JP3533159B2 - 半導体装置及びその製造方法 - Google Patents

半導体装置及びその製造方法

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置に関す
るものであり、特に、半導体チップを放熱板に接合し、
樹脂にて封止されてなる半導体装置(放熱板を備えた樹
脂封止パッケージ(プラスチックパッケージ))に関す
る。
【0002】
【従来の技術】一般に、大電力用トランジスタなどでは
発熱量が多いため、放熱性を高める目的で銅などからな
る放熱板を使用する。半導体チップを放熱板に接合し、
樹脂にて封止されてなる半導体装置、すなわち、放熱板
を備えた樹脂封止パッケージ(プラスチックパッケー
ジ)は、例えば図11に示すような構造を有する。図1
1は従来の一例の放熱板を備えた樹脂封止パッケージの
部的に切り開いて描いた斜視図である。
【0003】図11に示す半導体装置10は、放熱板を
備えた樹脂封止パッケージであり、半導体チップ1と、
放熱板2と、リード3と、封止樹脂5とを備えて構成さ
れる。放熱板2は、銅などからなる金属板に銀等のメッ
キを施したものである。リード3は専らリードフレーム
によって形成されるものである。封止樹脂5はエポキシ
樹脂等の熱硬化性樹脂である。半導体チップ1は大電力
用トランジスタであるとする。半導体装置10は、概ね
次のようにして作製される。半導体チップ1を放熱板2
に搭載、接合するとともにその接合面側に設けられた半
導体チップ1の電極(図示せず)と放熱板2とを電気的
に接続する。また、半導体チップ1の上面に設けられた
電極6と、リード3のインナーリード部3aとをボンデ
ィングワイヤ7により接続する。その後、これらを金型
に収め、放熱板2の半導体チップ1が搭載された領域及
びその周辺を金型のキャビティ(空洞)内に収め、そこ
に封止樹脂5を充填してモールド成型する。したがっ
て、半導体装置10は、そのパッケージ内部には封止樹
脂5が充填されており、半導体チップ1、ボンディング
ワイヤ7及びインナーリード部3aが封止樹脂5と密着
して封止樹脂5により被覆される構造を有する。リード
3のアウターリード部3bはパッケージ外部に突出し外
部端子を形成する。なお、放熱板2には、半導体装置の
実装時にアルミシャーシ等に半導体装置10を固定する
ためのネジ孔4が設けられる場合がある。
【0004】次に、従来のセラミックパッケージにつき
図12を参照して説明する。図12は従来の一例の放熱
板を備えたセラミックパッケージの部部的に切り開いて
描いた斜視図である。
【0005】図12に示す半導体装置11は、放熱板を
備えたセラミックパッケージであり、半導体チップ1
と、放熱板2と、リード3と、セラミック枠8と、セラ
ミックキャップ9とを備える。図12に示すように、放
熱板2の一主面上の中央にセラミック枠8がろう付けさ
れる。セラミック枠8の上端には、相対する辺に2つの
リード3がろう付けされる。リード3の一端(インナー
リード部3a)がセラミック枠8の内側に他端(アウタ
ーリード部3b)がセラミック枠8の外側に突出するよ
うにリード3はセラミック枠8にろう付けされる。セラ
ミック枠8に包囲される放熱板2の領域上に半導体チッ
プ1が搭載、接合されるとともに、その接合面側に設け
られた半導体チップ1の電極(図示せず)と放熱板2と
が電気的に接続される。半導体チップ1の上面の電極6
と、リード3のインナーリード部3aとがボンディング
ワイヤ7により接続される。セラミック枠8の上端に
は、セラミックキャップ9が固着され、半導体チップ
1、ボンディングワイヤ7及びインナーリード3aが気
密封止される。すなわち、放熱板2、セラミック枠8及
びセラミックキャップ9により形成された中空構造の内
部に半導体チップ1、ボンディングワイヤ7及びインナ
ーリード3aは気密封止される。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の放熱板
を備えた樹脂封止パッケージにおいては次のような問題
があった。
【0007】放熱板を備えた樹脂封止パッケージは、ア
ナログアンプ等に使用されるパワーMOSFET等の発
熱量の多い半導体素子に使用される。半導体素子の高出
力動作時の発熱によってチップ表面の温度が上昇し、チ
ップ表面に密着している封止樹脂が変質したり、剥離し
たりする場合がある。その場合、半導体装置の特性が変
化し信頼性低下の問題が生じる。また、封止樹脂が半導
体チップ表面及びボンディングワイヤが封止樹脂で覆わ
れているため、封止樹脂を誘電層とした寄生容量が発生
する。この寄生容量の干渉によって、例えば1GHz以
上の高周波帯における特性が低下することがあった。し
