JP3918497B2 - 端面反射型表面波装置 - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、共振子や帯域フィルタとして用いられる表面波装置に関し、より詳細には、対向2端面間の表面波の反射を利用した端面反射型表面波装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、共振子や共振型帯域フィルタとして表面波装置が広く用いられている。ところで、表面波としてレイリー波を用いた表面波装置は、圧電基板上に少なくとも1つのインターデジタルトランスデューサ(以下、IDT)が形成されている構造を有し、かつIDTが設けられている領域の表面波伝搬方向両側に反射器が配置されている。すなわち、表面波を反射器間で反射させ、定在波とするために、反射器を必要としていた。その結果、表面波装置の寸法が大きくならざるを得なかった。
【0003】
これに対して、SHタイプの表面波を利用した端面反射型の表面波装置が知られている。BGS波などのSHタイプの表面波では、反射器を省略して圧電基板の対向2端面を反射端面とすることができる。従って、表面波装置の小型化を図ることができる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、SH波を用いた表面波装置では、圧電基板のSH波の音速が遅く、従って高周波化に対応することが困難であった。また、表面波フィルタの帯域幅は、圧電基板の電気機械結合係数kに依存するが、SHタイプの表面波を利用するためには圧電基板材料が限定され、従って、電気機械結合係数kの制約により、所望とする帯域幅を容易に得ることができなかった。
【0005】
本発明の目的は、上述した従来技術の欠点を解消し、高周波化に容易に対応することができ、かつ所望の帯域幅を容易に実現し得る端面反射型表面波装置を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】
従来、SH波以外の表面波を利用して端面反射型表面波装置を構成することはできないと考えられていた。これに対して、本願発明者らは、表面波の成分のうち、縦波あるいはSV波を主成分とする波を利用すれば、対向2端面で反射させて、端面反射型表面波装置を構成し得ることを見い出した。
【0007】
すなわち、本発明は、対向し合う一対の主面及び該一対の主面を結ぶ一対の対向端面を有する圧電性基板と、前記圧電性基板の一方主面に形成された少なくとも1つのインターデジタルトランスデューサとを備える端面反射型表面波装置であって、前記圧電性基板が、オイラー角(0度、40〜60度、90度)もしくは(90度、90度、20〜50度)のLi 2 4 7 基板、オイラー角が(0度、120〜140度、150度)もしくは(0度、155.25度、42度)の水晶基板または(90度、90度、10〜90度)のLiNbO 3 もしくはLiTaO 3 基板であり、励振される表面波のうち縦波を主成分とする表面波を用いており、励振される表面波全体のエネルギー強度を100%としたとき、前記縦波成分が70%以上を占めることを特徴とする端面反射型表面波装置である。
【0008】
レイリー波は、縦波とSV波の2つの成分を有しており、この2つの成分は常に結合して伝搬する。従って、従来、端面反射を利用した表面波装置をレイリー波を利用して構成することは困難と考えられていた。
【0009】
しかしながら、表面波の中でも、縦波を主成分とする波については、後述の実施例から明らかなように、モード変換を生じることなく基板端面で反射され、従って、端面反射型表面波装置を構成することができる。しかも、上記縦波は、SH波に比べて音速が速いため、高周波化に容易に対応することができる。
【0011】
り好ましくは、励振される表面波の縦波成分、SH成分及びSV成分の変位をそれぞれu1,u2,u3としたとき、基板表面の変位u1,u2の比が基板表面が電気的に開放のときに0.015以下、及び/または基板表面が電気的に短絡のときに0.1以下であり、その場合、さらに良好な特性が得られる。
【0012】
発明の特定の局面では、一対の対向端面の中間高さ位置に段差が形成され、該段差よりもIDTが形成されている側の主面に近い端面部分により反射端面が構成されている。そして、この反射端面の高さ方向寸法が、表面波の波長をλとしたときに、5λ〜20λの範囲とされており、それによって縦波を主成分とする表面波が上記反射端面によって効率良く反射される。従って、例えばマザー基板に5λ〜20λの範囲の深さの溝を形成し、該溝の中央で分割することにより、多数の端面反射型表面波装置を効率良く製造することができる。
