５．５ｇの所望の生成物を得た。
【０４１７】
Ｂ）１−ベンジル−４−カルバモイル−４−（モルホリン−４−イル）ピペリジン
１４ｇの際のステップで得た化合物及び５０mlの９５％硫酸の混合物を１００℃で２時間加熱した。ＲＴに冷却した後、反応混合物を１００ｇの氷にあけ、濃ＮＨ４ＯＨ溶液を加えてｐＨを７にし、ＤＣＭで抽出し、有機層を水で洗浄しＮａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣を、ＤＣＭ／ＭｅＯＨ混合物（１００／５；ｖ／ｖから１００／１０；ｖ／ｖ）を溶出液に用い、シリカＨでクロマトグラフィーにかけ、３．４ｇの所望の生成物を、エーテルから結晶化した後に得た。
【０４１８】
Ｃ）４−カルバモイル−４−（モルホリン−４−イル）ピペリジン
３．１ｇの蟻酸アンモニウム及び０．８ｇの５％パラジウム−炭を、３．４ｇの先のステップで得た化合物の５０mlＭｅＯＨ溶液に加え、混合物をＲＴで２時間撹拌した。触媒をセライト（登録商標）で濾去し、濾液を減圧下にエバポレートして除き、２．２ｇの所望の生成物を、ペンタン−２−オールから結晶化した後に得た。
【０４１９】
例１
３−ベンジル−５−［２−（４−ベンジルピペリド−１−イル）エチル］−５−（３，４−ジクロロフェニル）テトラヒドロ−２Ｈ−１，３−オキサジン−２−オン塩酸塩一水和物
Ａ）３−ベンジル−５−（３，４−ジクロロフェニル）−５−［２−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）エチル］テトラヒドロ−２Ｈ−１，３−オキサジン−２−オン
４ｇの調製例１．１で得た化合物の６０mlのＴＨＦ溶液を＋５℃に冷却し、１．３７ｇのカリウムtert−ブチレートを加え、次いで１．９２ｇの臭化ベンジルの１５mlＴＨＦ溶液を滴下した。温度をＲＴにあげながら反応混合物を撹拌し、減圧下に濃縮した。残渣をＡｃＯＥｔで抽出し、有機層を水で３回、及び飽和ＮａＣｌ溶液で２回洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、４．２ｇの所望の生成物を得た。これをそのまま使用した。
【０４２０】
Ｂ）３−ベンジル−５−（３，４−ジクロロフェニル）−５−（２−ヒドロキシエチル）−テトラヒドロ−２Ｈ−１，３−オキサジン−２−オン０．２５水和物
ＨＣｌガスを飽和させたエーテル溶液を、４．２ｇの先のステップで得た化合物の４０mlＭｅＯＨ溶液に、ｐＨが１になるまで加え、反応混合物を４８時間ＲＴで撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣を、ＨＣｌガスを飽和させたＭｅＯＨ溶液に取り、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣をエーテルに取り、生成した沈殿をしぼり、３．４４ｇの所望の生成物を得た。Ｍ．ｐ．＝１４３℃。
【０４２１】
Ｃ）３−ベンジル−５−（３，４−ジクロロフェニル）−５−［２−（メタンスルホニルオキシ）エチル］−テトラヒドロ−２Ｈ−１，３−オキサジン−２−オン
１．４ｇの先のステップで得た化合物及び０．４５ｇのトリエチルアミンの５０mlＤＣＭ溶液を＋５℃に冷却し、０．４６ｇのメタンスルホニルクロライドの５mlＤＣＭ溶液を滴下した。添加の後、混合物を減圧下に濃縮し、残渣を水に取り、ＡｃＯＥｔで抽出し、有機層を水で２回、及び飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、１．７ｇの所望の生成物を得た。
【０４２２】
ＤＭＳＯ−Ｄ6中、２００ＭＨｚでのプロトンＮＭＲ
δ： 2.03ppm: t: 2H
2.98ppm: s: 3H
3.78ppm: AB系: 2H
3.83ppm: t: 2H
4.1-4.8ppm: u: 4H
7.0-7.6ppm: u: 8H。
【０４２３】
Ｄ）３−ベンジル−５−［２−（４−ベンジルピペリド−１−イル）エチル］−５−（３，４−ジクロロフェニル）テトラヒドロ−２Ｈ−１，３−オキサジン−２−オン塩酸塩一水和物
１．６ｇの４−ベンジルピペリジン、１．７ｇの先のステップで得た化合物及び０．６ｇのヨウ化カリウムの１０mlＤＭＦ混合物を６０℃で２時間３０分加熱した。ＲＴに冷却した後、反応混合物を水にあけ、ＡｃＯＥｔで抽出し、有機層を水で２回、及び飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣をＤＣＭを溶出液に用い、シリカＨでクロマトグラフィーにかけた。得られた生成物を、ＨＣｌガスを飽和させたエーテル溶液に取り、生成した沈殿をしぼり、０．９ｇの所望の生成物を得た。Ｍ．ｐ．＝１２２℃。
【０４２４】
例２
３−ベンジル−５−（３，４−ジクロロフェニル）−５−［２−（４−ヒドロキシ−４−フェニルピペリド−１−イル）エチル］−５−テトラヒドロ−２Ｈ−１，３−オキサジン−２−オン塩酸塩
この化合物を、１．３２ｇの４−ヒドロキシ−４−フェニルピペリジン、１．５５ｇの例１のステップＣで得た化合物及び０．５６ｇのヨウ化カリウムの１０mlＤＭＦ溶液から例１のステップＤに開示した手順で製造した。残渣を、ＤＣＭ次いでＤＣＭ／ＭｅＯＨ混合物（９６／４；ｖ／ｖ）を溶出液に用い、シリカＨでクロマトグラフィーにかけた。得られた生成物をＤＣＭに溶解し、ＨＣｌガスを飽和させたエーテル溶液を添加してｐＨ１まで酸性化し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、エーテルから結晶化した後に所望の生成物０．７２ｇを得た。Ｍ．ｐ．＝１７２℃。
【０４２５】
例３
５−［２−（４−アセトアミド−４−フェニルピペリド−１−イル）エチル］−３−ベンジル−５−（３，４−ジクロロフェニル）テトラヒドロ−２Ｈ−１，３−オキサジン−２−オン 塩酸塩１．５水和物
この化合物を、２．７７ｇの４−アセトアミド−４−フェニルピペリジン、１．７ｇの例１のステップＣで得た化合物及び０．６１ｇのヨウ化カリウムの１０mlＤＭＦ溶液から例１のステップＤに開示した手順で製造した。残渣を、ＤＣＭ次いでＤＣＭ／ＭｅＯＨ混合物（９７／３；ｖ／ｖ）を溶出液に用い、シリカＨでクロマトグラフィーにかけた。残渣をＨＣｌガスを飽和させたエーテル溶液に取り、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、ＡｃＯＥｔから結晶化した後に所望の生成物０．６ｇを得た。Ｍ．ｐ．＝１６８℃。
【０４２６】
例４
３−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンジル］−５−（３，４−ジクロロフェニル）−５−［２−（４−フェニルピペリド−１−イル）エチル］テトラヒドロ−２Ｈ−１，３−オキサジン−２−オン 塩酸塩半水和物
Ａ）３−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンジル］−５−（３，４−ジクロロフェニル）−５−［２−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）エチル］テトラヒドロ−２Ｈ−１，３−オキサジン−２−オン
３．７ｇの調製例１．１で得た化合物の６０mlＴＨＦ溶液を、＋５℃に冷却し、１．２７ｇのカリウムtert−ブチレートを加え、次いで、２．７２ｇの３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンジルクロライドの１５mlＴＨＦ溶液を滴下した。温度をＲＴにあげながら反応混合物を撹拌し、減圧下に濃縮した。残渣を水に取り、ＡｃＯＥｔで抽出し、有機層を水、飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、５．９ｇの所望の化合物を得た。これをそのまま使用した。
【０４２７】
Ｂ）３−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンジル］−５−（３，４−ジクロロフェニル）−５−（２−ヒドロキシエチル）テトラヒドロ−２Ｈ−１，３−オキサジン−２−オン
ＨＣｌガスを飽和させたエーテル溶液を、５．９ｇの先のステップで得た化合物の５０mlＭｅＯＨ溶液に、ｐＨが１になるまで加え、反応混合物をＲＴで１５分撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣を、ＨＣｌガスを飽和させたＭｅＯＨ溶液に２回取り、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣をヘキサンに取り、生じた沈殿をしぼり、３．９ｇの所望の生成物を得た。
【０４２８】
ＤＭＳＯ−Ｄ6中、２００ＭＨｚでのプロトンＮＭＲ
δ： 1.9ppm: t: 2H
2.9-3.6ppm: u: 4H
3.8ppm: AB系: 2H
4.35ppm: s: 2H
5.45ppm: bs: 1H
7.1-7.8ppm: u: 3H
8.0-8.5ppm: u: 3H
8.9ppm: bs: 1H。
【０４２９】
Ｃ）３−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンジル］−５−（３，４−ジクロロフェニル）−５−［２−（メタンスルホニルオキシ）エチル］テトラヒドロ−２Ｈ−１，３−オキサジン−２−オン
３ｇの先のステップで得た化合物、及び０．７ｇのトリエチルアミンの５０mlＤＣＭ養鶏を＋５℃に冷却し、０．６６ｇのメタンスルホニルクロライドの６mlＤＣＭ溶液を滴下し、反応混合物を、をんどをＲＴにあげながら撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣を水に取り、ＡｃＯＥｔで抽出し、有機層を水、２ＮＨＣｌ溶液、水、５％ＮａＨＣＯ３溶液、水、及び飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートした除き、３．４ｇの所望の生成物を得た。
【０４３０】
Ｄ）３−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンジル］−５−（３，４−ジクロロフェニル）−５−［２−（４−フェニルピペリド−１−イル）エチル］テトラヒドロ−２Ｈ−１，３−オキサジン−２−オン塩酸塩半水和物
０．３２ｇの４−フェニルピペリジン、１ｇの先のステップで得た化合物及び０．２８ｇのヨウ化カリウムの５mlＤＭＦ混合物を６０℃で３時間加熱した。冷却後、反応混合物を水に取り、ＡｃＯＥｔで抽出し、有機層を水、及び飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣をＤＣＭ、次いでＤＣＭ／ＭｅＯＨ混合物（９８／２；ｖ／ｖ）を溶出液として用い、シリカＨでクロマトグラフィーにかけた。得られた生成物を、ＨＣｌを飽和させたエーテルに取り、生成した沈殿をしぼり、０．２２ｇの所望の生成物を得た。Ｍ．ｐ．＝１７４℃。
【０４３１】
例５
５−［２−（４−ベンジルピペリド−１−イル）エチル］−３−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンジル］−５−（３，４−ジクロロフェニル）テトラヒドロ−２Ｈ−１，３−オキサジン−２−オン塩酸塩１．５水和物
この化合物を、０．３ｇの４−ベンジルピペリジン、０．８ｇの例４のステップＣで得た化合物、０．２４ｇのヨウ化カリウム及び５mlＤＭＦから、例４のステップＤに開示された手順で製造した。残渣を、ＤＣＭ、次いでＤＣＭ／ＭｅＯＨ混合物（９６／４；ｖ／ｖ）を溶出液に使用し、シリカＨでクロマトグラフィーにかけた。得られた生成物を、ＨＣｌガスを飽和させたエーテル溶液に取り、生成した沈殿をしぼり、０．１３ｇの所望の生成物を得た。Ｍ．ｐ．＝１２４℃。
【０４３２】
例６
５−［２−（４−アニリノピペリド−１−イル）エチル］−３−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンジル］−５−（３，４−ジクロロフェニル）テトラヒドロ−２Ｈ−１，３−オキサジン−２−オン二塩酸塩一水和物
０．３ｇの４−アニリノピペリジン、０．８ｇの例４のステップＣで得た化合物、及び０．６９ｇの炭酸カリウムの５mlアセトニトリル混合物を５０〜６０℃で５時間加熱した。反応混合物を水にあけ、ＡｃＯＥｔで抽出し、有機層を水で２回、及び飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣を、ＤＣＭ、次いでＤＣＭ／ＭｅＯＨ混合物（９６／４；ｖ／ｖ）を溶出液に使用し、シリカＨでクロマトグラフィーにかけた。得られた生成物を、ＨＣｌガスを飽和させたエーテル溶液に取り、生成した沈殿をしぼり、０．１２ｇの所望の生成物を得た。Ｍ．ｐ．＝１５８℃。
【０４３３】
例７
５−（３，４−ジクロロフェニル）−５−［２−［４−フェニルアザニアビシクロ［２．２．２］オクタ−１−イル］エチル］−３−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンジル］テトラヒドロ−２Ｈ−１，３−オキサジン−２−オンクロライド２．５水和物
０．５３ｇの４−フェニル−１−アザビシクロ［２．２．２］オクタン及び１．４ｇの例４のステップＣで得た化合物の５mlＤＭＦ混合物を６０℃で５時間加熱した。ＲＴに冷却した後、反応混合物を水にあけ、ＤＣＭで抽出し、有機層を２ＮＨＣｌ溶液で２回、及び飽和ＮａＣｌ溶液で３回洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣を、ＤＣＭ、次いでＤＣＭ／ＭｅＯＨ混合物（９２／８；ｖ／ｖ）を溶出液に使用し、シリカＨでクロマトグラフィーにかけた。得られた生成物を、エーテルに取り、生成した沈殿をしぼり、０．２１ｇの所望の生成物を得た。Ｍ．ｐ．＝１３８℃。
【０４３４】
例８
３−ベンジル−５−［３−（４−ベンジルピペリド−１−イル）プロピル］−５−（３，４−ジクロロフェニル）テトラヒドロ−２Ｈ−１，３−オキサジン−２−オン塩酸塩
Ａ）３−ベンジル−５−（３，４−ジクロロフェニル）−５−［３−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）プロピル］テトラヒドロ−２Ｈ−１，３−オキサジン−２−オン
１２．５ｇの調製例１．２で得た化合物の１５０mlＴＨＦ溶液を＋５℃に冷却し、４．１３ｇのカリウムtert−ブチレートを加え、次いで、５．７８ｇの臭化ベンジルの３０mlＴＨＦ溶液を滴下した。混合物を１時間ＲＴで撹拌し、減圧下に濃縮した。残渣を水に取り、ＡｃＯＥｔで抽出し、有機層を水で２回、及び飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、所望の生成物を得た。これをそのまま使用した。
【０４３５】
Ｂ）３−ベンジル−５−（３，４−ジクロロフェニル）−５−（３−ヒドロキシプロピル）テトラヒドロ−２Ｈ−１，３−オキサジン−２−オン
先のステップで得た化合物を、ＨＣｌガスを飽和させたＭｅＯＨ溶液に取り、反応混合物を２時間ＲＴで撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣を、ＨＣｌガスを飽和させたＭｅＯＨ溶液に二回取り、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣を、ＤＣＭ、次いでＤＣＭ／ＭｅＯＨ混合物（９４／６；ｖ／ｖ）を溶出液に使用し、シリカでクロマトグラフィーにかけ、１０．６ｇの所望の生成物を得た。これをそのまま使用した。
【０４３６】
Ｃ）３−ベンジル−５−（３，４−ジクロロフェニル）−５−［３−（メタンスルホニルオキシ）プロピル］テトラヒドロ−２Ｈ−１，３−オキサジン−２−オン
１０ｇの先のステップで得た化合物及び３．０７ｇのトリエチルアミンの３５０mlＤＣＭ溶液を＋５℃に冷却し、３．１９ｇのメタンスルホニルクロライドの３５mlＤＣＭ溶液を滴下した。滴下後、反応混合物を減圧下に濃縮し、残渣を水に取り、ＡｃＯＥｔで抽出し、有機層を水で２回、及び飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、１１ｇの所望の生成物を得た。これをそのまま使用した。
【０４３７】
Ｄ）３−ベンジル−５−［３−（４−ベンジルピペリド−１−イル）プロピル］−５−（３，４−ジクロロフェニル）テトラヒドロ−２Ｈ−１，３−オキサジン−２−オン塩酸塩
１．８６ｇの４−ベンジルピペリジン、２ｇの先のステップで得た化合物、及び０．７ｇのヨウ化カリウムの１０mlＤＭＦ混合物を、５０℃で２時間加熱した。ＲＴに冷却後、反応混合物を水に取り、ＡｃＯＥｔで抽出し、有機層を水で２回、及び飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣を、ＤＣＭ、次いでＤＣＭ／ＭｅＯＨ混合物（９８／２；ｖ／ｖ）を溶出液に使用し、シリカＨでクロマトグラフィーにかけた。得られた生成物を、ＨＣｌガスを飽和させたエーテル溶液に取り、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、ＡｃＯＥｔから結晶化した後に１．４ｇの所望の生成物を得た。Ｍ．ｐ．＝２１９℃。
【０４３８】
例９
３−ベンジル−５−（３，４−ジクロロフェニル）−５−［３−（４−ヒドロキシ−４−フェニルピペリド−１−イル）プロピル］−５−テトラヒドロ−２Ｈ−１，３−オキサジン−２−オン 塩酸塩半水和物
