JP3594706B2 - 光源位置調整装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、光源の位置を調整して光源の光放射方向と発光点の位置を所定の基準光軸及び基準位置に合致させる技術に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
半導体レーザの組立工程では、その最終段階において、半導体レーザチップを放熱板のついたハウジングにマウントする。現時点では、ハウジングのセンターと半導体レーザチップのセンターとの相対的な位置関係を機械的に調整し、両者の位置を合致させる手法がとられている。この手法は、半導体レーザチップのセンターと発光点とが一致しており、また、発光方向が発光面に対して垂直であることを前提にしている。しかしながら、実際は、半導体レーザの発光点はハウジングのセンターよりずれており、また発光方向も発光面に対して垂直な方向からずれていることが多いため、上記の方法では精度の良い位置調整が困難であり、歩留りの低下、ひいては製造コストの上昇を招くことになる。
【0003】
また、半導体レーザは、単独で使用されることは少なく、レンズ、ファイバなどの光学部品と同時に使用される場合が多い。この場合、半導体レーザの光放射方向及び発光位置とこの光学部品との位置関係が非常に重要で、光学系全体の性能を大きく左右する。一般に、半導体レーザと光学部品との位置調整は非常に微妙なものであり、多くの時間と労力を必要とする。
【0004】
例えば、光ファイバが全国に張り巡らされ、光ネットワークが各家庭につながれることを想定した場合、半導体レーザ、レンズ系及び光ファイバからなる光学系が各信号発信部に必要となる。この部分のコストが大きく普及に影響を及ぼすことは簡単に想像がつく。 そこで、ファイバコネクタ内に半導体レーザを自動調芯して固定する装置が必要となる。
【0005】
一般に、ファイバコネクタ内に半導体レーザを自動調芯して固定する装置を構成する場合、半導体レーザの光放射方向と光ファイバの光軸との角度ずれが1゜程度であり、発光点と光ファイバのコア中心との位置ずれが±0.5μm程度となるような精度でマウントできる装置とする必要がある。そこで、半導体レーザの発光状態(所定の基準光軸に対する光放射角度及び発光点の位置)をチップの状態で計測し、その計測データを基に半導体レーザの位置を調整する装置が考案されている。
【0006】
半導体レーザの放射角度と発光位置を同時に測定する装置としては、特開平7−5032号公報に記載の半導体レーザ評価装置がある。この評価装置は、半導体レーザからの光をハーフミラーで分岐し、一方の光束に基づいて半導体レーザの像をCCDカメラで撮像することにより発光点の位置ずれを求めるものである。また、この装置は、他方の光束を光センサを走査して検出することにより放射光の強度分布を計測し、その結果に基づいて光放射角度のずれを求める。
【0007】
半導体レーザの位置調整装置としては、この半導体レーザ評価装置と多軸ステージ装置、ステージ駆動装置、及びこのステージ駆動装置に制御信号を送出する信号処理装置で構成される位置調整装置が考えられる。図9は、この位置調整装置による半導体レーザの位置調整手順を示すフローチャートである。このフローチャートを参照しながら、この位置調整装置の動作を説明する。
【0008】
まず、半導体レーザを多軸ステージ装置に設置した後(ステップ301)、半導体レーザを発光させる。半導体レーザチップから出射した光は上記半導体レーザ評価装置が備える光学系に入射する。この位置調整装置では、第1のプロセスとしてCCDカメラにて発光点の位置を計測し、発光点の二次元的な位置を信号処理装置に接続された表示装置の画面上にX,Y表示する。このX,Y値は多軸ステージ装置のX,Y座標と等価である。信号処理装置は、CCDカメラから送られてくる撮像データに基づき発光点の位置を算出し、この発光点位置と所定の基準位置とのずれを求めて、その結果をステージ駆動装置にフィードバックする。すなわち、信号処理装置は、発光点位置を基準位置に合致させるような制御信号をステージ駆動装置に送出し、多軸ステージ装置が備えるX,Y軸ステージの駆動を制御して、半導体レーザチップの位置を上記基準位置に合わせる(ステップ302〜304)。
【0009】
次に、第2のプロセスとして、ハーフミラーにて反射された反射光を光センサを移動させながら検出し、放射光の2方向の光角度分布をそれぞれ1次元的に計測する。この二つのデータより放射光のビーム角度ずれθX 、θY が求まる。ここで、θX 、θY は、それぞれXZ平面、YZ平面における所定の基準軸からの開き角度である。信号処理装置は、この角度ずれデータをステージ駆動装置にフィードバックし、ビーム角度ずれをなくすように多軸ステージが備える揺動ステージ(θX 軸ステージ及びθY 軸ステージ)を駆動させて、半導体レーザの設置角度を基準値に合わせる(ステップ305〜307)。
【0010】
上記の半導体評価装置を用いた場合、上記の手順だけでは、θX 座標及びθY 座標の原点と半導体レーザチップの発光面とを一致させることは非常に難しい。よって、第3のプロセスとして、もう一度第1のプロセスを行い半導体レーザチップの位置を基準位置に合わせる(ステップ308〜310)。以上により、半導体レーザの位置調整が完了する(ステップ311)。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記の位置調整装置では、第2のプロセスにおいて光センサを移動させて光角度分布を計測するので、計測対象である半導体レーザに角度ずれがある場合に、単に放射角度がずれているのか、発光点が基準発光位置からずれているために結果として角度ずれが生じているのかを区別して評価できないため、位置ずれ制御のプロセスを角度ずれ制御のプロセスの前後で二度行う必要がある。このため、迅速な位置調整が困難であるという欠点がある。
【0012】
