JP2001163632A - 光ファイバ製造方法および光ファイバ製造装置 - Google Patents

光ファイバ製造方法および光ファイバ製造装置

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JP2001163632A JP35325899A JP35325899A JP2001163632A JP 2001163632 A JP2001163632 A JP 2001163632A JP 35325899 A JP35325899 A JP 35325899A JP 35325899 A JP35325899 A JP 35325899A JP 2001163632 A JP2001163632 A JP 2001163632A
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heat
preform
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Kaoru Okuno
薫 奥野
Katsuya Nagayama
勝也 永山
Kazuya Kuwabara
一也 桑原
Ichiro Tsuchiya
一郎 土屋
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Sumitomo Electric Industries Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 所定波長における波長分散が長手方向に変化
する光ファイバを優れた制御性で容易に製造することが
できる光ファイバ製造方法等を提供する。 【解決手段】 この光ファイバ製造装置は、炉心管12
0に接続された主管151、この主管151が分岐され
た2つの支管152Aおよび152B、一方の支管15
2Aに接続されたガス供給源153A、バルブ154A
および流量計155A、ならびに、他方の支管152B
に接続されたガス供給源153B、バルブ154Bおよ
び流量計155Bを備える。ガス供給源153Aおよび
153Bそれぞれから炉心管120内に供給される不活
性ガスの流量または組成を変化させる。メインヒータ1
40のみによらずに光ファイバ母材20の下端が受ける
熱量を変化させて線引張力を調整し、この調整された線
引張力に基づいて波長分散が長手方向に変化する光ファ
イバ10を製造する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、線引き炉の炉心管
をメインヒータで加熱して炉心管内の光ファイバ母材の
下端を加熱・溶融し、この光ファイバ母材を線引して光
ファイバを製造する方法および装置に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】所定波長における波長分散が長手方向に
変化する光ファイバとして幾つかのタイプのものが知ら
れている。例えば、所定波長における波長分散が正であ
る正分散区間と負である負分散区間とが長手方向に交互
に設けられて分散マネージメントされた光ファイバは、
非線形光学現象に因る波形劣化および累積波長分散に因
る波形劣化の双方を抑制することができて、波長多重
(WDM: Wavelength Division Multiplexing)伝送シ
ステムの光伝送路として好適に用いられ得るとされてい
る(例えば特開平8−320419号公報を参照)。ま
た、所定波長における波長分散が長手方向に単調に変化
する光ファイバは、ソリトン通信における信号光パルス
を効率よく圧縮することができるソリトンパルス圧縮用
のものとして用いられる得るとされている(例えば特開
平10−167750号公報を参照)。
【0003】一般に光ファイバ母材から光ファイバを製
造するに際しては、線引き炉の炉心管をメインヒータで
加熱して、この炉心管内の光ファイバ母材の下端を加熱
・溶融し、この光ファイバ母材を線引することで光ファ
イバが製造される。上記のような光ファイバを製造する
に際しては、波長分散を長手方向に変化させる為の特別
な工程が設けられている。
【0004】例えば、上記の特開平8−320419号
公報には、コア径または母材径が長手方向に変化する光
ファイバ母材を用意し、この光ファイバ母材を線引きす
る際にファイバ径を一定とすることでコア径を長手方向
に変化させ、このようにすることにより波長分散が長手
方向に変化する光ファイバを製造する技術が開示されて
いる。また、屈折率プロファイルおよび母材径が長手方
向に一定である光ファイバ母材を用意し、この光ファイ
バ母材を線引きする際に、ファイバ径を変化させること
でコア径を変化させ、或いは、線引張力を変化させるこ
とで残留応力に基づいて屈折率を変化させ、このように
することにより波長分散が長手方向に変化する光ファイ
バを製造する技術が開示されている。
【0005】また、上記の特開平10−167750号
公報には、光ファイバ母材を線引きする際に、線引き炉
温度または線引速度を変化させることで線引張力を長手
方向に変化させ、このようにすることにより波長分散が
長手方向に変化する光ファイバを製造する技術が開示さ
れている。さらに、特開平10−139463号公報に
も、線引張力を長手方向に変化させることで光ファイバ
を製造する技術が開示されている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
従来の光ファイバ製造技術は以下のような問題点を有し
