JP3179932B2 - 被覆用組成物および表面被覆成形物 - Google Patents
被覆用組成物および表面被覆成形物Info
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Description
射することにより耐摩耗性並びに耐溶剤性の優れた被覆
膜を形成しうる被覆用組成物、及びこの被覆用組成物の
硬化膜により被覆された合成樹脂成形品等の表面被覆成
形物に関する。
性の大きい透明なプラスチック材料を使用することは広
く行なわれている。しかしながら、透明プラスチック材
料はガラスに比較して表面が柔らかく、表面摩耗及び引
っ掻き傷を受けやすいという重大な欠点を有する。
るために多くの試みがなされてきた。最も一般的な方法
の一つに、例えば特開昭53−102936号公報、同
53−104638号公報、同54−97633号公報
等に記載されたように分子中に複数のアクリロイルオキ
シ基あるいはメタクリロイルオキシ基を有する化合物を
成形品に塗布し、熱あるいは紫外線等の活性エネルギー
線により硬化させ、耐擦傷性の優れた成形品を得る方法
がある。この方法は、硬化液も比較的安価で生産性にも
優れているが、硬化被膜が有機物であることから該被覆
成形品の耐摩耗性には限界があるのが現状である。
せるため、例えば特開昭48−26822号公報、同5
9−64671号公報等に見られるようなアルコキシシ
ラン化合物をプラスチック成形品表面に塗布し熱により
硬化させる方法、あるいは、特開昭56−106969
号公報、特開平2−272041号公報等に見られるよ
うなコロイダルシリカと有機樹脂の混合物をプラスチッ
ク成形品表面に塗布し熱により硬化させる方法が開示さ
れている。しかしながら、これらの方法には溶剤が用い
られるため乾燥工程が必要であり、被覆成形品の外観に
も問題が生じやすく、また、熱により硬化させる必要が
あるためエネルギー消費量が大きく、また、硬化に長時
間を要するため工業的に不利である。更に、溶剤を用い
乾燥することは、近年特に注目されている地球環境保護
といった観点からも好ましくない。
−2168号公報、同3−6190号公報、特開昭59
−204669号公報、同62−256874号公報、
特開平2−64138号公報、同4−18423号公報
および特公昭62−21815号公報には、コロイダル
シリカと、アクリル基またはメタクリル基を有するアル
コキシシランと、多官能アクリレートからなる被覆用組
成物が開示されている。これらは必要に応じ無溶剤でも
用いることが可能であり、かなり優れた表面硬度をプラ
スチック成形品に付与できるが、アルコキシシラン化合
物中のアクリル基あるいはメタクリル基の構造に由来す
る親水的性質のため、被膜中のコロイダルシリカとアル
コキシシランの界面において加水分解を受けやすく、ひ
いては被膜の耐候性及び耐水性を損なう結果となってい
た。
術における課題等を解決すべくなされたものである。す
なわち本発明の目的は、溶剤を用いなくとも塗布可能な
被覆用組成物であって硬化により耐摩耗性、耐擦傷性並
びに耐候性、耐水性に優れ、表面硬度が高く外観も良好
な被覆膜を形成できる被覆用組成物、およびこの被覆用
組成物の硬化物で表面が被覆された成形物を提供するこ
とにある。
に少なくとも2個のアクリロイルオキシ基および/また
はメタクリロイルオキシ基を有する架橋重合性化合物(a
-1) 、または該架橋重合性化合物(a-1) 50重量%以上
とこれと共重合可能な化合物(a-2) とから成る混合物、
および(b)活性エネルギー線の照射によりフリーラジ
カルを生成する官能基を有するアルコキシシラン化合物
の加水分解物で表面が修飾されたシリカ粒子からなる被
覆用組成物である。また、もう一つの本発明は、かかる
被覆用組成物の硬化物で表面が被覆された物品である。
(b)の表面が、活性エネルギー線の照射によりフリー
ラジカルを生成する官能基を有するアルコキシシラン化
合物の加水分解物で修飾されているので、成分(a)中
にシリカ粒子(b)を高濃度で分散することができ、耐
摩耗性の向上等の上記目的を達成し得る。またさらに
は、活性エネルギー線の照射により、シリカ粒子表面で
フリーラジカルが発生し、成分(a)の重合を生起する
ため、成分(a)の重合体がシリカ表面に強固に結合
し、硬化被膜が高い表面硬度を発現することとなる。更
に特筆すべきことに、本発明の被覆用組成物は、従来技
術において問題となっていた被覆膜の耐候性並びに耐水
性を改善できるものである。
は、分子中に少なくとも2個のアクリロイルオキシ基お
よび/またはメタクリロイルオキシ基(以下(メタ)ア
クリロイルオキシ基と略す)を有する架橋重合性化合物
(a-1) である。またこの成分(a)は、架橋重合性化合
