JP3287646B2 - 真空処理装置 - Google Patents
真空処理装置Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、真空処理装置に関す
る。
る。
【０００２】
【従来の技術】半導体製造装置では、通常ウエハカセッ
ト（あるいはウエハキャリア）などと呼ばれる容器内に
半導体ウエハ（以下ウエハという）を例えば２５枚収納
して各処理ステーションに搬送され、各処理ステーショ
ンでは搬出入ポートに置かれたウエハカセットからウエ
ハが順次取り出されて処理領域に搬入される。
ト（あるいはウエハキャリア）などと呼ばれる容器内に
半導体ウエハ（以下ウエハという）を例えば２５枚収納
して各処理ステーションに搬送され、各処理ステーショ
ンでは搬出入ポートに置かれたウエハカセットからウエ
ハが順次取り出されて処理領域に搬入される。
【０００３】例えば真空処理装置ではウエハカセット内
のウエハは、位置合わせ装置や予備真空室などを介して
真空処理室内に搬入されるが、ウエハを移載する移載装
置としては、発塵が少なく、大きなストロークが得られ
るなどの理由から最近では多関節の搬送アームが多く用
いられるようになってきている。
のウエハは、位置合わせ装置や予備真空室などを介して
真空処理室内に搬入されるが、ウエハを移載する移載装
置としては、発塵が少なく、大きなストロークが得られ
るなどの理由から最近では多関節の搬送アームが多く用
いられるようになってきている。
【０００４】そしてこの移載アームの制御については、
通常いわゆるティーチングという操作が行われる。即ち
予めオペレータにより移載アームが所定の動作を行うよ
うに移載アームを操作して座標位置データよりなるティ
ーチングデータを作成し、以後このデータにもとづいて
移載アームを制御するようにしている。この場合移載ア
ームの駆動源である例えばサ−ボモータをクローズルー
プの中に入れてモータが正常か否かを監視し、モータの
異常時には移載アームを停止させてウエハの破損などを
防止するようにしている。
通常いわゆるティーチングという操作が行われる。即ち
予めオペレータにより移載アームが所定の動作を行うよ
うに移載アームを操作して座標位置データよりなるティ
ーチングデータを作成し、以後このデータにもとづいて
移載アームを制御するようにしている。この場合移載ア
ームの駆動源である例えばサ−ボモータをクローズルー
プの中に入れてモータが正常か否かを監視し、モータの
異常時には移載アームを停止させてウエハの破損などを
防止するようにしている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところで移載アームを
交換する場合、新たな移載アームはもとの移載アームに
対してアセンブリがわずかながら異なるため、もとのテ
ィーチングデータを使用することができない。このため
移載アームの交換時などには再度ティーチングを行わな
ければならず、その作業が面倒であるという問題があっ
た。
交換する場合、新たな移載アームはもとの移載アームに
対してアセンブリがわずかながら異なるため、もとのテ
ィーチングデータを使用することができない。このため
移載アームの交換時などには再度ティーチングを行わな
ければならず、その作業が面倒であるという問題があっ
た。
【０００６】また移載アームの移載動作中にベルトの緩
みなどが起こって移載アームの取り付け位置が微小に変
わった場合、移載アームの機構部分は制御部のクローズ
ループの外にあるので移載アームの機構の変化を検出す
ることができず、ウエハの移載を失敗してウエハの落下
などが起こることがあった。
みなどが起こって移載アームの取り付け位置が微小に変
わった場合、移載アームの機構部分は制御部のクローズ
ループの外にあるので移載アームの機構の変化を検出す
ることができず、ウエハの移載を失敗してウエハの落下
などが起こることがあった。
【０００７】本発明は、このような事情のもとになされ
たものであり、その目的は移載動作中に移載アームの位
置ずれなどのトラブルが起った場合に、一早く対処する
ことのできる真空処理装置を提供することにある。
たものであり、その目的は移載動作中に移載アームの位
置ずれなどのトラブルが起った場合に、一早く対処する
ことのできる真空処理装置を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】請求項１の発明にかかる
真空処理装置は、複数の基板を収納するカセットを置く
ためのカセット室と、このカセット室に気密に接続さ
れ、移載アームが配置された移載室と、この移載室に各
々接続され、基板に対して真空処理を行う複数の真空処
理室と、を備え、移載アームは、複数のアーム及びこれ
らアーム間に設けられたベルト機構を有し、カセット室
と真空処理室との間で基板を保持して移載する真空処理
装置において前記移載アームの可動範囲内に設定された
基準位置と、前記移載アームに形成された光透過部また
は光反射部をなすスポット領域と、前記移載アームが所
定の動作を行うようにまた前記スポット領域が移動途上
で前記基準位置を通過するように予め移載アームを操作
し、これにより得られた移載アームの位置デ−タよりな
るティ−チングデ−タを格納する記憶部と、前記基準位
