JP3881658B2 - 中継部材、中継部材を用いたマルチチップパッケージ、及びその製造方法 - Google Patents

中継部材、中継部材を用いたマルチチップパッケージ、及びその製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP3881658B2
JP3881658B2 JP2004015131A JP2004015131A JP3881658B2 JP 3881658 B2 JP3881658 B2 JP 3881658B2 JP 2004015131 A JP2004015131 A JP 2004015131A JP 2004015131 A JP2004015131 A JP 2004015131A JP 3881658 B2 JP3881658 B2 JP 3881658B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
relay
pad
relay member
semiconductor chip
pads
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP2004015131A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2005209899A (ja
Inventor
康文 内田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Oki Electric Industry Co Ltd
Original Assignee
Oki Electric Industry Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Oki Electric Industry Co Ltd filed Critical Oki Electric Industry Co Ltd
Priority to JP2004015131A priority Critical patent/JP3881658B2/ja
Priority to US10/960,495 priority patent/US8044518B2/en
Publication of JP2005209899A publication Critical patent/JP2005209899A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3881658B2 publication Critical patent/JP3881658B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L24/85Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a wire connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/495Lead-frames or other flat leads
    • H01L23/49517Additional leads
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/495Lead-frames or other flat leads
    • H01L23/49575Assemblies of semiconductor devices on lead frames
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/02Bonding areas ; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L24/05Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/02Bonding areas ; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L24/06Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of a plurality of bonding areas
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L24/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/04042Bonding areas specifically adapted for wire connectors, e.g. wirebond pads
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/05Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
    • H01L2224/0554External layer
    • H01L2224/0555Shape
    • H01L2224/05552Shape in top view
    • H01L2224/05554Shape in top view being square
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/05Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
    • H01L2224/0554External layer
    • H01L2224/05599Material
    • H01L2224/056Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
    • H01L2224/05617Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 400°C and less than 950°C
    • H01L2224/05624Aluminium [Al] as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/05Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
    • H01L2224/0554External layer
    • H01L2224/05599Material
    • H01L2224/056Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
    • H01L2224/05638Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
    • H01L2224/05647Copper [Cu] as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/06Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of a plurality of bonding areas
    • H01L2224/061Disposition
    • H01L2224/0612Layout
    • H01L2224/0613Square or rectangular array
    • H01L2224/06134Square or rectangular array covering only portions of the surface to be connected
    • H01L2224/06136Covering only the central area of the surface to be connected, i.e. central arrangements
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L2224/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/321Disposition
    • H01L2224/32135Disposition the layer connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
    • H01L2224/32145Disposition the layer connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being stacked
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/45001Core members of the connector
    • H01L2224/45099Material
    • H01L2224/451Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/45001Core members of the connector
    • H01L2224/45099Material
    • H01L2224/451Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
    • H01L2224/45117Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 400°C and less than 950°C
    • H01L2224/45124Aluminium (Al) as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/45001Core members of the connector
    • H01L2224/45099Material
    • H01L2224/451Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
    • H01L2224/45138Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
    • H01L2224/45147Copper (Cu) as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/4813Connecting within a semiconductor or solid-state body, i.e. fly wire, bridge wire
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48135Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
    • H01L2224/48137Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being arranged next to each other, e.g. on a common substrate
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48135Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
    • H01L2224/48145Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being stacked
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48245Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • H01L2224/48247Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/484Connecting portions
    • H01L2224/4847Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a wedge bond
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/485Material
    • H01L2224/48505Material at the bonding interface
    • H01L2224/48699Principal constituent of the connecting portion of the wire connector being Aluminium (Al)
    • H01L2224/487Principal constituent of the connecting portion of the wire connector being Aluminium (Al) with a principal constituent of the bonding area being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
    • H01L2224/48717Principal constituent of the connecting portion of the wire connector being Aluminium (Al) with a principal constituent of the bonding area being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 400°C and less than 950 °C
    • H01L2224/48724Aluminium (Al) as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/485Material
    • H01L2224/48505Material at the bonding interface
    • H01L2224/48699Principal constituent of the connecting portion of the wire connector being Aluminium (Al)
    • H01L2224/487Principal constituent of the connecting portion of the wire connector being Aluminium (Al) with a principal constituent of the bonding area being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
    • H01L2224/48738Principal constituent of the connecting portion of the wire connector being Aluminium (Al) with a principal constituent of the bonding area being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
    • H01L2224/48747Copper (Cu) as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/485Material
    • H01L2224/48505Material at the bonding interface
    • H01L2224/48799Principal constituent of the connecting portion of the wire connector being Copper (Cu)
    • H01L2224/488Principal constituent of the connecting portion of the wire connector being Copper (Cu) with a principal constituent of the bonding area being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
    • H01L2224/48817Principal constituent of the connecting portion of the wire connector being Copper (Cu) with a principal constituent of the bonding area being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 400°C and less than 950 °C
    • H01L2224/48824Aluminium (Al) as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/485Material
    • H01L2224/48505Material at the bonding interface
    • H01L2224/48799Principal constituent of the connecting portion of the wire connector being Copper (Cu)
    • H01L2224/488Principal constituent of the connecting portion of the wire connector being Copper (Cu) with a principal constituent of the bonding area being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
    • H01L2224/48838Principal constituent of the connecting portion of the wire connector being Copper (Cu) with a principal constituent of the bonding area being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
    • H01L2224/48847Copper (Cu) as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4899Auxiliary members for wire connectors, e.g. flow-barriers, reinforcing structures, spacers, alignment aids
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/49Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • H01L2224/491Disposition
    • H01L2224/4911Disposition the connectors being bonded to at least one common bonding area, e.g. daisy chain
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73251Location after the connecting process on different surfaces
    • H01L2224/73265Layer and wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/85Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a wire connector
    • H01L2224/8538Bonding interfaces outside the semiconductor or solid-state body
    • H01L2224/85399Material
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L24/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L24/49Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/00014Technical content checked by a classifier the subject-matter covered by the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group, being disclosed without further technical details
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01005Boron [B]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01006Carbon [C]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01013Aluminum [Al]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01014Silicon [Si]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01019Potassium [K]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01029Copper [Cu]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01033Arsenic [As]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01082Lead [Pb]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/1015Shape
    • H01L2924/1016Shape being a cuboid
    • H01L2924/10161Shape being a cuboid with a rectangular active surface
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/1015Shape
    • H01L2924/1016Shape being a cuboid
    • H01L2924/10162Shape being a cuboid with a square active surface
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/181Encapsulation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/30Technical effects
    • H01L2924/301Electrical effects
    • H01L2924/30105Capacitance