また、光センサを移動して角度ずれを計測する方法は、光センサの移動時間を要するため、計測時間が比較的長くかかり、その結果として半導体レーザの位置調整も時間がかかるという欠点がある。また、光センサのスキャン範囲外に半導体レーザの最輝点があった場合、角度ずれの制御が不十分となるという問題点もある。
【0013】
また、上記の半導体レーザ評価装置が備える光学系は対物レンズの前側(半導体レーザ側)にハーフミラーを配置した構成となっている。実際の装置を考えた場合、一般的な半導体レーザの場合その放射角度は半値幅で、水平、垂直それぞれ±15、±40°であり、N.A.0.7程度の対物レンズを用いる必要がある。一般的な顕微鏡の対物レンズの使用を考えると、半導体レーザと対物レンズの間隔は、広いものでも5mmとなり、ハーフミラーを挿入するスペースはなくなる。仮にハーフミラーを設置できた場合でも、光強度を計測する光センサのスキャン範囲が半導体レーザ設置部と干渉してしまい、実際の装置として実現することが困難である。
【0014】
ハーフミラーを設置可能な対物レンズを用いようとすると、その対物レンズは巨大なものとなり装置全体も巨大かつ重量物となる。また、レンズ外径が大きくなるとレンズ自体のコストも非常に高くなるので好ましくない。さらに、対物レンズの後方にハーフミラーを配置した場合を考えても、光センサのスキャン位置は当然ハーフミラーの後方になる。また、光センサのスキャン位置は、対物レンズの後側焦点位置となる。つまり、対物レンズのバックフォーカスが長いレンズひいては焦点距離の長いレンズが必要となり、当然N.A.の大きいレンズが必要となるため、大きなレンズ系が必要となる。また、焦点距離の長いレンズを必要するということは、広範囲にわたって光センサをスキャンさせる必要があるという悪条件も重なる。
【0015】
本発明は、上記の問題点に鑑みなされたもので、半導体レーザ等の光源の位置を迅速かつ好適に調整して、光源の光放射方向と発光点位置を所定の基準光軸及び基準位置に合致させる装置を提供することを目的とする。
【0016】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決するために、本発明の光源位置調整装置は、光源の光放射方向及び発光点位置を所定の基準光軸及び基準位置に合致させる装置であって、(a)光源から出射した光束を拡大する拡大レンズ系と、(b)拡大レンズ系から出射した光束を第1及び第2の所定光路に進行させる第1の光路設定手段と、(c)第1の光路上に配置され、光源の放射角強度分布を検出する角度ずれ計測部と、(d)第2の光路上に配置され、拡大レンズの結像面上に生じた光源の拡大像を検出する位置ずれ計測部と、(e)光源を平行移動及び揺動させる多軸ステージ装置と、(f)この多軸ステージ装置に駆動信号を送出するステージ駆動手段と、(g)角度ずれ計測部の出力信号に基づいて光源の光出射方向の基準光軸からの軸ずれ角度を求めるとともに、位置ずれ計測部の出力信号に基づいて光源の発光点の基準位置からの変位量を求め、これらの結果に基づいてステージ駆動手段に制御信号を送出する制御手段とを備えている。
【0017】
光源を多軸ステージ装置に載置した後、光源を発光させると、光源から放射された光束は拡大レンズ系に入射し、拡大しながら進行するようになる。この光束は第1の光路設定手段に入射し、第1及び第2の光路を進行するようになる。第1の光路を進行する光束は角度ずれ計測部に入射する。角度ずれ計測部は、この光束に基づいて光源の放射角強度分布を検出し、この放射角強度分布の情報を制御手段に送出する。制御手段は、この情報に基づいて光源の光放射方向の基準光軸からの軸ずれ角度を求める。一方、第1の光路設定手段を介して第2の光路に進行する光束は、位置ずれ計測部に入射する。位置ずれ計測部は、この光束に基づいて光源の拡大像を検出し、拡大像の情報を制御部に送出する。制御部は、この情報に基づいて光源の発光点の基準位置からの変位量を求める。制御部は、こうして求めた軸ずれ角度及び変位量に基づき、光放射方向や発光点のずれをなくして両者が基準光軸及び基準位置に合致するような多軸ステージの駆動方向、駆動量等を求め、この駆動情報を有する制御信号をステージ駆動手段に送出する。ステージ駆動手段は、この制御信号に応じて多軸ステージ装置に駆動信号を送出し、制御部が命令した駆動を多軸ステージ装置に行わせる。これにより、光源の光放射方向及び発光点位置が基準光軸及び基準位置にほぼ合致するようになる。
【0018】
第1の光路設定手段は、拡大レンズ系から出射した光束を分岐し、この分岐光束を第1及び第2の光路にそれぞれ進行させるものであっても良い。この場合、角度ずれ計測部及び位置ずれ計測部の双方によって同時に光源の放射光が検出されることになる。
【0019】
第1の光路設定手段は、拡大レンズ系から出射した光束を受光し、その出射光路を第1及び第2の光路の間で相互に切り替えるものであり、制御手段は、この光路切り替えタイミングを制御して軸ずれ角度及び変位量を求めるものであっても良い。この場合、制御手段により切り替えられた光路上に配置された計測部によって検出が行われ、その検出結果に基づいて制御部が軸ずれ角度又は変位量のいずれかを求めることになる。制御部は、一つの計測が終了した後に、光路を切り替えて他の計測を行い、軸ずれ角度及び変位量の双方を求め、これに基づいて多軸ステージの駆動を制御する。
【0020】
なお、この光路設定手段としては、例えば、反射鏡及び反射鏡移動機構からなる装置を用いることができる。これは、光源の放射光の光路上に反射鏡を反射鏡移動機構によって挿入できるようにしておいて、反射鏡を挿入して放射光を反射する場合と反射鏡を挿入せずに放射光が直進する場合とで光路を切り替えるものである。反射鏡の挿入タイミングは、制御部が制御すると良い。
【0021】