置を通るように光を照射し、前記移載アームのスポット
領域がその光路上にあるか否かを検出する検出部と、前
記記憶部に格納されたティ−チングデ−タに基づいて前
記移載アームの動作を制御すると共に、前記検出部の検
出信号を監視し、ティ−チングデ−タにおける位置座標
が基準位置に対応する座標となるときのタイミングにお
いてスポット領域がその光路上にあるときには移載アー
ムの動作が正常と判定し、スポット領域がその光路上に
ないときには移載アームの動作が異常と判定する制御部
と、を備えてなることを特徴とする。また他の発明は、
複数の基板を収納するカセットを置くためのカセット室
と、このカセット室に気密に接続され、移載アームが配
置された第１の移載室と、この第１の移載室に気密に接
続された予備真空室と、この予備真空室に気密に接続さ
れ、移載アームが配置された第２の移載室と、この第２
の移載室に各々接続され、基板に対して真空処理を行う
複数の真空処理室と、を備え、第１の移載アームは、複
数のアーム及びこれらアームを駆動するベルト機構を有
すると共にカセット室と予備真空室との間で基板を保持
して移載し、第２の移載アームは、複数のアーム及びこ
れらアーム間に設けられたベルト機構を有すると共に予
備真空室と真空処理室との間で基板を保持して移載する
真空処理装置において、前記移載アームの可動範囲内に
設定された基準位置と、前記移載アームに形成された光
透過部または光反射部をなすスポット領域と、前記移載
アームが所定の動作を行うようにまた前記スポット領域
が移動途上で前記基準位置を通過するように予め移載ア
ームを操作し、これにより得られた移載アームの位置デ
−タよりなるティ−チングデ−タを格納する記憶部と、
前記基準位置を通るように光を照射し、前記移載アーム
のスポット領域がその光路上にあるか否かを検出する検
出部と、前記記憶部に格納されたティ−チングデ−タに
基づいて前記移載アームの動作を制御すると共に、前記
検出部の検出信号を監視し、ティ−チングデ−タにおけ
る位置座標が基準位置に対応する座標となるときのタイ
ミングにおいてスポット領域がその光路上にあるときに
は移載アームの動作が正常と判定し、スポット領域がそ
の光路上にないときには移載アームの動作が異常と判定
する制御部と、を備えてなることを特徴とする。これら
の発明において、移載アームは例えば３本のアームを備
えた構成である。
真空処理装置は、複数の基板を収納するカセットを置く
ためのカセット室と、このカセット室に気密に接続さ
れ、移載アームが配置された移載室と、この移載室に各
々接続され、基板に対して真空処理を行う複数の真空処
理室と、を備え、移載アームは、複数のアーム及びこれ
らアーム間に設けられたベルト機構を有し、カセット室
と真空処理室との間で基板を保持して移載する真空処理
装置において前記移載アームの可動範囲内に設定された
基準位置と、前記移載アームに形成された光透過部また
は光反射部をなすスポット領域と、前記移載アームが所
定の動作を行うようにまた前記スポット領域が移動途上
で前記基準位置を通過するように予め移載アームを操作
し、これにより得られた移載アームの位置デ−タよりな
るティ−チングデ−タを格納する記憶部と、前記基準位
置を通るように光を照射し、前記移載アームのスポット
領域がその光路上にあるか否かを検出する検出部と、前
記記憶部に格納されたティ−チングデ−タに基づいて前
記移載アームの動作を制御すると共に、前記検出部の検
出信号を監視し、ティ−チングデ−タにおける位置座標
が基準位置に対応する座標となるときのタイミングにお
いてスポット領域がその光路上にあるときには移載アー
ムの動作が正常と判定し、スポット領域がその光路上に
ないときには移載アームの動作が異常と判定する制御部
と、を備えてなることを特徴とする。また他の発明は、
複数の基板を収納するカセットを置くためのカセット室
と、このカセット室に気密に接続され、移載アームが配
置された第１の移載室と、この第１の移載室に気密に接
続された予備真空室と、この予備真空室に気密に接続さ
れ、移載アームが配置された第２の移載室と、この第２
の移載室に各々接続され、基板に対して真空処理を行う
複数の真空処理室と、を備え、第１の移載アームは、複
数のアーム及びこれらアームを駆動するベルト機構を有
すると共にカセット室と予備真空室との間で基板を保持
して移載し、第２の移載アームは、複数のアーム及びこ
れらアーム間に設けられたベルト機構を有すると共に予
備真空室と真空処理室との間で基板を保持して移載する
真空処理装置において、前記移載アームの可動範囲内に
設定された基準位置と、前記移載アームに形成された光
透過部または光反射部をなすスポット領域と、前記移載
アームが所定の動作を行うようにまた前記スポット領域
が移動途上で前記基準位置を通過するように予め移載ア
ームを操作し、これにより得られた移載アームの位置デ
−タよりなるティ−チングデ−タを格納する記憶部と、
前記基準位置を通るように光を照射し、前記移載アーム
のスポット領域がその光路上にあるか否かを検出する検
出部と、前記記憶部に格納されたティ−チングデ−タに
基づいて前記移載アームの動作を制御すると共に、前記
検出部の検出信号を監視し、ティ−チングデ−タにおけ
る位置座標が基準位置に対応する座標となるときのタイ
ミングにおいてスポット領域がその光路上にあるときに
