JPH06349947A

JPH06349947A - 半導体集積回路装置のマスクパターン設計方法および設計装置

Info

Publication number: JPH06349947A
Application number: JP14234793A
Authority: JP
Inventors: Takako Murakami; 隆子村上; Teruhisa Tsuyuki; 輝久露木; Kazunori Kawazoe; 和則川添; Takeshi Shimazaki; 剛島崎; Yukimi Nishiwaki; 雪美西脇
Original assignee: Fujitsu VLSI Ltd; Fujitsu Ltd
Current assignee: Fujitsu VLSI Ltd; Fujitsu Ltd
Priority date: 1993-06-14
Filing date: 1993-06-14
Publication date: 1994-12-22

Abstract

(57)【要約】【目的】マスクパターン設計の設計工数を少なくして各
設計工程を簡略化する。【構成】自動配置処理回路部５２は論理データに基づい
て各セルを配置する。自動配線処理回路部５３は、実配
線の配線長差を規定値以下にしたい所定の各ネットにつ
いて、配線開始ポイントと終了ポイントとを設定し、仮
想ポイントに複数のネットを引き込む手法を利用して、
前記各ネットを配線開始ポイントに収束させ、配線開始
ポイントから終了ポイントまでを、前記各ネットにおけ
る実配線に流れる電流と予め定めた各配線の配線間隔と
によって決定した配線幅および配線パターンを有する１
本の太幅配線で自動配線する。マスクデータ生成処理回
路部５４は、自動配線された太幅配線を前記各ネット毎
の配線パターンに変換し、太幅配線のコーナー部分にお
ける各ネット毎の配線パターンを、予め定めたビアコン
タクトを含む配線パターンに置き換えてマスクデータを
生成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は半導体集積回路装置のマ
スクパターン設計方法および設計装置に係り、詳しく
は、マスタ・スライス法やユニット・セル法（ビルディ
ング・ブロック法）によるマスクパターン設計方法に関
するものである。

【０００２】近年、半導体集積回路装置においては大規
模化・高集積化に伴い、開発期間の短縮化が求められて
いる。そのため、マスクパターン設計においても、設計
工数を少なくすると共に１つ１つの設計工程を簡略化す
ることにより、開発期間の短縮化に対応する必要があ
る。また、マスタ・スライス法やユニット・セル法によ
るマスクパターン設計においては、スキュを防ぐため
に、所定の各ネットにおける実配線の配線長差を規定値
以下にしなければならない場合がある。その場合には、
各配線に流れる電流に応じて配線幅を適宜に設定可能な
こと、所定の各ネットにおける実配線の配線間容量が少
なくなるように配線間隔を適宜に設定可能なこと、設計
に要するデータ量を少なくして設計ツール（ＣＡＤシス
テム）を簡素化すること、等が求められている。

【０００３】

【従来の技術】通常、差動配線（差動増幅器の入出力配
線等の差動相補信号を扱う配線）やクロック分配および
ラッチ等においては、信号の遅延時間のずれを規定値以
下にしてスキュを防ぐ必要がある。そのためには、所定
の各ネットにおける実配線の配線長差を規定値以下にし
なければならない。

【０００４】また、各配線の配線幅は流れる電流に対応
したものでなければならない。さらに（特に、差動配線
においては）、所定の各ネットにおける実配線の配線間
容量が大きいと各配線間のクロストークが悪化して誤動
作を引き起こすため、配線間容量が少なくなるように配
線間隔を一定幅以上にしなければならない。

【０００５】図４６は、マスタ・スライス法またはユニ
ット・セル法による、従来のマスクパターン設計方法の
処理手順を示すフローチャートである。まず、ステップ
（以下、Ｓとする）１において、論理データを入力す
る。

【０００６】この論理データは論理設計によって求めら
れたものである。論理設計とは、望みの論理仕様を満た
すように論理構成を具体化することである。具体的に
は、予め設計してセルライブラリに格納しておいたセル
（論理回路を構成する各基本回路のまとまり。単純ゲー
ト，フリップフロップ，レジスタ等の集まり）を用い
て、論理仕様を実現するための論理回路図を作成するこ
とである。すなわち、論理データとは論理回路図のデー
タであり、使用するセルのデータと、各セルの接続関係
を表すネットデータとから構成されている。

【０００７】次に、Ｓ２において、各セルを自動配置す
る。ここで、セル配置可能領域およびセル間の配線領域
が固定であるマスタ・スライス法では、電気的制約によ
る特定のセルの初期配置を行った後で全セルの自動配置
を行い、配置の良し悪しを評価する。配置の評価は、引
き続き行われる配線と合わせて行うべきであるが、問題
が複雑になり過ぎるため、近似的な評価基準を設け、配
線とは切り離して処理するのが一般的である。具体的な
評価条件としては、仮想的な配線経路を定めて各配線経
路の配線長の総和を小さくすることや、半導体集積回路
チップ図にカットラインを仮定しそれを横切る配線の本
数を少なくすること等が用いられている。