たがって、マイクロ波用途では、高周波特性悪化の問題
が生じる。
【0008】セラミックパッケージを用いる場合には、
以上のような問題点はないが、以下に述べるように、樹
脂封止パッケージ固有の利益を受けることができない。
沿革的には、大電力用トランジスタには信頼性の面から
メタルパッケージ、セラミックパッケージが使用されて
きが、大電力用トランジスタに対して信頼性の十分なパ
ッケージを、低コストで生産性の高いモールド樹脂によ
る樹脂封止パッケージ(プラスチックパッケージ)によ
って実現することが望まれる。確かに、セラミックパッ
ケージによれば、樹脂封止パッケージに比較して高信頼
性、高性能を実現できる。しかし、セラミックパッケー
ジは樹脂封止パッケージに比較して材料を含む製造コス
トが高い。セラミック材料は樹脂材料に比較して熱膨張
係数の調整又は選択の幅が狭い。そのため、半導体装置
を構成する他の部材(金属、半導体等)の材料選択の余
地を狭める、すなわち、熱膨張係数の整合による信頼性
向上を図りがたい。また、セラミック材料に熱膨張係数
が整合した材料は、タングステン銅、モリブデン銅など
高価な材料が該当する傾向にあり、材料選択の幅が狭い
分、安価な材料を選択できない。その点でも材料費がか
さむ。樹脂封止パッケージが現在の主流となる中、セラ
ミックパッケージ技術及びその設備をもつメーカが、樹
脂モールド技術及びその設備をもつメーカに比較して少
なく、専門化されている。したがって、従来、セラミッ
クパッケージとされていた半導体装置について樹脂封止
パッケージで代替えできれば、大規模に低コスト化が期
待できる。大電力用トランジスタ等の樹脂封止パッケー
ジが苦手としていた用途にも樹脂封止パッケージの適用
の幅を広げ、低コストで生産性の高い樹脂モールドパッ
ケージ技術により、大電力用トランジスタ等の信頼性の
求められる半導体装置を安価に提供することが望まれ
る。
【0009】本発明は以上の従来技術における問題に鑑
みてなされたものであって、放熱板を備えた樹脂封止パ
ッケージの信頼性、性能向上を図ることを課題とする。
また、それにより大電力用トランジスタに樹脂封止パッ
ケージを適用し、安価に提供することを課題とする。具
体的には、高出力動作時の信頼性を向上することを課題
とする。また、高周波動作時の特性を向上することを課
題とする。さらに、樹脂部材と放熱板との密着性を向上
することを課題とする。また、樹脂部材とリードとの密
着性を向上することを課題とする。また、気密性、耐湿
性の向上、特に、リード−樹脂界面からの水分、フラッ
クス、溶融半田、腐食性ガス等の侵入を防止することを
課題とする。さらに、リードフレームの切断時や半導体
装置の実装時にアウターリードから樹脂パッケージ本体
へ伝搬する応力を緩和し、リードと樹脂部材との接合力
を維持することを課題とする。さらに、外装メッキによ
って半導体装置の外装の耐食性を維持しつつメッキに要
するコストを低減することを課題とする。また、パッケ
ージング時の組立の容易化、組立精度の向上を図ること
を課題とする。また、樹脂部材の温度変化による反りを
低減することを課題とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決する本出
願第1の発明は、放熱板と、前記放熱板上に接合する半
導体チップと、前記放熱板に下端を接合し前記半導体チ
ップを包囲する樹脂周壁と、前記樹脂周壁を貫通して前
記樹脂周壁に保持され、前記半導体チップと外部との電
気的導通をとる導電部材と、前記樹脂周壁の上端に接合
する樹脂蓋とを備え、前記放熱板、樹脂周壁及び樹脂蓋
によって閉鎖された空間に前記半導体チップが封止され
ており、前記導電部材の前記樹脂周壁の外側位置に第一
の孔部が設けられ、前記導電部材の前記樹脂周壁を貫通
する範囲に第二の孔部又は切欠部が設けられており、前
記導電部材上を前記樹脂周壁の外側から前記樹脂周壁方
向に見て、前記第一の孔部が、前記第二の孔部又は切欠
部の間隔領域に重なるように配設されてなることを特徴
とする半導体装置である。
【0011】したがって本出願第1の発明の半導体装置
によれば、以下のような利点がある。半導体チップを樹
脂部材と非接触で(隔絶して)、中空構造の中に封止す
ることができるため、半導体素子の高出力動作時の発熱
によってチップ表面の温度が上昇しても、樹脂部材に変
質等を来すことなく半導体装置の特性を維持できるの
で、高出力動作時の信頼性が向上するという利点があ
る。また、半導体チップと、前記導電部材(リード)と
の接続にボンディングワイヤを使用した場合にも、その
ボンディングワイヤを樹脂部材と非接触で(隔絶し
て)、中空構造の中に封止することができる。そのた
