JP2006049017A - プラズマディスプレイパネルの製造方法、プラズマ表示装置の製造方法及びプラズマディスプレイパネル - Google Patents
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Abstract
【解決手段】PDPの製造方法において、PDPを加熱炉に入れ、PDPの放電空間内に導入した洗浄ガスを排気温度より低い洗浄温度範囲T1〜T2で昇温しながら一定時間保持する(SA1〜6)。これにより放電開始電圧を小さくしコストを低減する。次に、洗浄ガスを排気し、洗浄温度より高い排気温度にて一定時間排気を続ける(SA7〜10)。これにより、走査、維持電極を有する表面基板上に形成される保護膜中の不純物を少なくして、高輝度なPDPを実現し長期間の表示動作を安定にすると共に、エージング時間の短縮を図り生産性を向上させる。その後、加熱炉を停止させ、室温程度に達したなら放電ガスを導入し、通気管をチップオフして終了する(SA11〜14)。
【選択図】図1
Description
赤:(Y,Gd)BO3:Eu
緑:Zn2SiO4:Mn
青:BaMgAl10O17:Eu
第1の問題点は、上記従来技術では、不純物が十分除去されないことにより、放電開始電圧が増大し、コストが嵩む原因となっているという点である。特に、近年は、PDPの輝度向上を図るために放電ガスのキセノン混合比を高めているので、図15に示したようにキセノン混合比に比例して、不純物のために高くなっている放電開始電圧が益々高くなってきており、さらにコストが嵩む原因となっている。
以下、図面を参照して、この発明の実施の形態について説明する。説明は、実施例を用いて具体的に行う。
図1は、この発明の第1実施例であるPDPの製造方法のうちの保護膜清浄化工程及び放電ガス封入工程を説明するための処理手順図であり、図中のSA1〜SA14は処理のステップを表している。図2は、同保護膜清浄化工程及び放電ガス封入工程における時間と加熱温度との間の関係を示す図であり、t1〜t6は時間を表している。図3は、同PDPを製造するために用いられるPDP製造装置の概略構成を示す図であり、この例のPDP製造装置20は、加熱炉16と真空排気・ガス導入装置17とシーケンス制御装置(単に、制御装置とも呼ぶ)18等から構成されている。図4は、同PDPの製造方法を説明するための処理手順図であり、SB1〜SB4、SC1〜SC4及びSD5〜SD8は処理のステップを表している。なお、同PDPの概略構成は図11から図13に示したとおりである。
まず、PDP15と、走査ドライバ39と、データドライバ41と、高圧パルス回路42と、電力回収回路43とを一基板上に配置し、パネル部33を形成する。また、パネル部33とは別個にデジタル信号処理・制御回路32を形成する。このようにして形成されたパネル部33及びデジタル信号処理・制御回路32を一つのモジュールとして組み立て、PDPモジュール23を形成する。更に、PDPモジュール23とは別個にアナログIF22を形成した後、双方を電気的に接続することによって、プラズマ表示装置21が完成する。
2 背面基板(第2の基板)
3 電極対(第1の電極層)
4 データ電極(第2の電極層)
7 蛍光体層
8 保護膜
10 放電空間
14 封止材
15 プラズマディスプレイパネル
21 プラズマ表示装置
22 PDPモジュール(モジュール)
23 アナログインタフェース(インタフェース)
Claims (13)
- 第1の電極層、誘電体層及び該誘電体層を保護する保護膜が順次形成されてなる第1の基板と、少なくとも第2の電極層及び蛍光体層を有してなる第2の基板とを間隙を隔てて互いに対向させた状態で配置し、前記第1及び第2の基板の周縁部を封止して放電空間を形成するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
前記放電空間内に導入した洗浄ガスを排気温度より低い洗浄温度で一定時間保持する第1の工程と、前記放電空間内から前記洗浄ガスを排気し前記排気温度で一定時間排気を続ける第2の工程と、前記放電空間内に放電ガスを導入する第3の工程とを含むことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。 - 前記第1の工程では、前記洗浄ガスを洗浄温度に達する前から導入しながら前記洗浄温度まで昇温して一定時間保持することを特徴とする請求項1記載のプラズマディスプレイの製造方法。
- 前記第1の工程では、前記洗浄温度が所定の範囲を有し、放電空間内に導入した洗浄ガスを前記所定の範囲で昇温しながら一定時間保持することを特徴とする請求項1又は2記載のプラズマディスプレイの製造方法。
- 前記第1の工程では、前記洗浄温度を一定値とし、放電空間内へ導入した洗浄ガスを前記一定値で一定時間保持することを特徴とする請求項1又は2記載のプラズマディスプレイの製造方法。
- 前記第2の工程を実施した後に、前記洗浄を行う第1の工程と前記排気を行う第2の工程とを交互に複数回行う第4の工程を含むことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 前記第4の工程では、最後に排気を行う第2の工程における一定時間を他の排気を行う第2の工程よりも長くすることを特徴とする請求項5記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 前記洗浄ガスとして還元性ガス又はH2Oガスを用いることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1に記載のプラズマディスプレイの製造方法。
- 前記洗浄温度が排気温度より低く室温より大きい温度であることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1に記載のプラズマディスプレイの製造方法。
- 前記洗浄温度が150〜280℃であることを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1に記載のプラズマディスプレイの製造方法。
- 前記排気温度が、前記第1及び第2の基板の周縁部を封止している封止材が溶けない程度の高い温度であることを特徴とする請求項1乃至9のいずれか1に記載のプラズマディスプレイの製造方法。
- 前記排気温度が300〜450℃であることを特徴とする請求項10記載のプラズマディスプレイの製造方法。
- プラズマディスプレイパネルを製造する第5の工程と、前記プラズマディスプレイパネルを駆動する回路とともに前記プラズマディスプレイパネルを一つのモジュールとして製造する第6の工程と、画像信号をフォーマット変換して前記モジュールに送信するインタフェースを前記モジュールに電気的に接続する第7の工程とを含むプラズマ表示装置の製造方法であって、
前記第5の工程では、請求項1乃至11のいずれか1に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法が実行されることを特徴とするプラズマ表示装置の製造方法。 - 請求項1乃至11のいずれか1に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法を用いて製造されたことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
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