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)

Description

本発明は複数の半導体チップを1つのパッケージへ搭載するマルチチップパッケージ(以下、MCPと略す)に関するものであり、特に、センターパッド型の半導体チップを搭載するMCPに関する。
近年、電子機器の小型化の要求に伴い半導体装置の小型化がますます求められている。そこで、半導体装置の小型化を実現する為の一つの方法として、一つのパッケージの中に複数の半導体チップを搭載したマルチチップパッケージ(MCP)構造の半導体装置が提案されている。中でもセンターパッド型の半導体チップを搭載するパッケージは特にDRAM(dynamic random access memory)等に見られる。センターパッド型の半導体チップはパッドを周辺に配置する半導体チップに比べて、封止樹脂内に占める半導体チップの面積が大きいことで、小型化、大容量化には極めて有利である。以上のような内容は、例えば、下記特許文献1に記載されている。
特開2002−093993号公報
しかしながら、特許文献1にも記載されているとおり、センターパッド型の半導体チップは小型化、大容量化には有利ではあるが、パッドが半導体チップの中央にあることから、ワイヤボンディングする際にパッドからインナーリードまでの距離が長くなることは避けることが出来ない。ワイヤ長が長くなることによって、ワイヤのチップ端部への接触によるショート、或いは、樹脂封止時の隣接するワイヤ同士のショート等の問題がある。
この発明は上記問題を解消するためになされたものであり、センターパッド型の半導体チップを搭載するマルチチップパッケージでありながら、ワイヤ長を短く保ち、高歩留まりを可能とする中継部材、及び中継部材を用いたマルチチップパッケージを提供するものである。
本発明に係るマルチチップパッケージでは、上述した課題を解決すべく、表面に複数の第1のパッドが形成された第1の半導体チップ上に第2の半導体チップと半導体基板を有する中継部材を搭載し、第1の半導体チップ、第2の半導体チップ、及び中継部材を封止する樹脂封止体を備えたマルチチップパッケージであって、第2の半導体チップは、第2の半導体チップの中央部に配置された複数の第2のパッドを備え、中継部材は、第1の中継パッド、第2の中継パッド、及び第1の中継パッドと第2の中継パッドとを接続するパッド連結部を備え、回路機能を有しておらず、第2の半導体チップの第2のパッドからの電気的接続は、接続端子へ接続される場合と第1の中継パッドを介して第2の中継パッドから接続端子又は第1の半導体チップへ接続される場合とを備えている。
本発明に係る中継部材では、上述した課題を解決すべく、回路機能を有する半導体チップの電気的信号を接続端子に伝達する矩形の中継部材であって、半導体基板と、半導体基板上に形成された複数の中継パッドと、隣り合う中継パッドをつなぐパッド連結部とを備え、回路機能を有しない
本発明では、中継部材を使用して、マルチチップパッケージを構成することで、各ワイヤ長を短くすることができ、ワイヤのたるみによる、チップエッジへのショートや、樹脂封止時のワイヤ間のショートを低減することが可能となる。また、先の中継部材が、複数の中継パッドをパッド連結部でつないでいるので、様々なサイズの中継部材を作成することが可能であり、様々なチップサイズの組合せに対応できる中継部材を実現することができる。
以下、図を参照して本発明の実施の形態について説明する。
図1は、本発明の実施例1におけるマルチチップパッケージの断面図である。図2は、本発明の実施例1におけるマルチチップパッケージの上面図である。
まず、図1及び図2に示すマルチチップパッケージ100の構造を説明する。第1の半導体素子23は、第1の接着剤24によりダイパッド25に接着されている。第1の半導体素子23上には、第2の接着剤26により第2半導体素子27が接着され、第3の接着剤28により中継部材29が接着されている。第1の半導体素子23上には、第1のパッド30が形成されている。また、第2の半導体素子27上の略中央部には、第2のパッド22が形成されている。中継部材29上には、中継パッド2と中継パッド2の間を電気的に接続するパッド連結部3とが形成されている。第2半導体素子27は、第2半導体素子27の端部と第1のパッド30との距離L9が、概ね0.2mm〜1.0mmとなるように第1の半導体素子23に接着する。中継部材29は、第2半導体素子27の端部と中継部材29の端部との距離L10が、概ね0.2mm〜1.0mmとなるように、また、中継部材29の端部と第1のパッドとの距離L11が、概ね0.4mm〜1.0mmとなるように、第1の半導体素子23に接着されている。