め、樹脂を誘電層とした寄生容量が発生することがな
く、高周波特性が向上するという利点がある。また、導
電部材の樹脂周壁の外側位置に孔部が設けられているの
で、かかる孔部の設けられた部位の前記導電部材の剛性
が低下し、リードフレームの切断時や半導体装置の実装
時にアウターリードから樹脂パッケージ本体へ伝搬する
応力を緩和することができる。その結果、導電部材と樹
脂部材との接合力を維持するという利点がある。また、
樹脂と導電部材との接合界面へ、さらにはその接合界面
を通ってパッケージ内部へフラックスや溶融半田が侵入
する場合がある。しかし、導電部材の樹脂周壁の外側位
置に設けられる孔部によって、パッケージ外部の導電部
材上を伝わってくるフラックスや溶融半田のパッケージ
外面(樹脂周壁外面)への流れの全部又は一部を堰き止
めることができる。すなわち、上記孔部が無い場合に比
較して、パッケージ外部の導電部材上を流動するフラッ
クスや溶融半田が導電部材と樹脂周壁との接合部分へ到
達することを低減することができるという利点があり、
その結果、樹脂と導電部材との接合界面へ、さらにはそ
の接合界面を通ってパッケージ内部へフラックスや溶融
半田が侵入することを低減するという利点がある。ま
た、樹脂周壁を構成する樹脂の一部が導電部材に設けら
れた第二の孔部又は切欠部に充填されて硬化するので、
そのアンカー効果により導電部材の抜けが防止され、樹
脂周壁と導電部材との密着強度、接合強度が向上すると
いう利点がある。また、上記第二の孔部又は切欠部が無
い場合に比較して、樹脂と導電部材との接合界面が減少
し、パッケージ外部から内部への水分、フラックス、溶
融半田、腐食性ガス等の侵入経路を狭め、又は長くする
ことができるため、樹脂と導電部材との接合界面へ、さ
らにはその接合界面を通ってパッケージ内部へ水分、フ
ラックス、溶融半田、腐食性ガス等が侵入することを低
減することができるという利点がある。さらに、パッケ
ージ外部から内部へのフラックスや溶融半田の侵入経路
をより狭め、又はより長くすることができる。パッケー
ジ外部の導電部材上を伝わってくるフラックスや溶融半
田の液体のパッケージ外面(樹脂周壁外面)への流れは
第一の孔部によって堰き止めることができ、フラックス
や溶融半田の一部が第一の孔部の間隔領域へ流動しパッ
ケージ外面(樹脂周壁外面)へ到達しても、そのフラッ
クスや溶融半田がさらに樹脂と導電部材との接合界面
へ、さらにはその接合界面を通ってパッケージ内部へ侵
入することは、第二の孔部又は切欠部によってを阻止す
ることができるという利点がある。
【0012】また本出願第2の発明は、本出願第1の発
明の半導体装置において、前記放熱板に設けられる凸部
又は凹部に前記樹脂周壁が嵌合してなることを特徴とす
る。
【0013】したがって本出願第2の発明の半導体装置
によれば、放熱板に設けられる凸部、又は凹部に前記樹
脂周壁が嵌合してなるので、放熱板と樹脂との接着面積
が拡大し、放熱板と樹脂周壁との密着性、ひいては、パ
ッケージの気密性が向上するという利点がある。凸部及
び凹部を組み合わせた構造も有効である。例えば、次の
本出願第3の発明が有効である。
【0014】本出願第3の発明は、本出願第1の発明の
半導体装置において、前記放熱板の相対する側部に凹部
が設けられ、その凹部の内面に凸部が突設され、前記樹
脂周壁の下端部が前記凹部に埋設されてなることを特徴
とする。
【0015】
【0016】
【0017】
【0018】
【0019】
【0020】
【0021】また本出願第4の発明は、本出願第1の発
明の半導体装置において、前記樹脂蓋に、前記樹脂周壁
の内周縁に嵌合する段差部が設けられてなることを特徴
とする。
【0022】したがって本出願第4の発明の半導体装置
によれば、容易に精度良く樹脂蓋を樹脂周壁に被せるこ
とができるという利点がある。
【0023】また本出願第5の発明は、本出願第4の発
の半導体装置において、前記樹脂蓋は、上下面対称の
形状を有することを特徴とする。
【0024】したがって本出願第5の発明の半導体装置
によれば、樹脂蓋の下面(パッケージ内側の面)に設け
られた樹脂周壁の内周縁に嵌合する段差部と面対称な段
差部が樹脂蓋の上面(パッケージ外側の面)に設けられ
る。そのため、樹脂蓋の面方向に垂直な断面は均等な形
状を有し、温度変化による樹脂蓋の反りが低減されると
いう利点がある。
【0025】また本出願第6の発明は、本出願第1の発
明の半導体装置において、前記樹脂周壁に包囲される前
記放熱板の表面上が銀メッキにより表面仕上げされ、前
記放熱板の他の表面であって前記樹脂周壁が接合する部
分を除く前記放熱板の表面上、並びに、前記導電部材の
