JP3160422B2 - 光導波路ファイバ線引き装置および方法 - Google Patents

光導波路ファイバ線引き装置および方法

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JP3160422B2 JP12044793A JP12044793A JP3160422B2 JP 3160422 B2 JP3160422 B2 JP 3160422B2 JP 12044793 A JP12044793 A JP 12044793A JP 12044793 A JP12044793 A JP 12044793A JP 3160422 B2 JP3160422 B2 JP 3160422B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は直径変化を軽減しかつフ
ァイバ・バウ(fiber bow)を軽減した光導波路プリフォ
−ムから光導波路ファイバを線引きするための方法およ
び装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】光導波路プリフォ−ムから光導波路ファ
イバを線引きするための方法および装置は公知である。
その装置は通常、プリフォ−ムを軟化させるための熱源
と、ファイバ直径測定装置と、ファイバに保護コ−ティ
ングを施すためのユニットと、ファイバ巻取りユニット
よりなるものである。
【０００３】光導波路ファイバの寸法変化が光学的特性
に大きな影響を及ぼすことが以前から知られている。例
えば、ファイバ直径に３％の相対変化があるとそのファ
イバの最初の１キロメートル長に 0.8dBまでの減衰を与
えることになることが示されている。Montierth, "Opti
cal Fiber Drawing Techniques", Optical Spectra,第4
2−48頁、43、1978年、10月を参照されたい。電気通信
関係のマーケットで従来の銅線のツイストペアに対抗し
うるファイバを作成するためには、±１％またはそれよ
り良好な３σ範囲までファイバ直径の変化を減少させる
必要があるとすでに1978年ころに言われていた。同じく
上記43を参照。
【０００４】ファイバ線引き技術における他の問題点は
ファイバ強度の改善であった。例えば、熱源または炉に
ガス流を導入することによって線引き装置の清潔度が改
善された。このガス流は、周囲の空気の上昇気流が、フ
ァイバが炉から外に出る場所である炉の底から炉に入る
のを阻止する。このような上昇気流はプリフォームの軟
化された部分の近傍に粒子を運び込みうる。その粒子が
軟化したプリフォームまたはファイバに付着し、ファイ
バに脆弱な部分を生じ、その部分が所要の限界以下で破
断してしまうおそれがある。上記ガス流は炉または加熱
されたプリフォームから放出される材料を流し去る作用
もする。例えば、米国特許第４１２６４３６号を参照さ
れたい。
【０００５】しかし、このようにガスを導入すると、フ
ァイバが線引きされるプリフォームの先端部にガスが到
達したときに均一に加熱されていなければ、そのプリフ
ォームの先端部の近傍においてガスが迅速に不均一な加
熱をうけることによって乱流が生じ、ファイバに直径の
変化を生じさせることになる。この不均一加熱の問題に
対する１つの解決策として、ガスがプリフォームの先端
部に到達したときにガスを均一に加熱させる細い円筒状
のチャンネルをプリフォームに隣接して設けることが行
なわれている。例えば、上記米国特許第４１２６４３６
号を参照されたい。また、炉内にヘリウムのようなガス
が存在すれば、ファイバが線引きされるプリフォームの
先端部における温度を安定させうることが示されてい
る。このようにプリフォームの先端部における温度が安
定化されることによって、ファイバの直径変化が軽減さ
れることが示されている。例えば、米国特許第４１５４
５９２号を参照されたい。