物(a-1) 50重量%以上とこれと共重合可能な化合物(a
-2) とから成る混合物であってもよい。
クリロイルオキシ基を有する架橋重合性化合物(a-1)
は、(メタ)アクリロイルオキシ以外の部分である残基
が炭化水素またはその誘導体であり、その分子内にはエ
ーテル結合、チオエーテル結合、エステル結合、アミド
結合、ウレタン結合等を含んでいてもよい。
ば多価アルコールと(メタ)アクリル酸またはそれらの
誘導体とから得られるエステル化合物、あるいは多価ア
ルコールと多価カルボン酸と(メタ)アクリル酸または
それらの誘導体とから得られるエステル化合物が挙げら
れる。この多価アルコールとしては、例えばエチレング
リコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコ
ール、テトラエチレングリコール、平均分子量が約30
0〜約1000のポリエチレングリコール、プロピレン
グリコール、ジプロピレングリコール、1,3−プロパ
ンジオール、1,3−ブタンジオール、2,3−ブタン
ジオール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタン
ジオール、1,6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグ
リコール(即ち2,2−ジメチル−1,3−プロパンジ
オール)、2−エチルヘキシル−1,3−ヘキサンジオ
ール、2,2’−チオジエタノール、1,4−シクロヘ
キサンジメタノール等の2価のアルコール;トリメチロ
ールプロパン(即ち1,1,1−トリメチロールプロパ
ン)、ペンタグリセロール(即ち1,1,1−トリメチ
ロールエタン)、グリセロール、1,2,4−ブタント
リオール、1,2,6−ヘキサントリオール等の3価の
アルコール;その他、ペンタエリスリトール(即ち2,
2−ビス(ヒドロキシメチル)−1,3−プロパンジオ
ール)、ジグリセロール、ジペンタエリスリトール等が
挙げられる。
トとして得られる架橋重合性化合物(a-1) の例として、
下記一般式(I)
在するXは、そのうちの2個以上が(メタ)アクリロイ
ルオキシ基を示し、その残りが各々独立に水素原子、水
酸基、アミノ基、アルキル基または置換アルキル基を示
す。)で表わされる化合物が挙げられる。
ては、具体的にはトリメチロールプロパントリ(メタ)
アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アク
リレート、ペンタグリセロールトリ(メタ)アクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、
ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジ
ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペ
ンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペ
ンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペ
ンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリ
ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ト
リペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、
トリペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレー
ト、トリペンタエリスリトールヘプタ(メタ)アクリレ
ート等が挙げられる。
価アルコールのポリ(メタ)アクリレートとしては、例
えばジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ト
リエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラ
エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−
ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキ
サンジオールジ(メタ)アクリレート、グリセリントリ
(メタ)アクリレート等が挙げられる。
ールと(メタ)アクリル酸とから得られるエステル化合
物を用いる場合、特に好ましいエステル化合物は、ジエ
チレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレ
ングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレン
グリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジ
オールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオ
ールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパン
トリ(メタ)アクリレート、ペンタグリセロールトリア
クリレート、ジペンタグリセロールペンタアクリレート
等である。
る多価アルコールと多価カルボン酸と(メタ)アクリル
酸またはそれらの誘導体とから得られるエステル化合物
は、基本的には、多価アルコールのヒドロキシル基と多
価カルボン酸および(メタ)アクリル酸の両者のカルボ
キシル基とが最終的には当量となるような混合物を反応
させることによって得られる。このエステル化合物のう
ち好ましいものは、多価アルコールとして、2価のアル
コール、3価のアルコール、または2価のアルコールと
3価のアルコールとの混合物を用い、多価カルボン酸と
して、2価カルボン酸を用いて得られたエステル化物が
挙げられる。3価のアルコールと2価のアルコールの混
合物を用いる場合は、3価のアルコールと2価のアルコ
ールとのモル比は任意に選べばよい。また、2価カルボ
ン酸と(メタ)アクリル酸とを併用する場合のモル比
は、(メタ)アクリル酸のカルボキシル基1モルに対し
て2価カルボン酸のカルボキシル基が2モル以下の範囲
内とすることが好ましい。2価カルボン酸が上記の範囲
より過剰の場合には、生成するエステルの粘度が高くな
り過ぎて塗膜の形成が困難になる場合がある。
カルボン酸またはその誘導体としては、例えばコハク
酸、アジピン酸、セバシン酸などの脂肪族ジカルボン
酸;テトラヒドロフタル酸、3,6−エンドメチレンテ
トラヒドロフタル酸などの脂環族ジカルボン酸;フタル
酸、イソフタル酸、テレフタル酸などの芳香族ジカルボ
ン酸;その他チオジグリコール酸、チオジバレリン酸、
ジグリコール酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、
およびこれらの塩化物、無水物並びにエステル等を挙げ
ることができる。
のエステル化合物の具体例は、マロン酸/トリメチロー
ルエタン/(メタ)アクリル酸、マロン酸/トリメチロ
ールプロパン/(メタ)アクリル酸、マロン酸/グリセ
リン/(メタ)アクリル酸、マロン酸/ペンタエリスリ
トール/(メタ)アクリル酸、コハク酸/トリメチロー
ルエタン/(メタ)アクリル酸、コハク酸/トリメチロ
ールプロパン/(メタ)アクリル酸、コハク酸/グリセ
リン/(メタ)アクリル酸、コハク酸/ペンタエリスリ
トール/(メタ)アクリル酸、アジピン酸/トリメチロ
ールエタン/(メタ)アクリル酸、アジピン酸/トリメ
チロールプロパン/(メタ)アクリル酸、アジピン酸/
ペンタエリスリトール/(メタ)アクリル酸、アジピン
酸/グリセリン/(メタ)アクリル酸、グルタル酸/ト
リメチロールエタン/(メタ)アクリル酸、グルタル酸
/トリメチロールプロパン/(メタ)アクリル酸、グル
タル酸/グリセリン/(メタ)アクリル酸、グルタル酸
/ペンタエリスリトール/(メタ)アクリル酸、セバシ
ン酸/トリメチロールエタン/(メタ)アクリル酸、セ
バシン酸/トリメチロールプロパン/(メタ)アクリル
酸、セバシン酸/グリセリン/(メタ)アクリル酸、セ
バシン酸/ペンタエリスリトール/(メタ)アクリル
酸、フマル酸/トリメチロールエタン/(メタ)アクリ
ル酸、フマル酸/トリメチロールプロパン/(メタ)ア
クリル酸、フマル酸/グリセリン/(メタ)アクリル
酸、フマル酸/ペンタエリスリトール/(メタ)アクリ
ル酸、イタコン酸/トリメチロールエタン/(メタ)ア
クリル酸、イタコン酸/トリメチロールプロパン/(メ
タ)アクリル酸、イタコン酸/ペンタエリスリトール/
(メタ)アクリル酸、無水マレイン酸/トリメチロール
エタン/(メタ)アクリル酸、無水マレイン酸/グリセ
リン/(メタ)アクリル酸等の化合物の組み合わせによ
る飽和または不飽和ポリエステルポリアクリレートまた
はポリメタクリレートである。
ばトリメチロールプロパントルイレントリイソシアネー
ト、下記一般式(II)
ート、トリレンジイソシアネート、ジフェニルエタンジ
イソシアネート、キシレンジイソシアネート、4,4’
−メチレンビス(シクロヘキシルイソシアネート)、イ
ソホロンジイソシアネートまたはトリメチルヘキサメチ
レンジイソシアネートの残基を示す。)で表わされる化
合物等のポリイソシアネートと、活性水素を有するアク
リル系単量体(例えば2−ヒドロキシエチル(メタ)ア
クリレート、2−ヒドロキシ−3−メトキシプロピル
