JP3780214B2 - Icの加圧圧着方法 - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、回路基板上へ搭載される電気回路部品の実装方法に関するものであり、電気回路部品の搭載状態に応じて加圧する際に適用され、特に狭ピッチで並ぶ複数ICを一括で加熱圧着接合する実装に好適に使用される。
【0002】
【従来の技術】
近年、回路基板に搭載される電気実装部品等の電気回路装置は電気信号の高速化と共に高密度集積と小型化が進み、信号配線の微細化(ファインピッチ)と多ピン化が著しくなってきている。
【0003】
それに伴い、回路基板上での電気回路部品の実装方法も搭載位置精度と共にファインピッチ及び多ピン化に対応した接続信頼性を得ることがますます厳しくなっている。
【0004】
現在、微細パターン用セラミック基板やシリコン基板、また液晶用ガラス基板など回路基板上へのベアチップICやセラミックコンデンサなど電気回路部品の実装方法としては、ベアチップICは、ワイヤーボンディング法やはんだバンプ、スタッドバンプ法、異方性導電膜(ACF:Anisotropic Conductive Film)、異方性導電ペースト(あCP:Anisotropic conductive Paste)、非導電性膜(NCF:Non conductive Film)、非導電性ペースト(NCP:Non conductive Paste)等を併用してCOB(Chip On Borad)装置での実装を行っている。IC搭載用COB装置において、IC間が広いワークに対応したタイプで半田バンプを溶融しIC接合する装置がある。
【0005】
従来装置の半田バンプを溶融し接合するタイプは、半田バンプ自身にセルフアライメント機構があるため、基板とICの平行度の許容範囲が広い。
【0006】
主なCOB装置は上下ツールでICと基板を挟み加熱加圧圧着を行うが、上下ツールの加熱圧着箇所が1ヶ所固定タイプと上下ツールどちらか一方(たとえば上ツール)が固定でもう一方(基板搭載側ステージ)が移動する複数箇所移動タイプがある。セラミックコンデンサ等の表面実装型電気回路部品もリフロー方式からファインピッチ対応として、たとえば特開2000−68633号公報に記載されているようにACFによる実装が行われつつある。この公報では、高さバラツキによる圧力不均一を低減するため弾性シートを介在させる方法が提案されている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来の実装方法には以下のような問題点があった。
【0008】
COB装置の場合、図1に示すような圧着位置が1ヶ所固定タイプと、図2に示すような例えば基板5のステージ側が移動する複数箇所移動タイプがある。どちらの場合もバンプ4及びIC3を矢印8で示す方向に均一に加圧するために設けられた、上下ツール1,2の平行度を調整する機構(図1及び図2の矢印6,7で示す方向に移動する)が少なくとも上下どちらか一方に付いている。図3は、圧着位置が1ヶ所固定タイプの場合で、下ツール2の圧着面の傾きに対応して、上ツール1の平行度調整を行った後、IC3の圧着をしている状態を示している。
【0009】
しかしながら、この平行度調整機構は上下ツール圧着面同士の平行度を調整するためのものであり、各IC及び各基板それぞれに対応しての調整機構は持っていない。
【0010】
従って第1の問題点は、図4に示すように、個々の基板5の厚み及びバンプ4の高さバラツキや、IC3の厚み及びバンプ4の高さバラツキに応じた加圧面の調整機構が無いため、片当たりや加圧力の不均一が生じることであり、それに伴う接続抵抗値の不均一や耐久試験時など接続信頼性の不安定が生じることである。
【0011】
また、例えば下ツール(基板ステージ側)が複数箇所移動タイプで上ツールに平行度調整機構を持つ場合は、下ツールのそれぞれの圧着位置に対応して、上ツールをあらかじめ入力した調整位置に平行度修正移動を行うが、この方式でも1ヶ所固定タイプと同様の問題点の他、ステージの繰り返し位置精度のバラツキや繰り返し使用による位置ズレなどに起因する平行度修正位置の誤差が生じていた。
