JP2984015B2 - プラズマディスプレイパネルの製造方法 - Google Patents
プラズマディスプレイパネルの製造方法Info
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- JP2984015B2 JP2984015B2 JP2424390A JP2424390A JP2984015B2 JP 2984015 B2 JP2984015 B2 JP 2984015B2 JP 2424390 A JP2424390 A JP 2424390A JP 2424390 A JP2424390 A JP 2424390A JP 2984015 B2 JP2984015 B2 JP 2984015B2
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Description
【発明の詳細な説明】 〔概 要〕 プラズマディスプレイパネルの製造方法に関し、 プラズマディスプレイパネルの表示動作の安定化及び
長寿命化を図ることを目的とし、 少なくとも片側の基板に電極、誘電体層、及び保護用
酸化膜を順次形成した一対の基板を間隙を設けて対向配
置し、両基板の周囲を封止して放電空間を形成したプラ
ズマディスプレイパネルの製造方法において、前記放電
空間に対して酸素ガスの充填及び排出を行う工程を含む
ことを特徴とする。
長寿命化を図ることを目的とし、 少なくとも片側の基板に電極、誘電体層、及び保護用
酸化膜を順次形成した一対の基板を間隙を設けて対向配
置し、両基板の周囲を封止して放電空間を形成したプラ
ズマディスプレイパネルの製造方法において、前記放電
空間に対して酸素ガスの充填及び排出を行う工程を含む
ことを特徴とする。
本発明は、プラズマディスプレイパネル（PDP）の製
造方法に関する。
造方法に関する。
PDPでは、放電空間の残留不純物が表示動作の信頼性
及び寿命に影響を与える。それ故、残留不純物をできる
だけ除去した良質の放電空間を形成しなければならな
い。
及び寿命に影響を与える。それ故、残留不純物をできる
だけ除去した良質の放電空間を形成しなければならな
い。
周知のように、PDPは、表示面側及び背面側の一対の
透明基板を放電空間を設けて対向配置し、透明基板の内
側に設けた電極によって画定される放電セルを選択的に
発光可能に構成されている。
透明基板を放電空間を設けて対向配置し、透明基板の内
側に設けた電極によって画定される放電セルを選択的に
発光可能に構成されている。
例えば、AC（交流）駆動方式の対向電極型PDPの製造
においては、一対のガラス基板のそれぞれの表面に、複
数の帯状の電極、誘電体層、保護膜を順次形成し、各ガ
ラス基板の電極が格子状に対向するように両ガラス基板
を所定の間隙を設けて配置し、封止ガラスによって周囲
を密封する。
においては、一対のガラス基板のそれぞれの表面に、複
数の帯状の電極、誘電体層、保護膜を順次形成し、各ガ
ラス基板の電極が格子状に対向するように両ガラス基板
を所定の間隙を設けて配置し、封止ガラスによって周囲
を密封する。
保護膜は、誘電体層の劣化を防止するとともに、２次
電子放出により放電開始電圧を下げる作用をもつ。
電子放出により放電開始電圧を下げる作用をもつ。
その後、排気処理によって間隙を真空状態とした後
に、所定の圧力となるように放電用のガスを封入し、PD
Pの組み立てを終える。
に、所定の圧力となるように放電用のガスを封入し、PD
Pの組み立てを終える。
従来では、排気処理として、一対のガラス基板を加熱
（ベーキング）した状態で、真空ポンプを用いて数時間
にわたる内部気体の吸引が行われていた。
（ベーキング）した状態で、真空ポンプを用いて数時間
にわたる内部気体の吸引が行われていた。
しかしながら、例えば酸化マグネシウム（MgO）など
の酸化金属膜からなる保護膜を有したPDPの製造におい
ては、上述したように加熱状態で吸引を継続するだけの
排出処理では、大気中や封止用の有機溶剤などから混入
した二酸化炭素（CO2）などの炭素化合物を十分に排出
することができない。このため炭素化合物と酸化金属と
が反応し保護膜中に炭酸マグネシウム（MgCO3）のよう
な炭酸塩が多く生成されていた。
の酸化金属膜からなる保護膜を有したPDPの製造におい