【０００６】ファイバのクラッド層の粘度が線引きされ
たファイバにおける差応力、すなわち偏差応力を実質的
に防止するのに十分なだけ高くなる前に線引きされたフ
ァイバが差冷却、すなわち示差冷却されると、ファイバ
に曲げを生じさせることになりうる。この曲げ、または
ファイバ「バウ」（fiber "bow" ）はファイバが他のフ
ァイバにスプライス（splice）されるときに困難を生
じ、高損失のスプライスとなり、これが光ファイバをベ
ースとした通信システムの全体としての性能に悪影響を
及ぼすことになる。このバウの効果は、ファイバの１つ
のリボン・アレイが対向したアレイにスプライスされな
ければならないリボン・ファイバの用途では複合化す
る。
【０００７】本発明者はファイバが線引き用炉から外に
でるときにそのファイバのまわりを循環する室内空気が
ファイバを差冷却することも認めた。これが高い周期で
かつランダムな直径変動を生ずる。典型的には、この変
化はファイバ直径に対する仕様で許容されるものより小
さい。しかし、これらの直径変動は「エアライン」（ai
rline）として知られたファイバの欠陥を隠蔽するのに
十分な大きさである。エアラインはファイバ中の穴であ
り、ファイバ直径の小さな値の急激な変化によって識別
される。
【０００８】ファイバのクラッド層の粘度が線引きされ
たファイバにおける差応力を実質的に防止するのに十分
なだけ高くなる前におけるファイバの差冷却によってバ
ウが生ずるものと本発明者は考える。ファイバの冷却に
ともなって、クラッド層がコア領域に対して急速に冷却
される。このクラッド層の急速冷却がファイバのクラッ
ド層内に大きい引張り応力を誘起する。粘度がクラッド
層における差応力を最小限に抑えるのに十分に高くなる
前にクラッド層が差冷却を受けると、ファイバの周囲に
均一に分布されない引張り応力を生じ、これによってバ
ウが誘起されることになる。
【０００９】線引き処理時に、ヘリウム（または炉内で
用いられる他のガス）の境界層がファイバ表面に隣接し
て生ずる。この境界層は、それが意図的にまたは誤って
炉雰囲気内に導入される付加的なガスのような他の力に
よって破壊されないかぎり、ファイバと一緒に炉の出口
を通って進行するであろう。ヘリウムは非常に効率的な
熱伝達媒体であるから、この境界層はそれが完全なまま
である限りファイバの周囲に実質的に対称的な温度を与
えることができる。周囲の雰囲気における流れによる境
界層の破壊が、ファイバ・バウまたは直径変動を生ずる
ことになりうる差冷却に寄与するものと本発明者は考え
ている。
【００１０】米国特許第４６７３４２７号はファイバ内
に熱的に誘起される応力を防止するために窒素、アルゴ
ンまたは酸素を用いることを開示している。これらの応
力はファイバの減衰を増大させるものであって、ファイ
バが約1800℃から約1200℃まで冷却された場合に大きな
温度勾配によって生ずる。そのガスは炉内に導入され、
そしてほぼプリフォームの温度まで加熱される。ファイ
バが加熱されたプリフォームから線引きされて付設チュ
ーブ内に入れ込まれるにつれて、そのガスが炉からその
チューブ内に流入する。そのチューブの内側に積層流分
布を生じさせるための流量でそのチューブ内に付加的な
ガスが導入される。ファイバは所望の影響を得るために
は少なくとも 0.1秒のあいだチューブ内に留っていなけ
ればならないから、チューブの長さは線引き速度に依存
する。上記米国特許の第１欄第５４−６５行目を参照さ
れたい。
【００１１】特願昭６２−２４６８３７号はファイバの
直径変化を軽減するために線引き用炉のファイバ取り出
し端部にチューブを使用することを開示している。線引
き用炉内に不活性ガスが導入される。ファイバが線引き
されて炉からそのチューブ内に入れ込まれるときに、こ
の不活性ガスはプリフォームの温度に近い温度に加熱さ
れ、そして炉からチューブ内に流入する。また炉からの
輻射熱によってチューブが加熱されるのを防止するため