【0020】
発明の特定の局面では、電気機械結合係数kとインターデジタルトランスデューサの対数N(縦結合型共振子フィルタは総対数)との積に対し、インターデジタルトランスデューサの交叉幅Wが次の関係を満たすように構成されている。
【0021】
W≧2.1+30.5e-(x-0.016)/0.055+7.1e-(x-0.016)/0.012
但し、x=k2
第1,第2の発明のさらに他の特定の局面では、圧電性基板の比誘電率ε33 S*とインターデジタルトランスデューサの対数Nとの積に対し、インターデジタルトランスデューサの交叉幅Wが次の関係を満たすように構成されている。
【0022】
W≧−1.68+25.9e-(x-37)/44.8+15.6e-(x-37)/216.1
但し、x=Nε33 S*
発明に係る端面反射型表面波装置の別の特定の局面では、表面波の位相速度の進行方向と前記端面との角度が90±5度であり、端面の上部断面と基板表面との角度は90±10度とされている。
【0023】
本発明に係る端面反射型表面波装置のさらに別の特定の局面では、表面波の波長をλとしたとき、シングル電極の場合にはインターデジタルトランスデューサの最外側の電極から一つ内側の電極の中心から表面波伝搬方向外側へλ/2±λ/10の位置に前記端面が構成されている。
【0024】
同電位の電極指がペアをなしているスプリット電極の場合には、ペアをなす電極指間の中心からλ/2の整数倍±λ/10の位置に前記端面が構成される。
本発明の他の特定の局面によれば、本発明に係る弾性表面波装置を有する通信機が提供される。
【0025】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しつつ、本発明に係る端面反射型表面波装置の具体的な実施例を説明することにより、本発明を説明する。
【0026】
(第1の実施例)
図1(a)及び(b)は、本発明の第1の実施例に係る端面反射型表面波共振子を示す斜視図及び図1(a)のB−B線に沿う断面図である。端面反射型表面波共振子1は、圧電性基板2を有する。圧電性基板2は、矩形板状の形状を有し、本実施例では、縦波を主成分とする波を端面で反射させる圧電材料、例えば(0度、40〜60度、90度)のオイラー角を有するLi247により構成されている。もっとも、圧電性基板2を構成する圧電単結晶については、オイラー角が(90度、90度、20〜50度)のLi247基板、オイラー角が(0度、120〜140度、150度)もしくは(0度、155.25度、42度)の水晶基板、または(90度、90度、10〜90度)のLiNbO3もしくはLiTaO3基板などを用いることもできる。
【0027】
これらの圧電単結晶からなる圧電性基板2では、後述のように表面波を励振させた場合、縦波を主成分とする表面波が十分な大きさで発生する。
圧電性基板2は、対向し合う一対の主面2a,2bと、対向し合う一対の端面2c,2dとを有する。主面2a上には、IDT3が形成されている。IDT3は、一対の櫛形電極3a,3bを有する。櫛形電極3a,3bは、それぞれ、電極指3a1〜3a3,3b1〜3b3を有する。電極指3a1〜3a3と電極指3b1〜3b3とは互いに間挿し合うように配置されている。
【0028】
電極指3a1〜3a3,3b1〜3b3は、端面2c,2dと平行な方向に延ばされている。IDT3に入力電圧が印加されると、表面波が励振され、該表面波は、電極指3a1〜3a3,3b1〜3b3が延びる方向と直交する方向であって、主面2aと平行な方向に伝搬する。従って、表面波は、端面2cと端面2dとを結ぶ方向において伝搬し、端面2c,2dで反射される。
【0029】
本実施例の端面反射型表面波共振子1では、圧電性基板2が上記材料で構成されているので、励振される表面波全体のエネルギー強度を100%としたとき、縦波を主成分とする波がその70%以上を占めるように発生する。前述したように、レイリー波は、縦波成分とSV波成分の2つの成分を有し、この2つの成分が常に結合して伝搬する。しかしながら、上記特定の圧電性基板2を用いた場合、縦波成分が支配的となる。
【0030】
上記縦波は、BGS波のようなSHタイプの表面波に比べて音速が速いという特徴を有する。例えば、36°回転Y板X伝搬のLiTaO3基板のSH波の音速は4160m/秒に対し、Xカット31°伝搬LiTaO3の音速は6300m/秒である。従って、端面反射型表面波共振子1では、SHタイプの表面波を利用した端面反射型表面波共振子に比べて1.5倍の高周波化を図ることができる。
【0031】