角度ずれ計測部は、第1の光路上に配置され、拡大レンズの後側焦点面上に生じた光源の放射角強度分布を再結像させる第1の光学系(例えば、フィールドレンズ及びリレーレンズからなるレンズ系)と、この第1の光学系によって再結像された放射角強度分布を検出する第1の光検出器(例えば、CCDカメラや固***置検出器等の二次元光検出器)とを備えるものであっても良い。この場合、第1の光路設定手段を介して第1の光路に進行する光束は、まず、第1の光学系に入射する。第1の光学系は、拡大レンズの後側焦点面上に生じている光源の放射角強度分布を第1の光検出器の受光面上に再結像させる。これにより、第1の光検出器は、光源の放射角強度分布を検出し、放射角強度分布情報を有する信号を制御部に送出する。制御部は、この信号に基づいて光源の光放射方向の軸ずれ角度を求めることになる。
【0022】
位置ずれ計測部は、第2の光路上に配置され、拡大レンズ系の結像面上に生じた光源の拡大像を検出する第2の光検出器(例えば、CCDカメラや固***置検出器等の二次元光検出器)を備えるものであっても良い。この場合、第1の光路設定手段を介して第2の光路に進行する光束は、第2の光検出器の受光面上で結像する。第2の光検出器は、結像された光源の拡大像を検出し、その像情報を有する信号を制御部に送出する。制御部は、この信号に基づいて光源の発光点の基準位置からの変位量を求めることになる。
【0023】
また、位置ずれ計測部は、▲1▼第2の光路上において拡大レンズ系の空中拡大像面上に配置され、拡大レンズ系から出射した光束を広範囲計測用の光路及び狭範囲計測用の光路に進行させる第2の光路設定手段と、▲2▼広範囲計測用の光路上に配置され、拡大レンズ系の許容視野全体にわたる光源の空中拡大像を検出する広範囲計測部と、▲3▼狭範囲計測用の光路上に配置され、拡大レンズ系の許容視野の一部における光源の空中拡大像を検出する狭範囲計測部とを備えるものであっても良い。この場合、第1の光路設定手段を介して第2の光路を進行する光束は、第2の光路設定手段に入射し、広範囲計測用の光路及び狭範囲計測用の光路に進行するようになる。広範囲計測部は、広範囲計測用の光路を進行する光束に基づいて拡大レンズ系の許容視野全体にわたる空中拡大像を検出し、その像情報を有する信号を制御部に送出する。制御部は、この信号に基づいて光源の発光点の基準位置からの変位量を求め、多軸ステージの駆動を制御して光源の位置を調整する。狭範囲計測部は、狭範囲計測用の光路を進行する光束に基づいて、拡大レンズ系の許容視野の一部における空中拡大像を検出し、その像情報を有する信号を制御部に送出する。制御部は、この信号に基づいて光源の発光点の基準位置からの変位量を広範囲計測部よりも詳細に求め、多軸ステージの駆動を制御して光源の位置を微調整する。このように、発光点の位置ずれを広範囲及び狭範囲の計測によりそれぞれ求め、広範囲の計測に基づき光源位置の粗調整を行い、さらに、狭範囲の計測に基づいて光源位置の微調整を行うことで、極めて高精度に光源の発光点位置を調整することができる。
【0024】
第2の光路設定手段は、拡大レンズ系から出射した光束を分岐し、この分岐光束を広範囲計測用の光路及び狭範囲計測用の光路にそれぞれ進行させるものであっても良い。この場合は、広範囲計測部及び狭範囲計測部の双方によって同時に光源の放射光が検出されることになる。
【0025】
また、第2の光路設定手段は、拡大レンズ系から出射した光束を受光し、その出射光路を広範囲計測用の光路及び狭範囲計測用の光路の間で相互に切り替えるものであり、制御手段は、この光路切り替えタイミングを制御して軸ずれ角度及び変位量を求めるものであっても良い。この場合、制御手段により切り替えられた光路上に配置された広範囲又は狭範囲の計測部によって検出が行われ、その検出結果に基づいて制御部が発光点位置の変位量を求めることになる。通常、制御部は、広範囲の計測を行って発光点位置の粗調整を行った後、光路を切り替えて狭範囲の計測を行い、発光点位置の微調整を行う。
【0026】
なお、第2の光路設定手段としては、例えば、反射鏡及び反射鏡移動機構からなる装置を用いることができる。これは、第2の光路上に反射鏡を反射鏡移動機構によって挿入できるようにしておいて、反射鏡を挿入して放射光を反射する場合と反射鏡を挿入せずに放射光が直進する場合とで光路を切り替えるものである。反射鏡の挿入タイミングは、制御部が制御すると良い。
【0027】
【発明の実施の形態】
以下、添付図面を参照しながら本発明の実施形態を詳細に説明する。なお、図面の説明において同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。また、図面の寸法比率は説明のものと必ずしも一致していない。
【0028】
実施形態1
図1は、本実施形態の光源位置調整装置の構成を示す図である。この装置は、多軸ステージ装置10、ステージ駆動装置20、計測光学系30、及び制御部40から構成されている。多軸ステージ装置10上の光源設置部11上には光源50が設置されており、多軸ステージ装置10を駆動させることで光源50の位置を調節できるようになっている。ステージ駆動装置20は、配線によって多軸ステージ装置10に電気的に接続されており、ステージ制御信号を多軸ステージ装置を送出して多軸ステージ装置10が備える複数のステージを駆動させるようになっている。計測光学系30は、光源50から出射した光を検出し、▲1▼発光点位置の所定の基準位置からの変位量と、▲2▼光源50の光放射方向の軸ずれ角度を計測するものである。制御部40は、計測光学系30により計測したデータをフィードバックする信号をステージ駆動装置20に送出し、多軸ステージ装置10の駆動をフィードバック制御するものである。なお、制御部40には、表示装置60が接続されており、制御部40の出力データを画面上に表示するようになっている。
【0029】