(メタ)アクリレート、N−メチロール(メタ)アクリ
ルアミド、N−ヒドロキシ(メタ)アクリルアミド等)
とを、イソシアネート基1モル当たりアクリル系単量体
1モル以上を常法により反応させて得られるウレタン
(メタ)アクリレート;トリス(2−ヒドロキシエチ
ル)イソシアヌル酸のトリ(メタ)アクリレート等のポ
リ[(メタ)アクリロイルオキシエチル]イソシアヌレ
ートが挙げられる。
は、先に述べたように架橋重合性化合物(a-1) 50重量
%以上とこれと共重合可能な化合物(a-2) とから成る混
合物であってもよい。この共重合可能な化合物(a-2) と
しては、例えば分子中に1個の(メタ)アクリロイルオ
キシ基を有する化合物等が用いられる。具体的には、例
えばメチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アク
リレート、ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル
(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレー
ト、2ーエチルヘキシル(メタ)アクリレート、ラウリ
ル(メタ)アクリレート、トリデシル(メタ)アクリレ
ート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、2−ヒド
ロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプ
ロピル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アク
リレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレー
ト、ベンジル(メタ)アクリレート、1,4−ブチレン
グリコールモノ(メタ)アクリレート、エトキシエチル
(メタ)アクリレート、エチルカルビトール(メタ)ア
クリレート、2−ヒドロキシ−3−クロロプロピル(メ
タ)アクリレート、(メタ)アクリルアミド、N−ヒド
ロキシエチル(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキシ
メチル(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキシプロピ
ル(メタ)アクリルアミド、2,2,2−トリフルオロ
エチル(メタ)アクリレート、2,2,3,3−テトラ
フルオロプロピル(メタ)アクリレート、1H,1H,
5H−オクタフルオロペンチル(メタ)アクリレート、
N−ヒドロキシブチル(メタ)アクリルアミド、ヒドロ
キシメチルジアセトン(メタ)アクリルアミド、N−ヒ
ドロキシエチル−N−メチル(メタ)アクリルアミド、
下記一般式(III) または(IV)
(メタ)アクリロイルオキシ基を示し、Rはアルキル
基、置換アルキル基、フェニル基、置換フェニル基、ベ
ンジル基または置換ベンジル基を示す。)で表わされる
モノ(メタ)アクリレート等が挙げられる。
るモノ(メタ)アクリレートとしては、例えばメトキシ
ジエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシ
ポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、フェノ
キシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、ブ
トキシエチレングリコール(メタ)アクリレート等が挙
げられる。
えばβ−(メタ)アクリロイルオキシエチルハイドロゲ
ンフタレート、β−(メタ)アクリロイルオキシエチル
ハイドロゲンサクシネート、β−(メタ)アクリロイル
オキシプロピルハイドロゲンサクシネート、および公知
の各種エポキシ(メタ)アクリレート、ウレタン(メ
タ)アクリレート等も挙げられる。
は、活性エネルギー線の照射によりフリーラジカルを生
成する官能基を有するシラン化合物の加水分解物で表面
が被覆されたシリカ粒子である。ここで活性エネルギー
線とは、紫外線領域を中心とし、一部可視光を含む領域
の電磁波(より具体的には200〜500nmの波長の
もの)をいい、活性エネルギー線の照射によりフリーラ
ジカルを生成する官能基(以下、「ラジカル生成官能
基」と略す)としては、代表的にはベンゾイル基、チウ
ラムスルフィド基、アゾ基、パーオキサイド基等が挙げ
られるがこれらの基に限定されるものではない。また
「加水分解物で表面が修飾された」とは、シリカ粒子の
表面の一部または全部にシラン化合物の加水分解物が保
持された状態にあり、これにより表面特性が改質されて
いることを意味する。なお、加水分解物の縮合反応が進