【０００８】また、セル配置可能領域およびセル間の配
線領域が可変であるユニット・セル法でも、マスタ・ス
ライス法と同様の手法により、配置および配置の評価を
行っている。但し、ユニット・セル法では配置の評価と
して、マスタ・スライス法であげた評価条件（仮想的な
配線経路を定めて各配線経路の配線長の総和を小さくす
ることや、半導体集積回路チップ図にカットラインを仮
定しそれを横切る配線の本数を少なくすること）の他
に、配線領域を減少させることが考慮される。

【０００９】続いて、Ｓ３において、各セル間を自動配
線する。ここで、マスタ・スライス法では、各セルの自
動配置の結果から半導体集積回路チップ上の配線可能領
域および禁止領域の設定を行う。そして、配線長の短い
接続点ペアを作成し、その接続点ペアに対して配線の順
序を決定する。次に、ラインサーチ法，メイズ法，チャ
ネル割当法，発見的手法によって自動配線を行うが、こ
のとき、配線幅は各配線に流れる電流に応じたものにす
る。

【００１０】また、ユニット・セル法では、各セル列間
にまたがる配線用に貫通位置を決定し、配線制約グラフ
を作成して配線の順序づけを行う。そして、必要最小限
の配線領域を確保しながら幹線法によって自動配線を行
うが、このとき、配線幅は各配線に流れる電流に応じた
ものにする。。

【００１１】次に、Ｓ４において、所定の各ネットにお
ける実配線の配線長差が規定値以下であるかどうかにつ
いて検証すると共に、（特に、差動配線においては）所
定の各ネットにおける実配線の配線間隔が一定幅以上あ
るかどうかについても検証する。そして、両方共違反し
ていなければＳ５へ移行し、いずれか一方でも違反して
いればＳ６へ移行する。

【００１２】Ｓ５において、マスクデータを作成する。
すなわち、各セルの自動配置の結果と各セル間の自動配
線の結果とから、マスクパターン図形を求める。そし
て、求めたマスクパターン図形を露光装置の入力に適し
たデータであるマスクデータに変換する。具体的には、
マスクパターン図形に矩形分解処理や台形分解処理を施
した後、偏向歪や近接効果に対する補正を行う。

【００１３】一方、Ｓ６において、所定のセルの配置条
件を変更する。すなわち、Ｓ４における違反内容に対応
して違反しているセルの配置条件を変更し、Ｓ２におけ
る特定のセルの初期配置に優先して、違反しているセル
の初期配置を行う。

【００１４】そして、Ｓ２に戻り、再度、各セルを自動
配置した後、Ｓ３において、再度、各セル間を自動配線
する。このＳ２からＳ６までのルーチンを、Ｓ４におい
て違反が検出されなくなるまで繰り返す。これにより、
所定の各ネットにおける実配線の配線長差を規定値以下
にすると共に、所定の各ネットにおける配線間隔を一定
幅以上にすることができる。

【００１５】図４７は、図４６に示した従来のマスクパ
ターン設計方法の別例の処理手順を示すフローチャート
である。尚、図４７において、図４６と同じ処理につい
てはステップ番号を等しくしてある。

【００１６】ここで、図４７と図４６との相違点は、Ｓ
４において違反が検出された場合の処理方法についてだ
けである。すなわち、図４７では、Ｓ４において違反が
検出された場合、Ｓ７へ移行する。そして、Ｓ７におい
て、マニュアル（手作業）で各セルの配置および各セル
間の配線を修正する。尚、マニュアルによる修正作業
は、グラフィックシステムを利用して会話形式で実行さ
れる。

【００１７】これにより、Ｓ４６と同様に、所定の各ネ
ットにおける実配線の配線長差を規定値以下にすると共
に、所定の各ネットにおける配線間隔を一定幅以上にす
ることができる。

【００１８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図４６
に示す設計方法では、Ｓ４において違反が検出されなく
なるまでＳ２からＳ６までのルーチンを繰り返すため、
工数が非常に多くなる。また、図４６に示す設計方法で
は、Ｓ７においてマニュアルによる修正作業を行うが、
この作業は極めて複雑であるため大変な時間は要するこ
とになる。すなわち、図４６または図４７に示す従来の
設計方法では、マスクパターン設計に要する時間を短く
することが難しい。その結果、半導体集積回路装置の開
発期間の短縮化を阻害するというという問題があった。

【００１９】また、Ｓ３における各セル間の自動配線で
は、各ネット毎に実配線を行うため、ネット数分だけの
配線データを保持しておく必要がある。そのため、設計
ツールの記憶装置を大容量にしなければならないという
問題があった。