ては、上述したように加熱状態で吸引を継続するだけの
排出処理では、大気中や封止用の有機溶剤などから混入
した二酸化炭素（CO2）などの炭素化合物を十分に排出
することができない。このため炭素化合物と酸化金属と
が反応し保護膜中に炭酸マグネシウム（MgCO3）のよう
な炭酸塩が多く生成されていた。
したがって、従来では、その後にPDPを使用するにつ
れて、すなわち表示動作の時間が長くなるつれて、放電
エネルギーによって炭酸塩が化学的に変化し、これによ
って生じた一酸化炭素（CO）又は二酸化炭素が保護膜の
表面に吸着し、放電開始電圧が上昇して表示動作が不安
定なものになるという問題があった。
れて、すなわち表示動作の時間が長くなるつれて、放電
エネルギーによって炭酸塩が化学的に変化し、これによ
って生じた一酸化炭素（CO）又は二酸化炭素が保護膜の
表面に吸着し、放電開始電圧が上昇して表示動作が不安
定なものになるという問題があった。
また、特にCO及びCO2は保護膜の表面上で発光してい
ない放電セルに集まる性質があるので、発光の頻度が少
ない放電セルの輝度が他よりも低下するいわゆる焼き付
きが生じ、PDPの寿命が短くなるという問題もあった。
ない放電セルに集まる性質があるので、発光の頻度が少
ない放電セルの輝度が他よりも低下するいわゆる焼き付
きが生じ、PDPの寿命が短くなるという問題もあった。
本発明は、上述の問題に鑑み、プラズマディスプレイ
パネルの表示動作の安定化及び長寿命化を図ることを目
的としている。
パネルの表示動作の安定化及び長寿命化を図ることを目
的としている。
請求項１の発明に係る方法は、電極13、誘電体層15、
及び当該誘電体層15を覆う保護用酸化膜21を順次形成し
た基板11と他の基板12とを間隙を設けて対向配置し、両
基板11,12の周囲を封止して形成される放電空間19を有
するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
前記放電空間19の排気を行い、真空状態の前記放電空間
19に酸素ガスを充填して前記保護用酸化膜21から不純物
を析出させ、再び排気を行った後に前記放電空間19に放
電ガスを充填するものである。
及び当該誘電体層15を覆う保護用酸化膜21を順次形成し
た基板11と他の基板12とを間隙を設けて対向配置し、両
基板11,12の周囲を封止して形成される放電空間19を有
するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
前記放電空間19の排気を行い、真空状態の前記放電空間
19に酸素ガスを充填して前記保護用酸化膜21から不純物
を析出させ、再び排気を行った後に前記放電空間19に放
電ガスを充填するものである。
放電空間19に対して酸素ガスが充填される。
酸素は、保護用酸化膜21,22中に含まれる炭素化合物
と酸化反応し、炭素を二酸化炭素（炭酸ガス）として放
電空間19に抽出する。
と酸化反応し、炭素を二酸化炭素（炭酸ガス）として放
電空間19に抽出する。
抽出された二酸化炭素は、酸素ガスとともに外部へ排
出される。
出される。
以下、本発明の実施例を図面を参照しつつ説明する。
第３図は本発明の実施例に係る対向放電型PDP1の断面
図である。
図である。
PDP1は、表示側のガラス基板11、背面側のガラス基板
12、各ガラス基板11,12の表面に形成されたＸ電極13及
びＹ電極14、遮光マスク20、低融点ガラスからなる誘電
体層15,16、酸化マグネシウムからなる保護層21,22、周
囲を密封する封止ガラス17、及び球状のスペーサ8,8…
などから構成され、スペーサ８によって間隙寸法が規定
された放電空間19には、ネオン（Ne）及びキセノン（X
e）を混合した放電ガスが封入されている。第３図にお
いて、ガラス基板11の上面が表示面となる。
12、各ガラス基板11,12の表面に形成されたＸ電極13及
びＹ電極14、遮光マスク20、低融点ガラスからなる誘電
体層15,16、酸化マグネシウムからなる保護層21,22、周
囲を密封する封止ガラス17、及び球状のスペーサ8,8…
などから構成され、スペーサ８によって間隙寸法が規定
された放電空間19には、ネオン（Ne）及びキセノン（X
e）を混合した放電ガスが封入されている。第３図にお