この化合物を、１．６ｇの４−ヒドロキシ−４−フェニルピペリジン、２ｇの例８のステップＣで得た化合物及び０．７５ｇのヨウ化カリウムの１０mlＤＭＦ溶液から、例８のステップＤで開示した手順で製造した。残渣を、ＤＣＭ、次いでＤＣＭ／ＭｅＯＨ混合物（９６／４；ｖ／ｖ）を溶出液に使用し、シリカＨでクロマトグラフィーにかけた。得られた生成物を、ＨＣｌガスを飽和させたエーテル溶液に取り、生成した沈殿をしぼり、１．３４ｇの所望の生成物を得た。Ｍ．ｐ．＝１２５℃。
【０４３９】
例１０
５−［３−（４−アセトアミド−４−フェニルピペリド−１−イル）プロピル］−３−ベンジル−５−（３，４−ジクロロフェニル）テトラヒドロ−２Ｈ−１，３−オキサジン−２−オン塩酸塩１．５水和物
２．０２ｇの４−アセトアミド−４−フェニルピペリジン塩酸塩を５mlの水に溶解し、濃ＮａＯＨ溶液を添加してｐＨ１３までアルカリ性にし、ＤＣＭで抽出し、有機層をＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣を１０mlのＤＭＦに取り、１．５ｇの例８のステップＣで得た化合物及び０．５３ｇのヨウ化カリウムを加え、反応混合物を５０℃で２時間３０分加熱した。これを水にあけ、ＡｃＯＥｔで抽出し、有機層を水で３回、及び飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣を、ＤＣＭ、次いでＤＣＭ／ＭｅＯＨ混合物（９６／４；ｖ／ｖ）を溶出液に使用し、シリカでクロマトグラフィーにかけた。得られた生成物を、ＨＣｌガスを飽和させたエーテル溶液に取り、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、１．３４ｇの所望の生成物をＡｃＯＥｔから結晶化した後に得た。Ｍ．ｐ．＝１４５℃。
【０４４０】
例１１
３−ベンジル−５−（３，４−ジクロロフェニル）−５−［３−［４−（Ｎ−フェニルアセトアミド）ピペリド−１−イル］プロピル］テトラヒドロ−２Ｈ−１，３−オキサジン−２−オン塩酸塩
１．７６ｇの４−アニリノピペリジン、２ｇの例８のステップＣで得た化合物、及び０．７５ｇのヨウ化カリウムの１０mlＤＭＦ混合物を５０℃で１時間３０分加熱した。反応混合物を水にあけ、ＡｃＯＥｔで抽出し、有機層を水で３回、及び飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣を、ＤＣＭ、次いでＤＣＭ／ＭｅＯＨ混合物（９６／４；ｖ／ｖ）を溶出液に使用し、シリカＨでクロマトグラフィーにかけた。得られた生成物を、１０mlの無水酢酸に取り、反応混合物をＲＴで４８時間撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣をＡｃＯＥｔで抽出し、有機層を２０％アンモニア水溶液で２回、水で２回、及び飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。得られた生成物を、ＨＣｌガスを飽和させたエーテル溶液に取り、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、ＡｃＯＥｔから結晶化させた後、１．４ｇの所望の生成物を得た。Ｍ．ｐ．＝１９５℃。
【０４４１】
例１２
３−ベンジル−５−（３，４−ジクロロフェニル）−５−［３−［４−フェニル−１−アゾニアビシクロ［２．２．２］オクタ−１−イル］プロピル］テトラヒドロ−２Ｈ−１，３−オキサジン−２−オンクロライド半水和物
１．２ｇの４−フェニル−１−アザニアビシクロ［２．２．２］オクタン及び２ｇの例８のステップＣで得た化合物の１０mlＤＭＦ混合物を５０℃で３時間加熱した。ＲＴに冷却した後、反応混合物を水に取り、ＤＣＭで抽出し、有機層を水、飽和ＮａＣｌ溶液、２ＮＨＣｌ溶液で２回、水で２回、及び飽和ＮａＣｌ溶液で２回洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣をＡｃＯＥｔに取り、生成した沈殿をしぼり、所望の生成物を１．５６ｇ得た。Ｍ．ｐ．＝２３５℃。
【０４４２】
例１３
３−ベンジル−５−（３，４−ジクロロフェニル）−５−［３−（４−ベンジルピペリド−１）プロピル］テトラヒドロ−２Ｈ−１，３−オキサジン−２−オン クロライド二水和物
１．０７ｇの４−ベンジルピリジン及び２ｇの例８のステップＣで得た化合物の１０mlＤＭＦ混合物を９０℃で６時間加熱した。ＲＴに冷却した後、反応混合物を水にあけ、ＤＣＭで抽出し、有機層を水、及び飽和ＮａＣｌ溶液で３回洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣を、ＤＣＭ、次いでＤＣＭ／ＭｅＯＨ混合物（９０／１０；ｖ／ｖ）を溶出液に使用し、シリカでクロマトグラフィーにかけた。得られた生成物を最小量のアセトンに溶解し、エーテルを沈殿が生じるまで加え、生成した沈殿をしぼり、０．８ｇの所望の生成物を得た。Ｍ．ｐ．＝８４℃。
【０４４３】
例１４
４−ベンジル−６−（３，４−ジクロロフェニル）−６−［２−（４−ヒドロキシ−４−フェニルピペリド−１−イル）エチル］モルホリン−３−オン 塩酸塩半水和物
Ａ）４−ベンジル−６−（３，４−ジクロロフェニル）−６−（２−ヒドロキシエチル）モルホリン−３−オン
０．５１ｇのカリウムtert−ブチレートを、１．７ｇの調製例１．３で得た化合物の３０mlＴＨＦ溶液にＲＴで加え、次に、０．７７ｇの臭化ベンジルをゆっくり加え、反応混合物を２時間５０℃で加熱した。これを減圧下に濃縮し、残渣を水に取り、エーテルで抽出し、有機層を水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣を、ＤＣＭ／ＭｅＯＨ混合物（１００／０．５；ｖ／ｖ）を溶出液に使用し、シリカＨでクロマトグラフィーにかけた。得られた生成物（１ｇ）を１０mlのＭｅＯＨに取り、ＨＣｌガスを飽和させたエーテル溶液を加えてｐＨ１まで酸性化し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣をエーテルに取り、有機層を水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、０．６５ｇの所望の生成物を得た。
【０４４４】
ＤＭＳＯ−Ｄ6中、２００ＭＨｚでのプロトンＮＭＲ
δ： 1.9ppm: mt: 2H
2.7-3.3ppm: mt: 2H
3.65ppm: AB系: 2H
4.0ppm: AB系: 2H
4.3ppm: t: 1H
4.45ppm: AB系: 2H
7.0-7.6ppm: u: 11H。
【０４４５】
この化合物は下記の方法を用いても得ることができる。
Ａ’）４−ベンジル−６−（３，４−ジクロロフェニル）−６−（２−ヒドロキシエチル）モルホリン−３−オン
６ｇの調製例１．４で得た化合物及び１．８７ｇのカリウムtert−ブチレートの１０mlＴＨＦ混合物をＲＴで２時間撹拌し、次いで２．８５ｇの臭化ベンジルをゆっくり加え、反応混合物を３時間還流した。これを減圧下に濃縮し、残渣をｐＨ２のバッファー溶液に取り、エーテルで抽出し、有機層を水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。得られた生成物を、ＭｅＯＨに溶解し、１．３ｇの水酸化リチウム一水和物を加え、反応混合物をＲＴで３０分撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣をエーテルで抽出し、有機層を水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣をＤＣＭ／ＭｅＯＨ混合物（１００／１；ｖ／ｖ）を溶出液に使用し、シリカＨでクロマトグラフィーにかけ、所望の生成物４．６ｇを得た。
【０４４６】
Ｂ）４−ベンジル−６−（３，４−ジクロロフェニル）−６−［２−（メタンスルホニルオキシ）エチル］モルホリン−３−オン
０．６５ｇの先のステップで得られた生成物及び０．３４ｇのトリエチルアミンの３０mlＤＣＭ溶液を０℃に冷却し、０．２５ｇのメタンスルホニルクロライドを加えた。添加後、反応混合物を減圧下に濃縮し、残渣をＡｃＯＥｔで抽出し、有機層を水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、０．７１ｇの所望の生成物を得た。これをそのまま使用した。
【０４４７】
Ｃ）４−ベンジル−６−（３，４−ジクロロフェニル）−６−［２−（４−ヒドロキシ−４−フェニルピペリド−１−イル）エチル］モルホリン−３−オン塩酸塩半水和物
０．７ｇの先のステップで得た化合物、０．３７８ｇの４−ヒドロキシ−４−フェニルピペリジン及び０．８ｇのＫ２ＣＯ３の５mlアセトニトリル混合物を４時間還流した。ＲＴに冷却した後、反応混合物を水にあけ、ＡｃＯＥｔで抽出し、有機層を水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣をＤＣＭ／ＭｅＯＨ混合物（１００／３；ｖ／ｖ）を溶出液に使用し、シリカＨでクロマトグラフィーにかけた。得られた生成物を最小量のＤＣＭに溶解し、ＨＣｌガスを飽和させたエーテル溶液を加えてｐＨ１まで酸性化し、生成した沈殿をしぼり、０．４３ｇの所望の生成物を得た。Ｍ．ｐ．＝１６０〜１６２℃。
【０４４８】
例１５
６−（３，４−ジクロロフェニル）−６−［２−（４−ヒドロキシ−４−フェニルピペリド−１−イル）エチル］−４−（４−フェニルベンジル）モルホリン−３−オン 塩酸塩一水和物
Ａ）６−［２−（４−ベンゾイルオキシ）エチル］−６−（３，４−ジクロロフェニル）−４−（４−フェニルベンジル）モルホリン−３−オン
１．３ｇの調製例１．４で得た化合物及び０．３６ｇのカリウムtert−ブチレートの３０mlＴＨＦ混合物をＲＴで３０分撹拌し、０．７９ｇの４−（ブロモメチル）ビフェニルを加え、反応混合物を２時間還流した。これを減圧下に濃縮し、残渣をエーテルで抽出し、有機層を水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣を、ＤＣＭ、次いでＤＣＭ／ＭｅＯＨ混合物（１００／０．５；ｖ／ｖ）を溶出液に使用し、シリカＨでクロマトグラフィーにかけ、１．１ｇの所望の生成物を得た。
【０４４９】
ＤＭＳＯ−Ｄ6中、２００ＭＨｚでのプロトンＮＭＲ
δ： 2.3ppm: mt: 2H
3.55ppm: AB系: 2H
3.9-4.4ppm: u: 4H
4.5ppm: s: 2H
7.0-7.8ppm: u: 17H。
【０４５０】
Ｂ）６−（３，４−ジクロロフェニル）−６−（２−ヒドロキシエチル）−４−（４−フェニルベンジル）モルホリン−３−オン
１．１ｇの先のステップで得た化合物及び２mlの濃ＮａＯＨ溶液の２０mlＭｅＯＨ混合物をＲＴで３０分撹拌した。反応混合物を減圧下に濃縮し、残渣をエーテルで抽出し、有機層を水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、０．８４ｇの所望の生成物を得た。
【０４５１】
ＤＭＳＯ−Ｄ6中、２００ＭＨｚでのプロトンＮＭＲ
δ： 1.85ppm: mt: 2H
2.7-3.3ppm: mt: 2H
3.5ppm: AB系: 2H
3.95ppm: AB系: 2H
4.35ppm: t: 1H
4.4ppm: s: AB系: 2H
7.0-7.6ppm: u: 12H。
【０４５２】
Ｃ）６−（３，４−ジクロロフェニル）−６−［２−（メタンスルホニルオキシ）エチル］−４−（４−フェニルベンジル）モルホリン−３−オン
０．２５２ｇのメタンスルホニルクロライドを、０．８４ｇの先のステップで得た化合物及び０．２２３ｇのトリエチルアミンの３０mlＤＣＭ溶液にＲＴで加え、混合物をＲＴで３０分撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣をエーテルで抽出し、有機層を水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、０．８９ｇの所望の生成物を得た。これをそのまま使用した。
【０４５３】
Ｄ）６−（３，４−ジクロロフェニル）−６−［２−（４−ヒドロキシ−４−フェニルピペリド−１−イル）エチル］−４−（４−フェニルベンジル）モルホリン−３−オン塩酸塩一水和物
０．８９ｇの先のステップで得た化合物、０．８７５ｇの４−ヒドロキシ−４−フェニルピペリジン ｐ−トルエンスルホネート及び０．４８３ｇのＫ２ＣＯ３の２mlＤＭＦ混合物を、８０〜１００℃で１時間加熱した。ＲＴに冷却した後、反応混合物を水にあけ、エーテルで抽出し、有機層を水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣を、ＤＣＭ／ＭｅＯＨ混合物（１００／２；ｖ／ｖから１００／５；ｖ／ｖ）のグラジェントを溶出液に使用し、シリカＨでクロマトグラフィーにかけた。得られた生成物を最小量のＤＣＭに溶解し、ＨＣｌガスを飽和させたエーテル溶液を加えてｐＨ１まで酸性化し、生成した沈殿をしぼり、０．４５ｇの所望の生成物を得た。Ｍ．ｐ．＝１４３〜１５０℃。
【０４５４】
例１６
６−（３，４−ジクロロフェニル）−６−［２−［４−フェニル−１−アザニアビシクロ［２．２．２］オクタ−１−イル］エチル］−４−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンジル］モルホリン−３−オン クロライド一水和物Ａ）６−［２−（ベンゾイルオキシ）エチル］−６−（３，４−ジクロロフェニル）−４−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンジル］モルホリン−３−オン
２．１ｇの調製例１．４で得た化合物及び０．６１６ｇのカリウムtert−ブチレートの５０mlＴＨＦ混合物をＲＴで３０分撹拌し、１．４４ｇの３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンジルクロライドを加え、反応混合物を１時間還流した。これを減圧下に濃縮し、残渣をｐＨ４のバッファー溶液に取り、エーテルで抽出し、有機層を水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣を、ＤＣＭ／ＭｅＯＨ混合物（１００／０．５；ｖ／ｖ）を溶出液に使用し、シリカＨでクロマトグラフィーにかけ、１．８ｇの所望の生成物を得た。
【０４５５】
ＤＭＳＯ−Ｄ6中、２００ＭＨｚでのプロトンＮＭＲ
δ： 2.4ppm: mt: 2H
4.05ppm: AB系: 2H
4.15-4.6ppm: u: 4H
4.75ppm: s: AB系: 2H
7.3-8.2ppm: u: 11H。
【０４５６】
Ｂ）６−（３，４−ジクロロフェニル）−６−（２−ヒドロキシエチル）−４−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンジル］モルホリン−３−オン
１．８ｇの先のステップで得た化合物及び４mlの濃ＮａＯＨ溶液の３０mlＭｅＯＨ混合物を０℃で３０分撹拌し、次いでＲＴで１時間撹拌を継続した。反応混合物を減圧下に濃縮し、残渣をエーテルで抽出し、有機層を水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、１．１ｇの所望の生成物を得た。
【０４５７】
ＤＭＳＯ−Ｄ6中、２００ＭＨｚでのプロトンＮＭＲ
δ： 2.0ppm: t: 2H
2.9-3.45ppm: mt: 2H
3.9ppm: AB系: 2H
4.2ppm: AB系: 2H
4.45ppm: t: 1H
4.7ppm: s: AB系: 2H
7.1-8.2ppm: u: 6H。
【０４５８】
Ｃ）６−（３，４−ジクロロフェニル）−６−［２−（メタンスルホニルオキシ）エチル］−４−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンジル］モルホリン−３−オン
０．２５ｇのメタンスルホニルクロライドを、１．１ｇの先のステップで得た化合物及び０．２２ｇのトリエチルアミンの３０mlＤＣＭ溶液にＲＴで加え、反応混合物を１時間撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣をＡｃＯＥｔで抽出し、有機層を水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、１．２ｇの所望の生成物を得た。これをそのまま使用した。
【０４５９】
Ｄ）６−（３，４−ジクロロフェニル）−６−［２−［４−フェニル−１−アザニアビシクロ［２．２．２］オクタ−１−イル］エチル］−４−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンジル］モルホリン−３−オンクロライド一水和物１．２ｇの先のステップで得た化合物及び０．４５ｇの４−フェニル−１−アザビシクロ［２．２．２］オクタンの４mlＤＭＦ混合物を１００℃で１時間加熱した。ＲＴに冷却した後、反応混合物を水にあけ、ＤＣＭで抽出し、有機層を２ＮＨＣｌ溶液、飽和ＮａＣｌ溶液及び水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、ＤＣＭ／ペンタン混合物から結晶化した後０．９ｇの所望の生成物を得た。Ｍ．ｐ．＝１６０℃。
【０４６０】
例１７
２−［２−（４−アセトアミド−４−フェニルピペリド−１−イル）エチル］−４−ベンゾイル−２−（３，４−ジクロロフェニル）モルホリン塩酸塩一水和物
Ａ）４−ベンゾイル−２−（３，４−ジクロロフェニル）−２−（２−ヒドロキシエチル）モルホリン