【００２０】本発明は上記問題点を解決するためになさ
れたものであって、その目的は、マスクパターン設計の
設計工数を少なくして各設計工程を簡略化した上で、所
定の各ネットにおける実配線の配線長差を規定値以下に
することと、所定の各ネットにおける実配線の配線間隔
を適宜に設定することと、設計に要するデータ量を少な
くすることとが可能なマスクパターン設計方法および設
計装置を提供することにある。

【００２１】

【課題を解決するための手段】第１の設計工程は、実配
線の配線長差を規定値以下にしたい所定の各ネットにつ
いて、配線を開始したいポイントと終了したいポイント
とを設定し、仮想ポイントに複数のネットを引き込む手
法を利用して、前記各ネットを配線を開始したいポイン
トに収束させる。

【００２２】第２の設計工程は、配線を開始したいポイ
ントから終了したいポイントまでを、前記各ネットにお
ける実配線に流れる電流と予め定めた各配線の配線間隔
とによって決定した配線幅および配線パターンを有する
１本の太幅配線で自動配線する。

【００２３】第３の設計工程と、自動配線された太幅配
線を、前記各ネット毎の配線パターンに変換する。第４
の設計工程は、太幅配線のコーナー部分における各ネッ
ト毎の配線パターンを、予め定めたビアコンタクトを含
む配線パターンに置き換える。

【００２４】

【作用】従って、本発明によれば、第３の設計工程にお
ける配線パターンの変換処理と、第４の設計工程におけ
るビアコンタクトを含む配線パターンに置き換える処理
とにより、所定の各ネットにおける実配線の配線長差を
規定値以下にすることができる。その結果、各ネットに
おける実配線の信号の遅延時間のずれを規定値以下にす
ることができるため、スキュを防止することができる。

【００２５】また、第２の設計工程において予め定めた
各配線の配線間隔によって太幅配線の配線幅を決定する
ため、所定の各ネットにおける実配線の配線間隔を適宜
に設定することができる。

【００２６】さらに、第２〜４の設計工程においては、
１本の太幅配線の配線データだけを保持すればよい。

【００２７】

【実施例】以下、本発明を具体化した一実施例を図面に
従って説明する。図１は、マスタ・スライス法またはユ
ニット・セル法による、本実施例のマスクパターン設計
方法の処理手順を示すフローチャートである。尚、図１
において、図４６および図４７に示した従来例と同じ処
理についてはステップ番号を等しくしてある。

【００２８】まず、Ｓ１において、論理データを入力す
る。この論理データは論理設計によって求められたもの
である。論理設計とは、望みの論理仕様を満たすように
論理構成を具体化することである。具体的には、予め設
計してセルライブラリに格納しておいたセル（論理回路
を構成する各基本回路のまとまり。単純ゲート，フリッ
プフロップ，レジスタ等の集まり）を用いて、論理仕様
を実現するための論理回路図を作成することである。す
なわち、論理データとは論理回路図のデータであり、使
用するセルのデータと、各セルの接続関係を表すネット
データとから構成されている。

【００２９】次に、Ｓ２において、各セルを自動配置す
る。ここで、セル配置可能領域およびセル間の配線領域
が固定であるマスタ・スライス法では、電気的制約によ
る特定のセルの初期配置を行った後で全セルの自動配置
を行い、配置の良し悪しを評価する。配置の評価は、引
き続き行われる配線と合わせて行うべきであるが、問題
が複雑になり過ぎるため、近似的な評価基準を設け、配
線とは切り離して処理するのが一般的である。具体的な
評価条件としては、仮想的な配線経路を定めて各配線経
路の配線長の総和を小さくすることや、半導体集積回路
チップ図にカットラインを仮定しそれを横切る配線の本
数を少なくすること等が用いられている。

【００３０】また、セル配置可能領域およびセル間の配
線領域が可変であるユニット・セル法でも、マスタ・ス
ライス法と同様の手法により、配置および配置の評価を
行っている。但し、ユニット・セル法では配置の評価と
して、マスタ・スライス法であげた評価条件（仮想的な
配線経路を定めて各配線経路の配線長の総和を小さくす
ることや、半導体集積回路チップ図にカットラインを仮
定しそれを横切る配線の本数を少なくすること）の他
に、配線領域を減少させることが考慮される。

【００３１】続いて、Ｓ１１において、各セル間を１本
の太幅配線で自動配線する。以下、その手順について説
明する。Ｓ１１−１〕実配線の配線長差を規定値以下にしたい所
定の各ネットについて、配線を開始したいポイント（以
下、配線開始ポイントという）と終了したいポイント
（以下、配線終了ポイントという）とを設定する。尚、
配線開始ポイントおよび配線終了ポイントは、それぞれ
複数でもかまわない。