ている。すなわち、コア径または母材径が長手方向に変
化する光ファイバ母材を一定ファイバ径に線引すること
は、このような光ファイバ母材を作製する工程がが複雑
であり、製造コストが高い。ファイバ径を変化させる技
術では、これにより製造される光ファイバは、ファイバ
径が長手方向に変化しているので、他の光ファイバとの
融着接続が容易ではなく、接続損失が大きくなる場合が
ある。
【0007】一方、線引張力を変化させる技術は、上記
のような問題点を有しないものの、以下のような問題点
を有している。すなわち、特開平10−167750号
公報に開示されたように線引張力を長手方向に変化させ
るためにヒータで線引き炉の温度を変化させようとして
も、線引き炉の熱容量が大きいことから、炉心管内の光
ファイバ母材の下端の温度を短時間に変化させることが
できない。このことは、製造される分散マネージメント
光ファイバにおいて正分散区間と負分散区間との間の過
渡区間が長くなることを意味し、この過渡区間では波長
分散の絶対値が小さいことから、非線形光学現象に因る
波形劣化を抑制するという効果を充分に達成することが
できない。また、特開平10−167750号公報に開
示されたように線引張力を長手方向に変化させるために
線引速度を変化させると、非常に長時間をかけて線引速
度を変化させない限り、製造される光ファイバのファイ
バ径が変化してしまう。したがって、同様に過渡区間が
長くなる。なお、特開平10−139463号公報に
は、線引張力を長手方向に変化させるための具体的手段
については開示されていない。
【0008】本発明は、上記問題点を解消する為になさ
れたものであり、所定波長における波長分散が長手方向
に変化する光ファイバを優れた制御性で容易に製造する
ことができる光ファイバ製造方法および光ファイバ製造
装置を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明に係る光ファイバ
製造方法は、線引き炉の炉心管をメインヒータで加熱し
て炉心管内の光ファイバ母材の下端を加熱・溶融し、光
ファイバ母材を線引して光ファイバを製造する方法であ
って、その線引の際に、メインヒータのみによらずに光
ファイバ母材の下端が受ける熱量を変化させて線引張力
を調整し、この調整された線引張力に基づいて波長分散
が長手方向に変化する光ファイバを製造することを特徴
とする。この光ファイバ製造方法によれば、メインヒー
タのみによらずに光ファイバ母材の下端が受ける熱量を
変化させることにより、炉心管内の光ファイバ母材の下
端の温度を短時間に変化させることができる。したがっ
て、例えば製造される光ファイバが分散マネージメント
光ファイバである場合、正分散区間と負分散区間との間
の過渡区間が短くなり、非線形光学現象に因る波形劣化
を抑制するという効果を充分に達成することができる。
【0010】本発明に係る光ファイバ製造方法は、光フ
ァイバ母材の下端の周囲に供給するガスの流量および組
成の双方または何れか一方を変化させることで、光ファ
イバ母材の下端が受ける熱量を変化させることを特徴と
する。或いは、光ファイバ母材の下端の近傍に補助ヒー
タを設け、この補助ヒータによる加熱の状態を変化させ
ることで、光ファイバ母材の下端が受ける熱量を変化さ
せることを特徴とする。或いは、光ファイバ母材の下端
の近傍に断熱材を設け、この断熱材による断熱の状態を
変化させることで、光ファイバ母材の下端が受ける熱量
を変化させることを特徴とする。或いは、光ファイバ母
材と線引き炉との間の相対的位置関係を変化させること
で、光ファイバ母材の下端が受ける熱量を変化させるこ
とを特徴とする。これら何れの場合にも、メインヒータ
のみによらずに光ファイバ母材の下端が受ける熱量を変
化させる上で好適である。
【0011】本発明に係る光ファイバ製造方法は、線引
張力を測定して、この測定された線引張力が所定値とな
るよう光ファイバ母材の下端が受ける熱量を制御するこ
とを特徴とする。この場合には、所望の線引張力を得る
ために、不活性ガスの流量または組成、補助ヒータによ
る加熱の状態、断熱材による断熱の状態、または、光フ
ァイバ母材と線引き炉との間の相対的位置関係の微調整
をすることができる。
【0012】本発明に係る光ファイバ製造装置は、線引
き炉の炉心管をメインヒータで加熱して炉心管内の光フ
ァイバ母材の下端を加熱・溶融し、光ファイバ母材を線
引して光ファイバを製造する装置であって、光ファイバ
母材の下端の周囲にガスを供給するとともに、そのガス
の流量および組成の双方または何れか一方を変化させ
て、光ファイバ母材の下端が受ける熱量を変化させるガ
ス供給手段を備えることを特徴とする。或いは、光ファ
イバ母材の下端の近傍に設けられ、加熱の状態を変化さ
せて、光ファイバ母材の下端が受ける熱量を変化させる
補助ヒータを備えることを特徴とする。或いは、光ファ
イバ母材の下端の近傍に設けられ、断熱の状態を変化さ
せて、光ファイバ母材の下端が受ける熱量を変化させる
断熱材を備えることを特徴とする。これら何れの光ファ
イバ製造装置によっても、メインヒータのみによらずに
光ファイバ母材の下端が受ける熱量を変化させることに
より、炉心管内の光ファイバ母材の下端の温度を短時間
に変化させることができる。したがって、例えば製造さ
れる光ファイバが分散マネージメント光ファイバである
場合、正分散区間と負分散区間との間の過渡区間が短く
なり、非線形光学現象に因る波形劣化を抑制するという
効果を充分に達成することができる。