に炉とチューブとの間にシャッターが設けられている。
【００１２】上記特願昭６２−２４６８３７号における
チューブには炉からこのチューブ内に流入する不活性ガ
スを冷却するための媒体が設けられている。またこの特
願昭６２−２４６８３７号はチューブ内に付加的な不活
性ガスを導入するための手段をも開示している。チュー
ブ内の不活性ガスは、チューブの底部から外に出る不活
性ガスと周囲の雰囲気との間の温度差が無視できるよう
に冷却される。これは周囲の空気が冷却チューブに、従
って炉に入るのを防止するように設計されている。炉内
に周囲空気を導入するとファイバが線引きされているプ
リフォームの先端部の近傍に乱流が生じ、その乱流内の
不均一な温度分布によるファイバの直径変化を生ずるこ
とになるであろうと記載されている。
【００１３】１９８９年６月２１日に公告されたヨ−ロ
ッパ特許出願第０３２１１８２号は線引きされたファイ
バに比較的小さい吸収損失を生ずるために制御された態
様でそのファイバの温度を低下させるための方法を開示
している。そのヨ−ロッパ特許出願では、この制御され
た温度低下を達成するために管状の回収チャンバが用い
られている。
【００１４】その管状回収チャンバは加熱されてもよ
く、あるいは高温のガスがそのチャンバ内に導入されて
もよい。第６欄第５０−５３行目を参照されたい。この
チャンバの出口における温度は約200℃である。第７欄
第８−１１行目を参照されたい。上記ヨ−ロッパ特許出
願は炉に隣接した上記チャンバ内に制御されない周囲空
気が入り込むのを防止するための線引き用炉と回収チャ
ンバとの間におけるシ−ルを開示している。第６欄第１
８−２１行目を参照されたい。上記ヨ−ロッパ特許出願
は炉と回収チャンバとの間のシ−ルの近傍において炉内
付加的なガスを加えることを開示している。このガス流
はファイバに隣接して形成されているかもしれない境界
層を破壊する傾向があり、この破壊がファイバの差冷却
を生じさせ、これにより直径変化またはファイバ・バウ
を生ずることになりうる。また、上記ヨ−ロッパ特許出
願は回収チャンバの出口端部に周囲空気が入り込むのを
防止するための装置を用いることについては開示してい
ないし暗示もしていない。
【００１５】上記ヨ−ロッパ特許出願は、ガラス構造に
おける破断された結合によって生ずる線引きにより誘起
された吸収損失を軽減することに関している。上記ヨ−
ロッパ特許出願の回収チャンバは、ファイバが周囲の空
気に触れるまえに上記破断された結合を再生させ得る温
度分布にそのファイバを露呈させる。これがファイバの
ガラス構造内に上記破断された結合を「凍結」(freezin
g)させるのを防止する。
【００１６】他にも種々のファイバ冷却装置が開示され
ている。これらの装置は保護コ−ティングを施す目的で
ファイバを冷却するために用いられる。米国特許第４２
０８２００号はファイバが通る細長いチャンバを具備し
た液体ファイバ冷却器を開示している。その細長いチャ
ンバは容器内の冷却液体の温度を下げるク−ラント・ジ
ャケットによって包囲されている。
【００１７】米国特許第４４３７８７０号はファイバが
通りかつ冷たい乾燥したヘリウムが導入される細長いチ
ュ−ブを具備したファイバ・ク−ラを開示している。
【００１８】米国特許第４５１４２０５号はファイバが
通る細長いチュ−ブを具備したファイバ・ク−ラを開示
している。上記米国特許第４４３７８７０号と同様に、
この米国特許第４５１４２０５号はその細長いチュ−ブ
内に冷たい乾燥したヘリウムを導入することを開示して
いる。しかし、米国特許第４５１４２０５号はさらに液
化ガスの入ったチャンバを使用し、その液化ガス中にコ
イルを沈ませ、上記冷たい乾燥したヘリウムを上記細長
いチュ−ブに流入させる前にそのコイル中を通すことを
開示している。
【００１９】上記米国特許第４２０８２００号、同第４
４３７８７０号、および同第４５１４２０５号はすべて