第1のパッド30とリードフレーム端子21は第1の金属ワイヤ31で電気的に接続されている。第2のパッド22とリードフレーム端子21とは、第2の金属ワイヤ32で電気的に接続され、第2のパッド22と中継パッド2とは、第3の金属ワイヤ33で電気的に接続されている。中継パッド2と第1のパッド30とは、第4の金属ワイヤ34によって電気的に接続されている。ここではリードフレーム端子21を一例として挙げているが、接続端子であればよく、リードフレーム端子21に限定はされないことは言うまでもない。
ここで、中継部材29は、中継パッド2とパッド連結部3とから構成されていて、回路形成のためのパターニングは施されていない。中継部材29は、第2の半導体素子27からの電気的信号を、第1の半導体素子23の第1のパッド30へバイパスする機能を持っている。また、中継部材29は、第2の半導体素子27と同等か、それ以上の厚さを有する。第1の半導体素子23、第2の半導体素子27、及び中継部材29は、モールド樹脂35により封止される。
本発明の実施例3におけるマルチチップパッケージ100は、上記構成をとることで、第2半導体素子27を第1のパッド30に近づけることが可能となる。また、上記構成により第2のパッド22から第2の半導体素子27の端部までの距離は、第1のパッドから第2のパッドまでの距離の3/4以上にすることが可能となる。これにより、第2の金属ワイヤ32を短く保つことが可能となり、モールド樹脂35にて封止する際のワイヤの変形が防止される。また、第2の金属ワイヤ32間のショートが防止できる。
中継部材29を搭載したことにより、第2のパッド22から直接第1のパッド30へ電気的接続を取ることがなくなり、第3の金属ワイヤ33を3mm以下に保つことが可能とる。中継部材29の厚さを第2の半導体素子27の厚さと同等かそれ以上としたことで、第3の金属ワイヤ33が第2の半導体素子27の端部へショートすることを防止できる。
図3は、本発明の実施例2における中継部材の上面図である。図4(a)は、図3の本発明の実施例1における中継部材のA部の上面図である。図4(b)は、図3の本発明の実施例1における中継部材のB-Bにおける断面図である。図5は、図3の本発明の実施例2における中継部材のA部のワイヤボンディング時の断面図である。
図3及び図5に示すように中継部材1は、長方形である。ここでは一例として長方形を示しているが、それだけに限定されない。矩形であればかまわない。場合によっては複数の中継部材1を用いる場合も考えられる。本実施例では、短辺の長さは概ね3mmで、長辺の長さは概ね10mm程度である。中継部材1はシリコン基板4上に第1の絶縁膜5が形成されている。第1の絶縁膜5上には中継パッド2とパッド連結部3と層間絶縁膜6が形成されている。中継パッド2はマトリクス状に配置されていて、中継部材1の短辺方向に隣り合う中継パッド2はパッド連結部3で電気的に接続されている。ここで、中継パッド2及びパッド連結部3はアルミニウムや銅などの金属配線にて形成される。第1の絶縁膜5上は、中継パッド2及びパッド連結部3が形成されている領域と層間絶縁膜6が形成されている領域がある。層間絶縁膜6及びパッド連結部3上は第1の保護膜としてガラスなどからなるパッシベーション膜7で覆われている。場合によっては、中継パッド2の内周上にもパッシベーション膜7が形成されている。ここで、中継パッド2の内周とは、中継パッド2の外辺に沿った内側を示す。パッシベーション膜7上で且つ中継部材1の内周には、ポリイミドなどの絶縁材料からなるバッファコート膜8が形成されている。最低限、中継部材1の長辺方向において形成されていればよい。ただし、以後説明する、切り出しを考えた場合、中継部材1の長辺方向の1辺のみに形成すると最適である。本実施例では基板はシリコン基板4を一例として挙げているが、それだけに限定されることは無く、サファイア基板やガラス基板等を用いることも可能である。ただし、半導体基板を使用することには、既存の装置を使用して、半導体プロセスが適用可能となる利点がある。