【0012】
第2の問題点は、接続ICが狭ピッチで並んでいる場合、加熱加圧用の上ツールの大きさ形状から多数のICを一括接続できない点である。
【0013】
第3の問題点は、図5に示すようにCOB装置で一つの回路基板5上に複数個の電気回路部品3を実装したとき、回路基板の長手方向の反りを生じてしまう点である。これは厚さ625μm、長さ100mm、幅7mmほどのシリコン基板上に厚さ175μm、長さ10mm、幅2.5mmの薄型ベアチップICを8〜9ヶ実装したときに顕著であり、40〜50μm反ることが確認されている。
【0014】
第4の問題点は、図6に示すように特開2000−68633号公報に記載されている弾性シート9を介してIC3を加圧する方法によると、加圧する方向に対してIC裏面が傾いていた場合、圧縮されるゴム9が不均一に加圧されるため、不均一な圧力分布が生じ、ICバンプの潰れ量および接続状態が不均一になってしまうことである。
【0015】
また、図7に示すように、弾性シート9がIC裏面を等分布荷重で加圧するため、IC上のバンプ配列でバンプの存在しないところが特に凹んでしまい、IC反りを生じてしまう点である。このIC反りの現象は薄型ICで特に顕著である。
【0016】
反った状態で接合実装されると、その後の熱が加わる工程や信頼性テストを経たときに、ACF樹脂が変質や軟化すると同時に、反ったICが戻ろうとする。
【0017】
すると、図8に示すように、加圧接合時に大きく潰れたバンプ部4aが基板5から離れ、接合不良になる問題点が生じる。
【0018】
さらに、弾性シートの方法では、近接したICごとに高さの違いを吸収し、ならうことが困難となる。高さの違いがある場合、高い方のICに弾性シートがならい、低い方のICに弾性シートが当たらず、ならわないか荷重がかからないという問題が生じる。
【0019】
本発明は、上記の問題点を解決した加圧装置を以下の構成により提供することを目的とする。
【0020】
【課題を解決するための手段】
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明に関わる加圧方法は、ICと回路基板を複数のバンプを介して位置合わせし、加圧接合するICの加圧圧着方法において、前記ICを加圧する凹部を有するIC加圧部材と、前記IC加圧部材の凹部と対向した凹部を有する加圧力受け部材と、それぞれ前記凹部間に回転可能に挟まれた円柱状部材を有する加圧装置により、前記ICを前記回路基板に加圧し、一旦前記回路基板から前記ICを剥し、前記複数のバンプの圧痕が等しくなるように、前記IC加圧部材と加圧力受け部材との間の平行度を調整し、その姿勢を固定した状態で前記ICを前記回路基板に再度加圧し固定するものである。
【0021】
また、本発明によれば、前記加圧装置は、前記凹部を有するIC加圧部材と、前記凹部を有する加圧力受け部材とが、ネジにより固定されており、ネジの突出量により前記平行度を調整することを特徴とするICの加圧圧着方法を提供している。
【0023】
【発明の実施の形態】
(実施形態1)
以下、図面に沿って、本発明の実施形態について説明する。
【0024】
図9は、ICと回路基板を平行に加圧するための平行度調整機構部の主な部材のみを示した模式斜視図である。
【0025】
IC加圧部材11と中間部材12、上方からの加圧力受け部材13には、円柱状部材14a、14bを受ける凹部V溝15が形成されている。
【0026】
V溝の両端は、円柱状部材が位置ズレしないようにV溝を形成しなくとも良い。
【0027】
V溝に円柱状部材がはまることによって、回転方向が一方向に規制される。
【0028】
V溝と円柱状部材の組み合わせが90度ずれて組み合わせられていることによって、回転方向がαとβそれぞれ独立して回転可能となる。
【0029】
この構造がICと回路基板の平行度α軸β軸調整を行うための基本的な形である。
【0030】
図10は、図9に調整用ピンと固定用ネジを追加した平行度調整機構部の模式斜視図である。
【0031】