図2は、多軸ステージ装置10の構造を示す全体斜視図である。多軸ステージ装置10は、平行移動用のX軸ステージ12、Z軸ステージ13及びY軸ステージ14と、揺動用のθX 軸ステージ15及びθY 軸ステージ16から構成されている。X軸ステージ12はX軸方向に、Z軸ステージ13はZ軸方向に、Y軸ステージ14はY軸方向にそれぞれ平行移動するものであり、θX 軸ステージ15はXZ平面上で、θY 軸ステージ16はYZ平面上でそれぞれ揺動する。Y軸ステージ14は、多軸ステージ装置10の最下部に位置しており、この上にはZ軸ステージ13、X軸ステージ12、θY 軸ステージ16、θX 軸ステージ15が順次に設置されている。θX 軸ステージ15の上面には、光源設置部11が設けられており、その上に光源50が載置されるようになっている。
【0030】
計測光学系30は、対物レンズ31、ハーフミラー32、位置ずれ計測用撮像素子33、フィールドレンズ34、リレーレンズ35、及び角度ずれ計測用撮像素子36から構成されている。このうち、位置ずれ計測用撮像素子33は、発光点位置の基準位置からの変位量を計測する位置ずれ計測部を構成している。また、フィールドレンズ34、リレーレンズ35及び角度ずれ計測用撮像素子36は、光源50の光放射方向の基準光軸からの軸ずれ角度を計測する角度ずれ計測部を構成している。
【0031】
対物レンズ31は、光源50から出射する光を拡大する拡大レンズ系である。本実施形態では、光源50からの光が対物レンズ31に入射することにより対物レンズ31の後側焦点面70上に光源50の空中像が形成されるように、対物レンズ31の前側焦点付近に光源50を配置してある。ハーフミラー32は、入射する光の約半分を透過させ、残り半分を反射する。これにより、光源50から放射された光について、位置ずれ計測用撮像素子33へ向かう第1の光路と、角度ずれ計測用撮像素子36へ向かう第2の光路が設定されることになる。位置ずれ計測用撮像素子33及び角度ずれ計測用撮像素子36は、受光面に入射した光の入射位置を測定する二次元光検出素子である。フィールドレンズ34は、視野レンズともいわれるもので、対物レンズ31の口径をリレーレンズ35の口径上に映すためのレンズ系である。リレーレンズ35は、対物レンズ31の後側焦点面70上の空中像を角度ずれ計測用撮像素子36の受光面上に再結像させるためのレンズ系である。
【0032】
ここで、位置ずれ計測用撮像素子33及び角度ずれ計測用撮像素子36として、2/3インチCCDカメラ(例えば、C5948、C5940(浜松ホトニクス社製))を用い、さらに、対物レンズ31として焦点距離が3.49mm、N.A.が0.7、倍率が60倍のレンズを使用し、制御部40として画素数が640×484の画像処理装置を使用した場合を考える。この場合、位置ずれ計測用撮像素子33に撮像される領域は約140×105μm、画素分解能は0.22μm、角度ずれ計測用撮像素子36に撮像される領域は最大約±45°、分解能は0.2°となる。また、リレーレンズ35を調整し、角度ずれ計測用撮像素子36に撮像される領域を±15°とすると、分解能は0.06°となる。
【0033】
図3は、本実施形態の光源位置調整装置の動作を説明するためのフローチャートである。以下では、このフローチャートと図1を参照しながら、本装置による光源50の位置調整手順と本装置の動作を説明する。
【0034】
まず、光源50を光源設置部11上に設置した後(ステップ101)、光源50を発光させる。光源50から出射した光は、対物レンズ31によって拡大された後、ハーフミラー32によって二光束に分岐される。分岐光束のうちハーフミラー32で反射された光束は、フィールドレンズ34、リレーレンズ35及び角度ずれ計測用撮像素子36からなる光学系に入射する。本実施形態の装置では、第1のプロセスとして、角度ずれ計測用撮像素子36へ向かう分岐光束に基づいて光源50の光放射角度及び光放射方向の基準光軸からの軸ずれ角度を計測し、計測結果に基づいて光源50の設置角度を調整する(ステップ102〜104)。以下、この動作を具体的に説明する。
【0035】
図1において符号71、72で示すように、光源50から出射した光のうち任意の角度成分が集まった光束は平行光である。この様な平行光が対物レンズ31に入射すると、対物レンズ31の焦点面上の一点に像を結ぶ。光源50から出射した光のうち、対物レンズ31の光軸に対して平行な光束は対物レンズ31の光軸上の後側焦点位置に像を結ぶ。また、光源50よりある角度をもって出射した平行光束は、対物レンズ31の後側焦点面上において、光源50から出射された角度に対応した距離だけ光軸からずれた位置に、その出射方向の強度に比例した二次元的強度分布を示す空中像を形成する。この様に、対物レンズ31の後側焦点面70上には、光源50の二次元の放射角特性を示す強度分布像(放射角強度分布像)が形成される。
【0036】
なお、対物レンズ31の後側焦点面70上に生じた放射角強度分布像は、光源50が半導体レーザあるいは光ファイバ出射端である場合には、各々の光源の構造に由来する発光パターンの横モードに対応した強度分布を示しており、一般にファーフィールドパターンと呼ばれるものである。
【0037】
ハーフミラー32で反射された分岐光束は、フィールドレンズ34及びリレーレンズ35を透過することで、対物レンズ31の後側焦点面70上の放射角強度分布像を角度ずれ計測用撮像素子36の受光面上に必要かつ十分な大きさに結像する。すなわち、フィールドレンズ34及びリレーレンズ35は、その協同作業により光源50の強度分布像を角度ずれ計測用撮像素子36の受光面上に再結像させることになる。
【0038】
前述のように光源50から光軸に対しある角度をもって出射した光は、その角度に応じた距離だけ光軸からずれた位置に像を結ぶ。また、一般的に、光源から出射した光の空間的強度分布はガウス分布である。したがって、角度ずれ計測用撮像素子36で検出される光束の空間的強度分布の最強点若しくは重心の位置を求めることにより、光源50の光放射角度を算出することができる。本装置では、制御部40が角度ずれ計測用撮像素子36からの放射角信号に基いて光源50の光放射角度を算出する(ステップ102)。
【0039】