は移載アームの動作が正常と判定し、スポット領域がそ
の光路上にないときには移載アームの動作が異常と判定
する制御部と、を備えてなることを特徴とする。これら
の発明において、移載アームは例えば３本のアームを備
えた構成である。
【０００９】本発明において、例えば移載アームの位置
デ−タは前記基準位置を基準とするものであり、その場
合制御部は、検出部により移載ア−ムのスポット領域が
基準位置に位置していることを検出した後、当該移載ア
ームに対して前記ティ−チングデ−タに基づいて制御す
る。
デ−タは前記基準位置を基準とするものであり、その場
合制御部は、検出部により移載ア−ムのスポット領域が
基準位置に位置していることを検出した後、当該移載ア
ームに対して前記ティ−チングデ−タに基づいて制御す
る。
【００１０】
【作用】本発明では、移載アームを例えば所定のタイミ
ングでスポット領域が検出部の光路つまり基準位置を通
るように制御することにより、移載アームの機構にトラ
ブルが生じて移載アームが位置ずれした場合にはスポッ
ト領域が基準位置を通過しなくなるので、移載アームの
位置トラブルを一早く見つけることができる。
ングでスポット領域が検出部の光路つまり基準位置を通
るように制御することにより、移載アームの機構にトラ
ブルが生じて移載アームが位置ずれした場合にはスポッ
ト領域が基準位置を通過しなくなるので、移載アームの
位置トラブルを一早く見つけることができる。
【００１１】
【実施例】図１は、本発明の真空処理装置の実施例を示
す平面図である。真空処理装置の全体構成を簡単に述べ
ながら実施例について説明すると、図中１は第１の移載
室であり、この移載室１の両側には夫々ゲートバルブＧ
１、Ｇ２を介して第１のカセット室２Ａ及び第２のカセ
ット室２Ｂが接続されている。
す平面図である。真空処理装置の全体構成を簡単に述べ
ながら実施例について説明すると、図中１は第１の移載
室であり、この移載室１の両側には夫々ゲートバルブＧ
１、Ｇ２を介して第１のカセット室２Ａ及び第２のカセ
ット室２Ｂが接続されている。
【００１２】前記移載室１及びカセット室２Ａ、２Ｂは
気密構造に構成され、カセット室２Ａ、２Ｂには、外部
（作業室雰囲気）との間を開閉するように夫々ゲートド
アＧ３、Ｇ４が設けられている。
気密構造に構成され、カセット室２Ａ、２Ｂには、外部
（作業室雰囲気）との間を開閉するように夫々ゲートド
アＧ３、Ｇ４が設けられている。
【００１３】前記第１の移載室１内には例えば多関節の
移載アームを備えた第１の移載手段１１と、ウエハＷの
中心及びオリフラ（オリエンテーション）を位置合わせ
するための回転ステージ１２とが配設されている。前記
第１の移載手段１１は、前記第１及び第２のカセット室
２Ａ、２Ｂ内のカセット２１と前記回転ステージ１２と
後述の予備真空室との間でウエハを移載するためのもの
であり、ウエハを真空吸着する機構を備えている。
移載アームを備えた第１の移載手段１１と、ウエハＷの
中心及びオリフラ（オリエンテーション）を位置合わせ
するための回転ステージ１２とが配設されている。前記
第１の移載手段１１は、前記第１及び第２のカセット室
２Ａ、２Ｂ内のカセット２１と前記回転ステージ１２と
後述の予備真空室との間でウエハを移載するためのもの
であり、ウエハを真空吸着する機構を備えている。
【００１４】前記第１の移載室１の後方側には、夫々ゲ
ートバルブＧ５、Ｇ６を介して第１の予備真空室３Ａ及
び第２の予備真空室３Ｂが接続されており、更にこれら
予備真空室３Ａ、３Ｂの後方側にはゲートバルブＧ７、
Ｇ８を介して第２の移載室４が接続されている。第１及
び第２の予備真空室３Ａ、３Ｂは同一構造に構成されて
おり、図示していないが例えば上下に夫々加熱手段及び
冷却手段を備えると共に、例えば上下に夫々ウエハＷを
載置することができる昇降自在な２段の載置具を備えて
いる。前記第２の移載室４には、夫々ゲートバルブＧ９
〜Ｇ１１を介して三方に３つの真空処理室４１Ａ〜４１
Ｃが接続されている。
ートバルブＧ５、Ｇ６を介して第１の予備真空室３Ａ及
び第２の予備真空室３Ｂが接続されており、更にこれら
予備真空室３Ａ、３Ｂの後方側にはゲートバルブＧ７、
Ｇ８を介して第２の移載室４が接続されている。第１及
び第２の予備真空室３Ａ、３Ｂは同一構造に構成されて
おり、図示していないが例えば上下に夫々加熱手段及び
冷却手段を備えると共に、例えば上下に夫々ウエハＷを
載置することができる昇降自在な２段の載置具を備えて
いる。前記第２の移載室４には、夫々ゲートバルブＧ９
〜Ｇ１１を介して三方に３つの真空処理室４１Ａ〜４１
Ｃが接続されている。
【００１５】前記第２の移載室４内には、第１及び第２
の予備真空室３Ａ、３Ｂと前記３つの真空処理室４１Ａ
〜４１Ｃとの間でウエハＷを移載するための第２の移載
手段５０が配置されている。この移載手段５０は図２及
び図３に示すように例えば３本のアーム５Ａ〜５Ｃを互
に回動自在に連結してなる移載アーム５を備えており、
この移載アーム５は回転基台５１に取り付けられてい
る。
の予備真空室３Ａ、３Ｂと前記３つの真空処理室４１Ａ
〜４１Ｃとの間でウエハＷを移載するための第２の移載
手段５０が配置されている。この移載手段５０は図２及
び図３に示すように例えば３本のアーム５Ａ〜５Ｃを互
に回動自在に連結してなる移載アーム５を備えており、