【００３２】Ｓ１１−２〕仮想ポイントに複数のネット
を引き込む手法を利用して、実配線の配線長差を規定値
以下にしたい所定の各ネットを、配線開始ポイントに収
束させる。この仮想ポイントに複数のネットを引き込む
手法は、マスタ・スライス法で従来から行われているも
のである。例えば、前記Ｓ３において、各セルの自動配
置の結果から半導体集積回路チップ上の禁止領域の設定
を行う際などに用いられている。

【００３３】Ｓ１１−３〕配線開始ポイントから配線終
了ポイントまでを１本の太幅配線で自動配線する。ここ
で、マスタ・スライス法では、各セルの自動配置の結果
から半導体集積回路チップ上の配線可能領域および禁止
領域の設定を行う。そして、ラインサーチ法，メイズ
法，チャネル割当法，発見的手法によって太幅配線の自
動配線を行う。

【００３４】また、ユニット・セル法では、各セル列間
にまたがる配線用に貫通位置を決定し、配線制約グラフ
を作成して配線の順序づけを行う。そして、必要最小限
の配線領域を確保しながら幹線法によって太幅配線の自
動配線を行う。

【００３５】但し、太幅配線の配線幅および配線パター
ンは、各ネットにおける実配線に流れる電流と、予め定
めた各配線の配線間隔とによって決定する。例えば、各
配線間のクロストークを良好にするためには、配線間容
量が少なくなるように配線間隔を一定幅以上にする必要
がある。

【００３６】次に、Ｓ１２において、マスクデータを作
成する。以下、その手順について説明する。Ｓ１２−１〕自動配線された太幅配線を、実配線の配線
長差を規定値以下にしたい所定の各ネット毎の配線パタ
ーンに変換する。

【００３７】Ｓ１２−２〕太幅配線のコーナー部分にお
ける各ネット毎の配線パターンを、予め定めたビアコン
タクトを含む配線パターンに置き換える。すなわち、太
幅配線のコーナー部分のタイプの分類に基づき、ビアコ
ンタクトを含む配線パターンを予め定めてテーブル化し
ておく。そして、実際の太幅配線のコーナー部分のタイ
プを判定し、そのタイプに対応するビアコンタクトを含
む配線パターンをテーブルから検索して置き換える。

【００３８】Ｓ１２−３〕Ｓ２における各セルの自動配
置の結果と、上記Ｓ１２−２〕にて配線パターンを置き
換えた配線の結果とから、マスクパターン図形を求め
る。そして、求めたマスクパターン図形を露光装置の入
力に適したデータであるマスクデータに変換する。具体
的には、マスクパターン図形に矩形分解処理や台形分解
処理を施した後、偏向歪や近接効果に対する補正を行
う。

【００３９】これにより、所定の各ネットにおける実配
線の配線長差を規定値以下にすると共に、所定の各ネッ
トにおける配線間隔を一定幅以上にすることができる。
次に、差動配線を例にとって、マスクパターン設計の実
際を図２〜図４４に従って説明する。

【００４０】尚、本例では、差動相補信号を伝送する２
つのネットにおける各実配線２１，２２の配線長差を零
にしなければならないものとし、各実配線２１，２２の
配線幅をそれぞれ１グリッドに設定すると共に、配線間
隔を１グリッドに設定している。また、配線レイアウト
図においては、垂直方向のグリッドと水平方向のグリッ
ドとの各交点だけを「・ｇ」で表している。

【００４１】図２は、太幅配線２３の自動配線の結果を
示す配線レイアウト図である（Ｓ１１参照）。配線開始
ポイントαと配線終了ポイントβとを１点ずつ設定し、
仮想ポイントに複数のネットを引き込む手法を利用し
て、差動相補信号を伝送する２つのネットを配線開始ポ
イントαに収束させる。そして、配線開始ポイントαか
ら配線終了ポイントβまでを、１本の太幅配線２３とし
て自動配線する。

【００４２】ここで、太幅配線２３の配線幅および配線
パターンは、各ネットにおける実配線２１，２２に流れ
る電流と、予め定めた各配線２１，２２の配線間隔とに
よって決定する。本例では、各実配線２１，２２の配線
幅をそれぞれ１グリッドに設定し、配線間隔を１グリッ
ドに設定している。そのため、太幅配線２３の配線幅は
３グリッドになる。また、太幅配線２３の配線パターン
は、太幅配線２３を２分割する中央線分２４の一辺が、
両端の各辺を除いて４グリッド以上になるようにする。