ここで、α軸は上側の円柱状部材が回転する軸とし、β軸は下側の円柱状部材が回転する軸とする。
【0032】
また、図10の矢印32側の辺を下側に表した平面図が図11である。
【0033】
図11でのA−A’断面図を図12に、B−B’断面図を図13に、C−C’断面図を図14に、D−D’断面図を図15に示す。
【0034】
図12、図13は、β軸、すなわち下側の円柱状部材を回転及び固定させる構造を示す。
【0035】
また、図14、図15は、α軸、すなわち上側の円柱状部材を回転及び固定させる構造を示す。
【0036】
平行度調整方法について、まずα軸について説明をする。加圧力受け部材13と中間部材12の平行度をα軸調整用押しピン16で調整する。α軸調整用押しピン16は、M1の細目イモネジを使用し、調整は調整用ネジ孔17から行う。
【0037】
その姿勢は、α軸固定用ネジ18で固定用ネジ孔19から固定する。α軸固定用ネジ18もM1の細目イモネジを使用する。
【0038】
次にβ軸も同様に平行度調整を行う。β軸調整用押しピン20とβ軸固定用ネジ22を用いて、調整用ネジ孔19と固定用ネジ孔23からそれぞれ調整及び固定を行う。
【0039】
図16は、図10の平行度調整機構部24が組み込まれた加圧装置の模式図である。ベース26上の回路基板5はACF10が貼り付けられその上に位置合わせ搭載されたIC3が加圧されている。
【0040】
先端に平行度調整機構部24が組み込まれた加圧短冊25は、加圧短冊上下動ガイド28に無給油ベアリング29を介してはめ込まれている。加圧短冊支持バネ27で加圧前は宙に浮いている。加圧短冊25は、上方から加圧除圧力30を受けると短冊可動方向31の方向に上下動する。また、加圧短冊25の上面には平行度調整機構部24の各調整用、固定用ネジを調整するための貫通穴がそれぞれの穴に対応して開いている。
【0041】
ここで、平行度調整作業を行う。
【0042】
回路基板5上にACF10を貼り付けずに又は、一部に貼り付けた状態でICを位置合わせ搭載する。その後、図11に示す加圧装置にセットし所望圧力で加圧する。
【0043】
加圧後の回路基板5を取り外し、IC5を剥がした後、バンプの圧痕を観察し、均一にバンプが潰れるようにα軸とβ軸を調整する。
【0044】
IC3のすべてのバンプが均一に加圧される状態に調整が行われた後、再度、回路基板5上のバンプ接合部にACF10を貼り付ける。そしてIC3を位置あわせ搭載後、加圧装置に設置し、所望の圧力で加圧しその状態で固定する。
【0045】
その後、回路基板5とIC3間のACF10を加熱硬化するために、上記加圧状態の一括加圧装置をクリーンオーブン内に投入し加熱硬化した。
【0046】
室温状態のクリーンオーブンに一括加熱装置を入れ、室温から170度まで加熱し、回路基板及びIC、一括加熱装置温度がほぼ170度に達した時点で電源OFFし、自然冷却した。
【0047】
室温に戻ったところで、一括加熱装置を取り出し、加圧を解除した。
【0048】
IC3の接続抵抗値を確認した結果、9ヶのICすべての接続チェック部が60mΩの良好な抵抗値を示した。
【0049】
(実施形態2)
以下に、本発明の第2実施形態を説明する。
【0050】
本実施形態では、接続するICが隣接し、なおかつ2列の形態をとっている。
【0051】
図17は、平行度調整機構部24が組み込まれた加圧短冊が隣接した状態で組み合わさった構造の模式側面図である。
【0052】
図18は、図17の組み合わさった構造が5列並んだ状態を示す模式平面図である。
【0053】
図19は、図17の組み合わさった構造を、加圧短冊のみを図示し、組み合わせ方を表した模式斜視図である。
【0054】
加圧短冊a33と加圧短冊b34は、ぞれぞれ平行度調整機構部24を持ち、隣接した構造で並べなければならないため、それぞれが絡み合った構造となった。
【0055】
加圧力を受ける部分は、平面部35で2つの対の短冊はそれぞれが同じ面積で同じ荷重を受けられる。
【0056】
加圧装置の基本的な構造は、実施形態1に示す構造と同様である。
【0057】
