JP3064925B2 - レイアウト方法 - Google Patents

レイアウト方法

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JP3064925B2
JP3064925B2 JP8243032A JP24303296A JP3064925B2 JP 3064925 B2 JP3064925 B2 JP 3064925B2 JP 8243032 A JP8243032 A JP 8243032A JP 24303296 A JP24303296 A JP 24303296A JP 3064925 B2 JP3064925 B2 JP 3064925B2
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紀典 横山
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NEC Corp
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はレイアウト方法に関
し、特に集積回路の自動レイアウトパターンをコンピュ
ータを用いて自動的に発生させる集積回路自動レイアウ
トシステムにおけるレイアウト方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、この種の自動レイアウトシステム
を使用して行うレイアウト設計では、所望のレイアウト
結果を得ることや最適に制御することはかなり困難であ
った。すなわち、セルの配置とチャネル領域生成との関
係において、セルの配置の仕方によっては配置が不可能
で、チャネルも生成されないデッドスペースが生じた
り、適切なチャネルを生成できずその部分が迂回配線と
なったりした。
【0003】これらの問題点の解決を図った特開平6−
45441号公報記載の従来のレイアウト方法は、配線
通過パターンや配線経路パターン等の目的に合わせた配
線パターンを含んだダミーセルを配設利用することによ
り配線経路を操作していた。
【0004】従来のレイアウト方法の処理をフローチャ
ートを含む概念図で示す図4を参照すると、この従来の
レイアウト方法は、レイアウト対象回路の接続情報を格
納した回路接続情報101と、論理ブロック(セル)の
情報を格納したセルライブラリ102と、レイアウト結
果を格納するレイアウト結果103の3つのファイルを
備え、まず、回路接続情報101及びセルライブラリ1
02からの情報に基づきレイアウト対象のチップエリア
上に複数のセルを配置する(ステップP1)。次に、配
置されたセル以外の領域を配線領域(配線チャネル領
域)として配線パターンを含んだダミーセルを配置する
(ステップP2)。次に、回路接続情報101に基づく
セル間配線をどのチャネル領域を通過させるかを決定す
る。(ステップP3)最後に、上記で経路決定した配線
経路に実際の配線レイヤーと配線幅をレイアウトパター
ンとして発生させる(ステップP4,P5)。必要に応
じて、回路接続情報101の修正(ステップP8)や、
セルライブラリ102への配線パターン入ダミーセルの
追加(ステップP7)あるいは、概略配線(ステップP
4)のときの追加セルの接続情報更新を行う(ステップ
P6)。
【0005】しかし、この従来のレイアウト方法は、現
在一般的に使用されているゲートアレイやセルベース等
のASIC(特定用途向けLSI)で使用する場合は、
ほぼ配線領域が固定され、また、論理ブロックの高さが
規格化されているので、所望の配線領域にダミーセルを
配置することができない。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来のレイア
ウト方法は、ダミーセルと論理セルとを同一セルとして
扱っていないため、配線経路を形成するためのダミーセ
ル用及び論理セル用の各配置可能エリアを別々に集積回
路自動レイアウトシステムに認識させる必要があり、そ
の分、レイアウト作成に時間がかかり、また、それによ
ってミスが発生しやすくなるという欠点があった。
【0007】また、現在一般的に使用されているゲート
アレイやセルベース等のASICで使用する場合、ほぼ
配線領域が固定され、また、論理ブロックの高さが規格
化されていることから所望の配線領域にダミーセルを配
置できないという欠点があった。
【0008】本発明の目的は、上記のような欠点を排除
し、有効な配線経路および配線パターンの設定を可能に
することにより冗長な配線パターンを無くし、集積回路
の集積度を上げ、かつ、ミスの少ないレイアウト方法を
提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明のレイアウト方法