こうして計測された光放射角度は、表示装置60の画面上に二次元的にX、Y表示される。このX、Y値は、光源50の光放射方向をそれぞれXZ平面、YZ平面における開き角度で示したものであり、θX 、θY 座標とそれぞれ等価である。制御部40は、この計測値をステージ駆動装置20にフィードバックして、多軸ステージ装置10を制御する。すなわち、制御部40は、光放射角度の計測値と所定の基準光軸のθX 、θY 座標とを一致させるような制御信号(フィードバック信号)をステージ駆動装置20に送出して、θX 軸ステージ15及びθY 軸ステージ16の駆動を制御する。θX 軸ステージ15及びθY 軸ステージ16の駆動により、光源50の光放射角度が所定の基準値に調整されることになる。(ステップ103)。なお、θX =θY =0を基準値とした場合の光放射角度の調整の様子を図4(a)及び(b)に示す。
【0040】
この後、制御部40は、再度、光源50の光放射角度を計測し、基準光軸との角度ずれの有無を検査する(ステップ104)。このとき、角度ずれが発見された場合には、制御部40は、光放射角度の計測値と基準光軸のθX 、θY 座標とを一致させるように再び多軸ステージ装置10の駆動を制御する。以上の動作が繰り返されることにより、光源50の光放射方向が極めて高精度に所定方向に調整されることになる。以上が、本装置による位置調整手順の第1のプロセスである。
【0041】
次に、第2のプロセスについて説明する。光源50から出射した光束のうちハーフミラー32を透過したものは、位置ずれ計測用撮像素子33に向かう。本装置では、第2のプロセスとして、この光束に基づいて光源50の発光点位置及び発光点の基準位置からの変位量を計測し、その計測結果に基づいて、第1のプロセスによりあおり角度が調整された光源50の発光点の位置ずれをなくすように光源50の位置を調整する(ステップ105〜107)。
【0042】
ハーフミラー32を透過した分岐光束は、対物レンズ31の拡大作用により、位置ずれ計測用撮像素子33の受光面上に光源50の10倍〜100倍の拡大像を結像する。この拡大像は撮像素子33により撮像され、拡大像の画像情報を表す拡大像信号が制御部40に送出される。この拡大像信号に基づいて拡大像を解析すれば、光源50の発光点位置を算出し、基準位置からのずれを求めることができる(ステップ105)。
【0043】
制御部40は、この拡大像信号に基づいて表示装置60の画面のXY平面上に光源50の拡大像を表示する。この拡大像は、Z軸ステージ13を駆動させることにより大きさが変化する。この像が最小になるように、すなわちピントが合うようにZ軸ステージ13の駆動を制御することによって発光点のZ軸方向の位置ずれを低減することができる。また、表示装置60の画面上の像位置を表すX、Y値は、それぞれX軸ステージ12、Y軸ステージ14の座標と等価である。制御部40は、この計測値をステージ駆動装置20にフィードバックする。すなわち、発光点位置の計測値と所定の基準発光位置のX、Y座標とを一致させるような制御信号(フィードバック信号)をステージ駆動装置20に送出して、X軸ステージ12及びY軸ステージ14の駆動を制御する。これにより、光源50の発光点が所定の基準位置に合致するように光源50の位置が調整されることになる(ステップ106)。なお、X=Y=Z=0を基準位置とした場合の発光点位置の調整の様子を図4(c)〜(e)に示す。
【0044】
この後、制御部40は、再度、光源50の発光点位置を計測し、基準位置からの位置ずれの有無を検査する(ステップ107)。このとき、位置ずれが発見された場合には、制御部40は、発光点位置の計測値と基準位置とのXYZ座標を一致させるように再び多軸ステージ装置10の駆動を制御する。以上の動作が繰り返されることにより、光源50の発光点位置が高精度に所定の位置に調整されることになる。以上が、本装置による位置調整手順の第2のプロセスである。この第2プロセスの完了をもって、本装置による光源50の位置調整作業が終了する(ステップ108)。
【0045】
以上のように、本装置では、角度ずれ及び発光点位置ずれの計測をリアルタイムで行っている。また、光源50の放射角強度分布の計測データ内に発光点の位置情報が含まれていないので、角度ずれ計測時に先立って光源50の設置位置を正確に合わせる必要がなく、従来よりもプロセスの少ない計測が可能である。この結果、本装置によれば、迅速な光源の位置調整が可能である。
【0046】
また、本装置は、光源50の発光点位置ずれ及び光放射角度ずれの計測結果を繰り返しフィードバックして多軸ステージ10の駆動を制御するので、光源50の発光点位置及び光放射方向を所定の位置及び方向に精度良く調整することができる。
【0047】
このため、本装置を用いれば、光源の発光位置やあおりの高精度な制御が可能であり、光源をハウジングに精度良くマウントすることができるので、結果的に出射ビームの位置及び出射ビーム方向のばらつきの少ない発光体(例えば、半導体レーザ素子、SLD、LED、光導波路、光ファイバなど)を容易に供給することができる。また、本装置を用いて光源の位置を調整することで、光源と光学素子(光ファイバ、光導波路など)を容易に効率良く接続することができる。
【0048】
なお、本装置において、位置ずれ計測用撮像素子33及び角度ずれ計測用撮像素子36としてはCCDカメラを用いたが、この代わりに固***置検出器を用い、光源の放射光の重心位置を求めるようにしてもよい。
【0049】
実施形態2
図5は、本実施形態の光源位置調整装置の構成を示す図である。この装置は多軸ステージ装置10、ステージ駆動装置20、対物レンズ81、ハーフミラー82a及び82b、角度ずれ計測部160、広範囲位置ずれ計測部161、狭範囲位置ずれ計測部162、及び制御部41から構成されている。角度ずれ計測部160は、フィールドレンズ84a、リレーレンズ85a及び角度ずれ計測用撮像素子86から構成されている。広範囲位置ずれ計測部161は、フィールドレンズ84b、リレーレンズ85b及び広範囲位置ずれ計測用撮像素子87から構成されている。狭範囲位置ずれ計測部162は、結像レンズ83及び狭範囲位置ずれ計測用撮像素子88から構成されている。
【0050】