インナーリード部及びアウターリード部が金メッキによ
り表面仕上げされてなることを特徴とする。
【0026】したがって本出願第6の発明の半導体装置
によれば、外装に施される金メッキにより、水分等から
下地金属や下地メッキが保護され、半導装置の外装の耐
食性が向上するという利点がある。また、樹脂周壁に包
囲される前記放熱板の表面上に金メッキによらず銀メッ
キにより表面仕上げされるので、メッキに要するコスト
を低減することができるという利点がある。さらに、導
電部材のインナーリード部及びアウターリード部が金メ
ッキにより表面仕上げされるので、耐マイグレーション
特性が向上するという利点がある。全体として、コスト
を低減しつつ信頼性を向上することができる。
【0027】また本出願第7の発明は、リードフレーム
により前記導電部材が構成され、前記リードフレームと
は別の金属板によって前記放熱板が構成され、前記リー
ドフレーム上に本出願第1の発明から本出願第6の発明
のうちいずれか一の発明の半導体装置が複数個組み立て
られてなる半導体装置である。
【0028】したがって本出願第7の発明の半導体装置
によれば、リードフレームとは別の金属板によって前記
放熱板が構成されるので、リードフレームを構成する金
属シートとは異なる厚みの金属板によって放熱板を構成
することができる。したがって、リードフレームを構成
する金属シートより厚い金属板によって放熱板を構成
し、放熱性を高めることができるという利点がある。さ
らに、複数個の半導体装置が同一リードフレーム上に組
み立てられるので、製造工程における搬送が容易にでき
るという利点がある。
【0029】また本出願第8の発明は、本出願第1の発
明から本出願第6の発明のうちいずれか一の発明の半導
体装置の製造に当たり、リードフレームにより前記導電
部材を形成し、前記リードフレーム及び前記放熱板を前
記樹脂周壁に相当するキャビティを備えた金型内に配置
し、前記放熱板の前記樹脂周壁の内側となる範囲を前記
金型の上型と下型によりクランプし、前記樹脂周壁をモ
ールド成型することを特徴とする半導体装置の製造方法
である。
【0030】したがって本出願第8の発明の半導体装置
の製造方法によれば、放熱板の樹脂周壁の内側となる範
囲を金型の上型と下型によりクランプするので、放熱板
をクランプ力で平坦化することができるという利点があ
る。樹脂周壁の外側となる範囲に放熱板の端部がはみ出
している場合には、かかる端部をも金型の上型と下型に
よりクランプする。しかし、本出願第8の発明の半導体
装置の製造方法によれば、樹脂周壁の外側となる範囲に
放熱板の端部がはみ出していない場合にも、放熱板を金
型内で保持することができるので、金型内での放熱板の
浮き上がり等の挙動を抑えることができ、放熱板をクラ
ンプ力で平坦化することができるという利点がある。
【0031】また本出願第9の発明は、本出願第1の発
明から本出願第6の発明のうちいずれか一の発明の半導
体装置の製造に当たり、リードフレームにより前記導電
部材を形成し、前記リードフレームとは別の金属板によ
って前記放熱板を形成し、前記リードフレーム及び前記
金属板を前記樹脂周壁に相当するキャビティを備えた金
型内に配置し、前記樹脂周壁をモールド成型し、型開き
し、その後に、前記放熱板及び前記導電部材にメッキす
るメッキ工程を備えることを特徴とする半導体装置の製
造方法である。
【0032】また本出願第10の発明は、本出願第9の
発明の半導体装置の製造方法において、前記メッキ工程
が、前記放熱板に銀メッキを電気メッキする工程と、前
記導電部材に金メッキを電気メッキする工程と、前記放
熱板の前記樹脂周壁の外側となる範囲に金メッキを電気
メッキする工程とからなることを特徴とする。
【0033】本出願第9の発明又は本出願第10の発明
の半導体装置の製造方法によれば、本出願第6の発明
半導体装置を有利に製造する方法である。使用されるリ
ードフレームとは別の金属板によって放熱板を形成する
ため、リードと放熱板とを電気的に隔絶した状態に構成
することができ、メッキ工程において、リードフレーム
と放熱板とを特にマスクを使用することなく別々に電気
メッキすることができるという利点がある。
【0034】
【発明の実施の形態】以下に本発明の一実施の形態の半
導体装置につき図面を参照して説明する。以下は本発明
の一実施形態であって本発明を限定するものではない。
【0035】実施の形態1 まず、本発明の実施の形態1の半導体装置12の構造に
つき、図1〜図6を参照して説明する。図1は本発明の
実施の形態1の半導体装置12の部部的に切り開いて描
いた斜視図である。
【0036】図1に示すように本実施形態の半導体装置
12は、放熱板を備えた樹脂封止パッケージであり、半