この移載アーム５は回転基台５１に取り付けられてい
る。
【００１６】前記移載アーム５は、ア−ム５Ｃの回転軸
５２を駆動するサーボモータＭ１と図示しないアーム５
Ａ〜５Ｃ間のベルト機構とにより先端のアーム５Ａが直
線的に屈伸するように構成され、移載アーム５の回転方
向の動作は、回転基台５１をモータＭ２により回転させ
ることにより制御される。即ち前記移載アーム５の位置
は、回転軸５２の中心と移載アーム５の基準点５３との
距離ｒと、これらを結ぶ軸線５４が基準線５５となす角
度θとにより管理されている。また先端のアーム５Ａに
おけるウエハ保持部には、光透過部をなすスポット領域
例えば口径約１ｍｍの円形の穴６Ａ、６Ｂが夫々左右対
称に形成されている。
５２を駆動するサーボモータＭ１と図示しないアーム５
Ａ〜５Ｃ間のベルト機構とにより先端のアーム５Ａが直
線的に屈伸するように構成され、移載アーム５の回転方
向の動作は、回転基台５１をモータＭ２により回転させ
ることにより制御される。即ち前記移載アーム５の位置
は、回転軸５２の中心と移載アーム５の基準点５３との
距離ｒと、これらを結ぶ軸線５４が基準線５５となす角
度θとにより管理されている。また先端のアーム５Ａに
おけるウエハ保持部には、光透過部をなすスポット領域
例えば口径約１ｍｍの円形の穴６Ａ、６Ｂが夫々左右対
称に形成されている。
【００１７】一方前記移載アーム５の可動範囲内例えば
第２の移載室４の所定の位置には、基準位置Ｐが設定さ
れており、この基準位置Ｐ上において、例えば前記アー
ム５Ａの穴６Ａ、６Ｂの口径と同径の断面円形のレーザ
光（レーザビーム）を鉛直方向に照射する発光部７１
と、前記レーザ光を受光して受光量に応じた電気信号を
出力する受光部７２とが互に上下するように配設されて
いる。
第２の移載室４の所定の位置には、基準位置Ｐが設定さ
れており、この基準位置Ｐ上において、例えば前記アー
ム５Ａの穴６Ａ、６Ｂの口径と同径の断面円形のレーザ
光（レーザビーム）を鉛直方向に照射する発光部７１
と、前記レーザ光を受光して受光量に応じた電気信号を
出力する受光部７２とが互に上下するように配設されて
いる。
【００１８】更に前記受光部７２には、当該受光部７２
からの電気信号にもとづいて前記アーム５Ａの穴６Ａ
（６Ｂ）がレーザ光の光路上にあるか否かを判定する信
号処理部７３が接続されており、この実施例では、前記
発光部７１、受光部７２及びこの信号処理部７３により
検出部が構成される。信号処理部７３は例えば受光部７
２上のレーザ光のビーム径に対応する領域に対して所定
の割合例えば５０％が受光した場合に、穴６Ａ（６Ｂ）
が光路上にあると判定するように構成される。ただし前
記割合は、装置に要求される位置精度などに応じて決定
される。
からの電気信号にもとづいて前記アーム５Ａの穴６Ａ
（６Ｂ）がレーザ光の光路上にあるか否かを判定する信
号処理部７３が接続されており、この実施例では、前記
発光部７１、受光部７２及びこの信号処理部７３により
検出部が構成される。信号処理部７３は例えば受光部７
２上のレーザ光のビーム径に対応する領域に対して所定
の割合例えば５０％が受光した場合に、穴６Ａ（６Ｂ）
が光路上にあると判定するように構成される。ただし前
記割合は、装置に要求される位置精度などに応じて決定
される。
【００１９】前記信号処理部７３の後段には制御部８が
接続されており、この制御部８は、移載アーム５のティ
ーチングデータを作成して記憶部８１に格納する機能、
そのティーチングデータにもとづいて移載アーム５を制
御する機能、及び前記信号処理部７３よりの検出信号を
取り込んで移載アーム５の動作が正常であるか否かを監
視する機能を有している。
接続されており、この制御部８は、移載アーム５のティ
ーチングデータを作成して記憶部８１に格納する機能、
そのティーチングデータにもとづいて移載アーム５を制
御する機能、及び前記信号処理部７３よりの検出信号を
取り込んで移載アーム５の動作が正常であるか否かを監
視する機能を有している。
【００２０】なお説明の重複を避けるため第２の移載室
４及び第２の移載手段５０に関して記述したが、第１の
移載室１及び第１の移載手段１１についても同様の構成
が採用されており、第１の移載手段１１が所定の基準位
置に位置しているか否か検出できるようになっている。
４及び第２の移載手段５０に関して記述したが、第１の
移載室１及び第１の移載手段１１についても同様の構成
が採用されており、第１の移載手段１１が所定の基準位
置に位置しているか否か検出できるようになっている。
【００２１】次に上述実施例の作用について述べる。ま
ず移載ア−ム５のティ−チングについて述べると、オペ
レ−タによりマニュアルで移載ア−ム５を操作して例え
ば移載ア−ム５の穴６Ａが発光部７１よりの光路上に一
致させる。一致した状態は、検出部の信号処理部７３か
らの検出信号にもとづいて例えば所定の表示を行うこと
によって確認できる。この実施例では移載ア−ム５に２
つの穴６Ａ、６Ｂを形成しているが、そのうちの一方
（例えば６Ａ）を使用すればよい。即ち移載ア−ム５の
先端のウエハ保持部は直線方向に移動し、また移載ア−
ム５全体が回転することにより移載ア−ム５の位置が極
座標（ｒ、θ）で管理されているため、一方の穴６Ａの
位置が決まれば、移載ア−ム５の座標も決まる。