３．６ｇの調製例１．５で得た化合物及び２．９ｇのトリエチルアミンの５０mlＤＣＭ溶液を−６０℃に冷却し、１．８３ｇの塩化ベンゾイルの２０mlＤＣＭ溶液を滴下し、反応混合物を３０分撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣をエーテルで抽出し、有機層を水及び１０％ＮａＯＨ溶液で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣を、ＤＣＭ／ＭｅＯＨ混合物（１００／１；ｖ／ｖから１００／５；ｖ／ｖ）を溶出液に用い、シリカＨでクロマトグラフィーにかけ、１．２ｇの所望の生成物を得た。
【０４６１】
DMSO-D6中、２００ＭＨｚでのプロトンＮＭＲ
δ： 1.95ppm: mt: 2H
2.8-4.8ppm: u: 9H
6.8-7.9ppm: u: 8H。
【０４６２】
Ｂ）４−ベンゾイル−２−（３，４−ジクロロフェニル）−２−［２−（メタンスルホニルオキシ）エチル］モルホリン
１．２ｇの先のステップで得た化合物及び０．６３７ｇのトリエチルアミンの５０mlＤＣＭ溶液を６０℃に加熱し、０．４１４ｇのメタンスルホニルクロライドの１０mlＤＣＭ溶液を滴下し、反応混合物を６０℃で１時間撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣をＡｃＯＥｔ／エーテル混合物（５０／５０；ｖ／ｖ）で抽出し、有機層を水、飽和ＮａＨＣＯ３溶液で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き１ｇの所望の生成物を得た。これをそのまま使用した。
【０４６３】
Ｃ）２−［２−（４−アセトアミド−４−フェニルピペリド−１−イル）エチル］−４−ベンゾイル−２−（３，４−ジクロロフェニル）モルホリン 塩酸塩一水和物
１ｇの先のステップで得た化合物、１ｇの４−アセトアミド−４−フェニルピペリジン ｐ−トルエンスルホネート及び１ｇのＫ２ＣＯ３の１０mlアセトニトリルと５mlＤＭＦ混合物を４時間還流した。反応混合物を減圧下に濃縮し、残渣をＡｃＯＥｔで抽出し、有機層を水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣を、ＤＣＭ／ＭｅＯＨ混合物（１００／３；ｖ／ｖ）を溶出液に用いてシリカＨのクロマトグラフィーにかけた。得られた生成物を最小量のＤＣＭに溶解し、ＨＣｌガスを飽和させたエーテル溶液を加え、ｐＨ１まで酸性化し、生成した沈殿をしぼり、所望の生成物０．４ｇを得た。Ｍ．ｐ．＝１８４〜１８７℃。
【０４６４】
例１８
２−（３，４−ジクロロフェニル）−４−［（３−イソプロポキシフェニル）アセチル］−２−［２−［４−フェニル−１−アゾニアビシクロ［２．２．２］オクタ−１−イル］エチル］モルホリン クロライド一水和物
Ａ）２−（３，４−ジクロロフェニル）−２−（２−ヒドロキシエチル）−４−［（３−イソプロポキシフェニル）アセチル］モルホリン
１．２ｇの調製例１．５で得た化合物、０．８３ｇの３−イソプロポキシフェニル酢酸及び０．８６ｇのトリエチルアミンの１５mlＤＣＭ溶液を０℃に冷却し、２ｇのＢＯＰを加え、反応混合物３０分撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣をＤＣＭで抽出し、有機層を水、ｐＨ２のバッファー溶液及び水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣をＤＣＭ／ＭｅＯＨ（１００／０．５；ｖ／ｖから１００／２；ｖ／ｖ）を溶出液に用いてシリカＨでクロマトグラフィーにかけ、０．２５ｇの所望の生成物を得た。
【０４６５】
ＤＭＳＯ−Ｄ6中、２００ＭＨｚでのプロトンＮＭＲ
δ： 1.2ppm: d: 6H
1.8ppm: t: 2H
2.8-4.8ppm: u: 11H
6.4-7.8ppm: u: 7H。
【０４６６】
Ｂ）２−（３，４−ジクロロフェニル）−４−［（３−イソプロポキシフェニル）アセチル］−２−［２−（メタンスルホニルオキシ）エチル］モルホリン
０．０６９ｇのメタンスルホニルクロライドを、０．２５ｇの先のステップで得た化合物及び０．０６１ｇのトリエチルアミンの１０mlＤＣＭ溶液にＲＴで加え、反応混合物を３０分撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣をＡｃＯＥｔで抽出し、有機層を水及び飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、０．２８５ｇの所望の生成物を得た。これをそのまま使用した。
【０４６７】
Ｃ）２−（３，４−ジクロロフェニル）−４−［（３−イソプロポキシフェニル）アセチル］−２−［２−［４−フェニル−１−アゾニアビシクロ［２．２．２］オクタ−１−イル］エチル］モルホリンクロライド一水和物
０．２８ｇの先のステップで得た化合物及び０．１５ｇの４−フェニル−１−アザビシクロ［２．２．２］オクタンの２mlＤＭＦ混合物を１００℃で１時間加熱した。反応混合物を減圧下に濃縮し、残渣をＤＣＭで抽出し、有機層を水、１０％ＨＣｌ溶液、及び飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、アセトン／エーテル混合物から結晶化した後、０．１７ｇの所望の生成物を得た。Ｍ．ｐ．＝１２５〜１３０℃。
【０４６８】
例１９
２−［３−（４−アセトアミド−４−フェニルピペリド−１−イル）プロピル］−４−ベンゾイル−２−（３，４−ジクロロフェニル）モルホリン 塩酸塩一水和物
Ａ）４−ベンゾイル−２−（３，４−ジクロロフェニル）−２−（３−ヒドロキシプロピル）モルホリン
２ｇの調製例１．６で得た化合物及び０．８３ｇのトリエチルアミンの３０mlＤＣＭ溶液を−１０℃に冷却し、０．９７ｇの塩化ベンゾイルの１０mlＤＣＭ溶液を滴下し、反応混合物を３０分攪拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣をＡｃＯＥｔで抽出し、有機層を水、及び１０％ＮａＯＨ溶液で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣をＤＣＭ／ＭｅＯＨ混合物（１００／１；ｖ／ｖ）を用いてシリカＨでクロマトグラフィーにかけ、１．７ｇの所望の生成物を得た。
【０４６９】
ＤＭＳＯ−Ｄ6中、２００ＭＨｚでのプロトンＮＭＲ
δ： 1.9-2.2ppm: u: 4H
3.1-4.6ppm: u: 9H
7.0-7.9ppm: u: 8H。
【０４７０】
Ｂ）４−ベンゾイル−２−（３，４−ジクロロフェニル）−２−［３−（メタンスルホニルオキシ）プロピル］モルホリン
１．７ｇの先のステップで得た化合物及び０．５２ｇのトリエチルアミンの３０mlＤＣＭ溶液を０℃に冷却し、０．６ｇのメタンスルホニルクロライドを加え、混合物を３０分攪拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣をＡｃＯＥｔで抽出し、有機層を水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、１．７ｇの所望の生成物を得た。これをそのまま使用した。
【０４７１】
Ｃ）２−［３−（４−アセトアミド−４−フェニルピペリド−１−イル）プロピル］−４−ベンゾイル−２−（３、４−ジクロロフェニル）モルホリン塩酸塩一水和物
１．７ｇの先のステップで得た化合物、２．１８ｇの４−アセトアミド−４−フェニルピペリジン ｐ−トルエンスルホネート及び２．５ｇのＫ２ＣＯ３の１０mlＤＭＦ及び１０mlアセトニトリル混合物を３時間還流した。反応混合物を減圧下に濃縮し、残渣を水に取り、エーテルで抽出し、有機層を水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣を、ＤＣＭ／ＭｅＯＨ混合物（１００／３；ｖ／ｖ）を溶出液に用い、シリカＨのクロマトグラフィーにかけた。選られた生成物を最小量のＤＣＭに溶解し、ＨＣｌガスを飽和させたエーテル溶液をｐＨが１になるまで加え、生成した沈殿をしぼり、１ｇの所望の生成物を得た。Ｍ．ｐ．＝１７０〜１７３℃。
【０４７２】
例２０
３−ベンジル−５−（３，４−ジクロロフェニル）−５−［２−（４−ヒドロキシ−４−フェニルピペリド−１−イル）エチル］オキサゾリジン−２−オン塩酸塩
Ａ）５−［２−（ベンゾイルオキシ）エチル］−３−ベンジル−５−（３，４−ジクロロフェニル）オキサゾリジン−２−オン
０．４４ｇのカリウムtert−ブチレートを、１．５ｇの調製例１．７で得た化合物の３０mlＴＨＦ溶液に０℃で加え、混合物をＲＴで１時間攪拌した。次に、０．６６７ｇの臭化ベンジルを滴下し、反応混合物を３時間還流した。これを減圧下に濃縮し、残渣をエーテルで抽出し、有機層をｐＨ２のバッファー溶液及び水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣を、ＤＣＭ、次いでＤＣＭ／ＭｅＯＨ（９９．５／０．５；ｖ／ｖ）を溶出液に用い、シリカＨのクロマトグラフィーにかけ、０．９ｇの所望の生成物を得た。
【０４７３】
ＤＭＳＯ−Ｄ6中、２００ＭＨｚでのプロトンＮＭＲ
δ： 2.6ppm: mt: 2H
3.5-4.0ppm: AB系: 2H
4.2-4.7ppm: u: 4H
7.2-8.0ppm: u: 13H。
【０４７４】
Ｂ）３−ベンジル−５−（３，４−ジクロロフェニル）−５−（２−ヒドロキシエチル）オキサゾリジン−２−オン
０．９ｇの先のステップで得た化合物及び濃ＮａＯＨ溶液の３０mlＭｅＯＨ及び１５mlＤＣＭ混合物をＲＴで３０分攪拌した。反応混合物を減圧下に濃縮し、残渣をエーテルで抽出し、有機層を水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、０．７ｇの所望の生成物を得た。これをそのまま使用した。
【０４７５】
Ｃ）３−ベンジル−５−（３，４−ジクロロフェニル）−５−［２−（メタンスルホニルオキシ）エチル］オキサゾリジン−２−オン
０．２４ｇのメタンスルホニルクロライドを、０．７ｇの先のステップで得た化合物及び０．２１ｇのトリエチルアミンの２０mlＤＣＭ溶液にＲＴで加え、反応混合物をＲＴで１時間攪拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣をＡｃＯＥｔで抽出し、有機層を水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、０．７６ｇの所望の生成物を得た。これをそのまま使用した。
【０４７６】
Ｄ）３−ベンジル−５−（３，４−ジクロロフェニル）−５−［２−（４−ヒドロキシ−４−フェニルピペリド−１−イル）エチル］オキサゾリジン−２−オン塩酸塩
０．７６ｇの４−ヒドロキシ−４−フェニルピペリジン及び０．８２ｇのヨウ化カリウムの２mlＤＭＦ混合物を５０〜６０℃で３時間攪拌した。ＲＴに冷却した後、反応混合物を水にあけ、ＡｃＯＥｔで抽出し、有機層を水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣を、ＤＣＭ／ＭｅＯＨ混合物（１００／２；ｖ／ｖから１００／３；ｖ／ｖまで）のグラジェントを溶出液に使用し、シリカＨのクロマトグラフィーにかけた。得られた生成物を最小量のＤＣＭに溶解し、ＨＣｌガスを飽和させたエーテル溶液を加えて、ｐＨ１まで酸性化し、生成した沈殿をしぼり、０．３６ｇの所望の生成物を得た。Ｍ．ｐ．＝２２３〜２２５℃。
【０４７７】
例２１
５−（３，４−ジクロロフェニル）−５−［２−［４−フェニル−１−アゾニアビシクロ［２．２．２］オクタ−１−イル］エチル］−３−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンジル］オキサゾリジン−２−オンクロライド二水和物Ａ）５−（３，４−ジクロロフェニル）−５−（２−ヒドロキシエチル）−３−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンジル］オキサゾリジン−２−オン
１．４ｇの調製例１．７で得た化合物及び０．４５ｇのカリウムtert−ブチレートの３０mlＴＨＦ混合物をＲＴで３０分攪拌し、１．０５ｇの３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンジルクロライドを加え、混合物を５時間還流した。これを減圧下に濃縮し、残渣をエーテルで抽出し、有機層を水で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートした除いた。得られた生成物を３０mlのＭｅＯＨに取り、０．１８ｇの水酸化リチウム一水和物及び１mlの水を加え、混合物をＲＴで２時間撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣をエーテルで抽出し、有機層を水で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥して溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣をＤＣＭ／ＭｅＯＨ混合物（１００／０．５；ｖ／ｖ）を溶出液に用い、シリカＨのクロマトグラフィーにかけ、０．９６ｇの所望の生成物を得た。
【０４７８】
ＤＭＳＯ−Ｄ6中、２００ＭＨｚでのプロトンＮＭＲ
δ： 2.2ppm: mt: 2H
3.0-3.55ppm: mt: 2H
3.75-3.9ppm: AB系: 2H
4.35-4.7ppm: u: 3H
7.2-8.1ppm: u: 6H。
【０４７９】
Ｂ）５−（３，４−ジクロロフェニル）−５−［２−（メタンスルホニルオキシ）エチル］−３−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンジル］オキサゾリジン−２−オン
０．２４ｇのメタンスルホニルクロライドを、０．９５ｇの先のステップで得た化合物及び０．２１ｇのトリエチルアミンの２０mlＤＣＭ溶液にＲＴで加え、反応混合物をＲＴで１時間撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣をＡｃＯＥｔで抽出し、有機層を水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、１．１ｇの所望の生成物を得た。これをそのまま使用した。
【０４８０】
Ｃ）５−（３，４−ジクロロフェニル）−５−［２−［４−フェニル−１−アゾニアビシクロ［２．２．２］オクタ−１−イル］エチル］−３−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンジル］オキサゾリジン−２−オンクロライド二水和物
０．４６ｇの４−フェニル−１−アザビシクロ［２．２．２］オクタン及び１．１ｇの先のステップで得た化合物の２mlＤＭＦ混合物を６０℃で５時間加熱した。ＲＴに冷却した後、反応混合物を水にあけ、ＤＣＭで抽出し、有機層を水、飽和ＮａＣｌ溶液、２ＮＨＣｌ溶液、及び水で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして０．６ｇの所望の生成物をＤＣＭ／ペンタン混合物から結晶化した後に得た。Ｍ．ｐ．＝１２７〜１３０℃（分解）。
【０４８１】
例２２
５−［２−（４−アセトアミド−４−フェニルピペリド−１−イル）エチル］−１−ベンジル−５−（３，４−ジクロロフェニル）−４−メチルピペラジン−２，３−ジオン 塩酸塩
Ａ）１−ベンジル−５−（３，４−ジクロロフェニル）−４−メチル−５−［２−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）エチル］ピペラジン−２，２−ジオン
０．２ｇのカリウムtert−ブチレートを、０．６ｇの調製例１．８で得た化合物の１０mlＴＨＦ溶液に加え、混合物をＲＴで１時間撹拌した。次に、０．２１mlの臭化ベンジルを加え、反応混合物を４０℃で２時間加熱した。これを減圧下に濃縮し、残渣をＤＣＭで抽出し、有機層を水で乾燥し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、エーテルから結晶化した後、０．５８ｇの所望の生成物を得た。Ｍ．ｐ．＝１７８℃。
【０４８２】
Ｂ）１−ベンジル−５−（３，４−ジクロロフェニル）−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルピペラジン−２，３−ジオン
０．５６ｇの先のステップで得た化合物、１０mlのＭｅＯＨ及び１mlの、ＨＣｌガスを飽和させたエーテル溶液の混合物を１時間撹拌した。反応混合物を減圧下に濃縮し、残渣をイソエーテルに取り、生成した沈殿をしぼり、０．４５ｇの所望の生成物を得た。Ｍ．ｐ．＝１９８℃。
【０４８３】
Ｃ）１−ベンジル−５−（３，４−ジクロロフェニル）−５−［２−（メタンスルホニルオキシ）エチル］−４−メチルピペラジン−２，３−ジオン
０．４４ｇの先のステップで得た化合物及び０．２４mlのトリエチルアミンの１０mlＤＣＭ溶液を０℃に冷却し、０．１２mlのメタンスルホニルクロライドをゆっくり加え、反応混合物を１５分撹拌した。これを水で２回洗浄し、有機層ＥをＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、０．５ｇの所望の生成物を得た。これをそのまま使用した。
【０４８４】
Ｄ）５−［２−（４−アセトアミド−４−フェニルピペリド−１−イル）エチル］−１−ベンジル−５−（３，４−ジクロロフェニル）−４−メチルピペラジン−２，３−ジオン塩酸塩