【0013】本発明に係る光ファイバ製造装置は、線引
張力を測定する張力測定手段と、この張力測定手段によ
り測定された線引張力が所定値となるよう光ファイバ母
材の下端が受ける熱量を制御する制御手段と、を更に備
えることを特徴とする。この場合には、張力測定手段に
より測定された線引張力に基づいて、所望の線引張力を
得るために、不活性ガスの流量または組成、補助ヒータ
による加熱の状態、断熱材による断熱の状態、または、
光ファイバ母材と線引き炉との間の相対的位置関係の微
調整が制御手段により行われる。
【0014】
【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照して本発明
の実施の形態を詳細に説明する。なお、図面の説明にお
いて同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を
省略する。
【0015】先ず、本実施形態に係る光ファイバ製造方
法または光ファイバ製造装置により製造される光ファイ
バの1例について図1を用いて説明する。この図に示す
光ファイバ10は、所定波長(例えば波長1.55μ
m)における波長分散が正である正分散区間11と負で
ある負分散区間12とが長手方向に交互に設けられて分
散マネージメントされたものである。そして、この光フ
ァイバ10は、局所的な波長分散の絶対値を殆どの領域
で大きくする(例えば1ps/nm/km以上とする)
ことで、非線形光学現象に因る波形劣化を抑制すること
ができる。また、この光ファイバ10は、全長に亘る平
均波長分散を小さくすることで、累積波長分散に因る波
形劣化を抑制することができる。それ故、この光ファイ
バ10は、WDM伝送システムの光伝送路として好適に
用いられる。この光ファイバ10は、ファイバ径が長手
方向に略一定であり、コア径も長手方向に略一定であ
る。本実施形態では、光ファイバ母材から線引して光フ
ァイバ10を製造する際に、その光ファイバ母材の加熱
・溶融された下端が受ける熱量を変化させて線引張力を
変化させることで、光ファイバ10の波長分散が長手方
向に変化している。
【0016】図2は、光ファイバ10の屈折率プロファ
イルの1例の説明図である。この光ファイバ10は、中
心から順に、最大屈折率がn1で外径が2aであるコア
領域、屈折率がn2で外径が2bであるディプレスト領
域、および、屈折率がn3であるクラッド領域を有し、
各屈折率の大小関係が n1>n3>n2 である。このよ
うな屈折率プロファイルは、石英ガラスをベースとし
て、例えば、コア領域にGeO2を添加し、ディプレス
ト領域にF元素を添加することにより、実現することが
できる。例えば、クラッド領域の屈折率を基準として、
コア領域の比屈折率差Δ1は0.9%であり、ディプレ
スト領域の比屈折率差Δ2は−0.45%である。ま
た、コア領域およびディプレスト領域それぞれの外径の
比(2a/2b)は0.58であり、ディプレスト領域
の外径2bは11μmである。
【0017】次に、光ファイバ製造方法および光ファイ
バ製造装置の概略について図3を用いて説明する。本実
施形態に係る光ファイバ製造方法および光ファイバ製造
装置の特徴的な事項については後述する。
【0018】この光ファイバ製造装置1では、光ファイ
バ母材20は、フィーダ110に取り付けられ、炉心管
120の内部にセットされる。そして、炉心管120内
に不活性ガス(N2,He,Ar等)が供給されるとと
もに、メインヒータ140により炉心管120が加熱さ
れ、これにより光ファイバ母材20の下端が加熱・溶融
されてネックダウン部となり、この加熱・溶融された光
ファイバ母材20の下端から光ファイバ10が線引きさ
れる。
【0019】炉心管120から外部に出た光ファイバ1
0は、外径測定器210によりガラス径が測定され、強
制冷却手段(図示せず)により強制冷却される。この外
径測定器210による測定結果は線引制御部300に報
告され、この線引制御部300により光ファイバ10の
ガラス径が所定値(通常は125μm)となるように線
引条件が制御される。外径測定器210を経た光ファイ
バ10は、張力測定器220により非接触でガラスの張
力が測定される。この張力測定器220による測定結果
は線引制御部300に報告され、この線引制御部300
により光ファイバ10の張力が所定値となるように線引
条件が制御される。
【0020】張力測定器220を経た光ファイバ10
は、被覆部230において、紫外線硬化型樹脂がコーテ
ィングされ、その紫外線硬化型樹脂が紫外光照射により
硬化されて、1次被覆層で被覆される。被覆部230に
おいて被覆された光ファイバ10は、外径測定器240
により被覆径が測定される。その後、光ファイバ10
は、キャプスタン250、ローラ260,ダンサーロー
ラ270およびローラ280を順に経て、ボビン290
により巻き取られる。
【0021】線引制御部300は、外径測定器210に
より測定された光ファイバ10のガラス径および張力測
定器220により測定された光ファイバ10のガラスの
張力それぞれの値に基づいて、キャプスタン250の回
転を制御して線引速度を調整し、ダンサーローラ270
の位置が一定になるようにボビン290の回転を制御
し、線速・張力を制御するためにフィーダ110の送り
速度を制御して光ファイバ母材20を炉心管120内に
挿入し、メインヒータ140を一定温度に制御して炉心
管120を加熱する。さらに、本実施形態では、線引制
御部300は、補助ヒータ161を制御し、或いは、炉