また、中継部材1の内周の端部には、組み立て時チップを個片加工する際の切代であるスクライブライン9を有している。本実施例の中継部材1は、中継パッド2及びパッド連結部3以外の配線は存在せず、同然のことながら、回路機能を有することもない。
図4(a)を参照して、各部位の詳細なサイズを示す。中継パッド2のサイズは縦、横いずれもL1=90um程度の大きさである。パッド連結部3の幅L2は、互いに連結された中継パッド2の間隔L3よりも小さく、概ね5um〜50umである。互いに連結された中継パッド2の間隔L3は、概ね50um〜100umの範囲である。中継部材1の長辺方向において隣り合う中継パッド2のピッチL5は概ね150um〜200umで配列されている。中継パッド2上のパッシベーション膜7の幅L4は、概ね5umである。パッシベーション膜7の幅L6は概ね50um〜100umであり、厚さL7は3um〜8um程度である。
図6は、図3の本発明の実施例2における中継部材の切り出し時の位置を示す上面図である。図6を参照して、中継部材1の適用方法について説明する。本図ではバッファコート膜8が中継部材1の1辺のみに形成されている場合を例としている。必要なサイズが決定すると、スクライブ位置10が決定する。スクライブ位置10はバッファコート膜8がある辺の端部を基準とし、必要なサイズが得られる位置の近傍で切断する。中継部材1の短辺方向の切断に関しては、中継部材1の長辺方向において隣り合う中継パッド2の間を切断する。中継部材1の長辺方向に関しては、パッド連結部3の中央近傍を切断する。なお、切断は従来のチップ切り出し工程であるスクライブ工程にて実施される。
実施例2の中継部材1は上記構成を取ることで、第3の金属ワイヤ33の配線を実施する場合、バッファコート膜8を設けてあるため、第3の金属ワイヤ33と、中継部材1を切り出した際に露出したシリコン露出部11との距離L8が十分確保することが可能となり、第3金属ワイヤ33とシリコン露出部11との電気的ショートが防止できる。
さらに、パッド連結部3の幅L2を互いに連結された中継パッド2の間隔L3より小さくしたことにより、スクライブ工程にて切り出した際に発生するパッド連結部3の切りくずの長さが、互いに連結された中継パッド2の間隔L3より短くなる。L5−L1≧L2である。よって、切りくずによる中継部材1の長辺方向に隣り合う中継パッド2間のショートを防止することができる。
さらに、互いに連結された中継パッド2の間隔L3が50um〜100umであり、中継部材1の長辺方向において隣り合う中継パッド2のピッチL5が150um〜200umであることにより、スクライブ工程での切り出しに必要な間隔50umよりも大きく、中継パッド2に触れることなく切り出すことが可能となる。
さらに、バッファコート膜8の端部を基準としてサイズを決定した後に中継部材1を切り出すので、必要に応じて様々なサイズに簡単に変更することが可能となり、汎用性が高くなる。また、バッファコート膜8の切断個所は一箇所のみとなり、切断の方向は中継部材1の短辺方向のみとなる。バッファコート膜8は、スクライブ工程時に切断のダメージにより剥離しやすいという特徴があるが、バッファコート膜8の切断回数及び切断距離を最小に抑えることが可能となるため、バッファコート膜8の剥離を防止することができる。
次に、本発明の実施例3について説明する。図7(a)は、実施例3における中継部材の上面図である。図7(b)は、実施例3における中継部材のB部の拡大図である。なお、実施例3に係る中継部材の構造及びその製造方法の説明にあたり、実施例2と同一の構成部分には同一の符号を付している。
本発明の実施例2の中継部材1の構成と、本発明の実施例3の中継部材12の構成との異なる点は、サブパッド13及びサブパッド連結部14が追加されたことである。中継部材12の長辺方向において、隣り合うパッド連結部2の間にサブパッド13が形成されている。また、中継部材12の長辺方向において、隣り合うサブパッド13を電気的に接続するサブパッド連結部14が形成されている。中継パッド2及びパッド連結部3の配列と、サブパッド13及びサブパッド連結部14は実質的に垂直に交差している。ただし、中継パッド2及びパッド連結部3の配列と、サブパッド13及びサブパッド連結部14は、別の層で形成されているため、互いにショートはしていない。