は、予め形成した複数の回路素子または機能回路ブロッ
クである複数の単位回路の集合を予め定めたコア領域内
に規則的に配列した拡散ウエハである下地にレイアウト
対象回路の接続情報と前記単位回路から形成される論理
セルの情報である論理セル情報とにしたがって配線パタ
ーンを生成することにより前記レイアウト対象回路を形
成する集積回路のレイアウト方法において、前記レイア
ウト対象回路の接続情報と前記論理セル情報との供給を
受けて前記配置可能領域に前記論理セルを予備的に配置
し、前記論理セルの最終的な配置である自動配置前にこ
の論理セルと高さ及び電源端子位置とその配線幅を含む
物理的構造が同一でかつ配線経路決定用の端子を含むセ
ル内配線パターンを有するダミーセルを前記論理セルと
同一の配置可能領域に対話形式で配置し、 配置した前記
ダミーセル以外の前記論理セルを自動配置することによ
り前記配線パターンを生成することを特徴とするもので
ある。
【0010】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態をの処
理をフローチャートを含む概念図で示す図1を参照する
と、この図に示す本実施の形態のレイアウト方法は、対
話的に配置および配線が行える集積回路自動レイアウト
システム(以下自動レイアウトシステム)において、ゲ
ートアレイやセルベース等ASICのレイアウト対象回
路(以下ASIC)の接続情報を格納し配線経路を決定
するための接続情報を元の回路接続情報に追加して生成
する回路接続情報1と、論理ブロック(セル)の情報に
加えて論理セルと電源端子位置や電源配線幅や高さ等が
同一構成のダミーセル情報を格納するセルライブラリ2
と、レイアウト結果を格納するレイアウト結果3の3つ
のファイルを備え、論理セル配置可能領域にプリバファ
やハードマクロ及びグルーピングエリアとを配置する予
備配置(ステップS1)と、論理セルと電源端子位置や
電源幅や高さ等が同一構成のダミーセルを対話形式で配
置するダミーセルの対話的配置(ステップS2)と、セ
ルの自動配置(ステップS3)と、概略配線(ステップ
S4)と、詳細配線(ステップS5)とを含む。
【0011】本実施の形態のASICの一例のレイアウ
ト平面図を示す図2を参照すると、この図に示すASI
Cのレイアウトは、下地となるチップのレイアウトの範
囲を示すチップイメージ領域0に設定した論理セルの
配置用の論理セル配置可能領域11と、この論理セル配
置可能領域11に配置したハードマクロA14,ハード
マクロB15と、グルーピングエリアであるグループA
12,グループB13と、ダミーセル17と、グループ
A12,グループB13間の接続用配線16とを有す
る。
【0012】ダミーセル17の構成を示す図3を参照す
ると、配線パターン171と、端子172と、電源端子
173とを含む。
【0013】次に、図1、図2及び図3を参照して本実
施の形態の動作について説明すると、まず回路接続情報
1及びセルライブラリ2を入力して、これら回路接続情
報1及びセルライブラリ2からの情報に基づきレイアウ
ト対象のチップイメージ領域10の論理セル配置可能領
域11に、プリバファ(図示省略)と、ハードマクロA
14,ハードマクロB15と、グループA12,グルー
プB13とを配置する(ステップS1)。次に、グルー
プA12とグループB13の回路接続情報にしたがいハ
ードマクロA14とハードマクロB15の間の領域に配
線を走らせたい場合は、グループA12とグループB1
3の間の論理セル配置可能領域11にダミーセル17を
対話形式(人手)で配置する(ステップS2)。この
時、回路接続情報1に追加したダミーセル17の接続情
報を追加する(ステップS11)。また、セルライブラ
リ2に追加したダミーセル17のセル情報を追加する
(ステップS21)。次に、ダミーセル17以外の回路
接続情報に基づいて、論理セルを論理セル配置可能領域
11にすべて自動配置をする(ステップS3)。その
後、その配置結果に対して、概略配線を行い(ステップ
S4)、詳細配線によってすべての配線パターンを発生
させて(ステップS5)レイアウトを設計する。つぎに
得られたレイアウト結果をレイアウト結果3に格納す
る。
【0014】上述したように、自動レイアウトシステム
により配線パターンを計算させ自動的に行う自動レイア
ウト設計では、回路接続情報とそのセルライブラリを入
力し、ハードマクロ等を含めて人手または自動で配置
し、次に機能階層毎にグルーピングを行う。この時、論
理セル可能領域には、ハードマクロとプリバファは配置
済みである。
【0015】次に、ハードマクロ及びグルーピング間の
配線経路を決定するために、論理セル可能領域に高さや