んだものが同時に保持されているシリカ粒子も含まれ
る。本発明におけるこの表面修飾は、代表的には、シリ
カ粒子存在下にシラン化合物の加水分解、または加水分
解と縮合反応を生じせしめることにより容易に行うこと
ができる。
リカが使用できる。シリカの平均粒径は通常1nm〜1
μmであり特に限定されるものではないが、好ましい平
均粒径は10nm〜500nmである。コロイダルシリ
カを用いる場合、その分散媒は特に限定されないが、通
常、水;メタノール、エタノール、イソプロピルアルコ
ール、n−ブタノールのようなアルコール類;セロソル
ブ類;ジメチルアセトアミド、キシレン等が使用され
る。特に好ましい分散媒は、アルコール類、セロソルブ
類および水である。
るシラン化合物を得る方法としては、(i)ラジカル生
成官能基と、水酸基、アミノ基およびカルボキシル基の
少なくとも一種の基(以下、反応性基と略)との双方を
有する化合物と、イソシアネート基を有するアルコキシ
シラン化合物とを、その反応性基とイソシアネート基と
を反応させて得る方法、(ii)ラジカル生成官能基と反
応性基との双方を有する化合物と、カルボキシル基また
はグリシジル基を有するアルコキシシラン化合物とのエ
ステル化反応により得る方法、(iii) 塩化ベンゾイルと
フェニルトリアルコキシシランとのフリーデルクラフト
反応によって得る方法、等が挙げられるが、前記(i)
のラジカル生成官能基と反応性基との双方を有する化合
物とイソシアネート基を有するアルコキシシラン化合物
との反応により得る方法が反応を温和な条件で実施でき
る点から望ましい。
有する化合物としては、2−ヒドロキシベンゾフェノ
ン、4−ヒドロキシベンゾフェノン、2−アミノベンゾ
フェノン、4−アミノベンゾフェノン、2−ベンゾイル
安息香酸、4−ベンゾイル安息香酸、ベンゾイン、2−
ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−
オン、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロ
キシ−2−メチルプロパン−1−オン、1−(4−ドデ
シルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン
−1−オン、4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル
−(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ケトン、1−ヒド
ロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−ヒドロキシ
チオキサントン等およびこれらの混合物を挙げることが
できる。
シシラン化合物としては、OCN(CH2 )3 Si(O
CH3 )3 、OCN(CH2 )3 Si(OC2 H5 )
3 、OCN(CH2 )3 Si(OCH3 )2 CH3 、O
CN(CH2 )3 Si(OC2 H5 )2 CH3 およびこ
れらの混合物を挙げることができる。
を得るには、ラジカル生成官能基を有するシラン化合物
のみをシリカ粒子の存在下に加水分解、縮合させてもよ
いし、他のシラン化合物と共に共加水分解、縮合させて
もよい。かかる他のシラン化合物としては、テトラメト
キシシラン、テトラエトキシシラン、テトラn−プロポ
キシシラン、テトラi−プロポキシシラン、テトラn−
ブトキシシラン、テトラヘキシルオルソシリケート、テ
トラフェニルオルソシリケート、テトラベンジルオルソ
シリケート、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエ
トキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリ
エトキシシラン、フエニルトリメトキシシラン、フェニ
ルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジ
フェニルジメトキシシラン、メチルエチルジエトキシシ
ラン、メチルフェニルジメトキシシラン、メトキシエチ
ルトリエトキシシラン、トリメチルメトキシシラン等が
挙げられる。
る場合は、シラン化合物をコロイダルシリカの分散液中
に混合して、系中の水または新たに加える水により加水
分解すれば、この加水分解物で表面が修飾されたシリカ
粒子(b)が得られる。シラン化合物の加水分解反応を
行う際の触媒として、無機酸または有機酸を使用するこ
とが可能である。無機酸としては、例えば塩酸、弗化水
素酸、臭化水素酸等のハロゲン化水素酸や硫酸、硝酸、
リン酸等が用いられる。有機酸としては、蟻酸、酢酸、
シュウ酸、アクリル酸、メタクリル酸等が挙げられる。