導体チップ1と、放熱板20と、リード30と、樹脂周
壁40と、樹脂蓋50とを備えて構成される。樹脂周壁
40及び樹脂蓋50はエポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂か
らなる。本実施形態において半導体チップ1は大電力用
トランジスタである。
【0037】放熱板20は、銅板にニッケルメッキ、銀
メッキ、金メッキを施したものである。但し、樹脂周壁
40が接合する部分はメッキされず、素材(銅板)に樹
脂が直接接着する。放熱板20のパッケージ外装部分
(樹脂周壁40の外側)の表面は、下地の銅板に対して
ニッケルメッキ、銀メッキの順で積層し、最表面に金メ
ッキが被着して表面仕上げされている。放熱板20のパ
ッケージ内装部分(樹脂周壁40の内側)の表面は、下
地の銅板にニッケルメッキが被着し、そのニッケルメッ
キ上に銀メッキ(最表面)が被着して表面仕上げされて
いる。放熱板20のパッケージ外側となる両端部にはネ
ジ孔4が穿設される。ネジ孔4は半導体装置12の実装
時にアルミシャーシ等のベース材に半導体装置12をネ
ジによって固定するためのものである。図2に放熱板2
0の斜視図を示す。図2に示すように、放熱板20は、
端部21と、中央部22と、端部23と、凸部24とを
有する。中央部22は板状の直方体形状を基本とする。
図上、左右方向を長さ、上下方向を幅、奥行き方向を厚
みとして説明する。端部21、23は、中央部22の長
さ方向の両端に一体的に連続して形成されている。端部
21,23の幅は、中央部22の幅より大きく、中央部
22の側面22aから幅方向の両側に張り出し、段付面
21a、23aを形成している。対向する段付面21a
と段付面23aと中央部22の側面22aとで、放熱板
20の相対する側部に凹部が形成される。その凹部の内
面となる側面22aに凸部24が3つずつ計6つ突設さ
れている。凸部24は幅方向に突出するが、その先端は
端部21及び23の幅方向の(幅方向に垂直な)端面よ
り突出することはなく、前記凹部内に収まっている。図
3に示すように、この凹部に樹脂周壁40の下端部が埋
設され、この凹部及び凸部24に樹脂周壁40が嵌合す
る。ここで、図3は本発明の実施の形態1の半導体装置
12の底面側から見た斜視図であり、部部的に切り開い
て描いたものである。端部21、23のほぼ中央にネジ
孔4が厚み方向に向けて穿設されている。
【0038】再び図1を参照する。リード30は銅から
なる薄板にニッケルメッキが被着し、そのニッケルメッ
キ上に金メッキ(最表面)が被着して表面仕上げされた
ものである。但し、樹脂周壁40に被覆される部分はメ
ッキされず、素材(銅板)に樹脂が直接接着する。リー
ド30には、樹脂周壁40の外側位置に第一の孔部31
が設けられている。図4にリードフレーム39の平面図
を示す。本実施形態においてはリード30はリードフレ
ーム39によって形成される。リードフレーム39は銅
からなる金属シートにリード30のパターンが連結され
たものである。図4に示すようにリード30には、第一
の孔部31と第二の孔部32と切欠部33が加工されて
いる。
【0039】図5に樹脂蓋50の平面図(a)、側面図
(b)、正面図(c)を示す。図5(b)及び(c)か
らわかるように樹脂蓋50は、上下面対称の形状を有す
る。ベース部51の上下両面に凸部52が形成されてい
る。上下両面の凸部52の周囲に、樹脂周壁40の内周
縁に嵌合する段差部53が形成されている。すなわち、
凸部52の外周と樹脂周壁40の内周は寸法、形状とも
にほぼ一致しており、互いに嵌り合う。ベース部51の
外周は樹脂周壁40の外周に対応する寸法、形状を有す
る。
【0040】次に図6を参照して説明する。図6(a)
は、半導体装置12の樹脂蓋50を取り除いた状態の平
面図である。図6(b)は図6(a)におけるA−A線
断面図であり、樹脂蓋50を描いている。図6(c)は
図6(a)におけるB−B線断面図であり、樹脂蓋50
を描いている。
【0041】図6に示すように、放熱板20の中央に半
導体チップ1が接合する。樹脂周壁40は、半導体チッ
プ1を包囲し、その下端を放熱板20に接合する。リー
ド30は樹脂周壁40を貫通して樹脂周壁40に保持
(狭持)される。リード30の第二の孔部32及び切欠
部33は、リード30の樹脂周壁40を貫通する範囲に
設けられている。すなわち、第二の孔部32及び切欠部
33は樹脂周壁40内に埋没している。樹脂周壁40の
構成する樹脂の一部は第二の孔部32及び切欠部33内
に充填されて硬化している。リード30のアウターリー
ド部30bは、樹脂周壁40の外側に樹脂周壁40の外
壁面から突出している。リード30のインナーリード部