なお、従来、レイリー波では縦波成分とSV成分が結合しているため、レイリー波が基板端面で反射されると、それぞれSV波と縦波にモード変換される。しかしながら、本実施例の縦波成分を主成分とする端面反射型表面波共振子1では、端面2c,2dが、主面2aに対して略直交するように配置されているため、上記変換、すなわちモード変換は非常に起こり難い。好ましくは、主面2aに対して、端面2c,2dが90±5度以内の角度をなすように構成されており、それによって、縦波成分のうち97%以上がモード変換を生じることなく反射される。ここで、図2に端面反射型共振子の周波数特性を示す。図2から明らかなように、モード変換に伴う特性劣化が少ないため、共振・***振におけるインピーダンスの比は46dBである。これを、図3を参照して説明する。
【0032】
図3はSAWの位相速度の伝搬方向と基板表面における端面4a,4b(図1)とのなす角度と、端面反射型共振子のインピーダンス比との関係を示す図である。図4は基板表面と端面断面2d(図1参照)とのなす角度と、上述の共振子のインピーダンス比との関係を示す図である。図3,4から明らかなように、端面4a,4bと表面波の伝搬方向とのなす角度が90±5度及び基板断面2c,2dと表面波伝搬方向の角度が90±10度の範囲とされた場合、縦波の殆どがモードを生じることはなく、共振子のインピーダンスは実用レベルの40dB以上であることがわかる。なお、共振子のインピーダンス比40dB以上必要な理由は共振子を発振回路に応用する場合、40dB以上ないと発振しないためである。
【0033】
以上、図1〜図4においては弾性表面波の位相速度伝搬方向と、群速度の伝搬方向とのなす角度(パワーフローアングル:PFA)がゼロの場合について述べたがPFAがゼロでない場合も同様である。図5に示すx1方向が位相速度の伝搬方向、x1´が群速度の伝搬方向であり、この2つの方向の間の角度がPFAである。PFA≠0でない場合には、図6に示すように基板のPFAに応じてバスバーと群速度が平行になるように電極指をずらしてバスバーを形成すればよい。
【0034】
次に、縦波を主成分とするXカットLiTaO3基板を用いて実験を行った。位相速度の伝搬方向をY軸からZ軸方向へ向けて30°〜60°の範囲として実験を行った。オイラー角では(90°,90°,30°〜60°)である。交叉幅は20λ,対数は50対とした。
【0035】
図7は、PFAと共振子のインピーダンス比の関係を示す。図中、●と○はそれぞれ基板表面が電気的に短絡の場合と開放の場合のPFAを示している。これらのデバイスでは一般にPFA=0がよいとされているが、図7はPFA=0がよいとは限らないことを示している。
【0036】
図8は電気機械結合係数kの二乗とインピーダンス比との関係を示す。SH波の端面反射ではk2が大きい方がインピーダンス比がよくとれると報告されているが(特願平3−303495号公報)、縦波を主成分とする表面波では、それがあてはまらないことが明らかである。
【0037】
図9は表面波の伝搬定数(伝搬ロス)とインピーダンス比との関係を示す。表面波デバイスでは、伝搬定数が小さい方がよいことは常識とされていたが、図9からも縦波を主成分とする表面波には、あてはまらないことが明らかである。
【0038】
図10に基板表面における3つの変位成分の比を示す。u1,u2,u3はそれぞれ縦波成分、SH成分及びSV成分の変位を示す。図中●と○は、それぞれ基板表面が電気的に短絡と開放の場合の変位u2/u1の比を示している。図から明らかなように、インピーダンスが40dB以上得られる条件は、●で0.1以下,○で0.015以下である。このように縦波を主成分とする端面反射型表面波装置では、その特性がPFA、k2及び伝搬定数よりも、変位の比u2/u1に大きく依存していることが明らかになった。
【0039】
原理的にはPFAの大きさは任意である。実際の表面波装置の作成の場合にはPFAが大きいと素子が斜めになり、取扱いが不便になる。そのためPFAは−15°〜15°程度が望ましい。
【0040】
なお、上記変位の大きさは有限要素法(FEM)やCoyrbeel&Joneの方法*J.J.Coyrbeel&W.R.Jone:IEEE trens.Sonic&Ultreson.,su-15,4,p209(Oct,1968)により計算できる。
【0041】