電源端子位置等について論理セルと同一構造を有し、さ
らに配線経路を決定するための配線パターン(端子)を
持ったダミーセルを配置して経路を決定する。この時、
回路接続情報に、追加したダミーセルの接続情報を追加
する。次に、その追加した回路接続情報をもとに、ダミ
ーセル以外の論理セルをすべて自動配置し、概略配線を
行い、詳細配線で上記で決定した配線経路に実際の配線
レイヤと配線幅をレイアウトパターンとして発生させ
る。
【0016】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のレイアウ
ト方法は、論理セルの最終配置である自動配置前に、こ
の論理セルと高さ及び電源端子位置とその配線幅を含む
物理的構造が同一でかつ配線経路決定用の端子を含むセ
ル内配線パターンを有するダミーセルを、論理セル配置
可能領域に対話形式で配置して配線経路を決定するた
め、所望の配線レイアウトを自動レイアウトシステムで
問題なく行うことができるので、冗長な配線を除去で
き、集積度を向上できるという効果がある。
【0017】また、所望の配線レイアウトを得ようとし
た場合にダミーセルの配置が不可能ということはないの
で自動レイアウトシステムで容易に所望の配線パターン
を得ることができるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のレイアウト方法の一実施の形態の処理
手順を示すフローチャートである。
【図2】本実施の形態のレイアウト対象回路であるAS
ICのレイアウトの一例を示すレイアウト平面図であ
る。
【図3】図2のダミーセルの構成を示すレイアウト平面
図である。
【図4】従来のレイアウト方法の処理手順の一例を示す
フローチャートである。
【符号の説明】
1,101 回路接続情報 2,102 セルライブラリ 3,103 レイアウト結果 10 チップイメージ領域 11 論理セル配置可能領域 12 グループA 13 グループB 14 ハードマクロA 15 ハードマクロB 16,171 配線パターン 17 ダミーセル 172 端子 173 電源端子

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 予め形成した複数の回路素子または機能
    回路ブロックである複数の単位回路の集合を予め定めた
    コア領域内に規則的に配列した拡散ウエハである下地に
    レイアウト対象回路の接続情報と前記単位回路から形成
    される論理セルの情報である論理セル情報とにしたがっ
    て配線パターンを生成することにより前記レイアウト対
    象回路を形成する集積回路のレイアウト方法において、前記レイアウト対象回路の接続情報と前記論理セル情報
    との供給を受けて前記配置可能領域に前記論理セルを予
    備的に配置し、 前記論理セルの最終的な配置である自動配置前にこの論
    理セルと高さ及び電源端子位置とその配線幅を含む物理
    的構造が同一でかつ配線経路決定用の端子を含むセル内
    配線パターンを有するダミーセルを前記論理セルと同一
    の配置可能領域に対話形式で配置し、 配置した前記ダミーセル以外の前記論理セルを自動配置
    することにより前記配線パターンを生成することを特徴
    とするレイアウト方法。
  2. 【請求項2】 前記レイアウト対象回路の接続情報と前
    記論理セル情報との供給を受けて前記配置可能領域に前
    記論理セルを予備的に配置する予備配置ステップと、 前記予備配置後の前記配置可能領域に前記ダミーセルを
    対話形式で配置するダミーセル配置ステップと、配置した前記ダミーセルの接続情報を前記レイアウト対
    象回路の接続情報に追加する追加セルの接続情報更新ス
    テップと、 前記論理セル情報に追加した前記ダミーセルのセル情報
    を追加するダミーセルのセル情報追加ステップと、 配置した 前記ダミーセル以外の前記レイアウト対象回路
    の接続情報に基づいて前記論理セルを自動配置する前記
    論理セルの自動配置ステップと、 配線経路を決定する概略配線ステップと、 決定した前記配線経路に実際の配線レイヤーと配線幅と
    をレイアウトパターンとして発生する詳細配線ステップ
    とを含むことを特徴とする請求項1記載のレイアウト方
    法。
  3. 【請求項3】 前記ダミーセルの前記セル内配線パター
    ンが、前記論理セルとそれぞれ同一の配線幅と電源端子
    位置と配線端子位置とを有することを特徴とする請求項
    1記載のレイアウト方法。
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