【００４３】すなわち、図３に示すように、中央線分２
４の一辺を２グリッドとすると、各実配線２１，２２が
重複する箇所が生じてしまう。また、図４に示すよう
に、中央線分２４の一辺を３グリッドとすると、各実配
線２１，２２が隣接する箇所が生じてしまい、配線間隔
を１グリッド分とることができなくなる。差動配線にお
いては、各実配線２１，２２の配線間容量が大きいと各
配線２１，２２間のクロストークが悪化して誤動作を引
き起こすため、配線間容量が少なくなるように配線間隔
を一定幅以上にしなければならない。そのため、本例で
は、配線間隔を１グリッドに設定しているわけである。

【００４４】図５は、太幅配線２３を、差動相補信号を
伝送する２つのネット毎の配線パターンに変換した結果
を示す配線レイアウト図である（Ｓ１２−１〕参照）。
本例では、中央線分２４に沿って、配線間隔を１グリッ
ドとした２つの実配線（配線幅は１グリッド）の配線パ
ターンを配置する。

【００４５】図６は、太幅配線２３のコーナー部分のタ
イプ分類を説明するための説明図である。本例の太幅配
線２３のコーナー部分は必ず、Ｘ方向の中央線分２４と
Ｙ方向の中央線分２４とが交わる点（すなわち、中央線
分２４が折れ曲がる点）を中心とする周囲１グリッドず
つの正方形（一辺は３グリッド）になる。

【００４６】そこで、図６（ａ）の位置判断図に示すよ
うに、Ｘ方向（横方向）の中央線分２４とＹ方向（縦方
向）の中央線分２４とが交わる点を位置「Ｅ」として、
周囲のグリッドに位置「Ａ」〜「Ｉ」を割り振る。

【００４７】次に、図６（ｂ）に示す太幅配線２３のコ
ーナー部分の配線レイアウト図に対して、図６（ｃ）に
示すように、１層配線を持つグリッドをコード「１」、
２層配線を持つグリッドをコード「２」、１層配線と２
層配線の両方を持つグリッドをコード「３」、全く配線
を持たないグリッドをコード「０」として、コードを設
定する。

【００４８】そして、コード「３」がどの位置「Ａ」〜
「Ｉ」に設定されているかを判定して、太幅配線２３の
コーナー部分のタイプを分類する。この図６（ｂ）に示
す太幅配線２３のコーナー部分の例では、位置「Ｇ」に
コード「３」が設定されていることになる。

【００４９】図６（ｂ）と同様に、コード「３」が設定
されている位置「Ａ」〜「Ｉ」を分類すると、本例の太
幅配線２３のコーナー部分のタイプは、図７のタイプ１
から図１５のタイプ９の９パターンに分類される。

【００５０】すなわち、コード「３」が設定されている
位置は、タイプ１；位置「Ｇ」、タイプ２；位置
「Ａ」、タイプ３；位置「Ｉ」、タイプ４；位置
「Ｃ」、タイプ５；位置「Ｇ」と「Ｉ」、タイプ６；位
置「Ｃ」と「Ｉ」、タイプ７；位置「Ａ」と「Ｃ」、タ
イプ７；位置「Ａ」と「Ｇ」、タイプ７；位置「Ａ」と
「Ｃ」と「Ｇ」と「Ｉ」、である。

【００５１】次に、図１６〜図２３に示すように、図７
のタイプ１から図１４のタイプ８のそれぞれについて、
配線パターンの一部を削除する。すなわち、配線パター
ンを削除する位置は、タイプ１；位置「Ａ−Ｂ」と「Ｆ
−Ｉ」、タイプ２；位置「Ｇ−Ｈ」と「Ｃ−Ｆ」、タイ
プ３；位置「Ｂ−Ｃ」と「Ｄ−Ｇ」、タイプ４；位置
「Ａ−Ｄ」と「Ｈ−Ｉ」、タイプ５；位置「Ｆ−Ｉ」、
タイプ６；位置「Ｂ−Ｃ」、タイプ７；位置「Ａ−
Ｄ」、タイプ８；位置「Ｇ−Ｈ」、タイプ９；配線パタ
ーンの削除は行わない、である。

【００５２】続いて、図２４〜図３１に示すように、図
１６のタイプ１から図２３のタイプ８のそれぞれについ
て、配線パターンを追加する。すなわち、配線パターン
を追加する位置は、タイプ１；位置「Ａ−Ｄ」と「Ｈ−
Ｉ」、タイプ２；位置「Ｄ−Ｇ」と「Ｂ−Ｃ」、タイプ
３；位置「Ｃ−Ｆ」と「Ｇ−Ｈ」、タイプ４；位置「Ａ
−Ｂ」と「Ｆ−Ｉ」、タイプ５；位置「Ａ−Ｄ」、タイ
プ６；位置「Ｇ−Ｈ」、タイプ７；位置「Ｆ−Ｉ」、タ
イプ８；位置「Ｂ−Ｃ」、タイプ９；配線パターンの追
加は行わない、である。