ず移載ア−ム５のティ−チングについて述べると、オペ
レ−タによりマニュアルで移載ア−ム５を操作して例え
ば移載ア−ム５の穴６Ａが発光部７１よりの光路上に一
致させる。一致した状態は、検出部の信号処理部７３か
らの検出信号にもとづいて例えば所定の表示を行うこと
によって確認できる。この実施例では移載ア−ム５に２
つの穴６Ａ、６Ｂを形成しているが、そのうちの一方
（例えば６Ａ）を使用すればよい。即ち移載ア−ム５の
先端のウエハ保持部は直線方向に移動し、また移載ア−
ム５全体が回転することにより移載ア−ム５の位置が極
座標（ｒ、θ）で管理されているため、一方の穴６Ａの
位置が決まれば、移載ア−ム５の座標も決まる。
【００２２】このようにして穴６Ａが移載室４の基準位
置Ｐ上に位置した後、移載ア−ム５が所定の移載動作を
行うようにオペレ−タがマニュアルで移載ア−ム５を操
作し、このとき制御部８は前記基準位置Ｐを基準とする
移載ア−ム５の位置デ−タよりなるティ−チングデ−タ
を作成して記憶部８１に格納する。例えば穴６Ａが基準
位置Ｐにあるときの移載ア−ム５のデ−タを（ｒ0 、θ
0 ）とすれば、ティ−チングデ−タは、各位置の絶対座
標（ｒ、θ）から（ｒ0 、θ0 ）を差し引いた値として
表される。
置Ｐ上に位置した後、移載ア−ム５が所定の移載動作を
行うようにオペレ−タがマニュアルで移載ア−ム５を操
作し、このとき制御部８は前記基準位置Ｐを基準とする
移載ア−ム５の位置デ−タよりなるティ−チングデ−タ
を作成して記憶部８１に格納する。例えば穴６Ａが基準
位置Ｐにあるときの移載ア−ム５のデ−タを（ｒ0 、θ
0 ）とすれば、ティ−チングデ−タは、各位置の絶対座
標（ｒ、θ）から（ｒ0 、θ0 ）を差し引いた値として
表される。
【００２３】そして実際に移載動作を行う場合には移載
ア−ム５を例えば穴６Ａが基準位置Ｐに一致する位置に
セッティングし、ここからティ−チングデ−タにもとづ
いて制御する。ただし移載ア−ム５のスタ−ト位置は、
基準位置Ｐに対する相対位置を把握していれば別の位置
であってもよい。
ア−ム５を例えば穴６Ａが基準位置Ｐに一致する位置に
セッティングし、ここからティ−チングデ−タにもとづ
いて制御する。ただし移載ア−ム５のスタ−ト位置は、
基準位置Ｐに対する相対位置を把握していれば別の位置
であってもよい。
【００２４】ここで上述真空処理装置における被移載物
例えばウエハの流れについて述べると、まずウエハＷを
例えば２５枚収納したカセット２１がカセット室２Ａ内
に載置される。続いてゲートドアＧ３を閉じ、第１のカ
セット室２Ａ内を例えば大気圧の不活性ガス雰囲気にし
た後ゲートバルブＧ１を開き、カセット２１内のウエハ
Ｗが第１の移載手段１１のアームに真空吸着され、予め
不活性ガス雰囲気にされている第１の移載室１内に、第
１の移載手段１１により搬入され、更に位置合わせ手段
の一部をなす回転ステ−ジ１２に受け渡され、ここでオ
リフラ合わせ及び中心の位置合わせが行われる。
例えばウエハの流れについて述べると、まずウエハＷを
例えば２５枚収納したカセット２１がカセット室２Ａ内
に載置される。続いてゲートドアＧ３を閉じ、第１のカ
セット室２Ａ内を例えば大気圧の不活性ガス雰囲気にし
た後ゲートバルブＧ１を開き、カセット２１内のウエハ
Ｗが第１の移載手段１１のアームに真空吸着され、予め
不活性ガス雰囲気にされている第１の移載室１内に、第
１の移載手段１１により搬入され、更に位置合わせ手段
の一部をなす回転ステ−ジ１２に受け渡され、ここでオ
リフラ合わせ及び中心の位置合わせが行われる。
【００２５】しかる後にウエハＷは、予め大気圧の不活
性ガス雰囲気にされている第１の予備真空室３Ａ内に搬
入されて、例えば２段の載置具の上段側に載置され、ゲ
ートバルブＧ５を閉じ、例えば予備真空室３Ａ内を１０
-5〜１０-6Ｔｏｒｒの真空度に減圧すると共に例えば５
００℃に予備加熱される。また続くウエハＷは、同様に
して第２の予備真空室３Ｂに搬入され、予備加熱され
る。予備加熱後ゲートバルブＧ７を開いて、予め１０-7
〜１０-8Ｔｏｒｒの真空度に減圧された第２の移載室４
と当該予備真空室３Ａとの間を連通し、既に連続処理さ
れたウエハＷが第２の移載手段５０により第１の予備真
空室３Ａの下段側の載置具に載置された後、当該第２の
移載手段５０により、予備加熱済みである上段側のウエ
ハＷが第１の予備真空室３Ａから取り出され、真空処理
室４１Ａ内に搬入される。なお第２の予備真空室３Ｂと
第２の移載手段４１との間のウエハＷの受け渡しも同様
にして行われる。そして第１の真空処理室４１Ａにて例
えばＣＶＤ処理が行われた後、真空処理室４１Ｂ、４１
Ｃ内に搬入されて所定の連続処理が行われる。
性ガス雰囲気にされている第１の予備真空室３Ａ内に搬
入されて、例えば２段の載置具の上段側に載置され、ゲ
ートバルブＧ５を閉じ、例えば予備真空室３Ａ内を１０
-5〜１０-6Ｔｏｒｒの真空度に減圧すると共に例えば５
００℃に予備加熱される。また続くウエハＷは、同様に
して第２の予備真空室３Ｂに搬入され、予備加熱され
る。予備加熱後ゲートバルブＧ７を開いて、予め１０-7
〜１０-8Ｔｏｒｒの真空度に減圧された第２の移載室４
と当該予備真空室３Ａとの間を連通し、既に連続処理さ
れたウエハＷが第２の移載手段５０により第１の予備真
空室３Ａの下段側の載置具に載置された後、当該第２の