を温和に、かつ均一に行うために溶媒を用いることがで
きる。この溶媒としては、反応物であるシランアルコキ
シドと水、触媒を相容させ得るものが望ましい。具体的
には、水;メタノール、エタノール、イソプロピルアル
コール等のアルコール類;アセトン、メチルイソブチル
ケトン等のケトン類;テトラヒドロフラン、ジオキサン
等のエーテル類を挙げることができる。これら溶媒とし
て、前述したコロイダルシリカの分散媒をそのまま用い
てもよいし、新たに必要量加えてもよい。溶媒の使用量
は反応物を均一に溶解できる量であれば特に制限はない
が、反応物の濃度が希薄になりすぎると、反応速度が著
しく遅くなるおそれがある。シラン化合物の加水分解と
縮合反応は、室温〜120℃程度の温度で30分〜24
時間程度の条件下で、好ましくは室温〜溶媒の沸点程度
の温度で1〜10時間程度の条件下で行われる。
ないが、シリカ粒子(コロイダルシリカの場合はその固
形分)100重量部に対し、シラン化合物を好ましくは
5〜200重量部、より好ましくは25〜100重量部
用いる。また成分(a)と成分(b)の配合比も特に制
限されないが、成分(b)におけるシリカ粒子(コロイ
ダルシリカの場合はその固形分)100重量部に対し、
成分(a)を好ましくは5〜1000重量部、より好ま
しくは20〜200重量部用いる。
ネルギー線の照射による硬化を完全に行なわせるため
に、光重合開始剤を用いることもできる。光重合開始剤
としては、成分(a)の重合反応を生起させ得るもので
あれば特に限定されない。具体的に例示すると、ベンゾ
イン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエ
ーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン
イソブチルエーテル、アセトイン、ブチロイン、トルオ
イン、ベンジル、ベンゾフェノン、p−メトキシベンゾ
フェノンなどのカルボニル化合物;テトラメチルチウラ
ムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド
等の硫黄化合物;アゾビスイソブチロニトリル、アゾビ
ス−2,4−ジメチルバレロニトリル等のアゾ化合物;
ベンゾイルパーオキサイド、ジターシャリーブチルパー
オキサイド等のパーオキサイド化合物;トリメチルベン
ゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ベンゾイルジ
エトキシホスフィンオキサイド等のホスフィンオキサイ
ド化合物等が挙げられる。これらの重合開始剤は単独で
使用してもよいし、二種以上組み合わせて用いてもよ
い。光重合開始剤の配合量は、成分(a)100重量部
に対して10重量部以下が好ましい。
定されるものではないが、例えばコロイダルシリカの分
散液に、シラン化合物および必要により水や触媒を混合
し、前述した反応条件で反応させ、この反応後の液中に
成分(a)を混合し、次いでコロイダルシリカの分散媒
およびシラン化合物の加水分解反応で生成した揮発分を
除去し、その後必要により光重合開始剤および他の添加
剤を加える方法が特に好ましい。
溶剤を含有しないものとして提供されるが、必要により
有機溶剤(c)を含有したものとして提供してもよい。
この有機溶剤(c)としては、成分(a)と光重合開始
剤と均一混合可能であり、かつ成分(b)を均一分散可
能なものが使用される。常圧での沸点が50℃以上20
0℃以下であり、常温(25℃)での粘度が10センチ
ポイズ以下のものが適当である。具体的には、エタノー
ル、イソプロピルアルコール、ノルマルプロピルアルコ
ール、ノルマルブチルアルコール、イソブチルアルコー
ル等のアルコール類;ベンゼン、トルエン等の芳香族炭
化水素類;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン
類;ジオキサン等のエーテル類;酢酸エチル、酢酸ブチ
ル等のエステル類、N,N−ジメチルホルムアミド等が
挙げられ、これらの有機溶剤は単独でまたは2種以上を
混合して使用することができる。
は、必要に応じて表面平滑剤、界面活性剤、紫外線吸収
剤、貯蔵安定剤などの各種添加剤を適宜添加して使用す
ることができる。
布する方法としては、刷毛塗り法、流延法、ローラーコ
ート法、バーコート法、噴霧コート法、エアーナイフコ
ート法、ディッピング法等が挙げられるが特に限定され
ない。被覆用組成物の成形品表面に対する塗布量として
は、硬化後の膜厚が1〜30μmの厚みになるように塗
布するのが適当である。膜厚が1μm未満の場合は耐摩
耗性に劣り、膜厚が30μmを越える場合には硬化被膜
にクラック等が入りやすい傾向にあり好ましくない。こ
のような方法で形成した塗膜に紫外線等の活性エネルギ