なお、シングル電極で形成された端面反射型表面波共振子1においては、表面波伝搬方向最外側の電極指の幅が表面波の波長をλとしたときに、λ/8の幅を有するように構成されており、残りの電極指3a2,3a3,3b1,3b2の幅はλ/4とされており、電極指間のギャップの幅もλ/4とされている。特に縦波やSV波において、端面の位置ずれは共振子のインピーダンス比で評価したところ、±λ/10までなら実用レベルであることがわかった。すなわち、端面反射型表面波共振子1を得るにあたっては、通常最外側の電極指3a1,3b3の幅がλ/8±λ/10となるように端面2c,2dが形成される。もっとも、図11(a)に示すように、圧電性基板上に電極指がλ/4でないIDTが形成された場合には、例えば、3λ/10の電極指が形成された場合にはギャップは2λ/10となり、最外側の電極指は3λ/20となる。このような場合、例えば電極指3a3の中心から表面波伝搬方向外側に、λ/2の整数倍±λ/10離れた位置Xで圧電基板を切断することにより端面2dを形成するこになる。端面2cについても同様である。
【0042】
スプリット電極指の場合には、図11(b)に示すように、対をなす電極指3a11,3a12の中心からλ/2の整数倍±λ/10の位置で切断される。
【0047】
また、さらに良好なインピーダンス特性を得るための基板表面の表面波成分の変位の比u2/u3についても、縦波型表面波の場合と同じような関係が得られている。すなわち基板表面が電気的に開放のときには、u2/u3≦0.015とすることが好ましい。短絡の場合にはu2/u3≦0.10とすることが好ましい。スプリット電極の場合の端面位置も縦波成分を主成分とする表面波の場合の条件と同じである。
【0048】
ここで、圧電性基板の電気機械結合係数k、比誘電率ε33 S*とIDTの交叉幅W及び対数Nとの関係について求めた。図1に示す縦波の端面反射を利用した共振子を作製し、図2に示す共振特性のインピーダンス比で評価した。図12はk2NとWとの関係を求めたもので、実線から上の領域が共振特性のインピーダンス比40dB以上得られる領域であり、破線から上の領域が45dB以上得られる領域である。すなわち、40dB以上得るための交叉幅は次の式を満足する交叉幅であればよい。
【0049】
W≧2.1+30.5e-(x-0.016)/0.055+7.1e-(x-0.016)/0.012
但し、x=k2N、Wはλで規格化した値である。
また、インピーダンス比45dB以上を得るための交叉幅は次の式を満足する交叉幅である。
【0050】
W≧2.8+24.2e-(x-0.03)/0.052+12.9e-(x-0.03)/0.011
図13は、ε33 S*×NとWとの関係を求めた図であり、実線から上の領域がインピーダンス比40dB以上が得られる領域であり、破線から上の領域がインピーダンス比45dB以上が得られる領域である。すなわち、40dB以上のインピーダンス比を得るための交叉幅は次の式になる。
【0051】
W≧−1.68+25.9e-(x-37)/44.8+15.6e-(x-37)/216.1
但し、x=Nε33 S*
また、45dB以上のインピーダンス比を得るための交叉幅は次の式となる。
【0052】
W≧−1.23+15.7e-(x-47)/15.7+25.4e-(x-47)128.8
【0053】
なお、ここでは共振子について示したが、最適交叉幅は後述の共振子型フィルタについても同じ結果を示した。横モード型についてはそれぞれのIDTの交叉幅と対数に相当し、縦モード型については両端面間の総IDT対数(1列分)に相当するものである。
【0054】
(変形例)
1の実施例では、端面2c,2dが反射端面とされた端面反射型表面波共振子1を例にとり説明したが、本発明に係る端面反射型表面波装置では、対向2端面の上方部分のみが反射端面とされていてもよい。
【0055】
すなわち、図14に部分切欠断面図で示すように、マザーの圧電性基板2Aに、複数の端面反射型表面波共振子を構成するための複数のIDT3を形成した後に、溝2e,2fを形成する。溝2e,2fは、例えばダイサーなどで形成することができ、それぞれ、互いに平行な側面2e1,2e2,2f1,2f2を有する。また、上記溝2e,2fのIDT3側の側面2e2,2f1の形成位置は、前述した第1,第2の実施例の端面2c,2dと同じ位置となる。すなわち、側面2e2,2f1が反射端面を構成している。
【0056】
上記溝2e,2fを形成した後に、圧電性基板2Aを、溝2e,2fの底部において破断線Y,Yで示すように分割する。このようにして、本変形例の端面反射型表面波共振子が得られる。ここでは、対向2端面に、溝2e,2fの底部に由来する段差2g,2hが形成されている。すなわち、対向2端面の中間高さ位置に段差2g,2hが形成されており、該段差2g,2hよりも主面2a側の端面部分である側面2e2,2f1が反射端面を構成している。
【0057】