移載手段５０により、予備加熱済みである上段側のウエ
ハＷが第１の予備真空室３Ａから取り出され、真空処理
室４１Ａ内に搬入される。なお第２の予備真空室３Ｂと
第２の移載手段４１との間のウエハＷの受け渡しも同様
にして行われる。そして第１の真空処理室４１Ａにて例
えばＣＶＤ処理が行われた後、真空処理室４１Ｂ、４１
Ｃ内に搬入されて所定の連続処理が行われる。
【００２６】このように真空処理装置を使用するにあた
って第２の移載手段５０は、既に作成されたティ−チン
グデ−タにもとづいて所定の移載動作が行われる。なお
第１の移載手段１１についても同様にして、予め作成し
たティ−チングデ−タにもとづいて制御される。
って第２の移載手段５０は、既に作成されたティ−チン
グデ−タにもとづいて所定の移載動作が行われる。なお
第１の移載手段１１についても同様にして、予め作成し
たティ−チングデ−タにもとづいて制御される。
【００２７】ここで移載ア−ム５は、移載動作時にウエ
ハを保持しない状態で穴６Ａ（あるいは６Ｂ）が基準位
置Ｐを通過するようにティ−チングされており、従って
移載ア−ム５に微小な位置ずれなどのトラブルがない正
常な場合には、穴６Ａが例えば定期的に基準位置Ｐを通
過するが、移載ア−ム５に例えば微小な位置ずれが起こ
ると、穴６Ａが基準位置Ｐを通過しないか、あるいは通
過するタイミングがずれる。
ハを保持しない状態で穴６Ａ（あるいは６Ｂ）が基準位
置Ｐを通過するようにティ−チングされており、従って
移載ア−ム５に微小な位置ずれなどのトラブルがない正
常な場合には、穴６Ａが例えば定期的に基準位置Ｐを通
過するが、移載ア−ム５に例えば微小な位置ずれが起こ
ると、穴６Ａが基準位置Ｐを通過しないか、あるいは通
過するタイミングがずれる。
【００２８】そこで制御部８により検出部の信号処理部
７３の検出信号を監視し、例えばティ−チングデ−タに
おける位置座標が基準位置Ｐに対応するタイミング（テ
ィ−チング時に穴６Ａが基準位置Ｐに位置するときのタ
イミング）において受光状態であれば移載ア−ム５が正
常であると判定し、受光状態でなければ異常であると判
定して例えばアラ−ム信号を出力すると共にモ−タＭ
１、Ｍ２を停止させる。図４はこのような制御フロ−を
示すフロ−チャ−トである。
７３の検出信号を監視し、例えばティ−チングデ−タに
おける位置座標が基準位置Ｐに対応するタイミング（テ
ィ−チング時に穴６Ａが基準位置Ｐに位置するときのタ
イミング）において受光状態であれば移載ア−ム５が正
常であると判定し、受光状態でなければ異常であると判
定して例えばアラ−ム信号を出力すると共にモ−タＭ
１、Ｍ２を停止させる。図４はこのような制御フロ−を
示すフロ−チャ−トである。
【００２９】このような場合は、モ−タＭ１、Ｍ２によ
り先の移載ア−ム５の機構部分についてもクロ−ズル−
プで制御していることになるので、ベルトの緩みなどの
移載ア−ム５の異常を一早く検出でき、ウエハの移載の
失敗やウエハの破損などを未然に防止することができ
る。
り先の移載ア−ム５の機構部分についてもクロ−ズル−
プで制御していることになるので、ベルトの緩みなどの
移載ア−ム５の異常を一早く検出でき、ウエハの移載の
失敗やウエハの破損などを未然に防止することができ
る。
【００３０】また移載ア−ム５を新たなものに交換する
場合、もとの移載ア−ム５とわずかにアセンブラが異な
るが、穴６Ａを基準位置Ｐに位置させることによりもと
のティ−チングデ−タを使用できるので再度ティ−チン
グを行わなくて済み、作業が簡単である。なお移載ア−
ム５についてメンテナンスを行い再度組立てをした場合
にも同様にもとのティ−チングデ−タが使用できる。
場合、もとの移載ア−ム５とわずかにアセンブラが異な
るが、穴６Ａを基準位置Ｐに位置させることによりもと
のティ−チングデ−タを使用できるので再度ティ−チン
グを行わなくて済み、作業が簡単である。なお移載ア−
ム５についてメンテナンスを行い再度組立てをした場合
にも同様にもとのティ−チングデ−タが使用できる。
【００３１】そして上述実施例のようにレ−ザ光により
基準位置を設定すれば、レ−ザ光のビ−ム径を小さくし
ながら大きな光強度が得られるので、基準位置を正確に
設定することができる。
基準位置を設定すれば、レ−ザ光のビ−ム径を小さくし
ながら大きな光強度が得られるので、基準位置を正確に
設定することができる。
【００３２】以上において本発明は、検出部にて用いる
光としてはレ−ザ光以外の例えば赤外線を用いてもよい
し、スポット領域としては光透過部（実施例では穴６
Ａ、６Ｂに相当する）に限らず光反射部をなすように構
成してもよい。更に移載ア−ムの位置はＸ、Ｙ座標によ
り管理されるものであってもよいし、移載ア−ムに形成
した複数のスポット領域に対応してそれぞれ発光部、受
光部の組を設置し、各組の受光信号にもとづいて移載ア
−ムが基準位置にあるか否かを判定するようにしてもよ
い。
光としてはレ−ザ光以外の例えば赤外線を用いてもよい
し、スポット領域としては光透過部（実施例では穴６
Ａ、６Ｂに相当する）に限らず光反射部をなすように構
成してもよい。更に移載ア−ムの位置はＸ、Ｙ座標によ
り管理されるものであってもよいし、移載ア−ムに形成
した複数のスポット領域に対応してそれぞれ発光部、受