ー線を照射し硬化させることによって、良好な硬化被膜
が形成できる。
成形物は、表面の耐摩耗性等の向上が求められる各種成
形物である。特に合成樹脂製の成形物が代表的に挙げら
れ、例えばポリメチルメタクリレート、メチルメタクリ
レートを主構成成分とする共重合体、ポリスチレン、ス
チレン−メチルメタクリレート共重合体、スチレン−ア
クリロニトリル共重合体、ポリカーボネート、セルロー
スアセテートブチレート樹脂、ポリアクリルジグリコー
ルカーボネート樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリエステ
ル樹脂等が好ましい材質として挙げられる。
する。ただし、本発明は実施例に限定されるものではな
い。また、実施例中の各種物性の測定および評価は、以
下に示す方法で行った。
往復式摩耗試験機台上に保持された試料表面に、このパ
ッドを置いて荷重1000g下で100回往復擦傷し
た。この試料を洗浄した後、ヘーズメーターで曇価を測
定した。耐スチールウール擦傷性(%)は、(擦傷後曇
価)−(擦傷前曇価)で示される。
0gの重量のおもりを組み合わせ、100回転させたと
きの曇価をヘーズメーターで測定した。なお、曇価の測
定は摩耗サイクルの軌道の回り4か所で行い、平均値を
算出した。テーバー摩耗性(%)は、(テーバー試験後
曇価)−(テーバー試験前曇価)で示される。
つ切り目を入れて100個のゴバン目をつくり、市販セ
ロハンテープをよく密着させた後、90°手前方向に急
激にはがした時、被膜が剥離せずに残存したます目数
(x)をx/100で表示する。
にて判定し、次のように評価した。 ○… 特に目立った欠陥無し。 ×… ΔYI値として4.0以上の黄帯色またはクラッ
ク、くもりなどの発生がみられる。
L−SUN−DC型)を用いてブラックパネル温度63
℃で降雨12分−乾燥48分のサイクルで2000時間
暴露後、外観の評価を行った。
密着性の評価を行った。
フリーラジカルを生成する官能基を有するアルコキシシ
ラン化合物の合成:4−ヒドロキシベンゾフェノン9
9.1重量部、3−(トリメトキシシリルプロピル)イ
ソシアネート102.5重量部、ベンゼン200重量部
およびジ−n−ブチルスズジスウレート0.1重量部を
混合し、50℃で40時間撹拌した。その後、反応生成
物中の溶媒を真空下で完全に留去し、粘性液体を得た。
生成物の赤外吸収スペクトルおよび 1H−NMRスペク
トルにより水酸基およびイソシアネート基が完全に消失
していることを確認し、カルバメート結合が生成してお
り、下記構造の化合物(以下、シラン化合物(1)と
略)が生成していることを確認した。
メチル−1−フェニルプロパン−1−オン(メルク社
製、商品名ダロキュア1173)または1−ヒドロキシ
シクロヘキシルフェニルケトン(チバガイギー社製、商
品名イルガキュア184)と、3−(トリメトキシシリ
ルプロピル)イソシアネートとの反応により、それぞれ
下記構造の化合物(以下、シラン化合物(2)、
(3)、(4)と略)を得た。
シリカ(シリカ含量30重量%、触媒化成工業(株)
製、商品名OSCAL−1432)50重量部に、参考
例で合成したシラン化合物(1)5.6重量部、0.0
1規定の塩酸水溶液1.5重量部を加え、40℃で1時
間撹拌した。その後、1,6−ヘキサンジオールジアク
リレート(以下、C6DAと略す)45重量部を加え、
減圧下で揮発分をすべて留去した。次いでこれに、紫外
線吸収剤として2−(2−ヒドロキシ−5−tert−
ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール(以下、UA−1
と略す、チバガイギー社製、商品名チヌビン−PS)
3.9重量部を加えて溶解させ、被覆用組成物とした。
(三菱レイヨン社製、商品名ダイヤライト、厚さ1m
m)に塗布し、その上からポリエステルフィルム(ダイ
ヤホイル社製、厚さ50μm)をかぶせながら、スポン
ジロールを用いて密圧着し、塗布膜の厚みが約7μmに
なるようによくしごいた。次いで、照射幅13cmに調
整された120W/cmのメタルハライドランプ(平行
型リフレクター付、オゾンレスタイプ、被射体との距離
30cm)の下を、2m/分のスピードでポリエステル
フィルム面側が照射されるよう通過させた。次いで、ポ
リエステルフィルムのみを剥離し、更に120W/cm
の高圧水銀灯(平行型リフレクター付、オゾンタイプ、
照射幅13cm、被射体とランプの距離30cm)の下
を2m/分の速度で通過させ、被覆用組成物の硬化膜に
より表面が保護された樹脂板を得た。この樹脂板の硬
度、密着性、外観、耐候性、耐水性について上述した方
法に従い評価した。その結果を表2に示す。
ロイダルシリカ50重量部に、シラン化合物(1)5.