いて、ガラス基板11の上面が表示面となる。
なお、PDP1の製造段階においては、放電空間19を真空
状態とした後に放電ガスを注入するために、封止ガラス
17に図外の通気路が設けられる。
状態とした後に放電ガスを注入するために、封止ガラス
17に図外の通気路が設けられる。
第２図は本発明を実施するための排気装置30の概略の
構成を示す図である。
構成を示す図である。
排気装置30は、封止ガラス17による密封工程を経た段
階の多数のPDP1aを一括して加熱可能なベーキング炉3
1、配管34を介して各PDP1aの放電空間19の内部気体を吸
引する真空ポンプ32、窒素ガスボンベ35、酸素ガスボン
ベ37、放電ガスボンベ36、及びPDP1aに対する排気又は
ガスの充填を切り換えるための弁装置33から構成されて
いる。なお、各ガスボンベ35,36,37には、ガス圧を調整
するための調圧弁が設けられている。
階の多数のPDP1aを一括して加熱可能なベーキング炉3
1、配管34を介して各PDP1aの放電空間19の内部気体を吸
引する真空ポンプ32、窒素ガスボンベ35、酸素ガスボン
ベ37、放電ガスボンベ36、及びPDP1aに対する排気又は
ガスの充填を切り換えるための弁装置33から構成されて
いる。なお、各ガスボンベ35,36,37には、ガス圧を調整
するための調圧弁が設けられている。
第１図は本発明に係る排気処理を示す図である。
第２図をも参照しつつ、まず、多数のPDP1aをベーキ
ング炉31内にてそれぞれ配管34に接続する。そして、各
ボンベ35〜37に至る経路が閉じ、配管34と真空ポンプ32
とが連通するように弁装置33を切り換える。
ング炉31内にてそれぞれ配管34に接続する。そして、各
ボンベ35〜37に至る経路が閉じ、配管34と真空ポンプ32
とが連通するように弁装置33を切り換える。
常温で、PDP1aに対する排気を開始し、放電空間19が1
0-4［Torr］程度の真空状態になった時点t0で、排気を
行いつつベーキング炉31による加熱を始め、PDP1aを昇
温する。
0-4［Torr］程度の真空状態になった時点t0で、排気を
行いつつベーキング炉31による加熱を始め、PDP1aを昇
温する。
加熱により、放電空間19の残留ガスの運動が活発にな
り、残留ガスが真空ポンプ32によって吸引され易くな
る。
り、残留ガスが真空ポンプ32によって吸引され易くな
る。
本実施例では、ベーキング炉31内の温度が100［℃］
を越えた時点t1で、弁装置33を切り換えて配管34と酸素
ガスボンベ37とを接続し、まず、放電空間19にO2を充填
する。
を越えた時点t1で、弁装置33を切り換えて配管34と酸素
ガスボンベ37とを接続し、まず、放電空間19にO2を充填
する。
O2は、保護膜21,22の表面又は表層部に吸着又は含ま
れる炭素を酸化させ、CO2として放電空間19に析出させ
る。
れる炭素を酸化させ、CO2として放電空間19に析出させ
る。
これにより、保護膜21,22における炭酸マグネシウム
の生成が抑えられる。
の生成が抑えられる。
O2の充填から30分が経過した時点で、弁装置33を切り
換え、真空ポンプ32によって放電空間19の内部気体の吸
引を行う。析出されたCO2はO2とともに外部へ排出され
る。
換え、真空ポンプ32によって放電空間19の内部気体の吸
引を行う。析出されたCO2はO2とともに外部へ排出され
る。
その後、時点t1でベーキング炉31内の温度が360
［℃］に達し、放電空間19は10-5［Torr］程度の真空状
態になる。
［℃］に達し、放電空間19は10-5［Torr］程度の真空状
態になる。
360［℃］の温度を時点t2〜t3までの約４時間の期間
Ｔにおいて一定に保ち、ベーキングを継続する。
Ｔにおいて一定に保ち、ベーキングを継続する。
ベーキング中の期間Ｔにおいては、放電空間19への窒
素ガス（N2）の充填と排気とを30分毎に交互に行う。
素ガス（N2）の充填と排気とを30分毎に交互に行う。
すなわち、時点t2で配管34と窒素ガスボンベ35とを接
続し、放電空間19の圧力が500〜600［Torr］になるよう
にN2を充填する。
続し、放電空間19の圧力が500〜600［Torr］になるよう
にN2を充填する。
これにより、熱エネルギーを得て放電空間19を活発に