対物レンズ81は、光源50の出射光を拡大する拡大レンズ系であり、光源50から出射した光が対物レンズ81に入射することで、対物レンズ81の後側焦点面上に光源50の拡大空中像が形成されるようになっている。
【0051】
ハーフミラー82aは、入射する光の約半分を透過させ、残り半分を反射する。これにより、光源50からの光についてハーフミラー82bへ向かう第1の光路と、角度ずれ計測部86へ向かう第2の光路が設定されることになる。
【0052】
ハーフミラー82bは、対物レンズ81によって結像された空中拡大像90の面上において、対物レンズ81及び結像レンズ83からなる光学系の光軸に対して鏡面の法線が45度の角度をなすように傾けて設置されており、ハーフミラー82aを透過した光束の約半分を透過させ、残り半分を反射する。これにより、ハーフミラー82aを透過した光束について広範囲位置ずれ計測部161ヘ向かう光路と狭範囲位置ずれ計測部162へ向かう光路が設定されることになる。また、上記のようにハーフミラー82bを配置することで、広範囲位置ずれ計測用撮像素子87及び狭範囲位置ずれ計測用撮像素子88の各撮像視野における光源50の拡大像の位置が一致する(例えば、拡大像が撮像素子87の撮像視野の中心に位置する時は、撮像素子88においても拡大像は撮像視野の中心に位置する)ようになる。
【0053】
結像レンズ83は、ハーフミラー82bの後側に配置されており、対物レンズ81によって拡大結像された空中像90を狭範囲位置ずれ計測用撮像素子87の受光面上に必要かつ十分な大きさに拡大結像させる。なお、結像レンズ83の倍率は、通常、5〜20倍程度とする。
【0054】
フィールドレンズ84a及び84bは、対物レンズ81の口径をそれぞれリレーレンズ85a、85bの口径上に映すためのレンズ系である。リレーレンズ85a及び85bは、対物レンズ81の後側焦点面上の空中像をそれぞれ角度ずれ計測用撮像素子86、広範囲位置ずれ計測用撮像素子88の受光面上に再結像させるためのレンズ系である。
【0055】
角度ずれ計測用撮像素子86、狭範囲位置ずれ計測用撮像素子87及び広範囲位置ずれ計測用撮像素子88は、受光面に入射した光の二次元的強度分布を検出する二次元光検出素子である。
【0056】
制御部41は、各撮像素子86〜88から送られてくる撮像情報信号に基づいて光源50の発光位置ずれ及び光放射角度ずれを算出し、その算出データに基づいてステージ駆動装置20にフィードバック信号を送出し、多軸ステージ装置10の駆動を制御する。制御部41には、本装置の動作確認用の表示装置60が接続されており、制御部41が取得した撮像情報に基づいて、光源50の発光位置ずれ及び光放射角度ずれの様子を画面上に表示するようになっている。
【0057】
ここで、本実施形態の光源位置調整装置において、角度ずれ計測用撮像素子86、狭範囲位置ずれ計測用撮像素子87及び広範囲位置ずれ計測用撮像素子88として、2/3インチCCDカメラ(例えば、C5948、C5940(浜松ホトニクス社製))を用い、さらに、対物レンズ31として焦点距離が3.49mm、N.A.が0.7、倍率が60倍のレンズを使用し、さらに、制御部41として画素数が640×484の画像処理装置を使用した場合を考える。この場合、広範囲位置ずれ計測用撮像素子88に撮像される領域は約140×105μm、画素分解能は0.22μm、狭範囲位置ずれ計測用撮像素子87に撮像される領域は約14×10μm、画素分解能は0.02μm、角度ずれ計測用撮像素子86に撮像される領域は最大約±45°、分解能は0.2°となる。また、リレーレンズ85aを調整し、角度ずれ計測用撮像素子86に撮像される領域を±15°とすると、分解能は0.06°となる。
【0058】
図6は、本実施形態の光源位置調整装置の動作を説明するためのフローチャートである。以下では、このフローチャートと図5を参照しながら、本装置の動作を説明する。
【0059】
まず、光源50を光源設置部11上に設置した後(ステップ201)、光源50を発光させる。光源50から出射した光は、対物レンズ81によって拡大された後、ハーフミラー82aによって二光束に分岐される。分岐光束のうちハーフミラー82aで反射された光束は、角度ずれ計測部160に入射する。本装置では、第1のプロセスとして、この分岐光束に基づいて光源50の光放射角度を計測し、その計測結果に基づいて光源50の設置角度を調整する(ステップ202〜204)。以下、この動作を具体的に説明する。
【0060】
ハーフミラー82aで反射された分岐光束は、フィールドレンズ84a及びリレーレンズ85aを透過することで、対物レンズ81の後側焦点面73上の空中像を角度ずれ計測用撮像素子86の受光面上に必要かつ十分な大きさに結像する。すなわち、フィールドレンズ84a及びリレーレンズ85aは、その協同作業により光源50の空中像を角度ずれ計測用撮像素子86の受光面上に再結像させることになる。既に説明したように、対物レンズ81の後側焦点面73には、光源50の二次元の放射角特性を示す放射角強度分布像が形成されていることになるから、角度ずれ計測用撮像素子86の受光面上にも光源50の放射角強度分布像が再結像される。そして、実施形態1で既に述べたように、角度ずれ計測用撮像素子86で検出される空間的強度分布の最強点若しくは重心の位置を求めることにより、光源50の光放射角度を算出することができる。本装置では、制御部41が角度ずれ計測用撮像素子86からの放射角信号に基いて光源50の光放射角度を算出する(ステップ202)。
【0061】
こうして計測された光放射角度は、表示装置60の画面上に二次元的にX、Y表示される。このX、Y値は、θX 、θY 座標とそれぞれ等価である。制御部41は、この計測値と所定の基準光軸のθX 、θY 座標とを一致させるような制御信号(フィードバック信号)をステージ駆動装置20に送出して、θX 軸ステージ15及びθY 軸ステージ16の駆動を制御する(ステップ203)。これにより、光源50の光放射角度が所定の基準値に合致するように調整される。
【0062】