光部の組を設置し、各組の受光信号にもとづいて移載ア
−ムが基準位置にあるか否かを判定するようにしてもよ
い。
【００３３】そしてまた本発明の移載装置は、真空処理
装置に限られず、熱処理装置、塗布／現像装置、プロ−
ブ装置など種々の装置に適用できるし、また半導体製造
装置に限らずＬＣＤ基板やその他のものを移載する場合
にも適用できる。
装置に限られず、熱処理装置、塗布／現像装置、プロ−
ブ装置など種々の装置に適用できるし、また半導体製造
装置に限らずＬＣＤ基板やその他のものを移載する場合
にも適用できる。
【００３４】
【発明の効果】本発明によれば、移載ア−ムの動作時に
スポット領域が予定通り基準位置を通過するか否かを監
視しているため、移載ア−ムの位置ずれなどのトラブル
を一早く検出でき、ウエハの移載ミスなどを防止でき
る。請求項２の発明によれば、基準位置を通る光路上に
移載ア−ムのスポット領域が位置したことを検出してス
ポット領域が基準位置にあることを確認し、この基準位
置を基準として移載ア−ムのティ−チングデ−タを作成
しているので、移載ア−ムの交換時や再度の組み立て時
に移載ア−ムのスポット領域を光路上に位置合わせする
だけでもとのティ−チングデ−タを使用して移載ア−ム
を制御できるため再度ティ−チングを行わなくて済み、
作業が簡単になる。
スポット領域が予定通り基準位置を通過するか否かを監
視しているため、移載ア−ムの位置ずれなどのトラブル
を一早く検出でき、ウエハの移載ミスなどを防止でき
る。請求項２の発明によれば、基準位置を通る光路上に
移載ア−ムのスポット領域が位置したことを検出してス
ポット領域が基準位置にあることを確認し、この基準位
置を基準として移載ア−ムのティ−チングデ−タを作成
しているので、移載ア−ムの交換時や再度の組み立て時
に移載ア−ムのスポット領域を光路上に位置合わせする
だけでもとのティ−チングデ−タを使用して移載ア−ム
を制御できるため再度ティ−チングを行わなくて済み、
作業が簡単になる。
【図１】本発明の真空処理装置の実施例を示す平面図で
ある。
ある。
【図２】図１の実施例の要部を示す概略斜視図である。
【図３】図１の実施例の要部を示す説明図である。
【図４】本発明の実施例の作用の一部を示すフロ−図で
ある。
ある。
１ 第１の移載室 １１ 第１の移載手段 ３Ａ、３Ｂ 予備真空室 ４ 第２の移載室 ５０ 第２の移載手段 ５ 移載ア−ム ５Ａ〜５Ｃ ア−ム ６Ａ、６Ｂ 穴 ７１ 発光部 ７２ 受光部 ７３ 信号処理部 ８ 制御部 ８１ 記憶部
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01L 21/68 B25J 13/08 G05B 19/42
Claims (4)
- 【請求項１】 複数の基板を収納するカセットを置くた
めのカセット室と、このカセット室に気密に接続され、
移載アームが配置された移載室と、この移載室に各々接
続され、基板に対して真空処理を行う複数の真空処理室
と、を備え、移載アームは、複数のアーム及びこれらア
ーム間に設けられたベルト機構を有し、カセット室と真
空処理室との間で基板を保持して移載する真空処理装置
において 前記移載アームの可動範囲内に設定された基準位置と、 前記移載アームに形成された光透過部または光反射部を
なすスポット領域と、 前記移載アームが所定の動作を行うようにまた前記スポ
ット領域が移動途上で前記基準位置を通過するように予
め移載アームを操作し、これにより得られた移載アーム
の位置デ−タよりなるティ−チングデ−タを格納する記
憶部と、 前記基準位置を通るように光を照射し、前記移載アーム
のスポット領域がその光路上にあるか否かを検出する検
出部と、 前記記憶部に格納されたティ−チングデ−タに基づいて
前記移載アームの動作を制御すると共に、前記検出部の
検出信号を監視し、ティ−チングデ−タにおける位置座
標が基準位置に対応する座標となるときのタイミングに
おいてスポット領域がその光路上にあるときには移載ア
ームの動作が正常と判定し、スポット領域がその光路上
にないときには移載アームの動作が異常と判定する制御
部と、 を備えてなることを特徴とする真空処理装置。 - 【請求項２】 複数の基板を収納するカセットを置くた
めのカセット室と、このカセット室に気密に接続され、
移載アームが配置された第１の移載室と、この第１の移
載室に気密に接続された予備真空室と、この予備真空室
に気密に接続され、移載アームが配置された第２の移載
室と、この第２の移載室に各々接続され、基板に対して
真空処理を行う複数の真空処理室と、を備え、 第１の移載アームは、複数のアーム及びこれらアームを
駆動するベルト機構を有すると共にカセット室と予備真
空室との間で基板を保持して移載し、第２の移載アーム
は、複数のアーム及びこれらアーム間に設けられたベル
ト機構を有すると共に予備真空室と真空処理室との間で
基板を保持して移載する真空処理装置において、 前記移載アームの可動範囲内に設定された基準位置と、 前記移載アームに形成された光透過部または光反射部を
なすスポット領域と、 前記移載アームが所定の動作を行うようにまた前記スポ
ット領域が移動途上で前記基準位置を通過するように予
め移載アームを操作し、これにより得られた移載アーム
の位置デ−タよりなるティ−チングデ−タを格納する記