6重量部、0.01規定の塩酸水溶液1.5重量部を加
え、40℃で1時間撹拌した。その後、C6DA 35
重量部およびトリメチロールエタン/アクリル酸/コハ
ク酸(モル比2/4/1)の縮合物(以下、TASと
略)15重量部を加え、減圧下で揮発分をすべて留去し
た。次いでこれに、光重合開始剤としてトリメチルベン
ゾイルジフェニルホスフィンオキサイド(以下、APO
と略)1.8重量部およびベンゾフェノン(以下、BN
Pと略す)0.7重量部、紫外線吸収剤としてUA−1
を3.9重量部を加えて溶解させ、被覆用組成物とし
た。
施例1と同様にしてポリカーボネート板上に塗布し硬化
させることによって硬化膜で表面が保護された樹脂板を
得た。この樹脂板についても実施例1と同様に評価し
た。その結果を表2に示す。
に示す各種組成の被覆用組成物を実施例1と同様の方法
で調製し、実施例1で用いたポリカーボネート板または
ポリメチルメタクリレート板(三菱レイヨン社製、商品
名アクリライト、厚さ1mm)の上に実施例1と同様に
して塗布および硬化させることによって、硬化膜で表面
が保護された樹脂板を得た。これらの樹脂板についても
実施例1と同様に評価した。その結果を表2に示す。
コロイダルシリカ100重量部に、シラン化合物(1)
11.2重量部、0.01規定の塩酸水溶液3重量部を
加え、40℃で1時間撹拌した。その後、ビス(アクリ
ロイルオキシエチル)ヒドロキシエチルイソシアヌレー
ト(東亜合成(株)製、商品名アロニックスM−21
5)40重量部、C6DA10重量部、およびイソブチ
ルアルコール60重量部を加え、よく撹拌した。次い
で、これに光重合開始剤としてAPOを0.8重量部お
よびメチルフェニルグリオキシレート(以下、MPGと
略)2.4重量部、紫外線吸収剤としてUA−1を5重
量部を加えて溶解させ、被覆用組成物とした。
いたと同様のポリカーボネート板に0.3cm/秒の速
度で浸漬塗布して、被膜を形成し、室温雰囲気中で10
分間放置し、溶剤を蒸発させた。次いで、ポリエステル
フィルムをかぶせない点および高圧水銀灯照射時の被写
体とランプの距離を15cm、通過速度を1.5m/分
とした点以外は実施例1と同様にして照射を行い、被覆
用組成物の硬化膜により表面が保護された樹脂板を得
た。この樹脂板についても実施例1と同様に評価した。
その結果を表2に示す。
(モル比2/4/1)の縮合物 FA731A:トリス(アクリロイルオキシ)イソシア
ヌレート(日立化成 (株) 製、商品名FA−731A) THFA:テトラヒドロフルフリルアクリレート M−215:ビス(アクリロイルオキシエチル)ヒドロ
キシエチルイソシアヌレート(東亜合成(株)製、商品
名アロニックスM−215) S−1:イソプロピルアルコール分散型コロイダルシリ
カ(シリカ含量30重量%、触媒化成工業(株)製、商
品名OSCAL−1432) S−2:水分散型コロイダルシリカ(シリカ含量20重
量%、日産化学工業(株)製、商品名スノーテックス
O) PTMS:フェニルトリメトキシシラン
くとも塗布可能であり、これを塗布硬化して形成する被
覆膜は、耐摩耗性、耐擦傷性に優れ、外観も良好であ
る。また、優れた耐候性や耐水性をも発現し、膜のクラ
ック等の発生防止にも有効である。
面が上述の硬化被複膜で覆われているので、例えば合成
樹脂成形品において従来より問題であったキズによる審
美性の低下等の各種問題を解消できる。
Claims (2)
- 【請求項1】 (a)分子中に少なくとも2個のアクリ
ロイルオキシ基および/またはメタクリロイルオキシ基
を有する架橋重合性化合物(a-1) 、または該架橋重合性
化合物(a-1) 50重量%以上とこれと共重合可能な化合
物(a-2) とから成る混合物、および(b)活性エネルギ
ー線の照射によりフリーラジカルを生成する官能基を有
するアルコキシシラン化合物の加水分解物で表面が修飾
されたシリカ粒子からなる被覆用組成物。 - 【請求項2】 請求項1記載の被覆用組成物の硬化物で
表面が被覆された成形物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP09131493A JP3179932B2 (ja) | 1993-04-19 | 1993-04-19 | 被覆用組成物および表面被覆成形物 |
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---|---|---|---|
JP09131493A JP3179932B2 (ja) | 1993-04-19 | 1993-04-19 | 被覆用組成物および表面被覆成形物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06299088A JPH06299088A (ja) | 1994-10-25 |
JP3179932B2 true JP3179932B2 (ja) | 2001-06-25 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
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Country Status (1)
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JP (1) | JP3179932B2 (ja) |
-
1993
- 1993-04-19 JP JP09131493A patent/JP3179932B2/ja not_active Expired - Fee Related
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