本変形例の端面反射型表面波共振子では、上記側面2e2,2f1の高さ方向寸法を、利用しようとする縦波またはSV波の波長をλしたとき、5λ〜20λの範囲とすることが好ましい。すなわち、縦波及びSV波のエネルギーは、IDT3が形成されている主面2a側から深さ5λ〜20λの範囲に集中するため、本変形例のように、反射端面を構成する側面2e2,2f1の高さ方向寸法を上記特定の範囲とすることにより、縦波またはSV波を効率良く反射させることができる。
【0058】
なお、変形例においても、反射端面を構成する側面2e2,2f1は、主面に対して、90±10度の角度をなすように構成することが望ましい。
端面反射型表面波共振子1を例にとり説明したが、本発明は、端面反射型表面波共振子だけでなく、圧電基板上に複数のIDTを形成してなる端面反射型フィルタや複数の共振子を結合してなるラダー型フィルタなど様々な表面波装置に適用することができる。
【0059】
例えば、図15に示す横結合型の端面反射型表面波フィルタ21では、圧電性基板2上に、IDT22,23が表面波伝搬方向と直交する方向に並べられている。
【0060】
また、図16に示す縦結合型端面反射型表面波フィルタ31では、圧電性基板2上に2個のIDT32,33が形成されている。IDT32,33は、表面波伝搬方向に沿って並設されている。
【0061】
図では2つIDTについて示したが、2以上のIDTが伝搬方向に沿って並設されていてもよく、同じ結果を得ることができる。
さらに、図17に示すように、複数の直列腕共振子S1〜S3と、複数の並列腕共振子P1,P2とを有するラダー型回路を構成するように、圧電基板上に複数のIDTを形成し、各共振子を端面反射型表面波共振子とした構造であってもよい。
【0062】
これらの端面反射型表面波フィルタにおいても、圧電性基板として、上述した特定の圧電性基板を用い、圧電性基板の主面と端面とのなす角度を90±5度の範囲とすることにより、縦波を主成分とする端面反射型の表面波フィルタを構成することができる。
【0063】
図18は、本発明に係る弾性表面波装置を用いた通信機160を説明するための各概略ブロック図である。
図18において、アンテナ161に、デュプレクサ162が接続されている。デュプレクサ162と受信側ミキサ163との間に、RF段を構成する弾性表面波フィルタ164及び増幅器165が接続されている。さらにミキサ163にIF段の表面波フィルタ169が接続されている。また、デュプレクサ162と送信側のミキサ166との間には、RF段を構成する増幅器167及び弾性表面波フィルタ168が接続されている。
【0064】
上記通信機160におけるIF段の表面波フィルタ169として本発明に従って構成された端面反射型表面波フィルタを好適に用いることができる。
【0065】
【発明の効果】
発明に係る端面反射型表面波装置では、SHタイプの表面波に比べて音速の速い縦波を主成分とする表面波が用いられているので、高周波化に容易に対応することができる。また、端面反射型表面波装置であるため、反射器を必要としないので、小型化を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】(a)及び(b)は、本発明の第1の実施例に端面反射型表面波共振子を示す斜視図及び(a)のB−B線に沿う断面図。
【図2】本発明の第1の実施例の端面反射型共振子の周波数特性を示す図。
【図3】表面波の伝搬方向と基板端面とのなす角度が共振子のインピーダンス特性に及ぼす影響を示す図。
【図4】基板表面と端面断面との角度が共振子のインピーダンス特性に及ぼす影響を示す図。
【図5】パワーフローアングル(PFA)を説明するための模式図。
【図6】PFAがゼロでない場合の電極構成を示す略図的平面図。
【図7】試作した縦波を主成分とする表面波を用いた端面反射型共振子のインピーダンス比とPFAの関係を示す図。
【図8】試作した縦波を主成分とする表面波を用いた端面反射型共振子のインピーダンス比と電気機械結合係数の二乗との関係を示す図。
【図9】試作した縦波を主成分とする表面波を用いた端面反射型共振子のインピーダンス比と基板表面電気的短絡の場合の伝搬定数との関係を示す図。
【図10】試作した縦波を主成分とする表面波を用いた端面反射型共振子のインピーダンス比と基板表面における表面波成分の変位の比u2/u1との関係を示す図。
【図11】(a)は、電極指の幅がλ/4でない場合の第1の実施例におけるシングル電極を用いた表面波装置の端面形成位置を説明するための模式的平面図であり、(b)は、第1の実施例におけるスプリット電極を用いた表面波装置の端面形成位置を説明するための模式的平面図。