平行度調整用及び固定用ネジの貫通穴36は、それぞれの短冊部上部から形成されている。
【0058】
この構造によって、IC1ヶずつが、独立の運動を行うことが可能となり、それぞれの高さバラツキを吸収した加圧が可能となった。
【0059】
平行度調整機構部24を0.77mmおきに8ヶ並べ、それを2列配置した一括接合装置を用いた。
【0060】
まず、低加圧低温ACFなしでバンプ圧痕を確認し、ねじの押し引きにより平行度調整を行った。
【0061】
次にIC形状2.64mm×10.11mm×0.175mmをIC間距離0.77mmおきに8ヶ並べ、その列を2列同時に加圧加熱圧着し実装した。
【0062】
その結果良好な接続抵抗値が得られ、16ヶの一括接合が可能となった。
【0063】
本実施形態では、回路基板5は、厚み625μmのシリコン基板を使用し、IC3は厚さ175μmの薄型で長さ10.11mm、幅2.5mm、バンプ数446ヶのIC9ヶを用いた。IC間のギャップは0.77mmの狭ピッチである。
【0064】
加圧短冊33、34には、無給油ベアリング29が内蔵されており、加圧短冊上下動ガイド28にならい上下動することができる。IC3を加圧していないときは、IC3に接触しないように加圧短冊支持バネ27によって支えている。
【0065】
加圧時には、圧縮空気等で加圧し、加圧短冊33、34を加圧下降させる。
【0066】
その後、回路基板5とIC3間のACF10を加熱硬化するために、上記加圧状態の一括加圧装置をクリーンオーブン内で加熱硬化した。
【0067】
室温状態のクリーンオーブンに一括加熱装置を入れ、室温から170度まで加熱し、回路基板及びIC、一括加熱装置温度がほぼ170度に達した時点で電源OFFし、自然冷却した。
【0068】
室温に戻ったところで、一括加熱装置を取り出し、加圧を解除した。
【0069】
IC3の接続抵抗値を確認した結果、9ヶのICすべての接続チェック部が60mΩの良好な抵抗値を示した。
【0070】
また、回路基板5の長手方向反り量は10μm以下と従来方法による50μmに比較して低減し、大きな改善が確認できた。
【0071】
本実施形態では、ACFを用いたがACP、NCF、NCPを用いても良い。
【0072】
以上の実施形態より、シリコン基板上にICを狭ピッチで基板の反りを抑えて実装可能となった。
【0073】
ACFの加熱硬化は、実施形態1と同様に行う。
【0074】
本実施形態では、オーブンでの加熱硬化を行ったが、加圧部とステージ部にヒーターを内蔵して、加熱してもよい。
【0075】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、シリコン基板上にACFを用いてICを狭ピッチ実装する際に、各ICを回路基板に平行に加圧し、加熱硬化することによって、信頼性の高い接続と、基板の反りを抑えた実装が可能となった。
【図面の簡単な説明】
【図1】COB装置による、IC実装の従来例。
【図2】COB装置による、IC実装の従来例。
【図3】COB装置による、IC実装の従来例。
【図4】COB装置による、IC実装の従来例。
【図5】COB装置による、IC実装の従来例。
【図6】COB装置による、IC実装の従来例。
【図7】COB装置による、IC実装の従来例。
【図8】COB装置による、IC実装の従来例。
【図9】ICと回路基板を平行に加圧するための平行度調整機構部の主な部材のみを示した模式斜視図。
【図10】図9に調整用ピンと固定用ネジを追加した平行度調整機構部の模式斜視図。
【図11】図10の矢印32側の辺を下側に表した平面図。
【図12】図11でのA−A’断面図。
【図13】図11でのB−B’断面図。
【図14】図11でのC−C’断面図。
【図15】図11でのD−D’断面図。
【図16】本発明の第1実施形態を示す。
【図17】本発明の第2実施形態を示す
【図18】図17の組み合わさった構造が5列並んだ状態を示す模式平面図。
【図19】図17の組み合わさった構造を、加圧短冊のみを図示し、組み合わせ方を表した模式斜視図。
【符号の説明】
1 上ツール
2 下ツール
3 IC
4 はんだバンプ
5 回路基板