30aは、樹脂周壁40の内側で樹脂周壁40の内壁面
及び放熱板20と平行な方向に拡張し、アウターリード
部30bよりも幅広に形成されボンディング領域を確保
している。インナーリード部30aは樹脂周壁40の一
部として形成された台座部41に搭載される態様で支持
される。これによりインナーリード部30aの支持強度
が向上する。インナーリード部30aと半導体チップ1
の電極6とはボンディングワイヤ7によって連結され、
電気的接続が成されている。
【0042】樹脂周壁40の上端には樹脂蓋50が接合
する。樹脂蓋50の凸部が樹脂周壁40内に落ち込み、
樹脂周壁40と樹脂蓋50は嵌り合う。樹脂周壁40と
樹脂蓋50とは樹脂系接着剤によって接合される。全体
として、放熱板20、樹脂周壁40及び樹脂蓋50によ
って閉鎖された空間(パッケージ内)に半導体チップ
1、ボンディングワイヤ7及びインナーリード部30a
が封止される。図6(b)(c)に示すように、半導体
チップ1及びボンディングワイヤ7は樹脂とは接触せず
に、放熱板20、樹脂周壁40及び樹脂蓋50により形
成された中空構造の内部に設置される。
【0043】次に、本実施形態の半導体装置12の製造
方法につき説明する。半導体装置12は、次のようにし
て製造される。まず、図7を参照する。図7(a)は図
6(a)におけるA−A線断面に相当するモールド成型
金型の断面図である。図7(b)は図6(b)における
B−B線断面に相当するモールド成型金型の断面図であ
る。
【0044】図7に示すような上型61及び下型62か
らなるモールド成型金型を使用する。上型61と下型6
2とで、樹脂周壁40に相当するキャビティ63を形成
する。図7に示すように、下型62の所定位置に放熱板
20及びリードフレーム39を搭載する。その後、上型
61を重ね合わせ型閉めする。この時、放熱板20及び
リードフレームは上型61と下型62とでクランプされ
る。放熱板20は樹脂周壁形成位置の外側のみならず、
内側もクランプされる。これにより放熱板20の平坦化
が図られる。型閉め後、溶融した樹脂を射出しキャビテ
ィ63内に充填する。この時、リード30の第二の孔部
32及び図示しない切欠部33にも樹脂が充填される。
その後、樹脂を硬化させ、型開きし、成型物を取り出
す。すると図8に示すような、リードフレーム39、放
熱板20及び樹脂周壁40からなる構造物が取り出され
る。
【0045】次にメッキ工程を施す。図9を参照する。
図9はメッキが積層されていく様子を示したメッキ工程
フロー図である。まず、図9(a)にハッチを掛けて示
すようにリード30を含むリードフレーム39及び放熱
板20の露出した面にニッケルメッキを施す。次に、図
9(b)にハッチを掛けて示すように電気メッキ法によ
って放熱板20のニッケルメッキ上に銀メッキを施す。
具体的には、銀イオンを含む溶液中に放熱板20を浸漬
し、放熱板20を陰極として放熱板20のニッケルメッ
キ表面に銀皮膜を電解析出させる。次に、図9(c)に
ハッチを掛けて示すように電気メッキ法によってリード
30を含むリードフレーム39のニッケルメッキ上に金
メッキを施す。具体的には、金イオンを含む溶液中にリ
ード30を浸漬し、リード30を陰極としてリード30
のニッケルメッキ表面に金皮膜を電解析出させる。次
に、図9(d)にハッチを掛けて示すように電気メッキ
法によって放熱板20の樹脂周壁40の外側となる範囲
(パッケージ外装となる範囲)に金メッキを施す。した
がって、銀メッキ上に金メッキが施される。具体的に
は、樹脂周壁40の内側(パッケージ内となる範囲)に
フォトレジスト等でマスクを掛け、金イオンを含む溶液
中に放熱板20を浸漬し、放熱板20を陰極として放熱
板20の銀メッキ表面に金皮膜を電解析出させる。
【0046】次に、半導体チップ1をボンディングす
る。具体的には、半導体チップ1を樹脂周壁40に包囲
される放熱板20の銀メッキ仕上げされた表面上に導電
性のダイボンド材を介して搭載、接合するとともにその
接合面側に設けられた半導体チップ1の電極(図示せ
ず)と放熱板20とを電気的に接続する。次に、半導体
チップ1の上面に設けられた電極6と、リード30のイ
ンナーリード部30aとをボンディングワイヤ7により
接続する。その後、樹脂周壁40の上端に接着剤を塗布
し、樹脂蓋50を被せ、接合する。 これによりリード
フレーム39上に半導体装置12が連続して複数個組み
立てられてた状態となる。さらに、リードフレーム39
を切断する。以上の工程により、図1に示すような半導
体装置12が得られる。
【0047】半導体装置12を実装する際には、アウタ
ーリード部30bの端部に溶融半田やフラックスが付着
する。それらの液体が樹脂周壁40の外壁面へ向かって