心管120内に供給するガスの種類や流量を制御する。
【0022】本実施形態の特徴的な事項は、以上のよう
な光ファイバ製造方法または光ファイバ製造装置におい
て、メインヒータ140のみによらずに炉心管120内
の光ファイバ母材20の下端(ネックダウン部)が受け
る熱量を変化させることで線引張力を調整し、この調整
された線引張力に基づいて波長分散が長手方向に変化す
る光ファイバ10を製造する点にある。メインヒータ1
40による炉心管120の加熱の状態を変化させる必要
はない。
【0023】このようにメインヒータ140のみによら
ずに光ファイバ母材20の下端が受ける熱量を変化させ
ることにより、炉心管内120の光ファイバ母材20の
下端の温度を短時間に変化させることができる。したが
って、製造される分散マネージメント光ファイバ10に
おいて正分散区間11と負分散区間12との間の過渡区
間が短くなり、非線形光学現象に因る波形劣化を抑制す
るという効果を充分に達成することができる。
【0024】以下では、メインヒータ140のみによら
ずに炉心管120内の光ファイバ母材20の下端が受け
る熱量を変化させる各々の具体的手段について第1〜第
4の実施形態として説明する。以下の何れの実施形態に
おいても、図1および図2で説明したような分散マネー
ジメント光ファイバ10を製造するものとし、正分散区
間11および負分散区間12それぞれの区間長を約2k
mとし、光ファイバ10のガラス径を125μmとして
説明する。
【0025】(第1の実施形態)先ず、本発明に係る光
ファイバ製造方法および光ファイバ製造装置の第1の実
施形態について説明する。図4は、第1の実施形態に係
る光ファイバ製造装置の要部(線引き炉130の周辺)
の説明図である。本実施形態は、炉心管120内の光フ
ァイバ母材20の下端の周囲に供給する不活性ガスの流
量および組成の双方または何れか一方を変化させること
で、光ファイバ母材20の下端が受ける熱量を変化させ
るものである。
【0026】本実施形態に係る光ファイバ製造装置は、
炉心管120内に不活性ガスを供給するガス供給手段と
して、炉心管120に接続された主管151、この主管
151が分岐された2つの支管152Aおよび152
B、一方の支管152Aに接続されたガス供給源153
A、バルブ154Aおよび流量計155A、ならびに、
他方の支管152Bに接続されたガス供給源153B、
バルブ154Bおよび流量計155Bを備える。
【0027】ガス供給源153Aおよび153Aそれぞ
れは、不活性ガス(N2,He,Ar等)のうち互いに
組成が異なるものを炉心管120内に供給する。ガス供
給源153Aから供給される不活性ガスは、支管152
Aおよび主管151を経て、炉心管120内に供給され
る。このガス供給源153Aから供給される不活性ガス
の流量は、バルブ154Aにより調整され、流量計15
5Aにより測定される。一方、ガス供給源153Bから
供給される不活性ガスは、支管152Bおよび主管15
1を経て、炉心管120内に供給される。このガス供給
源153Bから供給される不活性ガスの流量は、バルブ
154Bにより調整され、流量計155Bにより測定さ
れる。
【0028】線引制御部300は、流量計155Aおよ
び155Bそれぞれによる各不活性ガス流量の測定値に
基づいて、バルブ154Aおよび154Bそれぞれを制
御して各不活性ガス流量を調整することにより、ガス供
給源153Aおよび153Bそれぞれから炉心管120
内に供給される不活性ガスの流量または組成を変化させ
る。このようにすることで、メインヒータ140のみに
よらずに光ファイバ母材20の下端が受ける熱量を変化
させて線引張力を調整し、この調整された線引張力に基
づいて波長分散が長手方向に変化する光ファイバ10を
製造することができる。
【0029】また、線引制御部300は、張力測定器2
20により測定された光ファイバ10のガラスの張力に
基づいて、その測定された張力が所望値となるよう、ガ
ス供給源153Aおよび153Bそれぞれから炉心管1
20内に供給される不活性ガスの流量または組成を変化
させるのが好適である。このようにすることで、所望の
線引張力を得るために不活性ガスの流量または組成を微
調整することができる。
【0030】正分散区間11と負分散区間12との間の
過渡区間を短くすることで伝送特性が優れた光ファイバ
10を製造する観点からは、不活性ガスの流量や組成の
変更は短時間に行われることが好ましい。しかし、不活
性ガスの流量や組成の変更が余りに急激であると、炉心
管120内の温度分布や母材溶融状態が変動して、光フ
ァイバ10のガラス径の変動が大きくなってガラス径制
御が追随できなくなり、さらに光ファイバ10が断線す
る危険がある。そこで、線引制御部300は、流量計1
55A,155Bによる各不活性ガス流量の測定値に基
づいて、光ファイバ10のガラス系制御が追従できる限
り短い時間で、バルブ154A,154Bを制御して不
活性ガス流量を調整することにより、ガス供給源153
A,153Bから炉心管120内に供給される不活性ガ
スの流量または組成を変化させる。
【0031】本願発明者が行った実験によれば、線速1
00m/minのとき、熱伝導率が高く一般的に用いら
れているHeガスを用いると、流量20L/minでは
線引張力は98mN(10g)になるようにメインヒー
タ140の温度やフィーダ送り速度を設定すると、流量
40L/minでは線引張力は147mN(15g)で
あった。また、N2ガスを用いると、流量20L/mi