【００５３】そして、図３２〜図３９に示すように、図
２４のタイプ１から図３１のタイプ８のそれぞれについ
て、ビアコンタクトのパターンを生成する。すなわち、
ビアコンタクトのパターンを生成する位置は、タイプ
１；位置「Ａ」と「Ｉ」、タイプ２；位置「Ｃ」と
「Ｇ」、タイプ３；位置「Ｃ」と「Ｇ」、タイプ４；位
置「Ａ」と「Ｉ」、タイプ５；位置「Ａ」と「Ｉ」、タ
イプ６；位置「Ｃ」と「Ｇ」、タイプ７；位置「Ｉ」と
「Ａ」、タイプ８；位置「Ｃ」と「Ｇ」、である。ま
た、タイプ９については、図４０または図４１に示すよ
うに、図１５のタイプ９の対角線上の２つの位置（すな
わち、図４０；位置「Ａ」と「Ｉ」または図４１；位置
「Ｃ」と「Ｇ」）にビアコンタクトのパターンを生成す
る。

【００５４】以上、説明したように、図７〜図１５に従
って、図５に示す配線レイアウト図の太幅配線２３のコ
ーナー部分のタイプを分類すると、図４２に示すように
なる。そして、図２４〜図３９に従って、図４２にビア
コンタクトのパターンを生成すると、図４３の配線レイ
アウト図に示すようになる。

【００５５】すなわち、太幅配線２３のコーナー部分の
タイプの分類（図７〜図１５）に基づいて、ビアコンタ
クトを含む実配線２１，２２の配線パターン（図２４〜
図３９）を予めテーブル化しておく。そうすれば、太幅
配線２３のコーナー部分における各ネット毎の実配線２
１，２２を、予め定めたビアコンタクトを含む配線パタ
ーンに置き換えることができる（Ｓ１２−２〕参照）。

【００５６】これにより、差動配線を行う本例において
は、差動相補信号を伝送する２つのネットにおける各実
配線２１，２２の配線長差を零にすると共に、各実配線
２１，２２の配線間隔を１グリッドにすることができ
る。

【００５７】このように本実施例においては、所定の各
ネットにおける実配線の配線長差を規定値以下にするこ
とができる。そのため、信号の遅延時間のずれを規定値
以下にしてスキュを防ぐことができる。

【００５８】また、本実施例においては、所定の各ネッ
トにおける実配線の配線間隔を適宜に設定することがで
きる。そのため、特に、差動配線において、所定の各ネ
ットにおける実配線の配線間容量を小さくして各配線間
のクロストークを良好にすることにより、誤動作を防ぐ
ことができる。

【００５９】さらに、本実施例では、図４６および図４
７に示す従来例のＳ３におけるような各ネット毎の実配
線を行わず、Ｓ１１において各セル間を１本の太幅配線
で自動配線するだけである。従って、本実施例では、ネ
ット数分だけの配線データを保持しておく必要がなく、
１本の太幅配線の配線データだけを保持すればよいた
め、設計ツールの記憶装置を大容量にしなくてもよい。

【００６０】そして、本実施例では、図４６および図４
７に示す従来例のＳ４におけるような検証処理を行わ
ず、自動配置と自動配線とを繰り返したり、マニュアル
による修正作業を行ったりしない。そのため、本実施例
では、マスクパターン設計の設計工数を少なくして各設
計工程を簡略化することができる。

【００６１】尚、本発明は上記実施例および実際例に限
定されるものではなく、以下のように実施してもよい。１）Ｓ１１−１〕においても触れたが、配線開始ポイン
トおよび配線終了ポイントは、それぞれ複数でもかまわ
ない。例えば、図４４に示すように、１つの配線開始ポ
イントγに対して２つの配線終了ポイントδ，σを設定
するようにしてもよい。この場合は、配線開始ポイント
γから配線終了ポイントσまでを結ぶ２組の実配線（４
１，４３と３１，３３）の配線長は等しくなるが、配線
開始ポイントγから配線終了ポイントδまでを結ぶ２組
の実配線（４１，４２と３１，３２）の配線長は等しく
ならない。しかしながら、２組の実配線（４１，４２と
３１，３２）の配線長差が規定値以下であれば、スキュ
を防ぐことができる。見方を変えれば、配線長を等しく
したい場合には、図４４に示すようなＴ字交差を配線パ
ターン内に設けなければよいことになる。

【００６２】２）上記差動配線の例では、２ネットの差
動配線を例にとったが、信号の遅延時間のずれを規定値
以下にしてスキュを防ぐ配線であれば、３ネット以上の
クロック分配やラッチ等の、どのような配線パターンの
設計処理に利用してもよい。