また、サブパッド13及びサブパッド連結部14は、中継部材12の短辺方向において、中継パッド2の列に対して、1列置きに配列されている。ただし、必要に応じて、複数列置きにすることも可能で1列置きに限定されるものではない。同様に、図5では、中継部材12の長辺方向において、毎行サブパッド13は配置されているが、サブパッド13は、複数行置きに配置することも可能である。
図8は、図7(a)の本発明の実施例3における中継部材の切り出し時の位置を示す上面図である。図8を参照して、中継部材12の適用方法について説明する。ただし、本発明の実施例2の切り出し時の位置を示す図6と同様の内容については、説明を省略する。本発明の実施例3において、実施例2の切り出し時の位置との違いを説明する。
中継部材12の短辺方向における切り出し位置は、サブパッド13が配置されていない中継パッド2の間とする。また、中継部材12の長辺方向における切り出し位置は、サブパッド13及びサブパッド連結部14が配置されていない中継パッド2の間とする。
上記切り出し位置にすることにより、サブパッド連結部14を切断する回数が最小限に抑えることが可能となり、切りくずによる中継パッド2及びサブチップパッド14の間のショートを防止することが可能となる。
図9は、図7の本発明の実施例3における中継部材を使用した配線例である。第2の半導体素子27の第2のパッド22のうち、黒点が付記されているものが電源用の第2のパッド22である。電源用の第2のパッド22は、電源ピン15aに当たるリードフレーム端子21に接続される場合と、中継部材12のサブパッド13に接続される場合がある。サブパッド13と中継パッド2がパッド中継ワイヤ18によりワイヤボンディングされる。先の中継パッド2と電気的に導通した他の中継パッド2と電源ピン15b用のリードフレーム端子21とがパッド中継ワイヤ19でワイヤボンディングされる。第2の半導体素子27のアドレス用の第2のパッド22は、中継部材12の所望の中継パッドを使用して、ワイヤボンディングによりアドレスピン20b用のリードフレーム端子21に電気的に接続される。一部の電気的信号の流れを点線にて示してある。
以上のような接続を行うことで、電源ピン15a、15b、及びアドレスピン20の配置を自由に変更することが可能となり、配線の自由度を向上させることができる。
本発明の実施例1におけるマルチチップパッケージの断面図である。 本発明の実施例1におけるマルチチップパッケージの上面図である。 本発明の実施例2における中継部材の上面図である。 (a)図3の本発明の実施例1における中継部材のA部の上面図である。(b)図3の本発明の実施例1における中継部材のB-Bにおける断面図である。 図3の本発明の実施例2における中継部材のA部のワイヤボンディング時の断面図である。 図3の本発明の実施例2における中継部材の切り出し時の位置を示す上面図である。 (a)本発明の実施例3における中継部材の上面図である。(b)本発明の実施例3における中継部材のB部の拡大図である。 図7の実施例3における中継部材の切り出し時の位置を示す上面図である。 図7の実施例3における中継部材を使用した配線例である。
符号の説明
1、12、29 中継部材
2 中継パッド
3 パッド連結部
4 シリコン基板
5 第1の絶縁膜
6 層間絶縁膜
7 パッシベーション膜
8 バッファコート膜
9 スクライブライン
10 スクライブ位置
11 シリコン露出部
13 サブパッド
14 サブパッド連結部
15a、15b 電源ピン
16、17 パッドワイヤ
18、19 パッド中継ワイヤ
20a、20b アドレスピン
21 リードフレーム端子
22 第2のパッド
23 第1の半導体素子
24 第1の接着剤
25 ダイパッド
26 第2の接着剤
27 第2の半導体素子
28 第3の接着剤
30 第1のパッド
31 第1の金属ワイヤ
32 第2の金属ワイヤ
33 第3の金属ワイヤ
34 第4の金属ワイヤ
35 モールド樹脂