nでは線引張力は196mN(20g)であり、流量4
0L/minでは線引張力は274mN(28g)であ
った。さらに、異種の不活性ガスを混合して炉心管12
0内に供給し、その混合ガスの流量を変化させても、線
引張力は変化した。このように不活性ガスの組成または
流量を調整することで所望の線引張力を得ることができ
た。なお、不活性ガスの組成または流量と線引張力との
間の関係は線引き炉130および炉心管120の形状や
大きさに依存して異なる。上記の数値は、光ファイバ母
材20の外径が約35mm、炉心管120の内径が約4
5mm、炉心管120の炉長が350mmであるときの
ものである。
【0032】メインヒータ140による炉心管120の
加熱の状態を変化させることなく、光ファイバ10の正
分散区間11および負分散区間12それぞれの波長分散
の絶対値が1ps/nm/km以上となるような線引張
力が得られるよう、炉心管120内に供給される不活性
ガスの流量および組成を変化させた。ここでは、線速を
300m/minとした。すなわち、正分散区間11で
は、Heガス流量を10L/minとし、かつ、N2
ス流量を40L/minとすることで、線引張力を88
2mN(90g)とすることができ、これにより波長
1.55μmにおける波長分散を+4.5ps/nm/
kmとすることができた。一方、負分散区間12では、
Heガス流量を30L/minとし、かつ、N2ガス流
量を15L/minとすることで、線引張力を392m
N(40g)とすることができ、これにより波長1.5
5μmにおける波長分散を−4.5ps/nm/kmと
することができた。
【0033】このようにして各区間長が2kmで全長が
20kmの分散マネージメントされた光ファイバ10を
製造した。波長1.55μmにおいて、この光ファイバ
10の全長での平均波長分散は0.1ps/nm/km
であり、伝送損失は0.23dB/kmであった。な
お、ここでも、不活性ガスの組成および流量と線引張力
との間の関係は線引き炉130および炉心管120の形
状や大きさに依存して異なる。上記の数値は、光ファイ
バ母材20の外径が約35mm、炉心管120の内径が
約45mm、炉心管120の炉長が350mmであると
きのものである。
【0034】(第2の実施形態)次に、本発明に係る光
ファイバ製造方法および光ファイバ製造装置の第2の実
施形態について説明する。図5は、第2の実施形態に係
る光ファイバ製造装置の要部(線引き炉130の周辺)
の説明図である。本実施形態は、メインヒータ140と
は別に補助ヒータ161を設け、この補助ヒータ161
による加熱の状態を変化させることで、光ファイバ母材
20の下端が受ける熱量を変化させるものである。
【0035】本実施形態に係る光ファイバ製造装置は、
炉心管120の周囲であってメインヒータ140の下方
に補助ヒータ161を備える。この補助ヒータ161
は、光ファイバ母材20の下端(ネックダウン部)の近
傍に設けられるのが好適である。そこで、図に示すよう
に、下端が加熱・溶融された光ファイバ母材20の形状
に合わせて、炉心管120の形状も下部の径が細くなっ
ている。そして、この炉心管120の径が細くなった箇
所の周囲に補助ヒータ161が設けられて、補助ヒータ
161が光ファイバ母材20の下端近くに配置されてい
る。さらに補助ヒータ161の温度を放射温度計(図示
せず)で測定している。
【0036】この補助ヒータ161は、5kW程度の容
量を有している。線引制御部300は、補助ヒータ16
1の加熱の状態(オン=温度制御/オフ)を変化させ
る。このようにすることで、メインヒータ140のみに
よらずに光ファイバ母材20の下端が受ける熱量を変化
させて線引張力を調整し、この調整された線引張力に基
づいて波長分散が長手方向に変化する光ファイバ10を
製造することができる。
【0037】また、線引制御部300は、張力測定器2
20により測定された光ファイバ10のガラスの張力に
基づいて、その測定された張力が所望値となるよう、補
助ヒータ161の加熱の状態を変化させるのが好適であ
る。このようにすることで、所望の線引張力を得るため
に補助ヒータ161の加熱の状態を微調整することがで
きる。張力を減らすには、補助ヒータ161をオンと
し、張力を増やすには補所ヒータ161をオフとすれば
よい。
【0038】メインヒータ140による炉心管120の
加熱の状態を変化させることなく、光ファイバ10の正
分散区間11および負分散区間12それぞれの波長分散
の絶対値が1ps/nm/km以上となるような線引張
力が得られるよう、メインヒータ140の加熱状態を設
定し、補助ヒータ161をオン=温度制御/オフさせ
た。すなわち、正分散区間11では、補助ヒータ161
をオフとすることで、線引張力を882mN(90g)
とすることができ、これにより波長1.55μmにおけ
る波長分散を+4.5ps/nm/kmとすることがで
きた。なお、本実施形態では、この時、補助ヒータ16
1の温度は周囲からの伝熱で900℃〜1000℃であ
った。一方、負分散区間12では、補助ヒータ161を
オン(温度1700℃に制御)とすることで、線引張力
を392mN(40g)とすることができ、これにより
波長1.55μmにおける波長分散を−4.5ps/n
m/kmとすることができた。なお、張力測定器により
張力を測定し、所定の張力を維持できるよう補助ヒータ
161をこまめにオン/オフして温度制御した。このよ
うにして各区間長が2kmで全長が20kmの分散マネ
ージメントされた光ファイバ10を製造した。波長1.