【００６３】３）上記差動配線の例では、２層配線を例
にとったが、３層以上の多層配線においても同様に実施
することができる。４）差動配線の例では、マスクパターン設計方法の各処
理を設計ツール内のコンピュータのソフトウェアによる
ものとして説明したが、ハードウェアによる構成で具体
化し、マスクパターン設計装置としてもよい。すなわ
ち、図４５に示すように、論理データ入力処理回路部５
１と自動配置処理回路部５２と自動配線処理回路部５３
とマスクデータ作成処理回路部５４とから構成されるマ
スクパターン設計装置において、上記実施例と同様な処
理を行うようにしてもよい。尚、各処理回路部５１〜５
４の処理動作は、それぞれ図１に示すフローチャートの
Ｓ１，Ｓ２，Ｓ１１，Ｓ１２に対応しているため、ここ
では説明を省略する。

【００６４】

【発明の効果】以上詳述したように本発明によれば、マ
スクパターン設計の設計工数を少なくして各設計工程を
簡略化した上で、所定の各ネットにおける実配線の配線
長差を規定値以下にすることと、所定の各ネットにおけ
る実配線の配線間隔を適宜に設定することと、設計に要
するデータ量を少なくすることとができるという優れた
効果がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明を具体化した一実施例のマスクパターン
設計方法の処理手順を示すフローチャートである。