リード20上を流動する場合があっても、その流れの全
部又は一部は第一の穴部31によって堰き止められる。
一部の液体が樹脂周壁40の外壁面に到達する場合で
も、第二の孔部及び切欠部33が設けられていることに
よって、樹脂周壁40とリード30との接合界面へ、さ
らにはその接合界面を通ってパッケージ内部へフラック
スや溶融半田が侵入することは低減される。
【0048】実施の形態2 次ぎに本発明の実施の形態2の半導体装置につき図10
を参照して説明する。図10は本発明の実施の形態2に
おけるリードフレームを示す平面図である。
【0049】本実施形態の半導体装置は、上記実施の形
態1の半導体装置12のリード30に代えて、リード7
0を使用するものである。リード70は、リード30と
比較して第一の孔部71が異なる。リード70上を樹脂
周壁40の外側から樹脂周壁40方向(図中の矢印C)
に見て、第一の孔部71が、一の第二の孔部72とそれ
に隣接する他の第二の孔部72との間隔領域及び第二の
孔部72と切欠部73と間隔領域に重なるように配設さ
れている。このような構造とすることにより、パッケー
ジ外部のリード70上を伝わってくるフラックス、溶融
半田等の液体の樹脂周壁40の外壁面への流れは第一の
孔部によって堰き止めることができ、フラックスや溶融
半田の一部が第一の孔部の間隔領域へ流動し樹脂周壁4
0の外壁面へ到達しても、そのフラックスや溶融半田が
さらに樹脂とリード70との接合界面へ、さらにはその
接合界面を通ってパッケージ内部へ侵入することは、第
二の孔部72又は切欠部73によって阻止することがで
きる。
【0050】
【発明の効果】上述のように本発明は、放熱板と樹脂周
壁と樹脂蓋とから中空パッケージを構成し、さらに、上
述のように放熱板やリード、樹脂蓋の形状、メッキ方法
等を工夫したことにより、高出力動作時の信頼性向上、
高周波動作時の特性向上、樹脂周壁と放熱板との密着性
の向上、樹脂周壁とリードとの密着性の向上、耐湿性の
向上、特に、リード−樹脂界面からの水分、フラック
ス、溶融半田、腐食性ガス等の侵入の防止、リードフレ
ームの切断時や半導体装置の実装時にアウターリードか
ら樹脂パッケージ本体へ伝搬する応力の緩和、外装メッ
キによって半導体装置の外装の耐食性を維持しつつメッ
キに要するコストを低減、パッケージング時の組立の容
易化、組立精度の向上、樹脂蓋の温度変化による反りの
低減などの効果があり、本発明により放熱板を備えた樹
脂封止パッケージの信頼性向上、性能向上が図られた。
本発明により大電力用トランジスタ等に樹脂封止パッケ
ージを適用し、安価に提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の実施の形態1の半導体装置12の部
部的に切り開いて描いた斜視図である。
【図2】 本発明の実施の形態1の半導体装置12を構
成する放熱板20の斜視図である。
【図3】 本発明の実施の形態1の半導体装置12の底
面側から見た斜視図であり、部部的に切り開いて描いた
ものである。
【図4】 本発明の実施の形態1の半導体装置12の製
造に用いられるリードフレーム39の平面図である。
【図5】 本発明の実施の形態1の半導体装置12を構
成する樹脂蓋50の平面図(a)、側面図(b)、正面
図(c)である。
【図6】 図6(a)は本発明の実施の形態1の半導体
装置12の樹脂蓋50を取り除いた状態の平面図であ
る。図6(b)は図6(a)におけるA−A線断面図で
あり、樹脂蓋50を描いている。図6(c)は図6
(a)におけるB−B線断面図であり、樹脂蓋50を描
いている。
【図7】 図7(a)は図6(a)におけるA−A線断
面に相当するモールド成型金型の断面図である。図7
(b)は図6(b)におけるB−B線断面に相当するモ
ールド成型金型の断面図である。
【図8】 本発明の実施の形態1の半導体装置12の製
造途中である型抜き後の斜視図である。
【図9】 本発明の実施の形態1の半導体装置12の製
造におけるメッキが積層されていく様子を示したメッキ
工程フロー図である。
【図10】本発明の実施の形態2におけるリードフレー
ムを示す平面図である。
【図11】従来の一例の放熱板を備えた樹脂封止パッケ
ージの部部的に切り開いて描いた斜視図である。
【図12】従来の一例の放熱板を備えたセラミックパッ
ケージの部部的に切り開いて描いた斜視図である。
【符号の説明】
1…半導体チップ 2、20…放熱板 3、30、70…リード 4…ネジ孔 5…封止樹脂 6…電極 7…ボンディングワイヤ 8…セラミック枠 9…セラミックキャップ 10、11,12…半導体装置 24…凸部 31、71…第一の孔部 32、72…第二の孔部 33、73…切欠部 39…リードフレーム 40…樹脂周壁 50…樹脂蓋 61…モールド成型金型の上型 62…モールド成型金型の下型