０．５ｇの先のステップで得た化合物、０．８５ｇの４−アセトアミド−４−フェニルピペリジンｐ−トルエンスルホネート及び０．６ｇのＫ２ＣＯ３の５mlＤＭＦ混合物を８０℃で８時間３０分加熱した。ＲＴに冷却後、反応混合物を水にあけ、生じた沈殿をしぼり、水で洗浄した。沈殿をＤＣＭに溶解し、有機層をＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣を、ＤＣＭ、次いでＤＣＭ／ＭｅＯＨ混合物（９３／７；ｖ／ｖ）を溶出液に用いシリカＨのクロマトグラフィーにかけた。得られた生成物をＤＣＭに溶解し、ＨＣｌガスを飽和させたエーテル溶液を加え、ｐＨ１まで酸性化し、減圧下に濃縮し、エーテルから結晶化した後、０．１０５ｇの所望の生成物を得た。Ｍ．ｐ．＝２２０℃（分解）。
【０４８５】
例２３
３−［２−（４−アセトアミド−４−フェニルピペリド−１−イル）エチル］−１−ベンゾイル−３−（３，４−ジクロロフェニル）−４−メチルピペラジン二塩酸塩半水和物
Ａ）１−ベンゾイル−３−（３，４−ジクロロフェニル）−４−メチル−３−［２−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）エチル］ピペラジン
０．４５mlのトリエチルアミンを、１ｇの調製例１．９で得た化合物の１５mlＤＣＭ溶液に加え、次に、反応混合物を０℃に冷却し、０．３２mlの塩化ベンゾイルを滴下した。次に、反応混合物を水及び１ＮＮａＯＨ溶液で洗浄し、有機層をＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣を、ヘプタン、次いでヘプタン／ＡｃＯＥｔ混合物（５０／５０；ｖ／ｖ）を溶出液に用い、シリカでクロマトグラフィーにかけ、０．９５ｇの所望の生成物を得た。これをそのまま使用した。
【０４８６】
Ｂ）１−ベンゾイル−３−（３，４−ジクロロフェニル）−３−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルピペラジン塩酸塩
ＨＣｌガスを飽和させたエーテル溶液を０．９５ｇの先のステップで得た化合物の１５mlＭｅＯＨ溶液に、ｐＨが１になるまで加え、混合物を２時間ＲＴで放置した。これを減圧下に濃縮し、残渣をエーテルに取り、生成した沈殿をしぼり、乾燥して所望の生成物を０．８ｇ得た。
【０４８７】
ＤＭＳＯ−Ｄ6中、２００ＭＨｚでのプロトンＮＭＲ
δ： 1.1-1.9ppm: u: 2H
2.1-5.1ppm: u: 12H
7.1-8.5ppm: u: 8H。
【０４８８】
Ｃ）３−［２−（４−アセトアミド−４−フェニルピペリド−１−イル）エチル］−１−ベンゾイル−３−（３，４−ジクロロフェニル）−４−メチルピペラジン二塩酸塩半水和物
０．７８mlのトリエチルアミンを、０．８ｇの先のステップで得た化合物の１５mlＤＣＭ溶液に加え、次にこの混合物を−２０℃に冷却し、０．２５mlのメタンスルホニルクロライドを滴下した。反応混合物を１０分間撹拌し、次いで水及び１０％Ｎａ２ＣＯ３溶液で洗浄し、有機層をＭｇＳＯ４で乾燥し、濾過した。１．５ｇの４−アセトアミド−４−フェニルピペリジン ｐ−トルエンスルホネートを濾液に加え、混合物を減圧下に濃縮した。残渣を１０mlのＤＭＦに取り、１．５ｇのＫ２ＣＯ３を加え、反応混合物を８０℃で２時間３０分加熱した。冷却後、これを氷水にあけ、ＡｃＯＥｔで抽出し、有機層を１ＮＮａＯＨ溶液及び水で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣を、ＤＣＭ、次いでＤＣＭ／ＭｅＯＨ混合物（９３／７；ｖ／ｖ）を溶出液に用いてシリカＨでクロマトグラフィーにかけた。得られた生成物を、ＨＣｌガスを飽和させたエーテル溶液に取り、生成された沈殿をしぼり、０．８６ｇの所望の生成物を得た。Ｍ．ｐ．＝２１０℃（分解）。
【０４８９】
例２４
３−（３，４−ジクロロフェニル）−１−［（３−イソプロポキシフェニル）アセチル］−４−メチル−３−［２−［４−フェニル−１−アゾニアビシクロ［２．２．２］オクタ−１−イル］エチル］ピペラジンクロライド塩酸塩
Ａ）３−（３，４−ジクロロフェニル）−１−［（３−イソプロポキシフェニル）アセチル］−４−メチル−３−［２−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）エチル］ピペラジン
０．５７mlのトリエチルアミン、次いで０．５２ｇの３−イソプロポキシフェニル酢酸及び１．３ｇのＢＯＰを、１ｇｎ調製例１．９で得た化合物の１５mlＤＣＭ溶液に加えた。混合物をＲＴで１５分撹拌し、減圧下に濃縮した。残渣をＡｃＯＥｔに取り、有機層を水、１ＮＮａＯＨ溶液及び飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣をヘプタン、次いでヘプタン／ＡｃＯＥｔ混合物（５０／５０；ｖ／ｖ）を溶出液に用いシリカでクロマトグラフィーにかけ、１．１ｇの所望の生成物を得た。これをそのまま使用した。
【０４９０】
Ｂ）３−（３，４−ジクロロフェニル）−３−（２−ヒドロキシエチル）−１−［（３−イソプロポキシフェニル）アセチル］−４−メチルピペラジン塩酸塩ＨＣｌガスを飽和させたエーテル溶液を、１．１ｇの先のステップで得た化合物の１５mlＭｅＯＨ溶液にｐＨが１になるまで加え、反応混合物を２時間３０分ＲＴで放置した。これを減圧下に濃縮し、残渣をエーテルに取り、生成した沈殿をしぼり、乾燥して１．０５ｇの所望の生成物を得た。
【０４９１】
Ｃ）３−（３，４−ジクロロフェニル）−１−［（３−イソプロポキシフェニル）アセチル］−４−メチル−３−［２−［４−フェニル−１−アゾニアビシクロ［２．２．２］オクタ−１−イル］エチル］ピペラジンクロライド塩酸塩
０．８ｇmlのトリエチルアミンを、１．０５ｇの先のステップで得た化合物の１５mlＤＣＭ溶液に加え、次いで混合物を−２０℃に冷却し、０．２２mlのメタンスルホニルクロライドを滴下した。５分後、反応混合物を水及び１０％Ｎａ２ＣＯ３溶液で洗浄し、有機層をＭｇＳＯ４で乾燥し、濾過した。次に、１ｇの４−フェニルキヌクリジンを濾液に加え、混合物を減圧下に濃縮した。残渣を１mlのＤＣＭに取り、８０℃で１時間加熱した。ＲＴに冷却した後、反応混合物をＤＣＭで希釈し、２ＮＨＣｌ溶液で２回、及び飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄し、有機層をＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣をＤＣＭ、次いでＤＣＭ／ＭｅＯＨ混合物（９０／１０；ｖ／ｖ）を溶出液に用い、シリカＨでクロマトグラフィーにかけた。得られた生成物をイソエーテルに取り、生成した沈殿をしぼり、１．０５ｇの所望の生成物を得た。Ｍ．ｐ．＝１６８℃（分解）。
【０４９２】
例２５
６−［２−（４−アセトアミド−４−フェニルピペリド−１−イル）エチル］−４−ベンジル−６−（３，４−ジフルオロフェニル）モルホリン−３−オン塩酸塩半水和物
Ａ）６−［２−（ベンゾイルオキシ）エチル］−４−ベンジル−６−（３，４−ジフルオロフェニル）モルホリン−３−オン
１．１ｇの調製例１．１０で得た化合物及び０．３８ｇのカリウムtert−ブチレートの５０mlＴＨＦ混合物をＲＴで３０分撹拌し、０．５１ｇの臭化ベンジルを加え、反応混合物を２時間還流した。これを減圧下に濃縮し、残渣をエーテルで抽出し、有機層を水及びｐＨ２のバッファーで洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣をＤＣＭ、次いでＤＣＭ／ＭｅＯＨ混合物（１００／２；ｖ／ｖ）を溶出液に用いてシリカＨのクロマトグラフィーにかけ、０／６ｇの所望の生成物を得た。
【０４９３】
ＤＭＳＯ−Ｄ6中、２００ＭＨｚでのプロトンＮＭＲ
δ： 2.3ppm: t: 2H
3.75ppm: AB系: 2H
3.9-4.4ppm: u: 4H
4.5ppm: s: 2H
7.0-8.0ppm: u: 13H。
【０４９４】
Ｂ）４−ベンジル−６−（３，４−ジフルオロフェニル）−６−（２−ヒドロキシエチル）モルホリン−３−オン
０．６ｇの先のステップで得た化合物及び０．５mlの濃ＮａＯＨ溶液の１０mlＭｅＯＨ混合物をＲＴで３０分撹拌した。反応混合物を減圧下に濃縮し、残渣をＡｃＯＥｔに取り、有機層を水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、０．４２ｇの所望の生成物を得た。これをそのまま使用した。
【０４９５】
Ｃ）４−ベンジル−６−（３，４−ジフルオロフェニル）−６−［２−（メタンスルホニルオキシ）エチル］モルホリン−３−オン
０．１３７ｇのメタンスルホニルクロライドを、０．４２ｇの先のステップで得た化合物及び０．１４６ｇのトリエチルアミンの２０mlＤＣＭ溶液にＲＴで加え、混合物をＲＴで３０分撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣をエーテルで抽出し、有機層を水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き０．４９ｇの所望の生成物を得た。これをそのまま使用した。
【０４９６】
Ｄ）６−［２−（４−アセトアミド−４−フェニルピペリド−１−イル）エチル］−４−ベンジル−６−（３，４−ジフルオロフェニル）モルホリン−３−オン塩酸塩半水和物
０．４９ｇの先のステップで得た化合物、０．９４ｇの４−アセトアミド−４−フェニルピペリジンｐ−トルエンスルホネート及び０．４８ｇのＫ２ＣＯ３の１mlＤＭＦ混合物を２時間８０℃で加熱した。ＲＴに冷却後、反応混合物を水で洗浄し、ＡｃＯＥｔで抽出し、有機層を水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣をＤＣＭ／ＭｅＯＨ混合物（１００／３；ｖ／ｖ）を溶出液に用いてシリカＨのクロマトグラフィーにかけた。得られた生成物を最小量のＤＣＭに溶解し、ＨＣｌを飽和させたエーテル溶液を添加してｐＨ１まで酸性化し、生成した沈殿をしぼり、０．５ｇの所望の生成物を得た。Ｍ．ｐ．＝２７３〜２７５℃。
【０４９７】
例２６
６−（３，４−ジフルオロフェニル）−６−［２−［４−フェニル−１−アゾニアビシクロ［２．２．２］オクタ−１−イル］エチル］−４−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンジル］モルホリン−３−オンクロライド二水和物
Ａ）６−［２−（ベンゾイルオキシ）エチル］−６−（３，４−ジフルオロフェニル）−４−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンジル］モルホリン−３−オン
１ｇの調製例１．１０で得た化合物及び０．３２ｇのカリウムtert−ブチレートの２０mlのＴＨＦ混合物をＲＴで１時間撹拌し、次に０．７３５ｇの３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンジルクロライドを加え、反応混合物を５時間還流した。これを減圧下に濃縮し、残渣をエーテルで抽出し、有機層を水で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、所望の生成物を得た。これをそのまま使用した。
【０４９８】
Ｂ）６−（３，４−ジフルオロフェニル）−６−（２−ヒドロキシエチル）−４−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンジル］モルホリン−３−オン
先のステップで得た生成物を１５mlのＭｅＯＨに溶解し、０．２３５ｇの水酸化リチウム一水和物を加え、反応混合物をＲＴで３０分撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣をエーテルで抽出し、有機層を水で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣をＤＣＭ／ＭｅＯＨ混合物（１００／１；ｖ／ｖ）を溶出液に用いてシリカＨのクロマトグラフィーにかけ、０．８４ｇの所望の生成物を得た。
【０４９９】
ＤＭＳＯ−Ｄ6中、２００ＭＨｚでのプロトンＮＭＲ
δ： 1.95ppm: t: 2H
2.95-3.5ppm: mt: 2H
3.95ppm: AB系: 2H
4.25ppm: AB系: 2H
4.5ppm: t: 1H
4.7ppm: AB系: 2H
7.0-8.2ppm: u: 6H
Ｃ）６−（３，４−ジフルオロフェニル）−６−［２−（メタンスルホニルオキシ）エチル］−４−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンジル］モルホリン−３−オン
０．２２ｇのメタンスルホニルクロライドを、０．８ｇの先のステップで得た化合物及び０．２ｇのトリエチルアミンの１５mlＤＣＭ溶液にＲＴで加え、反応混合物をＲＴで３０分撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣をＡｃＯＥｔで抽出し、有機層を水で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、０．９ｇの所望の生成物を得た。これをそのまま使用した。
【０５００】
Ｄ）６−（３，４−ジフルオロフェニル）−６−［２−［４−フェニル−１−アゾニアビシクロ［２．２．２］オクタ−１−イル］エチル］−４−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンジル］モルホリン−３−オンクロライド二水和物
０．９ｇの先のステップで得た化合物及び０．３８ｇの４−フェニル−１−アザビシクロ［２．２．２］オクタンの２mlＤＭＦ混合物を８０℃で４時間加熱した。ＲＴに冷却後、反応混合物を水にあけ、ＡｃＯＥｔで抽出し、有機層を２ＮＨＣｌ溶液、水、飽和ＮａＣｌ溶液及び水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥して溶媒を減圧下にエバポレートして除き、０．４１ｇの所望の生成物を得た。
【０５０１】
ＤＭＳＯ−Ｄ6中、２００ＭＨｚでのプロトンＮＭＲ
δ： 2.0-2.6ppm: u: 8H
2.7-3.7ppm: u: 8H
3.9ppm: AB系: 2H
4.1-5.1ppm: u: 4H
7.0-8.2ppm: u: 11H。
【０５０２】
例２７
２−［２−（４−アセトアミド−４−フェニルピペリド−１−イル）エチル］−４−ベンゾイル−２−（３，４−ジフルオロフェニル）モルホリン塩酸塩一水和物
Ａ）４−ベンゾイル−２−（３，４−ジフルオロフェニル）−２−（２−ヒドロキシエチル）モルホリン
０．９ｇの塩化ベンゾイルの２０mlＤＣＭ溶液を、０．７７ｇの調製例１．１１で得た化合物及び０．７ｇのトリエチルアミンのＤＣＭ溶液にＲＴで滴下し、反応混合物をＲＴで１時間撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣をエーテルで抽出し、有機層を水で洗浄し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣をＭｅＯＨに溶解し、０．５３ｇの水酸化リチウム一水和物を加え、反応混合物をＲＴで３０分撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣をＤＣＭで抽出し、有機層を水で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣をＤＣＭ／ＭｅＯＨ混合物（１００／０．５；ｖ／ｖ）を溶出液に用い、シリカＨのクロマトグラフィーにかけ、０．５ｇの所望の生成物を得た。
【０５０３】
ＤＭＳＯ−Ｄ6中、２００ＭＨｚでのプロトンＮＭＲ
δ： 1.95ppm: mt: 2H
2.8-4.9ppm: u: 9H
6.8-7.8ppm: u: 8H。
【０５０４】
Ｂ）４−ベンゾイル−２−（３，４−ジフルオロフェニル）−２−［２−（メタンスルホニルオキシ）エチル］モルホリン
０．１９ｇのメタンスルホニルクロライドの５mlＤＣＭ溶液を、０．５ｇの先のステップで得た化合物及び０．１７ｇのトリエチルアミンの２０mlＤＣＭ溶液にＲＴで滴下し、反応混合物をＲＴで１時間撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣をＡｃＯＥｔで抽出し、有機層を水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、０．５６ｇの所望の生成物を得た。これをそのまま使用した。
【０５０５】
Ｃ）２−［２−（４−アセトアミド−４−フェニルピペリド−１−イル）エチル］−４−ベンゾイル−２−（３，４−ジフルオロフェニル）モルホリン 塩酸塩一水和物
０．５６ｇの先のステップで得た化合物、１ｇの４−アセトアミド−４−フェニルピペリジンｐ−トルエンスルホネート及び０．７ｇのＫ２ＣＯ３の２mlＤＭＦ混合物を、８０℃で３時間加熱した。反応混合物を水にあけ、ＡｃＯＥｔで抽出し、有機層を水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣を、ＤＣＭ／ＭｅＯＨ混合物（１００／３；ｖ／ｖ）を溶出液に用い、シリカＨのクロマトグラフィーにかけた。得られた生成物を最小量のＤＣＭに溶解し、ＨＣｌを飽和させたエーテル溶液を加えてｐＨ１まで酸性化し、ＥｔＯＨ／エーテル混合物から結晶化した後、０．４ｇの所望の生成物を得た。Ｍ．ｐ．＝１７９〜１８２℃。
【０５０６】
例２８