8 加圧方向
9 弾性シート
10 異方性導電膜
11 IC加圧部材
12 中間部材
13 加圧力受け部材
14a 円柱状部材(α軸)
14b 円柱状部材(β軸)
15 円柱状部材受け用V溝
16 α軸調整用押しピン
17 α軸調整用押しピン調整ネジ穴
18 α軸固定用ネジ
19 α軸固定用ネジ調整用ネジ穴
20 β軸調整用押しピン
21 β軸調整用押しピン調整ネジ穴
22 β軸固定用ネジ
23 β軸固定用ネジ調整用ネジ穴
24 平行度調整機構部
25 加圧短冊
26 ベース
27 加圧短冊指示バネ
28 加圧短冊上下動ガイド
29 無給油ベアリング
30 加圧除圧力
31 加圧短冊可動方向
32 透視図方向
33 加圧短冊a
34 加圧短冊b
35 加圧面
36 調整固定用貫通穴

Claims (2)

  1. ICと回路基板を複数のバンプを介して位置合わせし、加圧接合するICの加圧圧着方法において、前記ICを加圧する凹部を有するIC加圧部材と、前記IC加圧部材の凹部と対向した凹部を有する加圧力受け部材と、それぞれ前記凹部間に回転可能に挟まれた円柱状部材を有する加圧装置により、前記ICを前記回路基板に加圧し、一旦前記回路基板から前記ICを剥し、前記複数のバンプの圧痕が等しくなるように、前記IC加圧部材と加圧力受け部材との間の平行度を調整し、その姿勢を固定した状態で前記ICを前記回路基板に再度加圧し固定することを特徴とするICの加圧圧着方法。
  2. 前記加圧装置は、前記凹部を有するIC加圧部材と、前記凹部を有する加圧力受け部材とが、ネジにより固定されており、ネジの突出量により前記平行度を調整することを特徴とする請求項1記載のICの加圧圧着方法。
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JP4958655B2 (ja) * 2007-06-27 2012-06-20 新光電気工業株式会社 電子部品実装装置および電子装置の製造方法
US8071953B2 (en) * 2008-04-29 2011-12-06 Redlen Technologies, Inc. ACF attachment for radiation detector
JP5730664B2 (ja) * 2011-05-13 2015-06-10 富士機械製造株式会社 電子部品実装機
CN206925533U (zh) * 2017-10-13 2018-01-26 富准精密电子(鹤壁)有限公司 压合装置
CN107861277B (zh) * 2017-12-23 2023-07-25 苏州富强科技有限公司 用于液晶显示屏压合装置的压头微调机构
JP6484370B1 (ja) * 2018-05-31 2019-03-13 アサヒ・エンジニアリング株式会社 電子部品実装装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5115545A (en) * 1989-03-28 1992-05-26 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Apparatus for connecting semiconductor devices to wiring boards
JP3663931B2 (ja) 1998-08-25 2005-06-22 セイコーエプソン株式会社 圧着方法、圧着装置及び液晶表示装置の製造方法
JP4338834B2 (ja) * 1999-08-06 2009-10-07 日本テキサス・インスツルメンツ株式会社 超音波振動を用いた半導体チップの実装方法
DE10019443A1 (de) * 2000-04-19 2001-10-31 Texas Instruments Deutschland Vorrichtung zum Befestigen eines Halbleiter-Chips auf einem Chip-Träger

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