55μmにおいて、この光ファイバ10の全長での平均
波長分散は0.1ps/nm/kmであり、伝送損失は
0.23dB/kmであった。
【0039】なお、炉心管120の形状は、図5では下
部でテーパ状に細くなっているが、これに限られるもの
ではなく、図6のようなものであってもよい。また、補
助ヒータ161は、図5、図6に示すように線引き炉1
30の筐体の内部にあってもよいし、線引き炉130の
筐体の外部にあってもよい。
【0040】(第3の実施形態)次に、本発明に係る光
ファイバ製造方法および光ファイバ製造装置の第3の実
施形態について説明する。図7は、第3の実施形態に係
る光ファイバ製造装置の要部(線引き炉130の周辺)
の説明図である。本実施形態は、光ファイバ母材20の
下端の近傍に断熱材171を設け、この断熱材171に
よる断熱の状態を変化させることで、光ファイバ母材2
0の下端が受ける熱量を変化させるものである。
【0041】本実施形態に係る光ファイバ製造装置は、
光ファイバ母材20の下端の近傍に断熱材171、この
断熱材171を支持する支持部173、および、支持部
173を介して断熱材171を上下移動させる駆動部1
74を備える。断熱材171は、光ファイバ母材20の
下部の周囲を取り囲めるよう略管形状のものであり、光
ファイバ母材20の下部の形状に合わせて内側面がテー
パ状になっている。そして、断熱材171は、駆動部1
74により上下移動が可能であり、これにより、断熱の
状態を変化させて、光ファイバ母材20の下端が受ける
熱量を変化させる。すなわち、断熱材171が上に移動
して、光ファイバ母材20の下部と炉心管120との間
に断熱材171があるときには、断熱効果が最も優れ、
光ファイバ母材20から炉心管120への熱輻射の一部
を遮ることができる。断熱材171を下から上へ移動さ
せて、光ファイバ母材20の下端の温度を上昇させるこ
とができる。一方、断熱材171が下に移動して、線引
き炉130の下方に断熱材171があるときには、断熱
効果が無い。断熱材171を上から下へ移動させて、光
ファイバ母材20の下端の温度を降下させることができ
る。
【0042】線引制御部300は、駆動部174および
支持部173を介して断熱材171を上下移動させる。
このようにすることで、メインヒータ140のみによら
ずに光ファイバ母材20の下端が受ける熱量を変化させ
て線引張力を調整し、この調整された線引張力に基づい
て波長分散が長手方向に変化する光ファイバ10を製造
することができる。
【0043】また、線引制御部300は、張力測定器2
20により測定された光ファイバ10のガラスの張力に
基づいて、その測定された張力が所望値となるよう、断
熱材171による断熱の状態すなわち断熱材171の位
置を変化させるのが好適である。このようにすること
で、所望の線引張力を得るために断熱材171の位置を
微調整することができる。
【0044】メインヒータ140による炉心管120の
加熱の状態を変化させることなく、光ファイバ10の正
分散区間11および負分散区間12それぞれの波長分散
の絶対値が1ps/nm/km以上となるような線引張
力が得られるよう、メインヒータ140の加熱状態を設
定し、断熱材171を上下させた。すなわち、正分散区
間11では、断熱材171を下位置に置くことで、線引
張力を882mN(90g)とすることができ、これに
より波長1.55μmにおける波長分散を+4.5ps
/nm/kmとすることができた。一方、負分散区間1
2では、断熱材171を上位置に置くことで、線引張力
を392mN(40g)とすることができ、これにより
波長1.55μmにおける波長分散を−4.5ps/n
m/kmとすることができた。このようにして各区間長
が2kmで全長が20kmの分散マネージメントされた
光ファイバ10を製造した。波長1.55μmにおい
て、この光ファイバ10の全長での平均波長分散は0.