５−（３，４−ジフルオロフェニル）−５−［２−［４−フェニル−１−アゾニアビシクロ［２．２．２］オクタ−１−イル］エチル］−３−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンジル］オキサゾリジン−２−オン クロライド１．５水和物
Ａ）５−（３，４−ジフルオロフェニル）−５−（２−ヒドロキシエチル）−３−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンジル］オキサゾリジン−２−オン
１．５ｇの調製例１．１２で得た化合物０．４８ｇのカリウムtert−ブチレートの１５mlＴＨＦ混合物をＲＴで１時間撹拌し、１．１ｇの３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンジルクロライドを加え、混合物を５時間還流した。これを減圧下に濃縮し、残渣をｐＨ２のバッファー溶液に取り、エーテルで抽出し、有機層を水で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。得られた生成物を２０mlのＭｅＯＨに取り、０．２ｇの水酸化リチウム一水和物を加え、混合物をＲＴで３０分撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣をＤＣＭで抽出し、有機層を水で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣を、ＤＣＭ／ＭｅＯＨ混合物（１００／１；ｖ／ｖ）を溶出液に用い、シリカＨでクロマトグラフィーにかけ、１．３ｇの所望の生成物を得た。
【０５０７】
ＤＭＳＯ−Ｄ6中、２００ＭＨｚでのプロトンＮＭＲ
δ： 2.2ppm: mt 2H
3.0-3.55ppm: mt: 2H
3.75ppm: AB系: 2H
4.4-4.6ppm: u: 3H
7.1-8.2ppm: u: 6H。
【０５０８】
Ｂ）５−（３，４−ジフルオロフェニル）−５−［２−（メタンスルホニルオキシ）エチル］−３−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンジル］オキサゾリジン−２−オン
０．３４ｇのメタンスルホニルクロライドを、１．３ｇの先のステップで得た化合物及び０．３ｇのトリエチルアミンの２０mlＤＣＭ溶液にＲＴで加え、反応混合物をＲＴで３０分撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣をＡｃＯＥｔで抽出し、有機層を水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、１．１ｇの所望の生成物を得た。これをそのまま使用した。
【０５０９】
Ｃ）５−（３，４−ジフルオロフェニル）−５−［２−［４−フェニル−１−アゾニアビシクロ［２．２．２］オクタ−１−イル］エチル］−３−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンジル］オキサゾリジン−２−オン クロライド１．５水和物
０．４６ｇの４−フェニル−１−アザビシクロ［２．２．２］オクタン及び１．１ｇの先のステップで得た化合物の２mlＤＭＦ混合物を６０℃で５時間加熱した。ＲＴに冷却した後、反応混合物を水にあけ、ＤＣＭで抽出し、有機層を水、飽和ＮａＣｌ溶液、２ＮＨＣｌ溶液及び水で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、０．６ｇの所望の生成物を得た。
【０５１０】
ＤＭＳＯ−Ｄ6中、２００ＭＨｚでのプロトンＮＭＲ
δ： 2.1ppm: mt 6H
2.7ppm: t: 2H
2.85-4.0ppm: u: 10H
4.6ppm: AB系: 2H
7.1-8.2ppm: u: 11H。
【０５１１】
例２９
４−［２−（４−アセトアミド−４−フェニルピペリド−１−イル）エチル］−１−ベンジル−４−（３，４−ジクロロフェニル）−３−メチルイミダゾリジン−２−オン塩酸塩
Ａ）１−ベンジル−４−（３，４−ジクロロフェニル）−３−メチル−４−［２−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）エチル］イミダゾリジン−２−オン０．５ｇのカリウムtert−ブチレートを、１．４５ｇの調製例１．１３で得た化合物の２０mlＴＨＦ溶液に加え、混合物をＲＴで１時間撹拌した。次に、０．４８mlの臭化ベンジルを加え、反応混合物をＲＴで３０分撹拌した、これを減圧下に濃縮し、残渣をエーテルに取り、有機層を水で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下に濃縮した。残渣を、ヘプタン、次いでヘプタン／ＡｃＯＥｔ混合物（４０／６０；ｖ／ｖ）を溶出液に用いてシリカのクロマトグラフィーにかけ、１．５ｇの所望の生成物を得た。これをそのまま使用した。
【０５１２】
Ｂ）１−ベンジル−４−（３，４−ジクロロフェニル）−４−（２−ヒドロキシエチル）−３−メチルイミダゾリジン−２−オン
ＨＣｌガスを飽和させたエーテル溶液を、１．５ｇの先のステップで得た化合物の２０mlＭｅＯＨ溶液に、ｐＨが１になるまで加え、反応混合物をＲＴで３０分撹拌した。これを減圧下の濃縮し、残渣をＭｅＯＨに取り、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、イソエーテルで結晶化した後に１．０５ｇの所望の生成物を得た。
【０５１３】
Ｃ）１−ベンジル−４−（３，４−ジクロロフェニル）−４−［２−（メタンスルホニルオキシ）エチル］−３−メチルイミダゾリジン−２−オン
０．５ｇの先のステップで得た化合物及び０．３４mlのトリエチルアミンの１０mlＤＣＭ溶液を０℃に冷却し、０．１７mlのメタンスルホニルクロライド加え、反応混合物を１５分間撹拌した。これを水で洗浄し、有機層をＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、所望の生成物を得た。これをそのまま使用した。
【０５１４】
Ｄ）４−［２−（４−アセトアミド−４−フェニルピペリド−１−イル）エチル］−１−ベンジル−４−（３，４−ジクロロフェニル）−３−メチルイミダゾリジン−２−オン塩酸塩
先のステップで得た化合物、０．８ｇの４−アセトアミド−４−フェニルピペリジンｐ−トルエンスルホネート及び０．８ｇのＫ２ＣＯ３の５mlＤＭＦ混合物を８０℃で３時間加熱した。ＲＴに冷却後、反応混合物を水にあけ、ＡｃＯＥｔで抽出し、有機層を１ＮＮａＯＨ溶液及び飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣をＤＣＭ、次いでＤＣＭ／ＭｅＯＨ混合物（９５／５；ｖ／ｖ）を溶出液に用いてシリカＨのクロマトグラフィーにかけた。得られた生成物を最小量のＤＣＭに溶解し、ＨＣｌガスを飽和させたエーテル溶液を加え、ｐＨ１まで酸性化し、減圧下に濃縮して０．３ｇの所望の生成物をイソエーテルから結晶化した後に得た。Ｍ．ｐ．＝２０６℃。
【０５１５】
例３０
４−（３，４−ジクロロフェニル）−４−［２−［４−フェニル−１−アゾニアビシクロ［２．２．２］オクタ−１−イル］エチル］−３−メチル−１−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンジル］イミダゾリジン−２−オンクロライド
Ａ）４−（３，４−ジクロロフェニル）−３−メチル−４−［２−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）エチル］−１−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンジル］イミダゾリジン−２−オン
１．４５ｇの調製例１．１３で得た化合物及び０．５ｇのカリウムtert−ブチレートの２０mlＴＨＦ混合物をＲＴで１時間撹拌し、次いで１．０４ｇの３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンジルクロライドを加え、反応混合物を２時間ＲＴで撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣をエーテルで抽出し、有機層を水及び飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣をヘプタン、次いでヘプタン／ＡｃＯＥｔ混合物（５０／５０；ｖ／ｖ）を溶出液に用いてシリカでクロマトグラフィーにかけ、２．１ｇの所望の生成物を得た。これをそのまま使用した。
【０５１６】
Ｂ）４−（３，４−ジクロロフェニル）−４−（２−ヒドロキシエチル）−３−メチル−１−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンジル］イミダゾリジン−２−オン
１mlの、ＨＣｌガスを飽和させたエーテル溶液を、２．１ｇの先のステップで得た化合物の２０mlＭｅＯＨ溶液に加え、混合物をＲＴで３０分撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣をＭｅＯＨに取り、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、イソエーテル／ペンタン混合物から結晶化し、１．７ｇの所望の生成物を得た。Ｍ．ｐ．＝９６℃。
【０５１７】
Ｃ）４−（３，４−ジクロロフェニル）−４−［２−（メタンスルホニルオキシ）エチル］−３−メチル−１−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンジル］イミダゾリジン−２−オン
０．５６ｇの先のステップで得た化合物及び０．３mlのトリエチルアミンの１０mlＤＣＭ溶液を０℃に冷却し、０．１５mlのメタンスルホニルクロライドを加え、反応混合物を１５分撹拌した。これを水で洗浄し、有機層をＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、所望の生成物を得た。これをそのまま使用した。
【０５１８】
Ｄ）４−（３，４−ジクロロフェニル）−４−［２−［４−フェニル−１−アゾニアビシクロ［２．２．２］オクタ−１−イル］エチル］−３−メチル−１−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンジル］イミダゾリジン−２−オンクロライド
先のステップで得た化合物及び０．３５ｇの４−フェニル−１−アザビシクロ［２．２．２］オクタンの１mlＤＭＦ混合物を８０℃で３時間加熱した。ＲＴに冷却後、反応混合物を、５０mlの水、５０mlのＤＣＭ及び３mlの濃ＨＣｌの混合物にあけ、５分間撹拌した。生成した沈殿をしぼり、水、ＤＣＭ、次いでエーテルで洗浄し、乾燥して０．３ｇの所望の生成物を得た。Ｍ．ｐ．＝２９０℃。
【０５１９】
例３１
６−［３−（４−アセトアミド−４−フェニルピペリド−１−イル）プロピル］−４−ベンジル−６−（３，４−ジクロロフェニル）モルホリン−３−オン 塩酸塩
Ａ）４−ベンジル−６−［３−（ベンゾイルオキシ）プロピル］−６−（３，４−ジクロロフェニル）モルホリン−３−オン
０．３６９ｇのカリウムtert−ブチレートを、１．３４ｇの調製例１．１４で得た化合物の２０mlＴＨＦ溶液に加え、混合物をＲＴで１時間撹拌した。次に、０．５６４ｇの臭化ベンジルを加え、反応混合物を２時間還流した。これを減圧下に濃縮し、残渣をｐＨ２のバッファー溶液に取り、エーテルで抽出し、有機層を水で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、所望の生成物を得た。これをそのまま使用した。
【０５２０】
Ｂ）４−ベンジル−６−（３，４−ジクロロフェニル）−６−（３−ヒドロキシプロピル）モルホリン−３−オン
０．２７７ｇの水酸化リチウム一水和物を、先のステップで得た化合物の２０mlのＭｅＯＨ溶液に加え、混合物をＲＴで１時間撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣をエーテルで抽出し、有機層を水で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、０．９ｇの所望の生成物を得た。これをそのまま使用した。
【０５２１】
ＤＭＳＯ−Ｄ6中、２００ＭＨｚでのプロトンＮＭＲ
δ： 0.9-2.1ppm: u 4H
3.3ppm: q: 2H
3.7ppm: AB系: 2H
4.15ppm: AB系: 2H
4.4ppm: t: 1H
4.5ppm: AB系: 2H
7.1-7.8ppm: u: 8H。
【０５２２】
Ｃ）４−ベンジル−６−（３，４−ジクロロフェニル）−６−［３−（メタンスルホニルオキシ）プロピル］モルホリン−３−オン
０．３１６ｇのメタンスルホニルクロライドを、０．９ｇの先のステップで得た化合物及び０．２８８ｇのトリエチルアミンの５０mlＤＣＭの溶液へＲＴで加え、混合物をＲＴで３０分撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣をＡｃＯＥｔで抽出し、有機層を水で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、１．０８ｇの所望の生成物を得た。これをそのまま使用した。
【０５２３】
Ｄ） ６−［３−（４−アセトアミド−４−フェニルピペリド−１−イル）プロピル］−４−ベンジル−６−（３，４−ジクロロフェニル）モルホリン−３−オン 塩酸塩
１．０８ｇの先のステップで得た化合物、１．４ｇの４−アセトアミド−４−フェニルピペリジンｐ−トルエンスルホネート及び１．３ｇのＫ２ＣＯ３の５mlＤＭＦ混合物を８０℃で３時間加熱した。冷却した後、反応混合物を水にあけ、ＡｃＯＥｔで抽出し、有機層を水で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣をＤＣＭ／ＭｅＯＨ混合物（１００／３；ｖ／ｖ）を溶出液に用いてシリカＨでクロマトグラフィーにかけた。得られた生成物をＤＣＭに溶解し、ＨＣｌガスを飽和させたエーテル溶液をｐＨが１になるまで加え、溶液を減圧下にエバポレートして除き、０．６ｇの所望の生成物をＥｔＯＨ／エーテル混合物から結晶化した後に得た。Ｍ．ｐ．＝１５１〜１５３℃。
【０５２４】
例３２
４−（３，４−ジクロロフェニル）−３−メチル−４−［２−（４−フェニルピペリド−１−イル）エチル］−１−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンジル］−イミダゾリジン−２−オン塩酸塩
０．５５ｇの例３０のステップＣで得た化合物、０．４７ｇの４−フェニルピペリジン及び０．５ｇのＫ２ＣＯ３の４mlＤＭＦ混合物を８０℃で５時間加熱した。冷却後、反応混合物を氷水にあけ、ＡｃＯＥｔで抽出し、有機層を１ＮＮａＯＨ溶液及び水で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣を、ＤＣＭ、次いでＤＣＭ／ＭｅＯＨ混合物（９８／２；ｖ／ｖ）を溶出液に用いてシリカＨのクロマトグラフィーにかけた。得られた生成物をエーテルに溶解し、ＨＣｌガスを飽和させたエーテル溶液をｐＨが１になるまで加え、生成した沈殿をしぼり、０．２５ｇの所望の生成物を得た。Ｍ．ｐ．＝２０８℃。
【０５２５】
例３３
４−ベンジル−６−（３，４−ジクロロフェニル）−６−［２−［４−フェニル−４−（ピロリジン−１−イルカルボニル）ピペリド−１−イル］エチル］モルホリン−３−オン塩酸塩一水和物
０．９８ｇの例１４のステップＢで得た化合物、０．６４５ｇの４−フェニル−４−（ピロリジン−１−イルカルボニル）ピペリジン及び０．６９ｇのＫ２ＣＯ３の３mlのＤＭＦ混合物を２時間８０℃で加熱した。ＲＴに冷却した後、反応混合物を水にあけ、ＡｃＯＥｔ／エーテル混合物で抽出し、有機層を水で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣をＤＣＭ／ＭｅＯＨ混合物（１００／２；ｖ／ｖ）を溶出液に用いてシリカＨでクロマトグラフィーにかけた。得られた生成物を最小量のＤＣＭに溶解し、ＨＣｌガスを飽和させたエーテル溶液を加え、ｐＨ１まで酸性化し、生成した沈殿をしぼり、０．４２ｇの所望の生成物を得た。Ｍ．ｐ．＝１５５〜１７８℃。
【０５２６】
例３４
６−［２−［４−（アセチル−Ｎ−メチルアミノ）−４−フェニルピペリド−１−イル］エチル］−４−ベンジル−６−（３，４−ジクロロフェニル）モルホリン−３−オン塩酸塩一水和物
１．１ｇの例１４のステップＢで得た化合物、１．８５ｇの４−（アセチル−Ｎ−メチルアミノ）−４−フェニルピペリジンｐ−トルエンスルホネート及び１．３ｇのＫ２ＣＯ３の３mlＤＭＦ混合物を８０〜１００℃で２時間加熱した。ＲＴに冷却した後、反応混合物を水にあけ、エーテルで抽出し、有機層を水で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣を、ＤＣＭ／ＭｅＯＨ混合物（１００／１；ｖ／ｖから１００／４；ｖ／ｖ）を溶出液に用いてシリカＨのクロマトグラフィーにかけた。得られた生成物をＤＣＭに溶解し、塩酸を飽和させたエーテル溶液をｐＨが１になるまで加え、生成した沈殿をしぼり、０．６２ｇの所望の生成物を得た。Ｍ．ｐ．＝１４８〜１５０℃。
【０５２７】
例３５
４−ベンジル−６−［２−［４−（エトキシカルボニルアミノ）−４−フェニルピペリド−１−イル］エチル］−６−（３，４−ジクロロフェニル）モルホリン−３−オン塩酸塩一水和物