直径測定装置の後に配置されるファイバ冷却装置を開示
している。従って、これらの冷却装置はファイバの直径
変化を軽減するのには不適当である。
【００２０】米国特許第４５９４０８８号は線引き用炉
と線引きされたファイバをコ−ティングするための装置
との間に配置された液体ファイバ・ク−ラを開示してい
る。この米国特許第４５９４０８８号の液体ファイバ・
ク−ラはファイバがファイバ直径測定装置を通過した後
の位置に配置されるものであるが、この米国特許第４５
９４０８８号は明示的に液体ファイバ・ク−ラを炉とコ
−ティング装置との間に配置しているにすぎないことが
明らかである。この米国特許第４５９４０８８号はファ
イバを冷却するための炉ガスを使用することについては
開示していなし暗示もしていない。また、この米国特許
第４５９４０８８号は保護用コ−ティング材料を適用す
る前に80℃以下の温度にファイバを冷却することに関す
るものである。
【００２１】
【本発明が解決しようとする課題】本発明の１つの目的
は、光導波路ファイバを線引き温度からこのファイバの
クラッド層の粘度がこのクラッド層における差応力を実
質的に防止するのに十分なだけ高い温度まで実質的に対
称的な態様で冷却するためにそのファイバに隣接して炉
ガスの本質的に均一な境界層を維持するための方法およ
び装置を提供することである。
【００２２】本発明の他の目的は、光導波路ファイバの
クラッド層の粘度がこのクラッド層における差応力を実
質的に防止するのに十分に高くなるまで、このファイバ
を制御されない周囲雰囲気に露呈されないように隔離す
ることによってこのファイバの実質的に対称的な冷却を
行うための方法および装置を提供することである。本発
明の他の目的は、線引きされた光導波路ファイバにおけ
る冷却によって誘起されるバウ（bow）を軽減すること
である。
【００２２】本発明の他の目的は、線引きされた光導波
路ファイバみおける冷却によって誘起されるバウ(bow)
を軽減することである。
【００２３】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、線引き
用炉内で加熱されたプリフォ−ムから光導波路ファイバ
を線引きし、この場合、その炉の頂部にガスを導入し
て、ファイバに隣接して境界層を形成し、この境界層が
ファイバと一緒に炉中を通ってチュ−ブに入る。このチ
ュ−ブはファイバを周囲の雰囲気から隔離し、ファイバ
のクラッド層の粘度がファイバの周囲における差応力を
最小限に抑えるのに十分なだけ高くなるまで、炉内で形
成された境界層が実質的に均一な状態にとどまるように
する。
【００２４】
【実施例】図１は典型的なファイバ線引き装置を示して
いる。光導波路プリフォ−ム１がそれの一端部を光導波
路ファイバ２がトラクタ７によってプリフォ−ム１から
線引きされる温度に加熱手段３によって加熱される。プ
リフォ−ム１は線引き工程時にプリフォ−ム１を加熱手
段３内に進入させる作用もする支持手段（図示せず）に
よって支持されている。
【００２５】ファイバ２は直径測定装置４を通過する。
この直径測定装置４からのフィ−ドバックが、プリフォ
−ム１からファイバ２をトラクタ７が線引きする速度を
制御する制御システム（図示せず）によって用いられ
る。コ−ティング装置５はファイバ２に保護コ−ティン
グを施す。硬化装置６はコ−ティング装置５によって施
されたコ−ティングを硬化する。直径測定装置４とトラ
クタ７との間に一連の対のコ−ティング装置５および硬
化装置６を直列に用いることによって多数のコ−ティン
グ層が適用されうる。例えば、米国特許第４５３１９５
９号を参照されたい。
【００２６】図２は本発明の断面図である。プリフォ−
ム１０は可動支持体（図示せず）のための公知の手段に
固着されている。プリフォ−ム１０は炉１２内で加熱さ
れる。炉１２は公知の線引き用誘導加熱炉を表わしてい
る。例えば、Montierth, "Optical Fiber Drawing Tech