【図２】差動配線の一例のマスクパターン設計方法を説
明するための配線レイアウト図である。

【図３】差動配線の一例のマスクパターン設計方法を説
明するための配線レイアウト図である。

【図４】差動配線の一例のマスクパターン設計方法を説
明するための配線レイアウト図である。

【図５】差動配線の一例のマスクパターン設計方法を説
明するための配線レイアウト図である。

【図６】差動配線の一例の太幅配線２３のコーナー部分
のタイプ分類を説明するための説明図である。

【図７】差動配線の一例の太幅配線２３のコーナー部分
のタイプを示す配線レイアウト図である。

【図８】差動配線の一例の太幅配線２３のコーナー部分
のタイプを示す配線レイアウト図である。

【図９】差動配線の一例の太幅配線２３のコーナー部分
のタイプを示す配線レイアウト図である。

【図１０】差動配線の一例の太幅配線２３のコーナー部
分のタイプを示す配線レイアウト図である。

【図１１】差動配線の一例の太幅配線２３のコーナー部
分のタイプを示す配線レイアウト図である。

【図１２】差動配線の一例の太幅配線２３のコーナー部
分のタイプを示す配線レイアウト図である。

【図１３】差動配線の一例の太幅配線２３のコーナー部
分のタイプを示す配線レイアウト図である。

【図１４】差動配線の一例の太幅配線２３のコーナー部
分のタイプを示す配線レイアウト図である。

【図１５】差動配線の一例の太幅配線２３のコーナー部
分のタイプを示す配線レイアウト図である。

【図１６】差動配線の一例の太幅配線２３のコーナー部
分の配線パターンの一部削除を示す配線レイアウト図で
ある。

【図１７】差動配線の一例の太幅配線２３のコーナー部
分の配線パターンの一部削除を示す配線レイアウト図で
ある。

【図１８】差動配線の一例の太幅配線２３のコーナー部
分の配線パターンの一部削除を示す配線レイアウト図で
ある。

【図１９】差動配線の一例の太幅配線２３のコーナー部
分の配線パターンの一部削除を示す配線レイアウト図で
ある。

【図２０】差動配線の一例の太幅配線２３のコーナー部
分の配線パターンの一部削除を示す配線レイアウト図で
ある。

【図２１】差動配線の一例の太幅配線２３のコーナー部
分の配線パターンの一部削除を示す配線レイアウト図で
ある。

【図２２】差動配線の一例の太幅配線２３のコーナー部
分の配線パターンの一部削除を示す配線レイアウト図で
ある。

【図２３】差動配線の一例の太幅配線２３のコーナー部
分の配線パターンの一部削除を示す配線レイアウト図で
ある。

【図２４】差動配線の一例の太幅配線２３のコーナー部
分の配線パターンの追加を示す配線レイアウト図であ
る。

【図２５】差動配線の一例の太幅配線２３のコーナー部
分の配線パターンの追加を示す配線レイアウト図であ
る。

【図２６】差動配線の一例の太幅配線２３のコーナー部
分の配線パターンの追加を示す配線レイアウト図であ
る。

【図２７】差動配線の一例の太幅配線２３のコーナー部
分の配線パターンの追加を示す配線レイアウト図であ
る。

【図２８】差動配線の一例の太幅配線２３のコーナー部
分の配線パターンの追加を示す配線レイアウト図であ
る。

【図２９】差動配線の一例の太幅配線２３のコーナー部
分の配線パターンの追加を示す配線レイアウト図であ
る。

【図３０】差動配線の一例の太幅配線２３のコーナー部
分の配線パターンの追加を示す配線レイアウト図であ
る。

【図３１】差動配線の一例の太幅配線２３のコーナー部
分の配線パターンの追加を示す配線レイアウト図であ
る。

【図３２】差動配線の一例の太幅配線２３のコーナー部
分のビアコンタクトのパターンを示す配線レイアウト図
である。

【図３３】差動配線の一例の太幅配線２３のコーナー部
分のビアコンタクトのパターンを示す配線レイアウト図
である。

【図３４】差動配線の一例の太幅配線２３のコーナー部
分のビアコンタクトのパターンを示す配線レイアウト図
である。

【図３５】差動配線の一例の太幅配線２３のコーナー部
分のビアコンタクトのパターンを示す配線レイアウト図
である。

【図３６】差動配線の一例の太幅配線２３のコーナー部
分のビアコンタクトのパターンを示す配線レイアウト図
である。

【図３７】差動配線の一例の太幅配線２３のコーナー部
分のビアコンタクトのパターンを示す配線レイアウト図
である。

【図３８】差動配線の一例の太幅配線２３のコーナー部
分のビアコンタクトのパターンを示す配線レイアウト図
である。

【図３９】差動配線の一例の太幅配線２３のコーナー部
分のビアコンタクトのパターンを示す配線レイアウト図
である。

【図４０】差動配線の一例の太幅配線２３のコーナー部
分のビアコンタクトのパターンを示す配線レイアウト図
である。

【図４１】差動配線の一例の太幅配線２３のコーナー部
分のビアコンタクトのパターンを示す配線レイアウト図
である。

【図４２】差動配線の一例のマスクパターン設計方法を
説明するための配線レイアウト図である。

【図４３】差動配線の一例のマスクパターン設計方法を
説明するための配線レイアウト図である。

【図４４】Ｔ字交差を設けた配線パターンを説明するた
めの配線レイアウト図である。

【図４５】マスクパターン設計装置のブロック回路図で
ある。

【図４６】従来例のマスクパターン設計方法の処理手順
を示すフローチャートである。

【図４７】従来例のマスクパターン設計方法の処理手順
を示すフローチャートである。

【符号の説明】

５１論理データ入力処理回路部５２自動配置処理回路部５３自動配線処理回路部５４マスクデータ作成処理回路部５４

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者川添和則愛知県春日井市高蔵寺町２丁目1844番２富士通ヴィエルエスアイ株式会社内 (72)発明者島崎剛愛知県春日井市高蔵寺町２丁目1844番２富士通ヴィエルエスアイ株式会社内 (72)発明者西脇雪美愛知県春日井市高蔵寺町２丁目1844番２富士通ヴィエルエスアイ株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】実配線の配線長差を規定値以下にしたい
所定の各ネットについて、配線を開始したいポイントと
終了したいポイントとを設定し、仮想ポイントに複数の
ネットを引き込む手法を利用して、前記各ネットを配線
を開始したいポイントに収束させる第１の設計工程と、配線を開始したいポイントから終了したいポイントまで
を、前記各ネットにおける実配線に流れる電流と予め定
めた各配線の配線間隔とによって決定した配線幅および
配線パターンを有する１本の太幅配線で自動配線する第
２の設計工程と、自動配線された太幅配線を、前記各ネット毎の配線パタ
ーンに変換する第３の設計工程と、太幅配線のコーナー部分における各ネット毎の配線パタ
ーンを、予め定めたビアコンタクトを含む配線パターン
に置き換える第４の設計工程とを備えたことを特徴とす
る半導体集積回路装置のマスクパターン設計方法。
【請求項２】論理データを入力する論理データ入力処
理回路部（５１）と、前記論理データに基づいて各セルを配置する自動配置処
理回路部（５２）と、実配線の配線長差を規定値以下にしたい所定の各ネット
について、配線を開始したいポイントと終了したいポイ
ントとを設定し、仮想ポイントに複数のネットを引き込
む手法を利用して、前記各ネットを配線を開始したいポ
イントに収束させ、配線を開始したいポイントから終了
したいポイントまでを、前記各ネットにおける実配線に
流れる電流と予め定めた各配線の配線間隔とによって決
定した配線幅および配線パターンを有する１本の太幅配
線で自動配線する自動配線処理回路部（５３）と、自動配線された太幅配線を前記各ネット毎の配線パター
ンに変換し、太幅配線のコーナー部分における各ネット
毎の配線パターンを、予め定めたビアコンタクトを含む
配線パターンに置き換えてマスクデータを生成するマス
クデータ生成処理回路部（５４）とを備えたことを特徴
とする半導体集積回路装置のマスクパターン設計装置。