運動するN2（分子）が、保護層21,22の表面などに吸着
している残留ガス（分子）に衝突し、両分子間で運動エ
ネルギーの交換が起こり、残留ガスが弾き飛ばされるよ
うに吸着状態から解放されて放電空間19で活発に運動す
る。
運動するN2（分子）が、保護層21,22の表面などに吸着
している残留ガス（分子）に衝突し、両分子間で運動エ
ネルギーの交換が起こり、残留ガスが弾き飛ばされるよ
うに吸着状態から解放されて放電空間19で活発に運動す
る。
１回目のN2の充填から30分が経過した時点で、一旦、
真空ポンプ32によって放電空間19の内部気体の吸引を行
う。吸着状態から解放された特定の残留ガスはN2ととも
に排気される。
真空ポンプ32によって放電空間19の内部気体の吸引を行
う。吸着状態から解放された特定の残留ガスはN2ととも
に排気される。
30分の排気の後に、２回目のN2の充填を行って再び排
気する。以降、N2の充填及び排気を数回繰り返す。
気する。以降、N2の充填及び排気を数回繰り返す。
期間Ｔが終了すると、排気を続けながら、ベーキング
炉31による保温を停止し、PDP1aを自然冷却する。
炉31による保温を停止し、PDP1aを自然冷却する。
その後においては、放電空間19に、放電ガスボンベ36
から放電ガスを500〜600［Torr］の圧力になるように封
入し、PDP1の組立てを終える。
から放電ガスを500〜600［Torr］の圧力になるように封
入し、PDP1の組立てを終える。
上述の実施例によれば、残留ガスの内のCOは、N2と分
子量が等しい（ともに分子量は28）ので、N2との運動エ
ネルギーの交換の効率が高く、吸着状態から解放されて
排出され易い。
子量が等しい（ともに分子量は28）ので、N2との運動エ
ネルギーの交換の効率が高く、吸着状態から解放されて
排出され易い。
つまり、分子を衝突させて物理的に残留ガスの吸着状
態を解くために充填するガスをN2とすることにより、保
護膜21,22の表面の吸着したCOを効率よく排出すること
が可能となり、O2の充填による化学的な炭素の排出とあ
いまってPDP1のより長寿命化を図ることができる。
態を解くために充填するガスをN2とすることにより、保
護膜21,22の表面の吸着したCOを効率よく排出すること
が可能となり、O2の充填による化学的な炭素の排出とあ
いまってPDP1のより長寿命化を図ることができる。
上述の実施例において、排気処理における設定条件
（排気プロファイル）、すなわち、加熱温度、O2又はN2
の充填圧力、充填期間又は排気期間の長さ、N2の充填と
排気の繰り返しの回数などは、排気処理の対象に応じて
適宜設定することができる。また、排気処理において、
O2の排出の後に水素ガス（H2）の充填及び排出を実施し
てもよい。これによれば、形成時の組成成分として排気
処理の以前から保護膜21,22の表層部に存在する過剰の
酸素が還元され、保護膜21,22の酸化状態が安定なもの
となる。したがって、PDPの組み立て終了後に、全ての
放電セルを所定時間だけ発光させる処理、すなわちエー
ジングを省略又はその時間を短縮することができる。
（排気プロファイル）、すなわち、加熱温度、O2又はN2
の充填圧力、充填期間又は排気期間の長さ、N2の充填と
排気の繰り返しの回数などは、排気処理の対象に応じて
適宜設定することができる。また、排気処理において、
O2の排出の後に水素ガス（H2）の充填及び排出を実施し
てもよい。これによれば、形成時の組成成分として排気
処理の以前から保護膜21,22の表層部に存在する過剰の
酸素が還元され、保護膜21,22の酸化状態が安定なもの
となる。したがって、PDPの組み立て終了後に、全ての
放電セルを所定時間だけ発光させる処理、すなわちエー
ジングを省略又はその時間を短縮することができる。
なお、本発明は、対向放電型PDPに限らず面放電型PDP
にも適用可能である。
にも適用可能である。
本発明によれば、プラズマディスプレイパネルの表示
動作の安定化及び長寿命化を図ることができる。
動作の安定化及び長寿命化を図ることができる。
第１図は本発明に係る排気処理を示す図、 第２図は本発明を実施するための排気装置の概略の構成