１．１ｇの例１４のステップＢで得た化合物、１ｇの４−（エトキシカルボニルアミノ）−４−フェニルピペリジントリフルオロアセテート及び０．７のＫ２ＣＯ３の３ｍｌＤＭＦ混合物を８０〜１００℃で２時間加熱した。ＲＴに冷却した後、反応混合物を水にあけ、３０分撹拌し、生成した沈殿をしぼり、水で洗浄し、減圧下、６０℃で乾燥した。沈殿を、ＤＣＭ／ＭｅＯＨ混合物（１００／１：ｖ／ｖから１００／４．５；ｖ／ｖ）を溶出液に用い、シリカＨのクロマトグラフィーにかけた。得られた生成物をＤＣＭに溶解し、塩酸を飽和させたエーテル溶液をｐＨが１になるまで加え、生成した沈殿をしぼり、０．５２ｇの所望の生成物を得た。Ｍ．ｐ．＝１４８〜１５０℃。
【０５２８】
例３６
４−ベンゾイル−２−（３，４−ジフルオロフェニル）−２−［２−［４−（Ｎ’，Ｎ’−ジメチルウレイド）−４−フェニルピペリド−１−イル］エチル］モルホリン 塩酸塩一水和物，（−）異性体
Ａ）４−ベンゾイル−２−［２−（ベンゾイルオキシ）エチル］−２−（３，４−ジフルオロフェニル）モルホリン，（−）異性体
８．９ｇの調製例１．１７で得た化合物（（−）異性体）及び３ｇのトリエチルアミンの１００mlＤＣＭ溶液を０℃に冷却し、３．５９ｇの塩化ベンゾイルの２０mlＤＣＭ溶液を滴下し、反応混合物を３０分撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣をエーテルで抽出し、有機層を水で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣を、ＤＣＭ／ＭｅＯＨ混合物（１０／０．５；ｖ／ｖ）を溶出液に用い、シリカＨのクロマトグラフィーにかけ、９．３ｇの所望の生成物を得た。
【０５２９】
［α］Ｄ ２０＝−４．７°（ｃ＝１；ＭｅＯＨ）。
【０５３０】
Ｂ）４−ベンゾイル−２−（３，４−ジフルオロフェニル）−２−（２−ヒドロキシエチル）モルホリン，（−）異性体
６．６ｇの３０％ＮａＯＨ水溶液を、１１．５ｇの先のステップで得た化合物の６０mlＭｅＯＨ溶液にＲＴで滴下し、反応混合物を１時間撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣を水に取り、エーテルで抽出し、有機層を水で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下に濃縮した。残渣をＤＣＭ／ＭｅＯＨ混合物（１００／１；ｖ／ｖから１００／５；ｖ／ｖ）を溶出液に用い、シリカＨのクロマトグラフィーにかけ、８．４ｇの所望の生成物をイソエーテルから結晶化した後に得た。Ｍ．ｐ．＝８０℃。
【０５３１】
［α］Ｄ ２０＝−５６．１°（ｃ＝１；ＭｅＯＨ）。
【０５３２】
Ｃ）４−ベンゾイル−２−（３，４−ジクロロフェニル）−２−［２−（メタンスルホニルオキシ）エチル］モルホリン，（−）異性体
０．３６ｇのメタンスルホニルクロライドの３mlＤＣＭ溶液を、１ｇの先のステップで得た化合物及び０．３ｇのトリエチルアミンの２５mlＤＣＭ溶液にＲＴで滴下し、反応混合物をＲＴで３０分撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣をエーテルで抽出し、有機層を水、飽和ＮａＨＣＯ３溶液及び水で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、１．０５ｇの所望の生成物を得た。
【０５３３】
［α］Ｄ ２０＝−３６．１°（ｃ＝１；ＭｅＯＨ）。
【０５３４】
Ｄ）４−ベンゾイル−２−（３，４−ジフルオロフェニル）−２−［２−［４−（Ｎ’，Ｎ’−ジメチルウレイド）−４−フェニルピペリド−１−イル］エチル］モルホリン 塩酸塩一水和物，（−）異性体
２ｇの調製例２．２で得た化合物を水に溶解し、濃ＮａＯＨ溶液を加えたアルカリ性にし、ＤＣＭで抽出し、有機層をＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、１．０８ｇの遊離の塩基を得た。得られた生成物を３mlのＤＣＭに取り、０．９５ｇの先のステップで得た化合物を加え、反応混合物を８０℃で３時間加熱した。冷却後、これを水にあけ、生じた沈殿をしぼり、水で洗浄した。沈殿をＤＣＭに溶解し、有機層を１０％ＮａＯＨ溶液で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣をＤＣＭ／ＭｅＯＨ混合物（１００／１；ｖ／ｖから１００／７．５；ｖ／ｖ）を溶出液に用い、シリカＨでクロマトグラフィーにかけた。得られた生成物をＤＣＭに溶解し、塩酸を飽和させたエーテル溶液をｐＨが１になるまで加え、溶媒を減圧下にエバポレートした除き、０．３ｇの所望の生成物をＤＣＭ／ペンタン混合物から結晶化した後に得た。Ｍ．ｐ．＝１６８〜１７２℃。
【０５３５】
［α］Ｄ ２０＝−２２．２°（ｃ＝１；ＭｅＯＨ）。
【０５３６】
例３７
４−ベンゾイル−２−（３，４−ジフルオロフェニル）−２−［２−［４−（Ｎ’，Ｎ’−ジメチルウレイド）−４−フェニルピペリド−１−イル］エチル］モルホリン 塩酸塩半水和物，（＋）異性体
Ａ）４−ベンゾイル−２−［２−（ベンゾイルオキシ）エチル］−２−（３，４−ジフルオロフェニル）モルホリン，（＋）異性体
２０ｇの調製例１．１８で得た化合物（＋）異性体）及び８mlのトリエチルアミンの２００mlＤＣＭ溶液を０℃に冷却し、６mlの塩化ベンゾイルのを滴下し、反応混合物を１５分撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣をエーテルで抽出し、有機層を水、１ＮＨＣｌ溶液及び１０％Ｎａ２ＣＯ３溶液で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、２２ｇの所望の生成物を油状物の形態で得た。
【０５３７】
［α］Ｄ ２０＝＋４．７°（ｃ＝１；ＭｅＯＨ）。
【０５３８】
Ｂ）４−ベンゾイル−２−（３，４−ジフルオロフェニル）−２−（２−ヒドロキシエチル）モルホリン，（＋）異性体
２２ｇの先のステップで得た化合物、９mlの３０％ＮａＯＨ水溶液及び２００mlの９５°ＥｔＯＨの混合物をＲＴで１時間撹拌した。反応混合物を減圧下に濃縮し、残渣をエーテルで抽出し、有機層を水で３回洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、１３．７ｇの所望の生成物をエーテル／イソエーテル混合物から結晶化した後に得た。Ｍ．ｐ．＝８０℃
［α］Ｄ ２０＝＋５９．５°（ｃ＝１；ＭｅＯＨ）。
【０５３９】
Ｃ）４−ベンゾイル−２−（３，４−ジクロロフェニル）−２−［２−（メタンスルホニルオキシ）エチル］モルホリン，（＋）異性体
１ｇの先のステップで得た化合物及び０．４５ｇのトリエチルアミンの１０mlＤＣＭ溶液を０℃に冷却し、０．２５mlのメタンスルホニルクロライド溶液を加え、反応混合物を１５分撹拌した。これを水及び１０％Ｎａ２ＣＯ３溶液で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、１．２ｇの所望の生成物を油状物の形態で得た。
【０５４０】
Ｄ）４−ベンゾイル−２−（３，４−ジフルオロフェニル）−２−［２−［４−（Ｎ’，Ｎ’−ジメチルウレイド）−４−フェニルピペリド−１−イル］エチル］モルホリン 塩酸塩半水和物，（＋）異性体
１．２ｇの先のステップで得た化合物、３ｇの調製例２．２で得た化合物及び２ｇのＫ２ＣＯ３の１０mlＤＭＦ混合物を８０℃で３時間加熱した。反応混合物を氷水にあけ、ＡｃＯＥｔで抽出し、有機層を１ＮＮａＯＨ溶液及び飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣を、ＤＣＭ、次いでＤＣＭ／ＭｅＯＨ混合物（９６／４；ｖ／ｖ）を溶出液に用い、シリカＨでクロマトグラフィーにかけた。得られた生成物をＤＣＭに溶解し、ＨＣｌガスを飽和させたエーテル溶液をｐＨが１になるまで加え、溶媒を減圧下にエバポレートした除き、０．６６ｇの所望の生成物をイソエーテルから結晶化した後に得た。
【０５４１】
［α］Ｄ ２０＝＋２２．２°（ｃ＝１；ＭｅＯＨ）。
【０５４２】
例３８
５−（３，４−ジクロロフェニル）−５−［２−（４−フェニルピペリド−１−イル）エチル］−３−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンジル］オキサゾリジン−２−オン塩酸塩
例２１のステップＢで得た化合物及び１．０３ｇの４−フェニルピペリジンの３mlＤＭＦ混合物を８０℃で３時間加熱した。冷却後、反応混合物を水にあけ、ＡｃＯＥｔで抽出し、有機層を水で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣を、ＤＣＭ／ＭｅＯＨ混合物（１００／１；ｖ／ｖ）を溶出液に用い、シリカＨでクロマトグラフィーにかけた。得られた生成物をＤＣＭに溶解し、ＨＣｌガスを飽和したエーテル溶液をｐＨが１になるまで加え、溶液を減圧下にエバポレートして除き、０．７ｇの所望の生成物を、ＤＣＭ／ペンタン混合物から結晶化した後に得た。Ｍ．ｐ．＝１１２〜１１４℃。
【０５４３】
例３９
５−［２−（４−アセトアミド−４−フェニルピペリド−１−イル）エチル］−５−（３，４−ジクロロフェニル）−３−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンジル］オキサゾリジン−２−オン 塩酸塩一水和物
１．５ｇの例２１のステップＢで得た化合物、１．５ｇの４−アセトアミド−４−フェニルピペリジン ｐ−トルエンスルホネート及び１．６ｇのＫ２ＣＯ３の４mlＤＭＦ混合物を８０℃で３時間加熱した。冷却後、反応混合物を水にあけ、ＡｃＯＥｔ／エーテル混合物（５０／５０；ｖ／ｖ）で抽出し、有機層を水で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣を、ＤＣＭ／ＭｅＯＨ混合物（１００／３；ｖ／ｖ）を溶出液に用い、シリカＨでクロマトグラフィーにかけた。得られた生成物をＤＣＭに溶解し、ＨＣｌガスを飽和させたエーテル溶液をｐＨが１になるまで加え、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、ＤＣＭ／ペンタン混合物から結晶化した後、０．６６ｇの所望の生成物を得た。Ｍ．ｐ．＝１６５〜１７０℃。
【０５４４】
例４０
５−［２−［４−ベンジル−１−アゾニアビシクロ［２．２．２］オクタ−１−イル］エチル］−５−（３，４−ジクロロフェニル）−３−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンジル］オキサゾリジン−２−オンクロライド一水和物１．４ｇの例２１のステップＢで得た化合物及び０．６ｇの４−ベンジルキヌクリジンの３mlＤＭＦ混合物を８０℃で２時間加熱した。ＲＴに冷却後、反応混合物を水にあけ、ＡｃＯＥｔで抽出し、有機層を水、３００mlの１０％ＨＣｌ溶液及び３００mlの飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、１．３５ｇの所望の生成物をＡｃＯＥｔから結晶化した後に得た。Ｍ．ｐ．＝１７２〜１７５℃。
【０５４５】
例４１
４−ベンジル−６−（３，４−ジクロロフェニル）−６−［２−［４−フェニル−４−（ピロリジン−１−イルカルボニルアミノ）ピペリド−１−イル］エチル］モルホリン−３−オン塩酸塩一水和物
１．１ｇの例１４のステップＢで得た化合物、１．２ｇの４−フェニル−４−（ピロリジン−１−イルカルボニルアミノ）ピペリジンベンゼンスルホネート及び０．９５ｇのＫ２ＣＯ３の３mlＤＭＦ混合物を８０〜１００℃で３時間加熱した。ＲＴに冷却した後、反応混合物を水にあけ、生成した沈殿をしぼり、水で洗浄し、減圧下に乾燥した。沈殿を、ＤＣＭ／ＭｅＯＨ混合物（１００／２；ｖ／ｖから１００／３；ｖ／ｖ）を溶出液に用い、シリカＨのクロマトグラフィーにかけた。得られた生成物を最小量のＤＣＭに溶解し、ＨＣｌガスを飽和させたエーテル溶液を加えてｐＨ１間で酸性化し、生成した沈殿をしぼり、０．５４ｇの所望の生成物を得た。Ｍ．ｐ．＝１５８〜１６０℃。
【０５４６】
例４２
４−ベンジル−６−（３，４−ジクロロフェニル）−６−［２−［４−（２−ジメチルアミノチアゾール−４−イル）−４−フェニルピペリド−１−イル］エチル］モルホリン−３−オン二塩酸塩
この化合物を、１．１ｇの例１４のステップＢで得た化合物、１．３ｇの４−［２−（ジメチルアミノ）チアゾール−４−イル］−４−フェニルピペリジンｐ−トルエンスルホネート、０．９７ｇのＫ２ＣＯ３及び４mlのＤＭＦから例４１に開示した手順で調製し、０．７６ｇの所望の生成物を得た。Ｍ．ｐ．＝１５５〜１６０℃。
【０５４７】
例４３
４−ベンゾイル−２−（３，４−ジクロロフェニル）−２−［２−［４−（モルホリン−４−イルカルボニルアミノ）−４−フェニルピペリド−１−イル］エチル］モルホリン塩酸塩一水和物
Ａ）４−ベンジル−２−［２−（ベンゾイルオキシ）エチル］−２−（３，４−ジクロロフェニル）モルホリン
２．０３ｇのベンゾイルクロライドを、５ｇの調製例１．１９で得た化合物及び１．４ｇのトリエチルアミンの１００mlＤＣＭ溶液にＲＴで滴下し、反応混合物をＲＴで３０分撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣をエーテルで抽出し、有機層を水で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣を、ＤＣＭ／ＭｅＯＨ混合物（１００／１；ｖ／ｖ）を溶出液として使用し、シリカＨのクロマトグラフィーにかけ、４ｇの所望の生成物を得た。
【０５４８】
Ｂ）４−ベンゾイル−２−（３，４−ジクロロフェニル）−２−（２−ヒドロキシエチル）モルホリン
４ｇの先のステップで得た化合物及び０．７ｇの水酸化リチウム一水和物の５０mlＭｅＯＨ混合物をＲＴで３０分撹拌した。反応混合物を減圧下に濃縮し、残渣をエーテルで抽出し、有機層を水で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、３．１ｇの所望の生成物を得た。
【０５４９】
この化合物はまた、例１７のステップＡで開示した手順で調製することができる。
【０５５０】
Ｃ）４−ベンゾイル−２−（３，４−ジクロロフェニル）−２−［２−（メタンスルホニルオキシ）エチル］モルホリン
１．０７ｇのメタンスルホニルクロライドを、３．１ｇの先のステップで得た化合物及び０．９５ｇのトリエチルアミンの５０mlＤＣＭ溶液にＲＴで滴下し、反応混合物をＲＴで１時間撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣をＡｃＯＥｔ／エーテル混合物（５０／５０；ｖ／ｖ）で抽出し、有機層を水で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして３．７ｇの所望の生成物を得た。これをそのまま使用した。
【０５５１】
この化合物は、例１７のステップＢで開示した手順によっても製造されうる。
【０５５２】
Ｄ）４−ベンゾイル−２−（３，４−ジクロロフェニル）−２−［２−［４−（モルホリン−４−イルカルボニルアミノ）−４−フェニルピペリド−１−イル］エチル］モルホリン塩酸塩一水和物
１．３ｇの先のステップで得た化合物、１．５ｇの４−（モルホリン−１−イルカルボニルアミノ）−４−フェニルピペリジンｐ−トルエンスルホネート及び１．２ｇのＫ２ＣＯ３の３mlＤＭＦ混合物を１００℃で３時間加熱した。ＲＴに冷却後、反応混合物を水にあけ、生成した沈殿をしぼり、減圧下に乾燥した。沈殿を、ＤＣＭ／ＭｅＯＨ混合物（１００／２；ｖ／ｖから１００／３；ｖ／ｖ）を溶出液に使用し、シリカＨのクロマトグラフィーにかけた。得られた生成物を最小量のＤＣＭに溶解し、ＨＣｌガスを飽和させたエーテル溶液を加えてｐＨ１まで酸性化し、減圧下に濃縮して０．１３ｇの所望の生成物をイソエーテルから結晶化した後に得た。
【０５５３】
ＤＭＳＯ−Ｄ6中、２００ＭＨｚでのプロトンＮＭＲ
δ： 1.8-4.0ppm: u 26H
6.5ppm: s: 1H
6.9-7.8ppm: u: 13H
10.65ppm: s: 1H。
【０５５４】
例４４
４−ベンゾイル−２−（３，４−ジクロロフェニル）−２−［２−［４−フェニル−４−（ピロリジン−１−イルアミノカルボニル）ピペリド−１−イル］エチル］モルホリン二塩酸塩二水和物
１．３ｇの例４３のステップＣで得た化合物、１．４６ｇの４−フェニル−４−（ピペリジン−１−イルアミノカルボニル）ピペリジンベンゼンスルホネート及び１．１７ｇのＫ２ＣＯ３の５mlアセトニトリル及び５mlＤＭＦ混合物を１００℃で４時間加熱した。ＲＴに冷却後、反応混合物を水にあけ、ＡｃＯＥｔで抽出し、有機層を水で２回、及び飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣を、ＤＣＭ、次いでＤＣＭ／メタノール（９７／３；ｖ／ｖ）を溶出液に用いてシリカＨのクロマトグラフィーにかけた。得られた生成物をアセトンに溶解し、塩酸を飽和させたエーテル溶液をｐＨが１になるまで加え、生成した沈殿をしぼり、１．０１ｇの所望の生成物を得た。Ｍ．ｐ．＝１７０〜１７４℃。
【０５５５】
例４５
４−ベンゾイル−２−（３，４−ジフルオロフェニル）−２−［２−［４−（メトキシカルボニルアミノ）−４−フェニルピペリド−１−イル］エチル］モルホリン 塩酸塩一水和物，（＋）異性体