【図12】インピーダンス比40dBまたは45dB以上を得るために必要な交叉幅とk2Nとの関係を示す図。
【図13】インピーダンス比40dBまたは45dB以上を得るために必要な交叉幅とNε33 S*との関係を示す図。
【図14】第1の実施例の端面反射型表面波共振子をマザー基板から製造した場合の溝の形成位置及び個々の端面反射型表面波共振子を得るための切断位置を説明するための断面図。
【図15】本発明が適用される端面反射型表面波装置の他の例としての横結合型端面反射型表面波フィルタを示す斜視図。
【図16】本発明が適用される端面反射型表面波装置の他の例としての縦結合型端面反射型表面波フィルタを示す斜視図。
【図17】ラダー型フィルタの回路構成を示す図。
【図18】本発明に係る弾性表面波装置が用いられている通信機を説明するための概略ブロック図。
【符号の説明】
1…端面反射型表面波共振子
2…圧電性基板
2a,2b…主面
2c,2d…端面
3…IDT
21…横結合型端面反射型表面波フィルタ
22,23…IDT
31…縦結合型端面反射型表面波フィルタ
32,33…IDT
160…通信機
161…アンテナ
162…デュプレクサ
163,166…ミキサ
164…弾性表面波フィルタ
165…増幅器
167…弾性表面波フィルタ
168…増幅器

Claims (9)

  1. 対向し合う一対の主面及び該一対の主面を結ぶ一対の対向端面を有する圧電性基板と、前記圧電性基板の一方主面に形成された少なくとも1つのインターデジタルトランスデューサとを備える端面反射型表面波装置であって、前記圧電性基板が、オイラー角(0度、40〜60度、90度)もしくは(90度、90度、20〜50度)のLi 2 4 7 基板、オイラー角が(0度、120〜140度、150度)もしくは(0度、155.25度、42度)の水晶基板または(90度、90度、10〜90度)のLiNbO 3 もしくはLiTaO 3 基板であり、励振される表面波のうち縦波を主成分とする表面波を用いており、励振される表面波全体のエネルギー強度を100%としたとき、前記縦波成分が70%以上を占めることを特徴とする端面反射型表面波装置。
  2. 励振される表面波の縦波成分、SH成分及びSV成分の変位をそれぞれu1,u2,u3としたとき、基板表面が電気的に開放のときの基板表面の変位の比u2/u1が0.015以下であることを特徴とする請求項1に記載の端面反射型表面波装置。
  3. 励振される表面波の縦波成分、SH成分及びSV成分の変位をそれぞれu1,u2,u3としたとき、基板表面が電気的に短絡のとき、基板表面の変位の比u2/u1が0.1以下であることを特徴とする請求項1または2に記載の端面反射型表面波装置。
  4. 前記一対の対向端面の中間高さ位置に段差が形成されており、該段差よりも前記インターデジタルトランスデューサが形成されている側の主面に近い端面部分により反射端面が構成されており、該反射端面の高さ方向寸法が、表面波の波長をλとしたときに、5λ〜20λの範囲とされている請求項1〜のいずれかに記載の端面反射型表面波装置。
  5. 電気機械結合係数kとインターデジタルトランスデューサの対数N(縦結合型共振子フィルタは総対数)との積に対し、インターデジタルトランスデューサの交叉幅Wが次の関係を満たす請求項1〜のいずれかに記載の端面反射型表面波装置。
    W≧2.1+30.5e-(x-0.016)/0.055+7.1e-(x-0.016)/0.012
    但し、x=k2
  6. 圧電性基板の比誘電率ε33 S*とインターデジタルトランスデューサの対数N(縦結合型共振子フィルタは総対数)との積に対し、インターデジタルトランスデューサの交叉幅Wが次の関係を満たす請求項1〜のいずれかに記載の端面反射型表面波装置。
    W≧−1.68+25.9e-(x-37)/44.8+15.6e-(x-37)/216.1
    但し、x=Nε33 S*
  7. 表面波の位相速度の伝搬方向と前記端面との角度が90±5度であり、端面の上部断面と基板表面との角度は90±10度である請求項1〜のいずれかに記載の端面反射型表面波装置。
  8. 表面波の波長をλとしたとき、インターデジタルトランスデューサの最外側の電極から一つ内側の電極の中心から表面波伝搬方向外側へλ/2±λ/10の位置に前記端面が構成されている請求項1〜のいずれかに記載の端面反射型表面波装置。
  9. 請求項1〜のいずれかに記載の端面反射型表面波装置を有する通信機。
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