niques", Optical Spectra, pages 42-48, 47, Octobe
r, 1978を参照されたい。ジルコニアのようなサセプタ
材料で作成されたマッフル２０が高周波コイル（図示せ
ず）によって加熱されかつ絶縁物（図示せず）によって
包囲されている。破線２２はマッフル２０に発生される
最高温度のゾ−ンの概略位置を表わしている。
【００２７】上方マッフル延長部２１は気密シ−ルを形
成するためにマッフル２０に連結されている。上方マッ
フル延長部２１は図示されていない構体によって周囲の
大気に対してシ−ルされている。この構体はガスがそれ
を通じて上方マッフル延長部２１の頂部に供給されうる
ガス取入れ口（図示せず）を具備している。
【００２８】延長された下方マッフル延長部３０はチュ
−ブ３１と流れアイソレ−タ３２を具備している。延長
部３０はさらに好ましくはシリカで作成された高温内側
ライニング（図示せず）を具備している。延長部３０は
気密シ−ルを形成するために石英リング３３を用いてマ
ッフル２０に装着されている。マッフル２０と延長部３
０の間には実質的に妨害されない流れが存在する。この
実質的に妨害されない流れは、ファイバとそれに隣接し
たガスがマッフル２０から延長部３０に入るときに、マ
ッフル２０の内側に形成された流れパタ−ンを妨害され
ない状態に維持できるようにする。
【００２９】通常用いられる公知のコ−ティング装置、
硬化装置、およびトラクタは図２に示されていない。
【００３０】線引き工程時に、プリフォ−ム１０の先端
部が破線２１の近傍において線引き温度まで加熱され
る。ファイバ１１がプリフォ−ム１０の加熱された先端
部から線引きされる。
【００３１】上方マッフル延長部２１の頂部に導入され
たガスはヘリウムまたはアルゴンのような不活性ガスよ
りなるのが通常である。上方マッフル延長部２１の頂部
は上述のようにシールされているので、ガスはマッフル
２０中を下方に流れてプリフォーム１０を通過しそして
破線２１で示された最高温度の点を通る。ガスはマッフ
ル２０中を通るときに線引き温度またはそれに近い温度
に加熱される。
【００３２】加熱されたガスはマッフル２０中を下方に
かつファイバ１１と一緒に流れる。ガスの境界層がファ
イバの表面近傍に形成され、そして炉内をファイバ１１
と一緒に移行する。延長部３０はマッフル２０とその延
長部３０との間に実質的に妨害されない流れを生ずるよ
うにマッフル２０に連結されているので、ファイバ１１
がマッフル２０から延長部３０に移動するにつれて、境
界層がマッフル２０から延長部３０に流入する。境界層
は延長部３０中をながれるにつれて実質的に対称的な態
様で徐々に冷却され、それによって実質的に対称的な態
様でファイバ１１を冷却する。ファイバ１１は、このフ
ァイバのクラッド層の粘度がファイバのクラッド層にお
ける差応力を実質的に防止するのに十分なだけ高くなる
ようにするために、1000−1300℃の範囲内の温度に加熱
されさえすればよいと考える。
【００３３】実質的に対称的な態様での冷却は、ファイ
バの粘度が実質的に同じ割合で変化するようにファイバ
の周面のまわりで等しい割合でファイバを冷却すること
を必要とする。ファイバの周面上の１つの点における粘
度がファイバの周面上の他の１つの点における粘度の変
化率とは異なる割合で変化すると、ファイバ・バウを生
ずる差応力が誘起されるであろうと考える。ファイバの
実質的に対称的な冷却はファイバに誘起される差応力を
最小限の抑え、これによって差応力に基因するバウを最
小限に抑える。
【００３４】流れアイソレータ３２は例えばシャッタま
たは調節可能な絞りを具備しうる。ファイバ１１に近接
するまで流れアイソレータ３２を閉じることによって、
周囲の大気が延長部３０の底部に入るのを実質的に防止
することができる。これは、ファイバのクラッド層の粘
度がファイバのクラッド層における差応力を実質的に防