1ps/nm/kmであり、伝送損失は0.23dB/
kmであった。
【0045】なお、図7に示すように、炉心管120内
に挿入可能なように断熱材171を設けてもよいし、図
8に示すように、炉心管120の周囲に移動可能に断熱
材172を設けてもよい。後者の場合には、断熱材17
2は、炉心管120の周囲に置かれているときには、炉
心管120からの放熱を防ぐ。断熱材172を下から上
へ移動させて、光ファイバ母材20の下端の温度を上昇
させる。一方、断熱材172が下に移動して炉心管12
0より下方に置かれているときには、炉心管120から
の放熱を促す。断熱材172を上から下へ移動させて、
光ファイバ母材20の下端の温度を降下させる。
【0046】(第4の実施形態)次に、本発明に係る光
ファイバ製造方法および光ファイバ製造装置の第4の実
施形態について図4を用いて説明する。本実施形態は、
光ファイバ母材20と線引き炉130との間の相対的位
置関係を変化させることで、光ファイバ母材20の下端
が受ける熱量を変化させるものである。すなわち、フィ
ーダ110により光ファイバ母材20を上下移動させ
る。
【0047】光ファイバ母材20の下端がメインヒータ
140の中央よりやや下(下端近く)にあるときには、
光ファイバ母材20の下端の温度を上昇させることがで
きる。一方、光ファイバ母材20の下端がその位置から
上へ離れると、光ファイバ母材20の下端の温度は降下
する。線引制御部300は、フィーダ110を介して光
ファイバ母材20を上下移動させる。このようにするこ
とで、メインヒータ140のみによらずに光ファイバ母
材20の下端が受ける熱量を変化させて線引張力を調整
し、この調整された線引張力に基づいて波長分散が長手
方向に変化する光ファイバ10を製造することができ
る。
【0048】また、線引制御部300は、張力測定器2
20により測定された光ファイバ10のガラスの張力に
基づいて、その測定された張力が所望値となるよう、光
ファイバ母材20の位置を変化させるのが好適である。
このようにすることで、所望の線引張力を得るために光
ファイバ母材20の位置を微調整することができる。
【0049】メインヒータ140による炉心管120の
加熱の状態を変化させることなく、光ファイバ10の正
分散区間11および負分散区間12それぞれの波長分散
の絶対値が1ps/nm/km以上となるような線引張
力が得られるよう、メインヒータ140の加熱状態を設
定し、光ファイバ母材20を上下させる。すなわち、線
速30m/minにおいて、正分散区間11では、光フ
ァイバ母材20を下位置に置いて光ファイバ母材20の
下端をメインヒータ140の中心よりやや下近くにおく
ことで、線引張力を大きくすることができ、これにより
波長1.55μmにおける波長分散を正の値することが
できる。一方、負分散区間12では、光ファイバ母材2
0を上位置(下位置より20mm上)に置くことで、線
引張力を小さくすることができ、これにより波長1.5
5μmにおける波長分散を負の値とすることができる。
これは、光ファイバ母材20を上下に動かすことにより
光ファイバ10の線速が変化し、それにつれて張力が変
化するからである。光ファイバ10のガラス径を一定に
するために、フィーダ110の送り速度を制御して、光
ファイバ10の線速が大きくは変化しないようにする。
【0050】本発明者が行った実験によれば、メインヒ
ータ140で線引き炉130の温度を変化させたときの
光ファイバ10の張力の変化率は約19.6mN(2
g)/分であり、ガス流量を変化させたときの光ファイ
バ10の張力の変化率は約78.4mN(8g)/分で
あった。波長分散を+4.5ps/nm/km〜−4.
5ps/nm/kmの間で変化させる場合、すなわち、
張力を882mN(90g)〜392mN(40g)の
間で変化させる場合、メインヒータ140で線引き炉1
30の温度を変化させる方法では25分を要するが、ガ
ス流量を変化させる方法では6分で済み、大幅に時間が
短縮される。
【0051】
【発明の効果】以上、詳細に説明したとおり、本発明に
よれば、メインヒータのみによらずに光ファイバ母材の
下端が受ける熱量を変化させることにより、炉心管内の
光ファイバ母材の下端の温度を短時間に変化させること
ができる。したがって、例えば製造される光ファイバが
分散マネージメント光ファイバである場合、正分散区間
と負分散区間との間の過渡区間が短くなり、非線形光学
現象に因る波形劣化を抑制するという効果を達成するこ
とができる。
【0052】また、光ファイバ母材の下端が受ける熱量
を変化させるに際しては、光ファイバ母材の下端の周囲
に供給するガスの流量および組成の双方または何れか一
方を変化させ、或いは、光ファイバ母材の下端の近傍に
補助ヒータを設けて該補助ヒータによる加熱の状態を変
化させ、或いは、光ファイバ母材の下端の近傍に断熱材
を設けて該断熱材による断熱の状態を変化させ、或い
は、光ファイバ母材と線引き炉との間の相対的位置関係
を変化させるのが好適であり、これら何れの場合にも、
メインヒータのみによらずに光ファイバ母材の下端が受
ける熱量を短時間に変化させることができる。
【0053】また、線引張力を測定して、この測定され
た線引張力が所定値となるよう光ファイバ母材の下端が
受ける熱量を制御する場合には、所望の線引張力を得る
ために、光ファイバ母材の下端の周囲に供給するガスの
流量または組成、補助ヒータによる加熱の状態、断熱材
による断熱の状態、または、光ファイバ母材と線引き炉
との間の相対的位置関係の微調整をすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本実施形態に係る光ファイバ製造方法または光
ファイバ製造装置により製造される光ファイバの1例の
説明図である。
【図2】光ファイバの屈折率プロファイルの1例の説明