１．２ｇの例３７のステップＣで得た化合物、１．３ｇの４−（メトキシカルボニルアミノ）−４−フェニルピペリジンｐ−トルエンスルホネート及び１．２ｇのＫ２ＣＯ３の３mlＤＭＦ混合物を８０〜１００℃で２時間加熱した。ＲＴに冷却後、反応混合物を水にあけ、生成した沈殿をしぼり、減圧下に乾燥した。沈殿を、ＤＣＭ／ＭｅＯＨ混合物（１００／１．５；ｖ／ｖから１００／３；ｖ／ｖ）を溶出液に用い、シリカＨのクロマトグラフィーにかけた。得られた生成物をＤＣＭに溶解し、塩酸を飽和させたエーテル溶液をｐＨが１になるまで加え、生成した沈殿をしぼり、０．８ｇの所望の生成物を得た。Ｍ．ｐ．＝１７０℃。
【０５５６】
［α］Ｄ ２０＝＋２６．７°（ｃ＝１；ＭｅＯＨ）。
【０５５７】
例４６
４−ベンゾイル−２−（３，４−ジフルオロフェニル）−２−［２−［４−フェニル−４−（ピロリジン−１−イルカルボニルアミノ）ピペリド−１−イル］エチル］モルホリン 塩酸塩一水和物，（＋）異性体
この化合物を、１．２ｇの例３７のステップＣで得た化合物、１．４ｇの４−フェニル−４−（ピペリジン−１−イルカルボニルアミノ）ピペリジン ベンゼンスルホネート、１．２ｇのＫ２ＣＯ３及び２mlのＤＭＦから例４５に開示した手順に従って調製し、０．３ｇの所望の生成物を得た。Ｍ．ｐ．＝１６３〜１６８℃。
【０５５８】
［α］Ｄ ２０＝＋２２．８°（ｃ＝１；ＭｅＯＨ）。
【０５５９】
例４７
４−ベンゾイル−２−［２−［４−ベンジル−４−（ピロリジン−１−イルカルボニルアミノ）ピペリド−１−イル］エチル］−２−（３，４−ジフルオロフェニル）モルホリン 塩酸塩１．５水和物，（＋）異性体
この化合物を、１．２ｇの例３７のステップＣで得た化合物、１．５ｇの４−ベンジル−４−（ピロリジン−１−イルカルボニルアミノ）ピペリジンｐ−トルエンスルホネート、１．２ｇのＫ２ＣＯ３及び３mlのＤＭＦから例４５に開示した手順に従って調製し、０．８３ｇの所望の生成物を得た。Ｍ．ｐ．＝１４０℃。
【０５６０】
［α］Ｄ ２０＝＋２８．４°（ｃ＝１；ＭｅＯＨ）。
【０５６１】
例４８
４−ベンゾイル−２−（３，４−ジフルオロフェニル）−２−［２−［４−［２−（ジメチルアミノ）チアゾール−４−イル］−４−フェニルピペリド−１−イル］エチル］モルホリン二塩酸塩半水和物，（＋）異性体
この化合物を、１．２ｇの例３７のステップＣで得た化合物、１．５５ｇの４−［２−（ジメチルアミノ）チアゾール−４−イル］−４−フェニルピペリジンｐ−トルエンスルホネート、１．２ｇのＫ２ＣＯ３及び３mlのＤＭＦから例４５に開示した手順に従って調製し、０．７ｇの所望の生成物を得た。Ｍ．ｐ．＝１４７℃。
【０５６２】
［α］Ｄ ２０＝＋２０．３°（ｃ＝１；ＭｅＯＨ）。
【０５６３】
例４９
２−［２−［４−（２−アミノ−１，３，４−オキサジアゾール−５−イル）−４−フェニルピペリド−１−イル］エチル］−４−ベンゾイル−２−（３，４−ジフルオロフェニル）モルホリン二塩酸塩，（＋）異性体
この化合物を、１．２ｇの例３７のステップＣで得た化合物、１．４ｇの４−（２−アミノ−１，３，４−オキサジアゾール−５−イル）−４−フェニルピペリジン ｐ−トルエンスルホネート、１．２ｇのＫ２ＣＯ３及び３mlのＤＭＦから例４５に開示した手順に従って調製し、０．６ｇの所望の生成物を得た。Ｍ．ｐ．＝１５３℃。
【０５６４】
［α］Ｄ ２０＝＋２７．２°（ｃ＝１；ＭｅＯＨ）。
【０５６５】
例５０
５−（３，４−ジフルオロフェニル）−５−［２−［４−フェニル−１−アゾニアビシクロ［２．２．２］オクタ−１−イル］エチル］−３−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンジル］オキサゾリジン−２−オンクロライド一水和物，（−）異性体
Ａ）５−［２−（ベンゾイルオキシ）エチル］−５−（３，４−ジフルオロフェニル）−３−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンジル］オキサゾリジン−２−オン，（−）異性体
１．２ｇのカリウムtert−ブチレートを、３．５ｇの調製例１．２０で得た化合物（（−）異性体）の、５０mlＴＨＦ及び１０mlＤＭＦ混合物の溶液にＲＴで加え、混合物をＲＴで３０分撹拌した。次に、２．７ｇの３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンジルクロライドを加え、反応混合物を６０℃で６時間加熱した。これを２００mlのｐＨ２のバッファー溶液にあけ、エーテルで抽出し、有機層を水で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣を、ＤＣＭを溶出液に用いてシリカＨでクロマトグラフィーにかけ、３．６ｇの所望の生成物を得た。
【０５６６】
Ｂ）５−（３，４−ジフルオロフェニル）−５−（２−ヒドロキシエチル）−３−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンジル］オキサゾリジン−２−オン，（−）異性体
３．６ｇの先のステップで得た化合物及び０．３２ｇの水酸化リチウム一水和物の、ＭｅＯＨ５０ml及び水５mlの混合物を２時間ＲＴで撹拌した。反応混合物を減圧下に濃縮し、残渣を水に取り、エーテルで抽出し、有機層を水で２回洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣をＤＣＭ、次いでＤＣＭ／ＭｅＯＨ混合物（９８／２；ｖ／ｖ）を溶出液に用いて２．６ｇの所望の生成物を得た。
【０５６７】
Ｃ）５−（３，４−ジフルオロフェニル）−５−［２−（メタンスルホニルオキシ）エチル］−３−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンジル］オキサゾリジン−２−オン，（−）異性体
２．６ｇの先のステップで得た化合物の５０mlＤＣＭ溶液を０℃に冷却し、１．１４mlのトリエチルアミン、次いで０．６２mlのメタンスルホニルクロライドを加え、反応混合物を１０分撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣をエーテルで抽出し、有機層を水で２回洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、３ｇの所望の生成物を得た。これをそのまま使用した。
【０５６８】
Ｄ）５−（３，４−ジフルオロフェニル）−５−［２−［４−フェニル−１−アゾニアビシクロ［２．２．２］オクタ−１−イル］エチル］−３−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンジル］オキサゾリジン−２−オンクロライド一水和物，（−）異性体
２ｇの先のステップで得た化合物及び１ｇの４−フェニル−１−アザビシクロ［２．２．２］オクタンの１mlＤＭＦ混合物を９０℃で２時間加熱した。ＲＴに冷却した後、反応混合物を１ＮＨＣｌ溶液にあけ、ＤＣＭで抽出し、有機層を１ＮＨＣｌ溶液及び飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣をＤＣＭ、次いでＤＣＭ／ＭｅＯＨ混合物（９０／１０；ｖ／ｖ）を溶出液に用いてシリカＨのクロマトグラフィーにかけ、イソエーテルから結晶化した後、１．４５ｇの所望の生成物を得た。Ｍ．ｐ．＝１３０℃（分解）。
【０５６９】
［α］Ｄ ２０＝−３６．２°（ｃ＝１；ＭｅＯＨ）。
【０５７０】
例５１
４−ベンゾイル−２−（３，４−ジフルオロフェニル）−２−［２−［４−（Ｎ’，Ｎ’−ジメチルウレイド）−４−フェニルピペリド−１−イル］エチル］モルホリンフマレート
Ａ）４−ベンゾイル−２−（３，４−ジフルオロフェニル）−２−（ホルミルメチル）モルホリン
０．３２mlの塩化オキサリルの７．３mlＤＣＭ溶液を、窒素雰囲気下で−７８℃に冷却し、０．５１mlのＤＭＳＯの３．５mlのＤＣＭ溶液を滴下し、次いで１ｇの例２７のステップＡで得た化合物の７．５mlＤＣＭと０．７mlのＤＭＳＯ溶液を滴下した。反応混合物を−６０℃で３０分撹拌し、次いで２mlのトリエチルアミン加え、反応混合物を、温度をＲＴに上げながら撹拌した。これを１ＮＨＣｌ溶液、飽和Ｎａ２ＣＯ３溶液及び水で洗浄し、有機層をＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、１．０３ｇの所望の生成物を油状物の形態で得た。
【０５７１】
ＤＭＳＯ−Ｄ6中、２００ＭＨｚでのプロトンＮＭＲ
δ： 2.7-4.8ppm: u 8H
7.0-8.0ppm: u: 8H
9.6ppm: s: 1H。
【０５７２】
Ｂ）４−ベンゾイル−２−（３，４−ジフルオロフェニル）−２−［２−［４−（Ｎ’，Ｎ’−ジメチルウレイド）−４−フェニルピペリド−１−イル］エチル］モルホリンフマレート
１ｇの先のステップで得た化合物の１０mlＭｅＯＨ溶液を、０．７２ｇの４−（Ｎ’，Ｎ’−ジメチルウレイド）−４−フェニルピペリジン（遊離塩基）及び０．１６mlの酢酸の１０mlＭｅＯＨ溶液にＲＴで加え、混合物をＲＴで５分撹拌した。次に０．１９ｇのナトリウムシアノボロハイドライドの１０mlＭｅＯＨ溶液を一度にすべて加え、反応混合物を４時間ＲＴで撹拌した。これを１０％Ｎａ２ＣＯ３溶液を添加して中和し、ＤＣＭで抽出し、有機層をＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣を、ＤＣＭ、次いでＤＣＭ／ＭｅＯＨ混合物（９６／４；ｖ／ｖ）を溶出液に用いてシリカＨでクロマトグラフィーにかけた。得られた生成物（１．１ｇ）を２０mlのアセトンに溶解し、０．２４ｇの蟻酸を加え、混合物をＲＴで１時間撹拌した。生じた結晶性の生成物をしぼり、アセトン、次いでエーテルで洗浄し、１．３５ｇの所望の生成物を得た。Ｍ．ｐ．＝２０４℃。
【０５７３】
以下の表１〜表３に列記した本発明に従った化合物を、例１４のステップＢで得た化合物及び調製例で開示したピペリジンから例３４に開示した手順に従って製造した。
【０５７４】
【表１】
Figure 0003943369
【表２】
Figure 0003943369
【表３】
Figure 0003943369
ＤＭＳＯ−Ｄ6中、２００ＭＨｚでの例５７の化合物のプロトンＮＭＲ
δ：1.6-3.7 ppm: u: 17H
3.75-4.8 ppm: u: 6H
7.0-7.6 ppm: u: 13H
10.2-11 ppm: 2s: 1H
ＤＭＳＯ−Ｄ6中、２００ＭＨｚでの例５８の化合物のプロトンＮＭＲ
δ：0.8-4.9 ppm: u: 30H
7.0-7.8 ppm: u: 13H
10.0 ppm: s: 1H
ＤＭＳＯ−Ｄ6中、２００ＭＨｚでの例５９の化合物のプロトンＮＭＲ
δ：1.1-3.8 ppm: u: 24H
3.9-4.75 ppm: u: 4H
7.0-7.6 ppm: u: 13H
9.7 ppm: s: 1H。
【０５７５】
例６３
６−［２−［４−ベンジル−１−アゾニアビシクロ［２．２．２］オクタ−１−イル］エチル］−６−（３，４−ジフルオロフェニル）−４−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンジル］モルホリン−３−オンクロライド二水和物
０．８６ｇの例２６のステップＣで得た化合物及び０．４７ｇの４−ベンジル−１−アザビシクロ［２．２．２］オクタン（又は４−ベンジルキヌクリジン）の１mlＤＭＦ混合物を９０℃で９時間加熱した。ＲＴに冷却後、反応混合物を水にあけ、２ＮＨＣｌ溶液で２回、及び飽和ＮａＣｌ溶液で２回洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣を、ＤＣＭ、次いでＤＣＭ／ＭｅＯＨ混合物（９０／１０；ｖ／ｖ）を溶出液に用い、シリカＨのクロマトグラフィーにかけ、０．４ｇの所望の生成物をエーテルから結晶化した後に得た。Ｍ．ｐ．＝１３５℃（分解）。
【０５７６】
例６４
６−（３，４−ジフルオロフェニル）−４−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンジル］−６−［２−［４−（ピペリド−１−イル）ピペリド−１−イル］エチル］モルホリン−３−オン二塩酸塩半水和物
０．８６ｇの例２６のステップＣで得た化合物及び０．７ｇの４−（ピペリド−１−イル）ピペリジンの３mlのＤＭＦ混合物を７０℃で４時間３０分加熱した。ＲＴに冷却した後、反応混合物を水にあけ、ＡｃＯＥｔで抽出し、溶媒を１ＮＮａＯＨ溶液及び飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣をＤＣＭ、次いでＤＣＭ／ＭｅＯＨ混合物（９０／１０；ｖ／ｖ）を溶出液に用いてシリカＨのクロマトグラフィーにかけた。得られた生成物を、塩酸を飽和させたエーテル溶液に取り、生成した沈殿をしぼり、０．４９ｇの所望の生成物を得た。Ｍ．ｐ．＝２６０℃（分解）。
【０５７７】
以下の表４に列記された本発明に従った化合物を、これまでの例で説明した手順で製造した。
【０５７８】
【表４】
Figure 0003943369
（ａ）この化合物を、例４３のステップＣで得た化合物及び調製例２．１６で得た遊離塩基の形態の化合物から例４４で開示した手順で製造した。
【０５７９】
（ｂ）この化合物を、例５１のステップＡで得た化合物及び調製例２．１７で得た化合物（遊離塩基）から例５１のステップＢで開示した手順で製造した。クロマトグラフィーの後、得られた生成物をＤＣＭに溶解し、塩酸を飽和させたエーテル溶液をｐＨが１になるまで加え、所望の塩酸塩を搾り取った。
【０５８０】
（ｃ）この化合物を、例５１のステップＡで得た化合物及び調製例２．１８で得た化合物（遊離塩基）から例５１のステップＢで開示した手順で製造した。クロマトグラフィーの後、得られた生成物をＤＣＭに溶解し、塩酸を飽和させたエーテル溶液をｐＨが１になるまで加え、所望の塩酸塩をしぼり取った。
【０５８１】
ＤＭＳＯ−Ｄ6中、２００ＭＨｚでの例６５のプロトンＮＭＲ
δ： 0.8-4.2ppm: u 28H; 7.0-7.8ppm: u: 8H; 7.9-8.6ppm: 2s: 2H; 10.4-11.6ppm: u: 2H
ＤＭＳＯ−Ｄ6中、２００ＭＨｚでの例６７のプロトンＮＭＲ
δ： 2.0-4.2ppm: u 21H
5.9ppm: mt: 1H
6.75ppm: s: 1H
7.0-7.8ppm: u: 8H
10.95ppm: s: 1H。
【０５８２】
例６８
４−ベンゾイル−２−（３，４−ジフルオロフェニル）−２−［２−（４−フェニル−４−ウレイドピペリド−１−イル）エチル］モルホリン塩酸塩二水和物，（＋）異性体
Ａ）４−ベンゾイル−２−（３，４−ジフルオロフェニル）−２−（ホルミルメチル）モルホリン，（＋）異性体
２．６mlの塩化オキサリルの５９mlＤＣＭの溶液を窒素雰囲気下で−７８℃に冷却し、４．６mlのＤＭＳＯの２９．５mlのＤＣＭ溶液を滴下し、次いで８．２ｇの例３７のステップＢで得た化合物のＤＣＭ５９mlとＤＭＳＯ５．７mlの溶液を滴下した。反応混合物を−６０℃で３０分撹拌し、次に１６mlのトリエチルアミンを加え、温度をＲＴにあげながら反応混合物を撹拌した。これを１ＮＨＣｌ溶液、水、飽和ＮａＨＣＯ３溶液、及び水で洗浄し、有機層をＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、７．５ｇの所望の生成物を油状物の形態で得た。
【０５８３】
Ｂ）４−ベンゾイル−２−（３，４−ジフルオロフェニル）−２−［２−（４−フェニル−４−ウレイドピペリド−１−イル）エチル］モルホリン塩酸塩二水和物，（＋）異性体
２．５ｇの先のステップで得た化合物の２６mlＭｅＯＨ溶液を、１．６ｇの４−フェニル−４−ウレイドピペリジン（遊離塩基）及び０．４mlの酢酸の２６mlＭｅＯＨ溶液にＲＴで加え、混合物を５分ＲＴで撹拌した。次に、０．５ｇのナトリウムシアノボロハイドライドの２６mlＭｅＯＨ溶液を一度にすべて加え、反応混合物をＲＴで４時間撹拌した。これを２００mlの１０％Ｎａ２ＣＯ３溶液にあけ、ＡｃＯＥｔで抽出し、有機層を水で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣を、ＤＣＭ／ＭｅＯＨ混合物（１００／５；ｖ／ｖから１００／７．５；ｖ／ｖ）のグラジェントを溶出液に用い、シリカＨのクロマトグラフィーにかけた。得られた生成物をＤＣＭに溶解し、塩酸を飽和させたエーテル溶液をｐＨが１になるまで加え、生成した沈殿をしぼり、１．６ｇの所望の生成物を得た。Ｍ．ｐ．＝１８７から１９０℃。
【０５８４】
［α］Ｄ ２０＝＋２２．５°（ｃ＝１；ＭｅＯＨ）。
【０５８５】
例６９
４−ベンゾイル−２−（３，４−ジフルオロフェニル）−２−［２−［４−（Ｎ’−メチルウレイド）−４−フェニルピペリド−１−イル］エチル］モルホリン 塩酸塩一水和物，（＋）異性体
この化合物を、１．８５ｇの４−（Ｎ’−メチルウレイド）−４−フェニルピペリジン（遊離塩基）、０．４４mlの酢酸及び２６mlのＭｅＯＨ、次いで２．７５ｇの例６８のステップＡで得た化合物の２６mlのＭｅＯＨ溶液、及び０．５５ｇのナトリウムシアノボロハイドライドの２６mlのＭｅＯＨ溶液から例６８のステップＢで開示した手順に従って製造した。これにより所望の生成物２ｇを得た。Ｍ．ｐ．＝１７０〜１７３℃。
【０５８６】
［α］Ｄ ２０＝＋２３．４°（ｃ＝１；ＭｅＯＨ）。
【０５８７】
例７０
４−ベンゾイル−２−（３，４−ジフルオロフェニル）−２−［２−［４−（３，３−ジメチルカルバゾイル）−４−フェニルピペリド−１−イル］エチル］モルホリン二塩酸塩１．５水和物，（＋）異性体
この化合物を、１．５５ｇの４−（３，３−ジメチルカルバゾイル）−４−フェニルピペリジン（遊離塩基）及び０．３８mlの酢酸の２６mlＭｅＯＨ溶液、次いで２．４ｇの例６８のステップＡで得た化合物の２６mlのＭｅＯＨ溶液、及び０．４７ｇのナトリウムシアノボロハイドライドの２６mlＭｅＯＨ溶液から例６８のステップＢで開示した手順に従って製造した。これにより所望の生成物１．８２ｇを得た。