この後、制御部41は、再度、光源50の光放射角度を計測し、基準光軸との角度ずれの有無を検査し(ステップ204)、角度ずれが発見された場合には、制御部41は、光放射角度の計測値と基準光軸のθX 、θY 座標とを一致させるように再び多軸ステージ装置10の駆動を制御する。以上の動作が繰り返されることにより、光源50の光放射方向が極めて高精度に所定方向に調整されることになる。以上が、本装置による位置調整手順の第1のプロセスである。
【0063】
次に、第2及び第3のプロセスについて説明する。光源50から出射した光束のうちハーフミラー82aを透過したものは、ハーフミラー82bに入射する。本装置では、この光束に基づいて光源50の発光点位置を計測し、その計測結果に基づいて、第1のプロセスによりあおり角度を調整された光源50の発光点の位置ずれをなくすように光源50の位置を調整する(ステップ205〜210)。
【0064】
ハーフミラー82bの中心部を透過した光束は、結像レンズ83に入射し、その結像作用によって、対物レンズ81により拡大結像された空中像90を狭範囲位置ずれ計測用撮像素子88の受光面上に必要かつ十分な大きさに拡大結像する。また、ハーフミラー82bによって反射された光束は、フィールドレンズ84b及びリレーレンズ85bの協同作業により対物レンズ81の許容視野全体の空中拡大像を広範囲位置ずれ計測用撮像素子87の受光面上に再結像させる。
【0065】
図7に示すように、狭範囲位置ずれ用撮像素子88は、広範囲位置ずれ用撮像素子87の撮像視野の中心部の1/5〜1/20の範囲をその撮像視野の全体で撮像していることになる。このため、狭範囲位置ずれ計測部162によれば、より精密な発光点位置ずれの計測が可能となる。但し、狭範囲位置ずれ計測用撮像素子88は、10〜20μm角程度の微小な範囲を拡大計測するため、光源50の像をその撮像視野内に配置させることが難しい。しかしながら、広範囲位置ずれ用撮像素子87により位置ずれを計測して光源50の位置を調整した後であれば、光源50の像は狭範囲位置ずれ用撮像素子88の撮像視野内に位置するようになる。
【0066】
このことに鑑み、本装置では、まず、第2のプロセスとして、広範囲位置ずれ計測用撮像素子87が出力する光源50の拡大像信号に基づき、制御部41が光源50の発光点の位置ずれを算出する(ステップ205)。制御部41は、表示装置60の画面のXY平面上に光源50の拡大像を表示する。この拡大像が最小になるようにZ軸ステージ13の駆動を制御することによって発光点のZ軸方向の位置ずれを低減することができる。また、表示装置60の画面上の像位置を表すX、Y値は、それぞれX軸ステージ12、Y軸ステージ14の座標と等価である。制御部41は、この計測値と所定の基準発光位置のX、Y座標とを一致させるような制御信号(フィードバック信号)をステージ駆動装置20に送出して、X軸ステージ12及びY軸ステージ14の駆動を制御する。これにより、光源50の発光点が所定の基準位置に合致するように光源50の位置が調整されることになる(ステップ206)。
【0067】
この後、制御部40は、再度、光源50の発光点位置を計測し、基準位置からの位置ずれの有無を検査し(ステップ207)、位置ずれが発見された場合には、制御部41は、発光点位置の計測値と基準位置とを一致させるように再び多軸ステージ装置10の駆動を制御する。以上の動作が繰り返されることにより、光源50の発光点位置が高精度に所定の位置に調整されることになる。以上が、本装置による位置調整手順の第2のプロセスである。
【0068】
本装置では、さらに、第3のプロセスとして、狭範囲位置ずれ計測用撮像素子88が出力する拡大像信号に基づいて制御部41が光源50の発光点位置のずれを再度算出し、この算出結果に基づいてZ軸ステージ13、並びにX軸ステージ12及びY軸ステージ14を駆動させ、光源50の位置を再調整する(ステップ208〜210)。狭範囲位置ずれ計測部162によれば、光源50の発光点について詳細な位置情報を得ることができるので、光源50の発光点の位置をより高い精度で調整することが可能である。この第3プロセスの完了をもって、本装置による光源50の位置調整が終了する(ステップ211)。なお、狭範囲位置ずれ計測部162によれば、光源の放射角特性や近視野像の計測も合わせて行うことができる。
【0069】
この様に、本装置では、広範囲位置ずれ計測部161の計測結果に基づく位置調整の後で、さらに狭範囲位置ずれ計測部162の計測結果に基づく微調整を行うので、極めて高い精度で光源50の発光点位置を調整することができる。
【0070】
なお、本装置では、ハーフミラー82bを用いて光源50からの光束を広範囲位置ずれ計測部161に向かう光束と狭範囲位置ずれ計測部162に向かう光束に分岐したが、代わりに、光軸上において直径14μm程度の穴があいた反射鏡91を用いることもできる。図8は、この反射鏡91を設置した例を示す図である。この様な反射鏡91を設置した場合でも、広範囲位置ずれ計測部161及び狭範囲位置ずれ計測部162のいずれかにより光源50の像が検出されるので、光源50の位置調整を行うことができる。ハーフミラーを用いる場合と異なり、各計測部161、162に向かう光束の光量が低減されないので、反射鏡を用いる方法は、光源50の光量が小さい場合の一つの有効な手段となり得る。
【0071】
【発明の効果】
以上、詳細に説明した通り、本発明の光源位置調整装置では、軸ずれ角度の計測に先立って光源の位置を調整する必要がなく、軸ずれ角度及び発光点の基準位置からの変位量の計測をリアルタイムで迅速に行うことができるので、迅速な光源の光放射方向と発光点位置を所定の基準光軸及び基準位置に迅速に合致させることができる。このため、本装置を用いれば、光源をハウジングに精度良くマウントして出射ビーム位置及び出射ビーム方向のばらつきの少ない発光体を容易に供給することができる。また、本装置を用いれば、光源と光学素子を容易に効率良く接続することができる。
【0072】