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平7−45802(JP,A) 特開 昭56−23765(JP,A) 実開 昭50−133860(JP,U) 実開 昭63−124748(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 23/08 H01L 23/34

Claims (10)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 放熱板と、前記放熱板上に接合する半導
    体チップと、前記放熱板に下端を接合し前記半導体チッ
    プを包囲する樹脂周壁と、前記樹脂周壁を貫通して前記
    樹脂周壁に保持され、前記半導体チップと外部との電気
    的導通をとる導電部材と、前記樹脂周壁の上端に接合す
    る樹脂蓋とを備え、前記放熱板、樹脂周壁及び樹脂蓋に
    よって閉鎖された空間に前記半導体チップが封止されて
    おり、前記導電部材の前記樹脂周壁の外側位置に第一の
    孔部が設けられ、前記導電部材の前記樹脂周壁を貫通す
    る範囲に第二の孔部又は切欠部が設けられており、前記
    導電部材上を前記樹脂周壁の外側から前記樹脂周壁方向
    に見て、前記第一の孔部が、前記第二の孔部又は切欠部
    の間隔領域に重なるように配設されてなることを特徴と
    する半導体装置。
  2. 【請求項2】 前記放熱板に設けられる凸部又は凹部に
    前記樹脂周壁が嵌合してなることを特徴とする請求項1
    に記載の半導体装置。
  3. 【請求項3】 前記放熱板の相対する側部に凹部が設け
    られ、その凹部の内面に凸部が突設され、前記樹脂周壁
    の下端部が前記凹部に埋設されてなることを特徴とする
    請求項1に記載の半導体装置。
  4. 【請求項4】 前記樹脂蓋に、前記樹脂周壁の内周縁に
    嵌合する段差部が設けられてなることを特徴とする請求
    項1に記載の半導体装置。
  5. 【請求項5】 前記樹脂蓋は、上下面対称の形状を有す
    ることを特徴とする請求項4に記載の半導体装置。
  6. 【請求項6】 前記樹脂周壁に包囲される前記放熱板の
    表面上が銀メッキにより表面仕上げされ、前記放熱板の
    他の表面であって前記樹脂周壁が接合する部分を除く前
    記放熱板の表面上、並びに、前記導電部材のインナーリ
    ード部及びアウターリード部が金メッキにより表面仕上
    げされてなることを特徴とする請求項1に記載の半導体
    装置。
  7. 【請求項7】 リードフレームにより前記導電部材が構
    成され、前記リードフレームとは別の金属板によって前
    記放熱板が構成され、前記リードフレーム上に請求項1
    から請求項6のうちいずれか一に記載の半導体装置が複
    数個組み立てられてなる半導体装置。
  8. 【請求項8】 請求項1から請求項6のうちいずれか一
    に記載の半導体装置の製造に当たり、リードフレームに
    より前記導電部材を形成し、前記リードフレーム及び前
    記放熱板を前記樹脂周壁に相当するキャビティを備えた
    金型内に配置し、前記放熱板の前記樹脂周壁の内側とな
    る範囲を前記金型の上型と下型によりクランプし、前記
    樹脂周壁をモールド成型することを特徴とする半導体装
    置の製造方法。
  9. 【請求項9】 請求項1から請求項6のうちいずれか一
    に記載の半導体装置の製造に当たり、リードフレームに
    より前記導電部材を形成し、前記リードフレームとは別
    の金属板によって前記放熱板を形成し、前記リードフレ
    ーム及び前記金属板を前記樹脂周壁に相当するキャビテ
    ィを備えた金型内に配置し、前記樹脂周壁をモールド成
    型し、型開きし、その後に、前記放熱板及び前記導電部
    材にメッキするメッキ工程を備えることを特徴とする半
    導体装置の製造方法。
  10. 【請求項10】 前記メッキ工程が、前記放熱板に銀メ
    ッキを電気メッキする工程と、前記導電部材に金メッキ
    を電気メッキする工程と、前記放熱板の前記樹脂周壁の
    外側となる範囲に金メッキを電気メッキする工程とから
    なることを特徴とする請求項9に記載の半導体装置の製
    造方法。
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