止するのに十分なだけ高くなる前に周囲の大気によるフ
ァイバ１１の差冷却を防止するのを助ける。ファイバが
流れアイソレータ３２を通って周囲の大気に出ると、フ
ァイバに隣接したガスの境界層がファイバと一緒に流れ
アイソレータ３２を通って外に出る。周囲の大気中の流
れがファイバの表面に隣接したガスの境界層を破壊する
であろう。
【００３５】１つの実施例では、線引き速度は毎秒約９
メートルである。ファイバ中のテンションは図面には示
されていないテンション制御装置によって約９０グラム
の一定値に制御される。これにより約2,100−2,300℃の
範囲内の線引き温度を生ずる。炉内に導入されるガスは
約 3.1SLPM（１分当たりの標準リットル）の流量のヘリ
ウムよりなる。
【００３６】延長部は長さ約２０インチ（50.8cm）、内
径約 2.75インチ（7.0cm）のアルミチューブである。こ
のチューブはそれにスロットをカットされており、線引
き工程時に線引き作業員がファイバを見ることができる
ようにするために、そのスロットにはガラス片がシール
されている。チューブの出口における絞りを通じてファ
イバが最初に引張られた後で、この絞りは直径約 0.5イ
ンチ（1.25cm）の開口を形成するように閉じられる。
【００３７】このようにして得られたファイバは125μm
の公称直径を有し、標準偏差は1 μmである。本発明を
使用すれば、ファイバ・バウの測定値は公称的に10,000
mmの曲率半径である。延長部３０を用いない場合に
は、上述した好ましい実施例と同様の条件のもとで走行
されるファイバは約3,00 mmの曲率半径そして測定され
たバウを呈示する。規準化されたバウ測定値はない。上
述の値はファイバの10 mmオ−バ−ハング長のオフセッ
トを測定することによって得られる。
【００３８】ファイバのクラッド層の粘度がファイバの
クラッド層における差応力を実質的に防止するのに十分
なだけ高くなるようにするための1,000-1,300℃の範囲
内の温度へのファイバの実質的に対称的な冷却を生じさ
せるために、延長部３０の長さは、線引き速度の上昇に
ともなって増大する。延長部３０の直径は炉１２の幾何
学的値（直径、長さあるいは容積）の変化に適応するよ
うにあるいはプリフォ−ム１０の幾何学的値の変化に適
応するように修正され得る。
【００３９】本発明の初期の形態が図３に示されてい
る。延長部４０は長さが26インチ(66.0 cm)で内径が0.8
75インチ(2.2 cm)のガラスチュ−ブであり、下方マッフ
ル延長部４３内に挿入される。下方マッフル延長部４３
はマッフル４４に装着されている。マッフル４４と下方
マッフル延長部４３が線引き用炉４５を形成している。
プリフォ−ム（図示せず）が炉４５内で加熱され、そし
てファイバ（図示せず）がそれから線引きされる。
【００４０】ノズル・アセンブリ４１はガス取入れ管４
２を具備しており、これが延長部４０の出口端部内への
付加的なガスの導入を許容する。ノズル・アセンブリ４
１が図４にさらに詳細に示されている。上方ノズル５０
は下方マッフル延長部（図示せず）に挿入される。取入
れ口５１はガス取入れ管（図示せず）からノズル領域内
へのガスの導入を許容する。ファイバ（図示せず）は、
アセンブリ４１を通過して下方ノズル５２を経て外に出
る。この実施例は延長部を設けないで作成されたファイ
バと比較してファイバ・バスの点である程度の改良を見
たが、延長部４０の出口端部に付加的なガスを導入する
ことが、その延長部４０の直径が小さいことと相俟っ
て、ファイバの近傍におけるガスの境界層の崩壊を生ず
る。この崩壊はより大きいバウを生ずることになるファ
イバの差冷却を生じさせる。
【図面の簡単な説明】
【図１】典型的なファイバ線引き装置の概略図である。
【図２】本発明によるファイバ線引き装置の断面図であ
る。
【図３】本発明の他の実施例による線引き装置の断面図
である。
【図４】ノズル・アセンブリの詳細図である。