Claims (23)

  1. 表面に複数の第1のパッドが形成された第1の半導体チップ上に第2の半導体チップと半導体基板を有する中継部材とを搭載し、前記第1の半導体チップ、前記第2の半導体チップ、及び前記中継部材を封止する樹脂封止体を備えたマルチチップパッケージであって、
    前記第2の半導体チップは、前記第2の半導体チップの中央部に配置された複数の第2のパッドを備え、
    前記中継部材は、第1の中継パッド、第2の中継パッド、及び前記第1の中継パッドと第2の中継パッドとを接続するパッド連結部を備え、回路機能を有しておらず、
    前記第2の半導体チップの前記第2のパッドからの電気的接続は、接続端子へ接続される場合と前記第1の中継パッドを介して前記第2の中継パッドから前記接続端子又は前記第1の半導体チップへ接続される場合とを備えたことを特徴とするマルチチップパッケージ。
  2. 表面に複数の第1のパッドが形成された第1の半導体チップ上に第2の半導体チップと半導体基板を有する中継部材とを搭載し、前記第1の半導体チップ、前記第2の半導体チップ、及び前記中継部材を封止する樹脂封止体を備えたマルチチップパッケージであって、
    前記第2の半導体チップは、前記第2の半導体チップの中央部に配置された複数の第2のパッドを備え、
    前記中継部材は、第1の中継パッド、第2の中継パッド、及び前記第1の中継パッドと第2の中継パッドとを接続する配線を備え、回路機能を有しておらず、
    前記第2のパッドは、接続端子及び前記第1の中継パッドとワイヤボンディングされ、
    前記第1のパッド及び前記第2の中継パッドは、前記接続端子とワイヤボンディングされていることを特徴とするマルチチップパッケージ。
  3. 前記電気的接続は金属ワイヤによるボンディングであり、前記第2のパッドから前記第1の中継パッドへの前記金属ワイヤの長さが3mmを超えないことを特徴とする請求項1に記載のマルチチップパッケージ。
  4. 前記第2のパッドから前記第2半導体チップの端部までの距離は、前記第2のパッドから直接ボンディングされる前記接続端子と前記第2のパッドの間にある前記第1半導体チップの1辺に配置された前記第1のパッドから前記第2のパッドまでの距離の3/4以上であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のマルチチップパッケージ。
  5. 前記中継部材はさらに、第1のサブパッドと第2のサブパッドと前記第1及び第2のサブパッド間をつなぐ第2の連結部を備え、前記第1又は第2の中継パッドと前記第1又は第2のサブパッドが電気的に接続されていることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のマルチチップパッケージ。
  6. 表面に複数の第1のパッドが形成された第1の半導体チップ上に第2の半導体チップと半導体基板を有する中継部材とを搭載し、前記第1の半導体チップ、前記第2の半導体チップ、及び前記中継部材を封止する樹脂封止体を備えたマルチチップパッケージであって、
    前記第2の半導体チップは、前記第2の半導体チップの中央部に配置された複数の第2のパッドを備え、
    前記中継部材には、3以上の中継パッドと前記中継パッド同士を接続するパッド連結部とが直線状に形成された伝達群が、略並行に複数形成されており、かつ、前記中継部材は回路機能を有しておらず、
    前記第2の半導体チップの前記第2のパッドからの電気的接続は、接続端子へ接続される場合と前記伝達群を介して前記接続端子又は前記第1の半導体チップへ接続される場合とを備えたことを特徴とするマルチチップパッケージ。
  7. 回路機能を有する半導体チップの電気的信号を接続端子に伝達する矩形の中継部材であって、
    半導体基板と、
    前記半導体基板上に形成された複数の中継パッドと、
    隣り合う前記中継パッドをつなぐパッド連結部とを備え、
    回路機能を有しないことを特徴とする中継部材。
  8. 互いに前記パッド連結部によってつながれた前記複数の中継パッドの数が3以上であることを特徴とする請求項7に記載の中継部材。
  9. 前記中継パッド及び前記パッド連結部は、前記基板上に第1の絶縁膜を介して形成されていることを特徴とする請求項7又は請求項8に記載の中継部材。
  10. 前記パッド連結部は、同一の方向に形成されていることを特徴とする請求項7〜9のいずれかに記載の中継部材。