憶部と、 前記基準位置を通るように光を照射し、前記移載アーム
のスポット領域がその光路上にあるか否かを検出する検
出部と、 前記記憶部に格納されたティ−チングデ−タに基づいて
前記移載アームの動作を制御すると共に、前記検出部の
検出信号を監視し、ティ−チングデ−タにおける位置座
標が基準位置に対応する座標となるときのタイミングに
おいてスポット領域がその光路上にあるときには移載ア
ームの動作が正常と判定し、スポット領域がその光路上
にないときには移載アームの動作が異常と判定する制御
部と、 を備えてなることを特徴とする真空処理装置。 - 【請求項３】 移載アームは３本のアームを備えた構成
であることを特徴とする請求項１又は２記載の真空処理
装置。 - 【請求項４】 移載アームの位置デ−タは前記基準位置
を基準とするものであり、制御部は、検出部により移載
ア−ムのスポット領域が基準位置に位置していることを
検出した後、当該移載アームに対して前記ティ−チング
デ−タに基づいて制御することを特徴とする請求項１な
いし３のいずれかに記載の真空処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13286693A JP3287646B2 (ja) | 1993-05-10 | 1993-05-10 | 真空処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13286693A JP3287646B2 (ja) | 1993-05-10 | 1993-05-10 | 真空処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06326172A JPH06326172A (ja) | 1994-11-25 |
| JP3287646B2 true JP3287646B2 (ja) | 2002-06-04 |
Family
ID=15091383
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13286693A Expired - Fee Related JP3287646B2 (ja) | 1993-05-10 | 1993-05-10 | 真空処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3287646B2 (ja) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5991510A (en) * | 1997-07-10 | 1999-11-23 | Brooks Automation, Inc. | Removable memory device to store robotic application and configuration data |
| KR100457342B1 (ko) * | 1997-10-24 | 2005-01-17 | 삼성전자주식회사 | 웨이퍼 이송장치 |
| JP4674705B2 (ja) * | 1998-10-27 | 2011-04-20 | 東京エレクトロン株式会社 | 搬送システムの搬送位置合わせ方法及び搬送システム |
| GB2349204B (en) * | 1999-04-19 | 2004-03-03 | Applied Materials Inc | A method of detecting the position of a wafer |
| JP2002178279A (ja) * | 2000-12-12 | 2002-06-25 | Ulvac Japan Ltd | 基板搬送方法 |
| JP4070994B2 (ja) * | 2001-12-20 | 2008-04-02 | 株式会社ダイヘン | ワーク搬送用ロボット及びこのロボットを備えたワーク加工装置 |
| JP4982150B2 (ja) * | 2006-10-30 | 2012-07-25 | 信越化学工業株式会社 | ロボットの移動システム |
| TWI507278B (zh) * | 2007-12-27 | 2015-11-11 | Ulvac Inc | Handling robotic diagnostic system |
| CN102112274B (zh) * | 2008-08-01 | 2014-11-19 | 爱发科股份有限公司 | 搬运机器人的示教方法 |
| JP2012238762A (ja) * | 2011-05-12 | 2012-12-06 | Tokyo Electron Ltd | 基板搬送装置、これを備える塗布現像装置、及び基板搬送方法 |
| JP7433180B2 (ja) | 2020-09-23 | 2024-02-19 | 東京エレクトロン株式会社 | 搬送装置およびロボットアームのティーチング方法 |
-
1993
- 1993-05-10 JP JP13286693A patent/JP3287646B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06326172A (ja) | 1994-11-25 |
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