また、特に、位置ずれ計測部が、第2の光路設定手段、広範囲計測部及び狭範囲計測部を備えている光源位置調整装置では、広範囲計測部の検出結果に基づき光源位置の粗調整を行った後、さらに、狭範囲計測部の検出結果に基づき光源位置の微調整を行うので、極めて高い精度で光源の発光点位置を基準位置に合致させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一形態の構成を示す平面図である。
【図2】多軸ステージ装置10の構成を示す全体斜視図である。
【図3】本発明の一形態による位置調整手順を示すフローチャートである。
【図4】光源50の光放射角度ずれ及び発光点位置ずれの補正を示す図である。
【図5】本発明の他の形態の構成を示す平面図である。
【図6】図5の装置による位置調整手順を示すフローチャートである。
【図7】広範囲位置ずれ用撮像素子87及び狭範囲位置ずれ用撮像素子88の撮像視野を示す図である。
【図8】図5の装置において、ハーフミラー82bの代わりに反射鏡91を設置した例を示す図である。
【図9】従来の位置調整装置による位置調整手順を示すフローチャートである。
【符号の説明】
10…多軸ステージ装置、20…ステージ制御装置、30…計測光学系、31…対物レンズ、32…ハーフミラー、33…位置ずれ計測用撮像素子、34…フィールドレンズ、35…リレーレンズ、36…角度ずれ計測用撮像素子、40…制御部、50…光源、60…表示装置。
Claims (5)
- 光源の光放射方向及び発光点位置を所定の基準光軸及び基準位置に合致させる光源位置調整装置であって、
前記光源から出射した光束を拡大する拡大レンズ系と、
前記拡大レンズ系から出射した光束を第1及び第2の光路に進行させる第1の光路設定手段と、
前記第1の光路上に配置され、前記光源の放射角強度分布を検出する角度ずれ計測部と、
前記第2の光路上に配置され、前記拡大レンズの結像面上に生じた前記光源の拡大像を検出する位置ずれ計測部と、
前記光源を平行移動及び揺動させる多軸ステージ装置と、
前記多軸ステージ装置に駆動信号を送出するステージ駆動手段と、
前記角度ずれ計測部の出力信号に基づいて前記光源の光出射方向の前記基準光軸からの軸ずれ角度を求めるとともに、前記位置ずれ計測部の出力信号に基づいて前記光源の発光点の前記基準位置からの変位量を求め、これらの結果に基づいて前記ステージ駆動手段に制御信号を送出する制御手段と、
を備え、
前記第1の光路設定手段は、前記拡大レンズ系から出射した光束を分岐し、この分岐光束を前記第1及び第2の光路にそれぞれ進行させるものである、光源位置調整装置。 - 光源の光放射方向及び発光点位置を所定の基準光軸及び基準位置に合致させる光源位置調整装置であって、
前記光源から出射した光束を拡大する拡大レンズ系と、
前記拡大レンズ系から出射した光束を第1及び第2の光路に進行させる第1の光路設定手段と、
前記第1の光路上に配置され、前記光源の放射角強度分布を検出する角度ずれ計測部と、
前記第2の光路上に配置され、前記拡大レンズの結像面上に生じた前記光源の拡大像を検出する位置ずれ計測部と、
前記光源を平行移動及び揺動させる多軸ステージ装置と、
前記多軸ステージ装置に駆動信号を送出するステージ駆動手段と、
前記角度ずれ計測部の出力信号に基づいて前記光源の光出射方向の前記基準光軸からの軸ずれ角度を求めるとともに、前記位置ずれ計測部の出力信号に基づいて前記光源の発光点の前記基準位置からの変位量を求め、これらの結果に基づいて前記ステージ駆動手段に制御信号を送出する制御手段と、
を備え、
前記角度ずれ計測部は、前記第1の光路上に配置され、前記拡大レンズの後側焦点面上に生じた前記光源の放射角強度分布を再結像させる第1の光学系と、前記第1の光学系により再結像された放射角強度分布を検出する第1の光検出器とを備えている、光源位置調整装置。 - 光源の光放射方向及び発光点位置を所定の基準光軸及び基準位置に合致させる光源位置調整装置であって、
前記光源から出射した光束を拡大する拡大レンズ系と、
前記拡大レンズ系から出射した光束を第1及び第2の光路に進行させる第1の光路設定手段と、
前記第1の光路上に配置され、前記光源の放射角強度分布を検出する角度ずれ計測部と、
前記第2の光路上に配置され、前記拡大レンズの結像面上に生じた前記光源の拡大像を検出する位置ずれ計測部と、
前記光源を平行移動及び揺動させる多軸ステージ装置と、
前記多軸ステージ装置に駆動信号を送出するステージ駆動手段と、
前記角度ずれ計測部の出力信号に基づいて前記光源の光出射方向の前記基準光軸からの軸ずれ角度を求めるとともに、前記位置ずれ計測部の出力信号に基づいて前記光源の発光点の前記基準位置からの変位量を求め、これらの結果に基づいて前記ステージ駆動手段に制御信号を送出する制御手段と、
を備え、
前記位置ずれ計測部は、
前記第2の光路上において前記拡大レンズ系の空中拡大像面上に配置され、前記拡大レンズ系から出射した光束を広範囲計測用の光路及び狭範囲計測用の光路に進行させる第2の光路設定手段と、
前記広範囲計測用の光路上に配置され、前記拡大レンズ系の許容視野の全体にわたる前記光源の空中拡大像を検出する広範囲計測部と、
前記狭範囲計測用の光路上に配置され、前記拡大レンズ系の許容視野の一部における前記光源の空中拡大像を検出する狭範囲計測部と、
を備えている、光源位置調整装置。 - 前記第2の光路設定手段は、前記拡大レンズ系から出射した光束を分岐し、この分岐光束を前記広範囲計測用の光路及び前記狭範囲計測用の光路にそれぞれ進行させるものである、請求項3記載の光源位置調整装置。
- 前記第2の光路設定手段は、前記拡大レンズ系から出射した光束を受光し、その光束の出射光路を前記広範囲計測用の光路及び前記狭範囲計測用の光路の間で相互に切り替えるものであり、
前記制御手段は、この光路切り替えタイミングを制御して前記軸ずれ角度及び変位量を求める、請求項3記載の光源位置調整装置。
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