【符号の説明】
１０ プリフォーム １１ ファイバ １２ 炉 ２０ マッフル ２１ 上方マッフル延長部 ３０ 下方マッフル延長部 ３１ チューブ ３２ 流れアイソレータ ３３ 石英リング ４０ 延長部 ４１ ノズル・アセンブリ ４２ ガス取入れ管 ４３ 下方マッフル延長部 ４４ マッフル ４５ 線引き用炉 ５０ 上方ノズル ５１ 取入れ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ダニエル ワレン ホートフ アメリカ合衆国ノースカロライナ州 28405、ウィルミントン、ポーツマス プレイス 1504 (72)発明者 ヘンリ アンソニ スパイサ アメリカ合衆国ノースカロライナ州 28480、ライツヴィル、リーズ カット 211 (56)参考文献 特開 平１−275443（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C03B 37/00 - 37/16

Claims (10)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 光導波路プリフォーム（１０）から減じ
    られたバウを有する光導波路ファイバ（１１）を線引き
    するための装置であって、 ａ． 前記プリフォームの一端部を線引き温度に加熱す
    るための内径を有するマッフル（２０）を含む炉（１
    ２）と、 ｂ． 前記ファイバを線引きする手段と、 ｃ． 前記プリフォームと前記マッフルとの間に相対移
    動を与えるように前記炉内に前記プリフォームを支持す
    る手段と、 ｄ． 前記プリフォームの加熱された端部から前記ファ
    イバを線引きする際に前記ファイバが円周方向において
    均等に冷却されるように前記ファイバをほぼ対称的な態
    様で冷却して、前記ファイバのクラッド層の粘度が前記
    ファイバのクラッド層における偏差応力の発生を実質的
    に防止するためには十分に高い温度にまで前記ファイバ
    を冷却して、前記ファイバの示差冷却により発生するフ
    ァイバ・バウを低減する冷却手段と、を有する光導波路
    ファイバ線引き装置であって、前記冷却手段は、 ｉ． 前記炉の外部の周囲の雰囲気に対して気密シール
    を形成し且つ前記マッフルの上部に設けられるとともに
    前記炉の頂部領域に不可性ガスを導入可能とする導入口
    を有するガス気密シールと、 ii． 前記周囲の雰囲気に対してガス気密シールを形成
    するのに十分な方法で前記マッフルの下部に接続される
    下方マッフル延長部（３０）であって、前記マッフル及
    び前記下方マッフル延長部を通過する線引きされた前記
    ファイバに隣接する前記ガスの境界層の流れを妨害せ
    ず、ほぼ対称的な態様で冷却する下方マッフル延長部
    （３０）と、 iii． 前記下方マッフル延長部の底部開口に接続され
    る流れアイソレータであって、前記ファイバのクラッド
    層における偏差応力の発生を実質的に防止するよう前記
    ファイバのクラッド層の粘度が十分に高い温度まで、線
    引きされた前記ファイバ及び前記ガスとの境界層を前記
    周囲の雰囲気から隔離する流れアイソレータと、を含む
    ことを特徴とする 光導波路ファイバ線引き装置。
  2. 【請求項２】 前記不活性ガスは、ヘリウム及びアルゴ
    ンの少なくとも１つ であることを特徴とする請求項１記
    載の装置。
  3. 【請求項３】 前記流れアイソレータは、単一の開口の
    みを有することを特徴とする請求項１記載の装置。
  4. 【請求項４】 前記マッフルと前記下方マッフル延長部
    との間の前記ガスの境界層の流れを実質的に妨害するこ
    とを防止するために、下方マッフル延長部は前記マッフ
    ルの内径とほぼ等しい内径を有することを特徴とする請