図である。
【図3】光ファイバ製造装置の概略構成図である。
【図4】第1および第4の実施形態それぞれに係る光フ
ァイバ製造装置の要部の説明図である。
【図5】第2の実施形態に係る光ファイバ製造装置の要
部の説明図である。
【図6】第2の実施形態に係る光ファイバ製造装置の変
形例の要部の説明図である。
【図7】第3の実施形態に係る光ファイバ製造装置の要
部の説明図である。
【図8】第3の実施形態に係る光ファイバ製造装置の変
形例の要部の説明図である。
【符号の説明】
1…光ファイバ製造装置、10…光ファイバ、11…正
分散区間、12…負分散区間、20…光ファイバ母材、
110…フィーダ、120…炉心管、130…線引き
炉、140…メインヒータ、151…主管、152A,
152B…支管、153A,153B…ガス供給源、1
54A,154B…バルブ、155A,155B…流量
計、161…補助ヒータ、171,172…断熱材、1
73…支持部、174…駆動部、210…外径測定器、
220…張力測定器、230…被覆部、250…外径測
定器、250…キャプスタン、260…ローラ、270
…ダンサーローラ、280…ローラ、290…ボビン、
300…線引制御部。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 桑原 一也 神奈川県横浜市栄区田谷町1番地 住友電 気工業株式会社横浜製作所内 (72)発明者 土屋 一郎 神奈川県横浜市栄区田谷町1番地 住友電 気工業株式会社横浜製作所内 Fターム(参考) 4G021 HA02 HA05

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 線引き炉の炉心管をメインヒータで加熱
    して前記炉心管内の光ファイバ母材の下端を加熱・溶融
    し、前記光ファイバ母材を線引して光ファイバを製造す
    る方法であって、 その線引の際に、前記メインヒータのみによらずに前記
    光ファイバ母材の前記下端が受ける熱量を変化させて線
    引張力を調整し、この調整された線引張力に基づいて波
    長分散が長手方向に変化する前記光ファイバを製造する
    ことを特徴とする光ファイバ製造方法。
  2. 【請求項2】 前記光ファイバ母材の前記下端の周囲に
    供給するガスの流量および組成の双方または何れか一方
    を変化させることで、前記光ファイバ母材の前記下端が
    受ける熱量を変化させることを特徴とする請求項1記載
    の光ファイバ製造方法。
  3. 【請求項3】 前記光ファイバ母材の前記下端の近傍に
    補助ヒータを設け、この補助ヒータによる加熱の状態を
    変化させることで、前記光ファイバ母材の前記下端が受
    ける熱量を変化させることを特徴とする請求項1記載の
    光ファイバ製造方法。
  4. 【請求項4】 前記光ファイバ母材の前記下端の近傍に
    断熱材を設け、この断熱材による断熱の状態を変化させ
    ることで、前記光ファイバ母材の前記下端が受ける熱量
    を変化させることを特徴とする請求項1記載の光ファイ
    バ製造方法。
  5. 【請求項5】 前記光ファイバ母材と前記線引き炉との
    間の相対的位置関係を変化させることで、前記光ファイ
    バ母材の前記下端が受ける熱量を変化させることを特徴
    とする請求項1記載の光ファイバ製造方法。
  6. 【請求項6】 線引張力を測定して、この測定された線
    引張力が所定値となるよう前記光ファイバ母材の前記下
    端が受ける熱量を制御することを特徴とする請求項1記
    載の光ファイバ製造方法。
  7. 【請求項7】 線引き炉の炉心管をメインヒータで加熱
    して前記炉心管内の光ファイバ母材の下端を加熱・溶融
    し、前記光ファイバ母材を線引して光ファイバを製造す
    る装置であって、 前記光ファイバ母材の前記下端の周囲にガスを供給する
    とともに、そのガスの流量および組成の双方または何れ
    か一方を変化させて、前記光ファイバ母材の前記下端が
    受ける熱量を変化させるガス供給手段を備えることを特
    徴とする光ファイバ製造装置。
  8. 【請求項8】 線引き炉の炉心管をメインヒータで加熱
    して前記炉心管内の光ファイバ母材の下端を加熱・溶融
    し、前記光ファイバ母材を線引して光ファイバを製造す
    る装置であって、 前記光ファイバ母材の前記下端の近傍に設けられ、加熱
    の状態を変化させて、前記光ファイバ母材の前記下端が
    受ける熱量を変化させる補助ヒータを備えることを特徴
    とする光ファイバ製造装置。
  9. 【請求項9】 線引き炉の炉心管をメインヒータで加熱
    して前記炉心管内の光ファイバ母材の下端を加熱・溶融
    し、前記光ファイバ母材を線引して光ファイバを製造す
    る装置であって、 前記光ファイバ母材の前記下端の近傍に設けられ、断熱
    の状態を変化させて、前記光ファイバ母材の前記下端が
    受ける熱量を変化させる断熱材を備えることを特徴とす
    る光ファイバ製造装置。
  10. 【請求項10】 線引張力を測定する張力測定手段と、
    この張力測定手段により測定された線引張力が所定値と
    なるよう前記光ファイバ母材の前記下端が受ける熱量を
    制御する制御手段と、を更に備えることを特徴とする請
    求項7〜9の何れか1項に記載の光ファイバ製造装置。
JP35325899A 1999-12-13 1999-12-13 光ファイバ製造方法および光ファイバ製造装置 Pending JP2001163632A (ja)

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