  11. 前記複数の中継パッドと前記複数のパッド連結部が直線状に形成された伝達群は、略並行に複数形成されていることを特徴とする請求項10記載の中継部材。
  12. 前記第1の絶縁膜上の前記中継パッド及び前記パッド連結部を除く部分には、第2の絶縁膜が形成されるとともに、前記第2の絶縁膜上及び前記パッド連結部上には第1の保護膜が形成されていることを特徴とする請求項9〜11のいずれかに記載の中継部材。
  13. 前記第1の保護膜は、前記中継パッド上の内周をも覆うことを特徴とする請求項12に記載の中継部材。
  14. 前記中継部材の内周で、且つ、前記第1の保護膜上には、第2の保護膜が形成されていることを特徴とする請求項12もしくは請求項13のいずれかに記載の中継部材。
  15. 前記第2の保護膜は、前記中継部材の単一方向にのみ、形成されていることを特徴とする請求項14に記載の中継部材
  16. 前記第1の保護膜及び前記第2の保護膜は、絶縁膜であることを特徴とする請求項14もしくは請求項15のいずれかに記載の中継部材。
  17. 前記パッド連結部の幅は、前記パッド連結部に接続された前記中継パッド間の距離よりも短いことを特徴とする請求項7〜請求項16のいずれかに記載の中継部材。
  18. 隣り合う前記パッド連結部の間に形成された複数のサブパッドと、隣り合う前記サブパッドをつなぐサブパッド連結部を有することを特徴とする請求項7〜請求項17のいずれかに記載の中継部材。
  19. 前記サブパッドは複数個置きの前記パッド連結部の間に形成されていることを特徴とする請求項18に記載の中継部材。
  20. 前記中継パッドはマトリクス状に配置されていることを特徴とする請求項7〜19のいずれかに記載の中継部材。
  21. 回路機能を有する半導体チップの電気的信号を接続端子に伝達する矩形の中継部材であって、
    半導体基板と、
    前記半導体基板上に形成された複数の中継パッドと、
    隣り合う前記中継パッドをつなぐパッド連結部とを備え、
    前記複数の中継パッドの全てを、前記電気的信号をそのまま前記接続端子へ伝達するために用ることができることを特徴とする中継部材。
  22. 回路機能を有する第1の半導体チップを準備する工程と、
    回路機能を有する第2の半導体チップを準備する工程と、
    半導体基板上に、3以上の中継パッドと前記中継パッド同士を接続するパッド連結部とが第1の方向に直線状に形成された伝達群が略並行に複数形成されており、回路機能を有していない中継部材を準備する工程と、
    前記中継部材の大きさを決定し、前記中継部材を所定の大きさに切断する工程と、
    前記第1の半導体チップ上に、前記第2の半導体チップと切断された前記中継部材とを搭載する工程を含むことを特徴とする、マルチチップパッケージの製造方法。
  23. 前記切断する工程は、
    前記第1の方向に関しては、隣り合う前記伝達群の間を切断し、
    前記第1の方向に直交する第2の方向に関しては、前記パッド連結部を切断することを特徴とする、請求項22に記載のマルチチップパッケージの製造方法。
JP2004015131A 2004-01-23 2004-01-23 中継部材、中継部材を用いたマルチチップパッケージ、及びその製造方法 Expired - Lifetime JP3881658B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004015131A JP3881658B2 (ja) 2004-01-23 2004-01-23 中継部材、中継部材を用いたマルチチップパッケージ、及びその製造方法
US10/960,495 US8044518B2 (en) 2004-01-23 2004-10-08 Junction member comprising junction pads arranged in matrix and multichip package using same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004015131A JP3881658B2 (ja) 2004-01-23 2004-01-23 中継部材、中継部材を用いたマルチチップパッケージ、及びその製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2005209899A JP2005209899A (ja) 2005-08-04
JP3881658B2 true JP3881658B2 (ja) 2007-02-14