【０５８８】
［α］Ｄ ２０＝＋２２．５°（ｃ＝１；ＭｅＯＨ）。
【０５８９】
例７１
２−（３，４−ジフルオロフェニル）−４−［２−（３−イソプロポキシフェニル）アセチル］−２−［２−［４−フェニル−１−アゾニアビシクロ［２．２．２］オクタ−１−イル］エチル］モルホリンクロライド一水和物
Ａ）２−［２−（ベンゾイルオキシ）エチル］−２−（３，４−ジフルオロフェニル）−４−［２−（３−イソプロポキシフェニル）アセチル］モルホリン
３．２ｇのＢＯＰを、２．１ｇの調製例１．２１で得た化合物、１．２ｇの２−（３−イソプロポキシフェニル）酢酸及び２．２mlのトリエチルアミンの５０mlＤＣＭ溶液にＲＴで加え、反応混合物をＲＴで１５分撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣をエーテルで抽出し、有機層を１ＮＨＣｌ溶液、水及び１０％Ｎａ２ＣＯ３溶液で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、３．２ｇの所望の生成物を油状物の形態で得た。
【０５９０】
Ｂ）２−（３，４−ジフルオロフェニル）−２−（２−ヒドロキシエチル）−４−［２−（３−イソプロポキシフェニル）アセチル］モルホリン
３．２ｇの先のステップで得た化合物、２mlの濃ＮａＯＨ溶液及び５０mlのＭｅＯＨ混合物をＲＴで２時間撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣をエーテルで抽出し、有機層を水で２回洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、２．３ｇの所望の生成物を油状物の形態で得た。
【０５９１】
Ｃ）２−（３，４−ジフルオロフェニル）−４−［２−（３−イソプロポキシフェニル）アセチル］−２−［２−（メタンスルホニルオキシ）エチル］モルホリン
０．９３mlのトリエチルアミン、次いで０．５１mlのメタンスルホニルクロライドを、２．３ｇの先のステップで得た化合物の５０mlＤＣＭ溶液に加え、混合物を１５分ＲＴで撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣をエーテルで抽出し、有機層を水及び１０％Ｎａ２ＣＯ３溶液で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、２．７ｇの所望の生成物を油状物の形態で得た。
【０５９２】
Ｄ）２−（３，４−ジフルオロフェニル）−４−［２−（３−イソプロポキシフェニル）アセチル］−２−［２−［４−フェニル−１−アゾニアビシクロ［２．２．２］オクタ−１−イル］エチル］モルホリンクロライド一水和物
１．３ｇの先のステップで得た化合物及び０．７２ｇの４−フェニル−１−アザビシクロ［２．２．２］オクタンの１．５mlＤＭＦ混合物を９０℃で５時間加熱した。ＲＴに冷却後、反応混合物を１ＮＨＣｌ溶液にあけ、ＤＣＭで抽出し、有機層を１ＮＨＣｌ溶液及び飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣を、ＤＣＭ、次いでＤＣＭ／ＭｅＯＨ混合物（９０／１０；ｖ／ｖ）を溶出液に用い、シリカＨのクロマトグラフィーにかけ、イソエーテルから結晶化した後に０．３８ｇの所望の生成物を得た。Ｍ．ｐ．＝１３６℃（分解）。
【０５９３】
例７２
２−（３，４−ジフルオロフェニル）−４−［２−（３−イソプロポキシフェニル）アセチル］−２−［２−［４−（ピペリド−１−イル）ピペリド−１−イル］エチル］モルホリン二塩酸塩半水和物
１．３ｇの例７１のステップＣで得た化合物及び１．１ｇの４−（ピペリド−１−イル）ピペリジンの４mlＤＭＦ混合物を７０℃で４時間加熱した。ＲＴに冷却後、反応混合物を氷水にあけ、ＡｃＯＥｔで抽出し、有機層を１ＮＮａＯＨ溶液及び飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣を、ＤＣＭ、次いでＤＣＭ／ＭｅＯＨ混合物（９０／１０；ｖ／ｖ）を溶出液に用い、シリカＨのクロマトグラフィーにかけた。得られた生成物を、塩酸を飽和させたエーテル溶液に取り、生成した沈殿をしぼり、０．４９ｇの所望の生成物を得た。Ｍ．ｐ．＝２７０℃（分解）。
【０５９４】
例７３
２−（３，４−ジフルオロフェニル）−２−［２−［４−フェニル−１−アゾニアビシクロ［２．２．２］オクタ−１−イル］エチル］−４−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンゾイル］モルホリンクロライド１．５水和物
Ａ）２−［２−（ベンゾイルオキシ）エチル］−２−（３，４−ジフルオロフェニル）−４−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンゾイル］モルホリン２．１ｇの調製例１．２１で得た化合物及び１mlのトリエチルアミンの５０mlＤＣＭ溶液を０℃に冷却し、１．２４mlの３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンゾイルクロライドを滴下し、反応混合物を５分撹拌した。これを水で２回洗浄し、有機層をＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、３．５ｇの所望の生成物を油状物の形態で得た。
【０５９５】
Ｂ）２−（３，４−ジフルオロフェニル）−２−（２−ヒドロキシエチル）−４−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンゾイル］モルホリン
３．５ｇの先のステップで得た化合物、２mlの濃ＮａＯＨ溶液及び５０mlのＭｅＯＨ混合物をＲＴで２時間撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣をエーテルで抽出し、有機層を水で２回洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、イソエーテル／ペンタン混合物から結晶化した後、０．８４ｇの所望の生成物を得た。Ｍ．ｐ．＝１０１℃。
【０５９６】
Ｃ）２−（３，４−ジフルオロフェニル）−２−［２−（メタンスルホニルオキシ）エチル］−４−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンゾイル］モルホリン
０．５mlのトリエチルアミンを、０．８４ｇの先のステップで得た化合物の１０mlＤＣＭ溶液に加え、混合物を０℃に冷却し、次に０．２６mlのメタンスルホニルクロライドを加え、反応混合物をＲＴで５分撹拌した。これを水で２回洗浄し、有機層をＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、０．９８ｇの所望の生成物を得た。
【０５９７】
Ｄ）２−（３，４−ジフルオロフェニル）−２−［２−［４−フェニル−１−アゾニアビシクロ［２．２．２］オクタ−１−イル］エチル］−４−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンゾイル］モルホリンクロライド１．５水和物
０．９８ｇの先のステップで得た化合物及び０．６５ｇの４−フェニル−１−アザビシクロ［２．２．２］オクタンの１mlＤＭＦ混合物を１０℃で３時間加熱した。ＲＴに冷却後、反応混合物を１ＮＨＣｌ溶液にあけ、ＤＣＭで抽出し、有機層を１ＮＨＣｌ溶液及び飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣を、ＤＣＭ、次いでＤＣＭ／ＭｅＯＨ混合物（９０／１０；ｖ／ｖ）を溶出液に用い、シリカＨのクロマトグラフィーにかけ、イソエーテルから結晶化した後、０．４２ｇの所望の生成物を得た。Ｍ．ｐ．＝１７０℃（分解）。
【０５９８】
例７４
５−［２−（４−アセトアミド−４−フェニルピペリド−１−イル）エチル］−３−ベンゾイル−５−（３，４−ジクロロフェニル）オキサゾリジン塩酸塩一水和物
Ａ）３−ベンゾイル−５−（３，４−ジクロロフェニル）−５−（２−ヒドロキシエチル）オキサゾリジン
１．２３ｇの塩化ベンゾイルの１０mlＤＣＭ溶液を、３．２ｇの調製例１．２２で得た化合物及び１ｇのトリエチルアミンの５０mlＤＣＭ溶液にＲＴで滴下し、混合物をＲＴで１時間撹拌した。１．７６ｇのトリエチルアミン、次いで２．４６ｇの塩化ベンゾイルを更に加え、混合物をＲＴで１時間撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣を水に取り、ＡｃＯＥｔで抽出し、有機層をｐＨ２のバッファー溶液及び飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣を３０mlのＭｅＯＨに取り、２mlの３０％ＮａＯＨ溶液を加え、混合物をＲＴで３０分撹拌した。これを減圧下に濃縮し、残渣をエーテルで抽出し、有機層を水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。残渣を、ＤＣＭ／ＭｅＯＨ混合物（１００／１．５；ｖ／ｖ）を溶出液に用い、シリカＨのクロマトグラフィーにかけ、１．６ｇの所望の生成物を得た。
【０５９９】
Ｂ）３−ベンゾイル−５−（３，４−ジクロロフェニル）−５−［２−（メタンスルホニルオキシ）エチル］オキサゾリジン
０．５５ｇのメタンスルホニルクロライドの５mlのＤＣＭ溶液を、１．６ｇの先のステップで得た化合物及び０．４８５ｇのトリエチルアミンの５０mlＤＣＭ溶液にＲＴで滴下し、混合物をＲＴで３０分撹拌した。これを減圧下に濃縮し、、残渣をＡｃＯＥｔで抽出し、有機層を水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートして除き、１．９ｇの所望の生成物を得た。
【０６００】
Ｃ）５−［２−（４−アセトアミド−４−フェニルピペリド−１−イル）エチル］−３−ベンゾイル−５−（３，４−ジクロロフェニル）オキサゾリジン塩酸塩一水和物
１．８ｇの先のステップで得た化合物、１．７ｇの４−アセトアミド−４−フェニルピペリジンｐ−トルエンスルホネート及び１．７ｇのＫ２ＣＯ３の４mlＤＭＦ混合物を８０〜１００℃で２時間加熱した。ＲＴに冷却した後、反応混合物を水にあけ、生成した沈殿をしぼり、減圧下に乾燥した。沈殿を、ＤＣＭ／ＭｅＯＨ混合物（１００／３；ｖ／ｖ）を溶出液に用い、シリカＨのクロマトグラフィーにかけた。生成物をＤＣＭに溶解し、塩酸を飽和させたエーテル溶液をｐＨが１になるまで加え。生成した沈殿をしぼり、１ｇの所望の生成物を得た。Ｍ．ｐ．＝１６５〜１７０℃。
【０６０１】
例７５
５−（３，４−ジフルオロフェニル）−５−［２−［４−フェニル−１−アゾニアビシクロ［２．２．２］オクタ−１−イル］エチル］−３−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンジル］オキサゾリジン−２−オン クロライド一水和物，（＋）異性体
Ａ）５−［２−（ベンゾイルオキシ）エチル］−５−（３，４−ジフルオロフェニル）−３−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンジル］オキサゾリジン−２−オン，（＋）異性体
この化合物を、調製例１．２３（（＋）異性体）で得た化合物から例５０のステップＡで開示した手順で製造した。
【０６０２】
Ｂ）５−（３，４―ジフルオロフェニル）−５−（２−ヒドロキシエチル）−３−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンジル］オキサゾリジン−２−オン，（＋）異性体
この化合物を、先のステップで得た化合物から例５０のステップＢで開示した手順で製造した。
【０６０３】
Ｃ）５−（３，４―ジフルオロフェニル）−５−［２−（メタンスルホニルオキシ）エチル］−３−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンジル］オキサゾリジン−２−オン，（＋）異性体
この化合物を、先のステップで得た化合物から例５０のステップＣで開示した手順で製造した。
【０６０４】
Ｄ）５−（３，４−ジフルオロフェニル）−５−［２−［４−フェニル−１−アゾニアビシクロ［２．２．２］オクタ−１−イル］エチル］−３−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンジル］オキサゾリジン−２−オン クロライド一水和物，（＋）異性体
この化合物を、先のステップで得た化合物及び４−フェニル−１−アザビシクロ［２．２．２］オクタンから例５０のステップＤで開示した手順で製造した。
【０６０５】
［α］Ｄ ２０＝＋３６．２°（ｃ＝１；ＭｅＯＨ）。
【０６０６】
例７６
４−ベンゾイル−２−［３−［４−カルバモイル−４−（ピペリド−１−イル）ピペリド−１−イル］プロピル］−２−（３，４−ジクロロフェニル）モルホリン二塩酸塩
この化合物を、例１９のステップＢで得た化合物及び調製例２．１６で得た化合物から例１９のステップＣで開示した手順で製造した。
【０６０７】
例７７
２−（３，４−ジクロロフェニル）−４−［２−（３−クロロフェニル）−アセチル］−２−［２−［４−フェニル−１−アゾニアビシクロ［２．２．２］オクタ−１−イル］エチル］モルホリン クロライド
Ａ）２−［２−（ベンゾイルオキシ）エチル］−２−（３，４―ジクロロフェニル）−４−［２−（３−クロロフェニル）アセチル］モルホリン
この化合物を、調製例１．１９で得た化合物及び２−（３−クロロフェニル）酢酸から例７１のステップＡで開示した手順で製造した。
【０６０８】
Ｂ）２−（３，４―ジクロロフェニル）−４−［２−（３−クロロフェニル）アセチル］−２−（２−ヒドロキシエチル）モルホリン
この化合物を、先のステップで得た化合物から例７１のステップＢで開示した手順で製造した。
【０６０９】
Ｃ）２−（３，４―ジクロロフェニル）−４−［２−（３−クロロフェニル）アセチル］−２−［２−（メタンスルホニルオキシ）エチル］モルホリン
この化合物を、先のステップで得た化合物及びメタンスルホニルクロライドから例７１のステップＣで開示した手順で製造した。
【０６１０】
Ｄ）２−（３，４−ジクロロフェニル）−４−［２−（３−クロロフェニル）−アセチル］−２−［２−［４−フェニル−１−アゾニアビシクロ［２．２．２］オクタ−１−イル］エチル］モルホリンクロライド
この化合物を、先のステップで得た化合物及び４−フェニル−１−アゾビシクロ［２．２．２］オクタンから例７１のステップＤで開示した手順で製造した。
【０６１１】
ＤＭＳＯ−Ｄ6中、２００ＭＨｚでのプロトンＮＭＲ
δ： 2.0-2.5ppm: u 8H; 2.55-4.6ppm: u: 16H; 7.0-8.0ppm: u: 12H。
【０６１２】
例７８
２−（３，４−ジクロロフェニル）−４−［２−（３−クロロフェニル）−アセチル］−２−［４−ベンジル−１−アゾニアビシクロ［２．２．２］オクタ−１−イル］エチル］モルホリンクロライド
この化合物を、例７７のステップＣで得た化合物及び４−ベンジル−１−アゾビシクロ［２．２．２］オクタンから例７１のステップＤで開示した手順で製造した。

Claims (4)

  1. 下記Ｌがアミノメチル基である場合にエナンチオマーとして純粋な形態に又はラセミの形態にある下式（XXXX）：
    Figure 0003943369
    ｛但し、
    ｍは２又は３であり；
    Ａｒ１は、無置換フェニル、もしくはハロゲン原子、ヒドロキシル、（Ｃ１−Ｃ４）−アルコキシ、（Ｃ１−Ｃ４）−アルキル、トリフルオロメチル及びメチレンジオキシから選択される置換基で一置換もしくは多置換されたフェニル（前記置換基は同一であるか又は異なっている。）；無置換チエニル、もしくはハロゲン原子で置換されたチエニル；無置換ベンゾチエニル、もしくはハロゲン原子で置換されたベンゾチエニル；無置換ナフチル、もしくはハロゲン原子で置換されたナフチル；無置換インドリル、又は（Ｃ１−Ｃ４）−アルキルもしくはベンジルでＮ−置換されたインドリル；無置換イミダゾリル、もしくはハロゲン原子で置換されたイミダゾリル；無置換ピリジル、もしくはハロゲン原子で置換されたピリジル；又はビフェニルであり；
    Ｅは、水素又はテトラヒドロピラン−２−イル、ベンゾイルおよび（Ｃ １ −Ｃ ４ ）−アルキルカルボニルからなる群の中から選ばれたＯ−保護基であり、
    Ｌは、シアノ基又はアミノメチル基であり、
    Ｄは、下記基：
    Figure 0003943369
    （ここで、Ｇは水素又はテトラヒドロピラン−２−イル、ベンゾイルおよび（Ｃ １ −Ｃ ４ ）−アルキルカルボニルからなる群の中から選ばれたＯ−保護基であり、Ｍは、水素又はトリチル、メトキシトリチル、 tert −ブトキシカルボニルおよびベンジルオキシカルボニルからなる群の中から選ばれたＮ−保護基であり、Ｒ１は、水素または（Ｃ１−Ｃ４）−アルキルである。）である｝で示される化合物。
  2. Ｄが、−ＣＨ２−ＯＨである請求項１に記載の化合物。
  3. Ｄが、−Ｏ−Ｇであり、Ｇが、請求項１に定義した通りのものである請求項１に記載の化合物。
  4. Ｄが、−Ｎ（Ｍ）−Ｒ１であり、Ｒ１が、請求項１に定義した通りのものである請求項１に記載の化合物。
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