を示す図、 第３図は本発明の実施例に係るPDPの断面図である。 図において、 １はPDP（プラズマディスプレイパネル）、 11,12はガラス基板（基板）、 13はＸ電極（電極）、 14はＹ電極（電極）、 15,16は誘電体層、 19は放電空間、 21,22は保護膜（保護用酸化膜）である。
を示す図、 第３図は本発明の実施例に係るPDPの断面図である。 図において、 １はPDP（プラズマディスプレイパネル）、 11,12はガラス基板（基板）、 13はＸ電極（電極）、 14はＹ電極（電極）、 15,16は誘電体層、 19は放電空間、 21,22は保護膜（保護用酸化膜）である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) H01J 9/39 H01J 11/02
Claims (1)
- 【請求項１】電極、誘電体層、及び当該誘電体層を覆う
保護用酸化膜を順次形成した基板と他の基板とを間隙を
設けて対向配置し、両基板の周囲を封止して形成される
放電空間を有するプラズマディスプレイパネルの製造方
法において、 前記放電空間の排気を行い、真空状態の前記放電空間に
酸素ガスを充填して前記保護用酸化膜から不純物を析出
させ、再び排気を行った後に前記放電空間に放電ガスを
充填する ことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2424390A JP2984015B2 (ja) | 1990-02-01 | 1990-02-01 | プラズマディスプレイパネルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2424390A JP2984015B2 (ja) | 1990-02-01 | 1990-02-01 | プラズマディスプレイパネルの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03230448A JPH03230448A (ja) | 1991-10-14 |
| JP2984015B2 true JP2984015B2 (ja) | 1999-11-29 |
Family
ID=12132809
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2424390A Expired - Lifetime JP2984015B2 (ja) | 1990-02-01 | 1990-02-01 | プラズマディスプレイパネルの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2984015B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2832510B2 (ja) * | 1994-05-10 | 1998-12-09 | 双葉電子工業株式会社 | 表示装置の製造方法 |
| JP3339554B2 (ja) | 1995-12-15 | 2002-10-28 | 松下電器産業株式会社 | プラズマディスプレイパネル及びその製造方法 |
| JP2006049017A (ja) * | 2004-08-02 | 2006-02-16 | Pioneer Electronic Corp | プラズマディスプレイパネルの製造方法、プラズマ表示装置の製造方法及びプラズマディスプレイパネル |
| US20130020927A1 (en) * | 2010-05-13 | 2013-01-24 | Panasonic Corporation | Plasma display panel and method for producing the same |
| CN103456585B (zh) * | 2013-09-05 | 2016-04-06 | 青岛北星机械有限公司 | 一种汽车灯排气机机头 |
-
1990
- 1990-02-01 JP JP2424390A patent/JP2984015B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03230448A (ja) | 1991-10-14 |
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