Family

ID=34792425

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004015131A Expired - Lifetime JP3881658B2 (ja) 2004-01-23 2004-01-23 中継部材、中継部材を用いたマルチチップパッケージ、及びその製造方法

Country Status (2)

Country Link
US (1) US8044518B2 (ja)
JP (1) JP3881658B2 (ja)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100728977B1 (ko) 2006-02-24 2007-06-15 주식회사 하이닉스반도체 스택 패키지
JP2007245892A (ja) * 2006-03-15 2007-09-27 Denso Corp 車両用電子制御装置
US7880309B2 (en) * 2007-07-30 2011-02-01 Qimonda Ag Arrangement of stacked integrated circuit dice having a direct electrical connection
JP2012222326A (ja) * 2011-04-14 2012-11-12 Elpida Memory Inc 半導体装置
WO2014166547A1 (en) * 2013-04-12 2014-10-16 Osram Opto Semiconductors Gmbh Electronic device and method for producing an electronic device

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5354955A (en) * 1992-12-02 1994-10-11 International Business Machines Corporation Direct jump engineering change system
JP2539763B2 (ja) 1994-06-23 1996-10-02 株式会社リコー 半導体装置の実装方法
JPH08288453A (ja) 1995-04-17 1996-11-01 Matsushita Electron Corp 半導体装置
JP3634556B2 (ja) * 1997-05-12 2005-03-30 キヤノン株式会社 画像処理方法及びそのシステム
US6016256A (en) * 1997-11-14 2000-01-18 The Panda Project Multi-chip module having interconnect dies
US6351040B1 (en) * 1998-01-22 2002-02-26 Micron Technology, Inc. Method and apparatus for implementing selected functionality on an integrated circuit device
US6278616B1 (en) * 1998-07-07 2001-08-21 Texas Instruments Incorporated Modifying memory device organization in high density packages
JP3471270B2 (ja) 1999-12-20 2003-12-02 Necエレクトロニクス株式会社 半導体装置
JP3871853B2 (ja) 2000-05-26 2007-01-24 株式会社ルネサステクノロジ 半導体装置及びその動作方法
JP2002093993A (ja) 2000-09-14 2002-03-29 Mitsubishi Electric Corp リードフレーム及びそれを用いた樹脂封止型半導体装置
JP2003234359A (ja) 2002-02-08 2003-08-22 Hitachi Ltd 半導体装置の製造方法
US8089142B2 (en) * 2002-02-13 2012-01-03 Micron Technology, Inc. Methods and apparatus for a stacked-die interposer
JP4615189B2 (ja) * 2003-01-29 2011-01-19 シャープ株式会社 半導体装置およびインターポーザチップ
US7098528B2 (en) * 2003-12-22 2006-08-29 Lsi Logic Corporation Embedded redistribution interposer for footprint compatible chip package conversion

Also Published As

Publication number Publication date
US20050161792A1 (en) 2005-07-28
US8044518B2 (en) 2011-10-25
JP2005209899A (ja) 2005-08-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100441532B1 (ko) 반도체장치
US7879655B2 (en) Semiconductor device and a manufacturing method of the same
US6781240B2 (en) Semiconductor package with semiconductor chips stacked therein and method of making the package
JP2009044110A (ja) 半導体装置及びその製造方法
CN100424866C (zh) 带式电路基板及使用该带式电路基板的半导体芯片封装
JP2004312008A (ja) 半導体マルチチップパッケージ及びその製造方法
CN101388351A (zh) 半导体器件及其制造方法
JP2002110898A (ja) 半導体装置
US20100148172A1 (en) Semiconductor device
JP2004071947A (ja) 半導体装置
KR102589736B1 (ko) 반도체 칩 및 이를 포함하는 반도체 패키지
JP3415509B2 (ja) 半導体装置
US7030489B2 (en) Multi-chip module having bonding wires and method of fabricating the same
JP4293563B2 (ja) 半導体装置及び半導体パッケージ
US20080073763A1 (en) Semiconductor device and method of manufacturing the same
JP3881658B2 (ja) 中継部材、中継部材を用いたマルチチップパッケージ、及びその製造方法
US7135760B2 (en) Moisture resistant integrated circuit leadframe package
US7479706B2 (en) Chip package structure
JP2010087403A (ja) 半導体装置
US20080164620A1 (en) Multi-chip package and method of fabricating the same
US7498679B2 (en) Package substrate and semiconductor package using the same
US10978432B2 (en) Semiconductor package
JP2005311099A (ja) 半導体装置及びその製造方法
JP2885786B1 (ja) 半導体装置の製法および半導体装置
US20080087999A1 (en) Micro BGA package having multi-chip stack

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20060127

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060131

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060403

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20060606

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060630

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20060821

RD01 Notification of change of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421

Effective date: 20060923

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20060929

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20061013

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20061031

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20061110

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 3881658

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091117

Year of fee payment: 3

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101117

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101117

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111117

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111117

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121117

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121117

Year of fee payment: 6

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121117

Year of fee payment: 6

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121117

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131117

Year of fee payment: 7

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350