    求項１記載の装置。
  5. 【請求項５】 前記下方マッフル延長部は、前記マッフ
    ルの内径よりも小さい内径を有することを特徴とする請
    求項１記載の装置。
  6. 【請求項６】 光導波路プリフォーム（１０）から減じ
    られたバウを有する光導波路ファイバ（１１）を線引き
    するための装置であって、 ａ． 前記プリフォームの一端部を線引き温度に加熱す
    るための内径を有するマッフル（２０）を含む炉（１
    ２）と、 ｂ． 前記ファイバを線引きする手段と、 ｃ． 前記プリフォームと前記マッフルとの間に相対移
    動を与えるように前記炉内に前記プリフォームを支持す
    る手段と、ｄ ． 前記プリフォームの加熱された端部から前記ファ
    イバを線引きする際に前記ファイバが円周方向において
    均等に冷却されるように前記ファイバをほぼ対称的な態
    様で冷却する冷却手段であって、前記ファイバのクラッ
    ド層の粘度が前記ファイバのクラッド層における偏差応
    力の発生を実質的に防止するためには十分に高い温度に
    前記ファイバを冷却して、前記ファイバの示差冷却によ
    り発生するファイバ・バウを低減する冷却手段と、を有
    する光導波路ファイバ線引き装置であって、前記冷却手
    段は、 ｉ． 前記炉の外部の周囲の雰囲気に対して気密シール
    を形成し且つ前記マッフルの上部に設けられるとともに
    前記炉の頂部領域に不可性ガスを導入可能とする導入口
    を有するガス気密シールと、 ii． 前記マッフルの内径よりも小なる外径を有し且つ
    開口上方端部及び開口下方端部を有する下方マッフル延
    長部と、を含み、 前記開口上方端部は前記マッフルの開口下方端部から内
    部へと延在して、前記 ガスの境界層の流れは、前記マッ
    フル及び前記下方マッフル延長部を介して線引きされた
    ファイバに近接して妨害されずに前記下方マッフル延長
    部の底部開口を通過し、前記ガスの境界層は、前記下方
    マッフル延長部を通過するとき、ほぼ対称的な態様で冷
    却することを特徴とする 光導波路ファイバ線引き装置。
  7. 【請求項７】 前記不活性ガスは、ヘリウム及びアルゴ
    ンの少なくとも１つであることを特徴とする請求項６記
    載の装置。
  8. 【請求項８】 前記下方マッフル延長部の開口下方端部
    に位置する流れアイソレータをさらに有することを特徴
    とする請求項６記載の装置。
  9. 【請求項９】 流れアイソレータは、前記下方マッフル
    延長部の内径よりも小なる直径を有する線引きされたフ
    ァイバの中央取り出し開口を有することを特徴とする請
    求項６記載の装置。
  10. 【請求項１０】 光導波路プリフォーム（１０）から減
    じられたバウを有する光導波路ファイバ（１１）を線引
    きする方法であって、 ａ． 炉内で前記プリフォームの一端部をファイバ線引
    き温度に加熱する工程と、 ｂ． 一様な不活性雰囲気内で前記プリフォームの前記
    加熱された端部から前記ファイバを線引きする工程と、 ｃ． 前記炉の下方端部に接続される延長チューブにお
    いてほぼ対称的な態様で前記ファイバを冷却する工程で
    あって、前記ファイバの円周方向に均等になるようにし
    て、前記延長チューブの出口において前記ファイバのク
    ラッド層の粘度が前記ファイバのクラッド層における偏
    差応力の発生を実質的に防止するために十分に高い温度
    に前記ファイバを冷却して、前記ファイバの示差冷却に
    より発生するファイバ・バウを低減する工程と、 を含むことを特徴とする 光導波路ファイバの線引き方
    法。
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